JP5251437B2 - 親水性・帯電防止性付与コート剤組成物及びそれを塗工した物品 - Google Patents
親水性・帯電防止性付与コート剤組成物及びそれを塗工した物品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5251437B2 JP5251437B2 JP2008286657A JP2008286657A JP5251437B2 JP 5251437 B2 JP5251437 B2 JP 5251437B2 JP 2008286657 A JP2008286657 A JP 2008286657A JP 2008286657 A JP2008286657 A JP 2008286657A JP 5251437 B2 JP5251437 B2 JP 5251437B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- component
- mass
- hydrophilic
- coating
- imide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
Description
本発明は、親水性・帯電防止性付与コート剤組成物に関するものであり、特にプラスチックフィルムなどの有機樹脂基材上に１液で簡単に塗工可能な親水性・帯電防止性付与コート剤組成物に関するものである。本発明はまた、該コート剤組成物を塗装することにより形成された、親水性及び帯電防止性に優れた塗膜を有する物品に関する。
従来から基材表面に親水性膜を形成することにより、基材の汚れを防止する試みは数多く見られる（例えば、特許文献１〜９）。また有機樹脂基材（プラスチックフィルムなど）に埃付着防止や取扱時のゴミ混入防止のために帯電防止性を付与するコート剤なども開発されている（例えば、特許文献１０〜２１）。
しかしながら、上記の従来技術においては、親水性と帯電防止性を同時に満たすような技術は見当たらない。特に親水化においてシリケートを加水分解して塗布するような技術は数多く見られるが、これらのものは基本的に経時変化（シラノール縮合が進行）し、初期の親水性が損なわれるという問題があった。更に保存安定性も悪いものが多い。また基本的に親水性を初期から発現させようとすると水が多い系でなくてはならず、水が多いと有機樹脂基材にはハジキが生じ、うまく塗工できないという不具合が多々見られた。
しかしながら、上記の従来技術においては、親水性と帯電防止性を同時に満たすような技術は見当たらない。特に親水化においてシリケートを加水分解して塗布するような技術は数多く見られるが、これらのものは基本的に経時変化（シラノール縮合が進行）し、初期の親水性が損なわれるという問題があった。更に保存安定性も悪いものが多い。また基本的に親水性を初期から発現させようとすると水が多い系でなくてはならず、水が多いと有機樹脂基材にはハジキが生じ、うまく塗工できないという不具合が多々見られた。
また帯電防止性付与のために各種添加剤を添加する技術が開発されている。しかし界面活性剤添加では帯電防止性が悪く、また導電性金属酸化物粒子の添加では帯電防止性は良好であるが、膜が着色したり、透明性が損なわれる等の不具合があった。更に、このときの液の保存安定性も良くないという欠点も存在していた。
リチウム塩やイオン性化合物を添加する技術も開発されており、良好な帯電防止性を付与できるが、シリケート系塗料と相性が悪いものが多く、更に保存安定性が悪い等の不具合も見受けられた。
本発明は、上記問題を解決するためになされたもので、特に有機樹脂（プラスチックフィルム）基材に良好に塗工可能であり、初期から親水性・帯電防止性に優れ、その持続性にも優れた塗膜を容易に形成可能であり、更にそのコート剤自体の保存安定性も良好な親水性・帯電防止性付与コート剤組成物、及びそのコート剤を塗工することにより、優れた親水性・帯電防止性の塗膜で被覆した物品を提供することを目的とする。
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、ヒドロカルビルシリケート類を、塩基性触媒溶解水、グリコールエーテル類及び炭素数１〜４の低級アルコールの混合溶液中で加水分解・縮合させることにより、初期から親水性・帯電防止性付与が容易で、その持続性に優れ、その保存安定性も良好であるコート剤が得られることを見出した。また更に帯電防止性を上げるために、特定の帯電防止剤を規定量添加することにより、保存安定性を保持しながら、帯電防止性を更に高めることができることも見出し、本発明を完成した。
従って、本発明は、
（Ａ）組成式：ＳｉＯ4-ａ/2 （ＯＲ1 ）ａ （１）
（式中、Ｒ1は、その１部が水素原子であってもよい、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基および炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基からなる群から選択される基であり、ａは１〜４の整数である。）で示されるヒドロカルビルシリケート、その部分加水分解物、又はそれらの組み合わせ、
（Ｂ）塩基性触媒が０．０５〜５．００質量％の濃度で溶解している塩基性触媒水溶液を、水として（Ａ）成分１モルに対して１０〜５０モル、
（Ｃ）グリコールエーテルを（Ａ）成分１モルに対して０．１〜４．０モル、
及び
（Ｄ）炭素原子数１〜４の低級アルコールを（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計に対して２０〜７０質量％、
含む混合溶液中で加水分解・縮合させて調製され、且つ（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計量１００質量部に対して（Ａ）成分のＳｉＯ２換算量が０．０５〜５質量部であることを特徴とする親水性・帯電防止性付与コート剤組成物を提供する。
（Ａ）組成式：ＳｉＯ4-ａ/2 （ＯＲ1 ）ａ （１）
（式中、Ｒ1は、その１部が水素原子であってもよい、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基および炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基からなる群から選択される基であり、ａは１〜４の整数である。）で示されるヒドロカルビルシリケート、その部分加水分解物、又はそれらの組み合わせ、
（Ｂ）塩基性触媒が０．０５〜５．００質量％の濃度で溶解している塩基性触媒水溶液を、水として（Ａ）成分１モルに対して１０〜５０モル、
（Ｃ）グリコールエーテルを（Ａ）成分１モルに対して０．１〜４．０モル、
及び
（Ｄ）炭素原子数１〜４の低級アルコールを（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計に対して２０〜７０質量％、
含む混合溶液中で加水分解・縮合させて調製され、且つ（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計量１００質量部に対して（Ａ）成分のＳｉＯ２換算量が０．０５〜５質量部であることを特徴とする親水性・帯電防止性付与コート剤組成物を提供する。
本発明はまた、基体と、前記親水性・帯電防止性付与コート剤組成物を該基体の表面に塗工することにより形成した親水性及び帯電防止性に優れた塗膜を有する物品を提供する。
本発明の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物は、初期から親水性・帯電防止性に優れ、更に低湿度下（特に冬場を想定）でも帯電防止性に優れており、その持続性にも優れた親水性・帯電防止性塗膜を、有機樹脂基材上でも容易に１液塗布で形成可能であり、更にそのコート剤組成物自体の保存安定性も良好である。そのコート剤組成物を塗工することにより、優れた親水性・帯電防止性の塗膜で被覆した物品が得られる。
［（Ａ）ヒドロカルビルシリケート類］
本発明の組成物において、（Ａ）成分のヒドロカルビルシリケート又はその部分加水分解物は、組成式：
ＳｉＯ4-ａ/2 （ＯＲ1 ）ａ （１）
で示される。上記式（１）中、Ｒ1は、炭素原子数が１〜６のアルキル基、炭素原子数が６〜２０のアリール基および炭素原子数が７〜２０のアリールアルキル基からなる群から選択される基であり、ここでＲ1の一部は水素原子であってもよく、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基のようなアルキル基；フェニル基およびナフチル基等の単環式又は多環式のアリール基；ならびにフェニルメチル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルヘキシル基およびフェニルオクチル基のようなアリールアルキル基が例示される。また（Ａ）成分は上記ヒドロカルビルシリケートを部分加水分解したものでもよい。その例としては、テトラエチルシリケート、テトラメチルシリケート、テトラプロピルシリケート、エチルポリシリケート、メチルポリシリケートおよびプロピルポリシリケートが挙げられる。（以下、式（１）のヒドロカルビルシリケート、その部分加水分解物及びそれらの組み合わせを総称してヒドロカルビルシリケート類とも云う。）
入手の容易さ及び炭素原子数が小さいアルキル基を有するアルキルシリケート類ほど加水分解速度が早く、容易にシラノール基を発生しやすい傾向にあることから、（Ａ）成分はテトラメチルシリケート又はテトラエチルシリケートのような炭素原子数１〜３のアルキルシリケートであることが好ましい。１種又は２種以上のヒドロカルビルシリケート類を使用し得る。
本発明の組成物において、（Ａ）成分のヒドロカルビルシリケート又はその部分加水分解物は、組成式：
ＳｉＯ4-ａ/2 （ＯＲ1 ）ａ （１）
で示される。上記式（１）中、Ｒ1は、炭素原子数が１〜６のアルキル基、炭素原子数が６〜２０のアリール基および炭素原子数が７〜２０のアリールアルキル基からなる群から選択される基であり、ここでＲ1の一部は水素原子であってもよく、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基のようなアルキル基；フェニル基およびナフチル基等の単環式又は多環式のアリール基；ならびにフェニルメチル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルヘキシル基およびフェニルオクチル基のようなアリールアルキル基が例示される。また（Ａ）成分は上記ヒドロカルビルシリケートを部分加水分解したものでもよい。その例としては、テトラエチルシリケート、テトラメチルシリケート、テトラプロピルシリケート、エチルポリシリケート、メチルポリシリケートおよびプロピルポリシリケートが挙げられる。（以下、式（１）のヒドロカルビルシリケート、その部分加水分解物及びそれらの組み合わせを総称してヒドロカルビルシリケート類とも云う。）
入手の容易さ及び炭素原子数が小さいアルキル基を有するアルキルシリケート類ほど加水分解速度が早く、容易にシラノール基を発生しやすい傾向にあることから、（Ａ）成分はテトラメチルシリケート又はテトラエチルシリケートのような炭素原子数１〜３のアルキルシリケートであることが好ましい。１種又は２種以上のヒドロカルビルシリケート類を使用し得る。
［（Ｂ）塩基性触媒水溶液］
塩基性触媒としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化セシウムなどのアルカリ金属水酸化物、あるいはアンモニア、又はアミンなどを用いることができる。アミンとしては、例えばモノメチルアミン、ジメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミンなどを好ましい例として挙げることができる。このアルカリ金属水酸化物、アンモニア又はアミンを単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよいが、毒性が少なく、除去が容易で、かつ安価なことから、アンモニアが好適である。かかる触媒を水に溶解して塩基性触媒水溶液を作成するが、この時、触媒濃度が０．０５〜５．００質量％、好ましくは０．１〜３．０質量％になるように水に溶解させる。この濃度が０．０５質量％未満では、ヒドロカルビルシリケート類がうまく加水分解せずに好ましくない。またこの濃度が５．００質量％を超えると系が増粘したり、ゲル化したり、液の保存安定性が悪くなる場合があり、好ましくない。
塩基性触媒としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化セシウムなどのアルカリ金属水酸化物、あるいはアンモニア、又はアミンなどを用いることができる。アミンとしては、例えばモノメチルアミン、ジメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミンなどを好ましい例として挙げることができる。このアルカリ金属水酸化物、アンモニア又はアミンを単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよいが、毒性が少なく、除去が容易で、かつ安価なことから、アンモニアが好適である。かかる触媒を水に溶解して塩基性触媒水溶液を作成するが、この時、触媒濃度が０．０５〜５．００質量％、好ましくは０．１〜３．０質量％になるように水に溶解させる。この濃度が０．０５質量％未満では、ヒドロカルビルシリケート類がうまく加水分解せずに好ましくない。またこの濃度が５．００質量％を超えると系が増粘したり、ゲル化したり、液の保存安定性が悪くなる場合があり、好ましくない。
塩基性触媒水溶液の使用量は、（Ａ）成分のヒドロカルビルシリケート類１モルに対して、水のモル数が１０〜５０モルになる量（アルコキシ基の加水分解当量以上）、特に３０〜５０モルになる量であるのが好ましい。この時水の量が１０モル未満であると、得られるコート剤組成物の保存安定性が悪くなったり、該組成物を塗装して得られる塗膜の帯電防止性・親水性が悪くなる場合があり、好ましくない。また水の量が５０モルを超えると、有機樹脂基材へのコート剤組成物の塗工性が悪くなる場合があり、好ましくない。特に好ましくは３０〜５０モル量であり、この量であると、得られるコート剤組成物の帯電防止性・親水性、保存安定性、及び塗工性のバランスがとれる。
［（Ｃ）グリコールエーテル類］
本発明で使用されるグリコールエーテル類としては、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、２−（メトキシメトキシ）エタノール、２−イソプロポキシエタノール等が好ましい。これらの中で特に好ましいのは、安全性、塗膜特性の面で良好なエチレングリコールモノブチルエーテル及びエチレングリコールモノエチルエーテルであり、特にエチレングリコールモノブチルエーテルが好ましい。１種又は２種以上のグリコールエーテル類を使用し得る。
本発明で使用されるグリコールエーテル類としては、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、２−（メトキシメトキシ）エタノール、２−イソプロポキシエタノール等が好ましい。これらの中で特に好ましいのは、安全性、塗膜特性の面で良好なエチレングリコールモノブチルエーテル及びエチレングリコールモノエチルエーテルであり、特にエチレングリコールモノブチルエーテルが好ましい。１種又は２種以上のグリコールエーテル類を使用し得る。
この（Ｃ）グリコールエーテル類を含む溶液中で（Ａ）成分のヒドロカルビルシリケート類を加水分解・縮合することが本発明の一つの特徴である。この時、グリコールエーテル類はヒドロカルビルシリケート類のアルコキシ基等のヒドロカルビルオキシ基と一部エステル交換しながら縮合するためか、液の安定性を保持しつつ、塗膜の親水性やレベリング性、有機樹脂基材への濡れ性向上効果が発現されると推定される。
因みにこのグリコールエーテル類を添加せずに（Ｂ）成分の塩基性触媒水溶液のみで（Ａ）成分を加水分解・縮合させコート剤を得ることも可能であるが、この場合、有機樹脂基材はコート剤を撥いてしまい、うまく塗工することができない。更にこのコート剤にレベリング性を上げるためにこのグリコールエーテル類を後添加しても、やはり撥きが出てうまく塗工できず、また該コート剤に希釈のための溶剤を添加した途端に液が増粘・ゲル化する場合が多々見られる。本発明のように、ヒドロカルビルシリケート類の加水分解時からこのグリコールエーテル類を添加しておくのが好ましい。
このグリコールエーテル類の添加量は、（Ａ）成分１モルに対して０．１〜４．０モルであり、好ましくは０．５〜３．０モル量である。添加量が０．１モルより少ないと得られるコート剤組成物の塗工性が悪くなる場合があり好ましくない。またこの量が４．０モル量を超えると、（Ｂ）〜（Ｄ）の混合溶液に（Ａ）成分を添加した途端にゲル化したり、得られるコート液の保存安定性が悪化する場合があり、好ましくない。
［（Ｄ）炭素原子数１〜４の低級アルコール］
（Ｄ）成分の炭素原子数１〜４の低級アルコールとしては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、sec−ブタノール及びｔ−ブタノールが挙げられ、好ましくはイソプロピルアルコールである。１種又は２種以上の低級アルコール類を使用し得る。
（Ｄ）成分の炭素原子数１〜４の低級アルコールとしては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、sec−ブタノール及びｔ−ブタノールが挙げられ、好ましくはイソプロピルアルコールである。１種又は２種以上の低級アルコール類を使用し得る。
（Ｄ）成分の添加量は（Ａ）〜（Ｄ）の合計に対して２０〜７０質量％であり、好ましくは３０〜５０質量％である。この量が２０質量％より少ないと、得られるコート剤組成物のレベリング性が悪化するため、好ましくない。またこの量が７０質量％より多いと、得られるコート液の保存安定性が悪化する場合があるため、好ましくない。
この（Ｄ）炭素原子数１〜４の低級アルコールを含む溶液中で（Ａ）成分のヒドロカルビルシリケート類を加水分解・縮合することも本発明の一つの特徴である。この時、該低級アルコールは、（Ｃ）成分と同様、ヒドロカルビルシリケート類のヒドロカルビルオキシ基と一部エステル交換しながら縮合するためか、得られるコート剤組成物の安定性を保持しつつ、有機樹脂基材への濡れ性向上効果が発現されると推定される。
因みにこの低級アルコール類を添加せずに（Ｂ）成分の塩基性触媒水溶液のみで（Ａ）成分のヒドロカルビルシリケート類を加水分解・縮合させてコート剤を得ることも可能であるが、この場合、有機樹脂基材はコート剤を撥いてしまい、うまく塗工することができない。更にこのコート剤にレベリング性を上げようとこの低級アルコール類を後添加しても、やはり撥きが出てうまく塗工できず、また希釈のための溶剤を添加した途端に液が増粘・ゲル化する場合が多々見られる。本発明のように加水分解時からこの低級アルコール類を添加しておくのが好ましい。
［コート剤組成物の調製］
本発明の組成物の調製方法では、（Ａ）ヒドロカルビルシリケート類を、（Ｂ）塩基性触媒が０．０５〜５．００質量％の濃度で溶解している塩基性触媒水溶液、（Ｃ）グリコールエーテル類、及び（Ｄ）炭素数が１〜４の低級アルコールを含む混合溶液中、好ましくは（Ｂ）〜（Ｄ）から成る混合溶液中で加水分解・縮合させる。
本発明の組成物の調製方法では、（Ａ）ヒドロカルビルシリケート類を、（Ｂ）塩基性触媒が０．０５〜５．００質量％の濃度で溶解している塩基性触媒水溶液、（Ｃ）グリコールエーテル類、及び（Ｄ）炭素数が１〜４の低級アルコールを含む混合溶液中、好ましくは（Ｂ）〜（Ｄ）から成る混合溶液中で加水分解・縮合させる。
即ち、上記（Ｂ）〜（Ｄ）成分の混合溶液を調製した後に（Ａ）成分を添加し、（Ａ）成分の加水分解・縮合を行なうことにより、本発明の帯電防止性・親水性付与コート剤組成物を得ることができる。（Ａ）〜（Ｄ）成分の添加順序は、（Ｂ），（Ｃ）及び（Ｄ）成分を、例えばこの順序に反応容器に添加し、得られた混合溶液に（Ａ）成分を添加する。（Ａ）成分の加水分解・縮合時の反応温度は特に限定するものではないが、例えば、１０〜８０℃であることが好ましい。反応時間も特に限定するものではないが、１〜６時間程度であることが好ましい。
この時重要なのは、（Ａ）ヒドロカルビルシリケート類のＳｉＯ２換算量が、（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計量１００質量部とした場合、０．０５〜５質量部、好ましくは０．５〜４質量部であることである。この量が５質量部を超えると、コート剤組成物の安定性が極端に悪化する（（Ａ）成分がこれを超える濃度で存在すると、反応液が反応中にゲル化してしまう）。この量が０．０５質量部より少ないと、得られる塗膜が所望の性能を満たさなくなる。
本発明のコート剤組成物を基材に塗布し乾燥させた場合、初期から親水性（水の接触角が５°以下）及び帯電防止性（表面抵抗率で10８Ω／□レベル）の両方に優れた表面を得ることが可能である。またその塗膜に熱による劣化促進試験をおこなっても、例えば８０℃で１ヶ月後でも水の接触角２０°以下、かつ帯電防止性10９Ω／□レベルを維持し、それを維持することも可能になる。更に本願コート剤組成物の特徴として、低湿度下（２０％ＲＨ）においても帯電防止性が通常湿度（５０％ＲＨ）とそれほど変らない性能を有していることが特徴である。これは、塩基性条件で加水分解し発生した擬似シリカ状体内部のシラノールが安定して存在しているため、雰囲気が低湿度下でも帯電特性がでるのではないかと推定される。
［（Ｅ）Ｌｉ＋（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−で表されるリチウム塩或いはイオン性化合物］
上記のようにして得られるコート剤組成物でも充分な帯電防止性はあるが、更に帯電特性を上げる目的で（Ｅ）Ｌｉ＋（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−で表されるリチウム塩、或いはイオン性化合物、即ち、非重合性の窒素オニウムカチオンとフッ素原子及びスルホニル基を構造に持つ配位アニオンとからなるオニウム塩化合物、を加えてもよい。一般的にこのような帯電防止剤をシリケート系塗料に添加すると縮合触媒的な働きをするためか、コート液の保存安定性が悪化するのが常であったが、本願のコート剤組成物では、上記２種は相性が良く、保存安定性を悪化させないことを見出した。
上記のようにして得られるコート剤組成物でも充分な帯電防止性はあるが、更に帯電特性を上げる目的で（Ｅ）Ｌｉ＋（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−で表されるリチウム塩、或いはイオン性化合物、即ち、非重合性の窒素オニウムカチオンとフッ素原子及びスルホニル基を構造に持つ配位アニオンとからなるオニウム塩化合物、を加えてもよい。一般的にこのような帯電防止剤をシリケート系塗料に添加すると縮合触媒的な働きをするためか、コート液の保存安定性が悪化するのが常であったが、本願のコート剤組成物では、上記２種は相性が良く、保存安定性を悪化させないことを見出した。
（Ｅ）成分のＬｉ＋（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−で表されるリチウム塩化合物のアニオンは数種類の共鳴構造をとり、マイナス電荷の非局在化が起こるため、マイナスイオンとして非常に安定である。更にフッ素化アルキル基の強い電子吸引性の効果もあり、リチウムイオンが非常に乖離しやすいため、高いリチウムイオン伝導性を発現する。
イオン性化合物である、非重合性の窒素オニウムカチオンとフッ素原子及びスルホニル基を構造に持つ配位アニオンとからなるオニウム塩化合物としては、下記のものが例示される。
(a)四級アンモニウム系オニウム塩：
オクチルトリメチルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
ヘキシルトリメチルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
メチルトリオクチルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
オクチルトリメチルアンモニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
ヘキシルトリメチルアンモニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
メチルトリオクチルアンモニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
オクチルトリメチルアンモニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
ヘキシルトリメチルアンモニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
メチルトリオクチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホネート等。
(a)四級アンモニウム系オニウム塩：
オクチルトリメチルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
ヘキシルトリメチルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
メチルトリオクチルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
オクチルトリメチルアンモニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
ヘキシルトリメチルアンモニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
メチルトリオクチルアンモニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
オクチルトリメチルアンモニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
ヘキシルトリメチルアンモニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
メチルトリオクチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホネート等。
(b)イミダゾリン系オニウム塩：
1-エチル-3-メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-オクチル-3-メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-エチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-ブチル-2,-3-ジメチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-ヘキシル-2,-3-ジメチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-オクチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-エチル-3-メチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-オクチル-3-メチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-エチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-ブチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-ヘキシル-2,3-ジメチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-オクチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-エチル-3-メチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-オクチル-3-メチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-エチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-ブチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-ヘキシル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-オクチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-エチル-3-メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
1-オクチル-3-メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
1-エチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
1-ブチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
1-ヘキシル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
1-オクチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート等。
1-エチル-3-メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-オクチル-3-メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-エチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-ブチル-2,-3-ジメチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-ヘキシル-2,-3-ジメチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-オクチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-エチル-3-メチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-オクチル-3-メチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-エチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-ブチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-ヘキシル-2,3-ジメチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-オクチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-エチル-3-メチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-オクチル-3-メチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-エチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-ブチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-ヘキシル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-オクチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-エチル-3-メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
1-オクチル-3-メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
1-エチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
1-ブチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
1-ヘキシル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、
1-オクチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート等。
(c)ピリジニウム系オニウム塩：
Ｎ-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-エチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-3-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-3-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-3-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル-3-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-3-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-4-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-4-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-4-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル-4-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-4-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-エチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-3-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-3-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-3-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル3-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-3-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-4-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-4-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-4-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル-4-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-4-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-エチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ブチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ヘキシルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-オクチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-メチル-3-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-エチル-3-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ブチル-3-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ヘキシル-3-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-オクチル-3-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-メチル-4-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-エチル-4-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ブチル-4-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ヘキシル-4-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-オクチル-4-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-メチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-エチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ブチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ヘキシル-3,4-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-オクチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-メチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-エチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ブチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ヘキシル-3,5-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-オクチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-エチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ブチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ヘキシルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-オクチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-メチル-3-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-エチル-3-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ブチル-3-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ヘキシル-3-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-オクチル-3-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-メチル-4-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-エチル-4-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ブチル-4-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ヘキシル-4-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-オクチル-4-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-メチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-エチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ブチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ヘキシル-3,4-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-オクチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-メチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-エチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ブチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ヘキシル-3,5-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-オクチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート等。
(d)ピロリジニウム系オニウム：
1,1-ジプロピルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1,1-ジブチルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1,1-ジヘキシルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-メチル-1-ブチルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-メチル-1-ヘキシルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-メチル-1-オクチルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1,1-ジプロピルピロリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1,1-ジブチルピロリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1,1-ジヘキシルピロリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-メチル-1-ブチルピロリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-メチル-1-ヘキシルピロリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-メチル-1-オクチルピロリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1,1-ジプロピルピロリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1,1-ジブチルピロリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1,1-ジヘキシルピロリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-メチル-1-ブチルピロリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-メチル-1-ヘキシルピロリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-メチル-1-オクチルピロリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド等。 これらの中で特に好ましいのはピリジニウム系オニウム塩系の化合物である。
Ｎ-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-エチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-3-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-3-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-3-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル-3-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-3-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-4-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-4-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-4-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル-4-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-4-メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
Ｎ-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-エチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-3-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-3-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-3-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル3-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-3-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-4-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-4-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-4-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル-4-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-4-メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-3,4-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-メチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-エチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ブチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-ヘキシル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-オクチル-3,5-ジメチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
Ｎ-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-エチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ブチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ヘキシルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-オクチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-メチル-3-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-エチル-3-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ブチル-3-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ヘキシル-3-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-オクチル-3-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-メチル-4-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-エチル-4-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ブチル-4-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ヘキシル-4-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-オクチル-4-メチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-メチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-エチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ブチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ヘキシル-3,4-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-オクチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-メチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-エチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ブチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-ヘキシル-3,5-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-オクチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
Ｎ-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-エチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ブチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ヘキシルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-オクチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-メチル-3-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-エチル-3-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ブチル-3-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ヘキシル-3-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-オクチル-3-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-メチル-4-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-エチル-4-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ブチル-4-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ヘキシル-4-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-オクチル-4-メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-メチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-エチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ブチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ヘキシル-3,4-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-オクチル-3,4-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-メチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-エチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ブチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-ヘキシル-3,5-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ-オクチル-3,5-ジメチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート等。
(d)ピロリジニウム系オニウム：
1,1-ジプロピルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1,1-ジブチルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1,1-ジヘキシルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-メチル-1-ブチルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-メチル-1-ヘキシルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1-メチル-1-オクチルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、
1,1-ジプロピルピロリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1,1-ジブチルピロリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1,1-ジヘキシルピロリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-メチル-1-ブチルピロリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-メチル-1-ヘキシルピロリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1-メチル-1-オクチルピロリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、
1,1-ジプロピルピロリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1,1-ジブチルピロリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1,1-ジヘキシルピロリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-メチル-1-ブチルピロリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-メチル-1-ヘキシルピロリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド、
1-メチル-1-オクチルピロリジニウムトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド等。 これらの中で特に好ましいのはピリジニウム系オニウム塩系の化合物である。
これら帯電防止剤の添加量は（Ａ）成分のＳｉＯ２換算量１００質量部に対して０．１〜５．０質量部が好ましく、特に好ましくは０．５〜３．０質量部が好ましい。この量が０．１質量部よりも少ないと、帯電防止性に寄与しない。また、この量が５．０質量部よりも多いとコスト的に不利になったり、コート剤の保存安定性が悪化する場合がある。
これら（Ｅ）成分の帯電防止剤は、コート剤組成物製造時に（Ｂ）〜（Ｄ）成分の混合溶液中に添加しておいてもよいし、（Ａ）〜（Ｄ）成分を含むコート剤組成物に後添加してもよいが、好ましくは後添加して混合溶解させる方がよい。
［その他の任意の添加剤］
更に、このコート剤組成物に、液の保存安定性や膜特性を悪化させないレベルであれば、基材の表面改質や塗膜機能向上を目的として、例えば、ポリオール、硬化触媒、フィラー、光触媒、着色剤、製膜助剤、塗布助剤、酸化防止材、紫外線吸収材等の添加剤を含有させてもよい。また光の干渉縞の発生の抑制、更に、基材との密着性向上、作業性向上のための粘度向上、膜厚の確保等を目的として、合成樹脂を加えてもよい。合成樹脂としては、例えば、水溶塩型アクリル系樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カゼイン、セルロース誘導体、デキストリン類等の水溶性樹脂や、例えば、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、シリコーン系樹脂、ポリブテン系樹脂等の水不溶性樹脂等が挙げられる。また濡れ性を改善させるために、市販のレベリング剤、表面張力低下剤等を添加してしてもよい。レベリング剤又は表面張力低下剤としては、通常のポリエーテル系化合物やポリエーテル変性シリコーンなどが挙げられる。
更に、このコート剤組成物に、液の保存安定性や膜特性を悪化させないレベルであれば、基材の表面改質や塗膜機能向上を目的として、例えば、ポリオール、硬化触媒、フィラー、光触媒、着色剤、製膜助剤、塗布助剤、酸化防止材、紫外線吸収材等の添加剤を含有させてもよい。また光の干渉縞の発生の抑制、更に、基材との密着性向上、作業性向上のための粘度向上、膜厚の確保等を目的として、合成樹脂を加えてもよい。合成樹脂としては、例えば、水溶塩型アクリル系樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カゼイン、セルロース誘導体、デキストリン類等の水溶性樹脂や、例えば、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、シリコーン系樹脂、ポリブテン系樹脂等の水不溶性樹脂等が挙げられる。また濡れ性を改善させるために、市販のレベリング剤、表面張力低下剤等を添加してしてもよい。レベリング剤又は表面張力低下剤としては、通常のポリエーテル系化合物やポリエーテル変性シリコーンなどが挙げられる。
［基材］
本発明の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物を塗工する場合、基材は、無機、有機を問わず、各種の基材を用いることができ、特に限定されるものではなく、フィルム状又は板状の有機樹脂基材にも、前処理を施さなくても濡れ性良く塗工可能である。例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ＰＥＴ樹脂、ＴＡＣ樹脂等の有機基材に好適に使用できる。
本発明の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物を塗工する場合、基材は、無機、有機を問わず、各種の基材を用いることができ、特に限定されるものではなく、フィルム状又は板状の有機樹脂基材にも、前処理を施さなくても濡れ性良く塗工可能である。例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ＰＥＴ樹脂、ＴＡＣ樹脂等の有機基材に好適に使用できる。
また、これら基材のうちの何れかの表面に、少なくとも１層の無機物塗膜や少なくとも１層の有機物塗膜、又はこの無機物塗膜および有機物塗膜を共に有する塗装基材等にも使用できる。前記塗装基材を構成する無機物塗膜としては、特に限定されないが、例えば、シリコーン樹脂系、ポリシラザン系等の無機樹脂を含むコーティング材の硬化塗膜が挙げられる。また、前記塗装基材を構成する有機物塗膜としては、特に限定されないが、例えば、アクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ウレタン系、アクリルシリコーン系、塩化ゴム系、フェノール系、メラミン系、フッ素系等の有機樹脂を含むコーティング材の硬化塗膜が挙げられる。
［塗膜形成］
コート剤組成物を基材に塗布する方法は特に限定されるものではない。例えば、スプレーコート、刷毛塗り、浸漬（ディッピング、ディップコートともいう）、ロールコート、フローコート、カーテンコート、ナイフコート、スピンコート、バーコート等の通常の各種塗布方法を適宜に選択することができる。
コート剤組成物を基材に塗布する方法は特に限定されるものではない。例えば、スプレーコート、刷毛塗り、浸漬（ディッピング、ディップコートともいう）、ロールコート、フローコート、カーテンコート、ナイフコート、スピンコート、バーコート等の通常の各種塗布方法を適宜に選択することができる。
基材の表面に形成させた親水性塗膜の厚みは特に限定されるものではない。例えば、その厚みは、一般的に０．０３〜１０μｍ程度であるが、厚膜になれば基材によっては耐クラック性に問題が発生する場合があるので、その場合には０．０５〜１μｍとすることが好ましく、０．１〜０．７μｍとすることがさらに好ましい。
なお、基材に塗布したコート膜の硬化方法については、公知の方法を用いればよく、
特に限定はされない。また、硬化の際の温度も特に限定されず、所望される硬化塗膜性能や硬化触媒の使用の有無に応じて常温から加熱温度までの広い温度範囲をとることができる。
特に限定はされない。また、硬化の際の温度も特に限定されず、所望される硬化塗膜性能や硬化触媒の使用の有無に応じて常温から加熱温度までの広い温度範囲をとることができる。
［塗装物品］
本発明のコート剤組成物を塗装した物品は、特に限定されるものではないが、たとえば、建築関連部材、建築用塗装鋼板、自動車ボディー、鉄道車体、航空機、船舶、建築用ガラス、ディスプレー、クリアケース、ドア、カーポート、配電盤、道路周辺部材（たとえば、防音壁、トンネル内装板、ガードレール）、広告塔、ミラー、光学物品、有機樹脂フィルム等が挙げられる。
本発明のコート剤組成物を塗装した物品は、特に限定されるものではないが、たとえば、建築関連部材、建築用塗装鋼板、自動車ボディー、鉄道車体、航空機、船舶、建築用ガラス、ディスプレー、クリアケース、ドア、カーポート、配電盤、道路周辺部材（たとえば、防音壁、トンネル内装板、ガードレール）、広告塔、ミラー、光学物品、有機樹脂フィルム等が挙げられる。
以下、参考例、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
［参考例１］
直管付滴下管、蛇管コンデンサ及び温度計を設けた３リットル−四つ口フラスコに、アンモニア０．４質量％濃度の水溶液８４８．１ｇ（水：４６．９モル）、ブチルセロソルブ（エチレングリコールモノブチルエーテル）２３６．３ｇ（２．０モル）、及びイソプロパノール７６３．６ｇ（１２．７モル、下記溶液全体の３８．２質量％）を添加し、撹拌しながら系内にごく少量の流速で窒素を通じた。そこに正珪酸メチル（テトラメチルシリケート）１５２ｇ（１．０モル）を添加した。内温は３３℃まで上昇した。この状態で溶液を撹拌した。数分後、均一だった溶液が青白色の半透明溶液となった。この状態から更に３時間攪拌させ加水分解・縮合を進行させ、メッシュろ過を行なって、親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１を１９９１ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．６３質量％（正珪酸メチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．０１質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
［参考例１］
直管付滴下管、蛇管コンデンサ及び温度計を設けた３リットル−四つ口フラスコに、アンモニア０．４質量％濃度の水溶液８４８．１ｇ（水：４６．９モル）、ブチルセロソルブ（エチレングリコールモノブチルエーテル）２３６．３ｇ（２．０モル）、及びイソプロパノール７６３．６ｇ（１２．７モル、下記溶液全体の３８．２質量％）を添加し、撹拌しながら系内にごく少量の流速で窒素を通じた。そこに正珪酸メチル（テトラメチルシリケート）１５２ｇ（１．０モル）を添加した。内温は３３℃まで上昇した。この状態で溶液を撹拌した。数分後、均一だった溶液が青白色の半透明溶液となった。この状態から更に３時間攪拌させ加水分解・縮合を進行させ、メッシュろ過を行なって、親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１を１９９１ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．６３質量％（正珪酸メチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．０１質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
［参考例２］
参考例１のブチルセロソルブを１１８．２ｇ（１．０モル）、イソプロパノールを８８１．７ｇ（１４．７モル、下記溶液全体の４４．０質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物２を１９９０ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．５８質量％（正珪酸メチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．０２質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
参考例１のブチルセロソルブを１１８．２ｇ（１．０モル）、イソプロパノールを８８１．７ｇ（１４．７モル、下記溶液全体の４４．０質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物２を１９９０ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．５８質量％（正珪酸メチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．０２質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
［参考例３］
参考例１のブチルセロソルブを３５４．５ｇ（３．０モル）、イソプロパノールを６４５．４ｇ（１０．８モル、下記溶液全体の３２．３質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色半透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物３を１９９３ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．５９％（正珪酸メチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．０１質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
参考例１のブチルセロソルブを３５４．５ｇ（３．０モル）、イソプロパノールを６４５．４ｇ（１０．８モル、下記溶液全体の３２．３質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色半透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物３を１９９３ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．５９％（正珪酸メチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．０１質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
［参考例４］
参考例１のアンモニア０．４質量％濃度の水溶液を２７０ｇ（水：１５．０モル）、イソプロパノール１３４１．７ｇ（２２．４モル、下記溶液全体の６７．０質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色半透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物４を１９９５ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．６０％（正珪酸メチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．００質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
参考例１のアンモニア０．４質量％濃度の水溶液を２７０ｇ（水：１５．０モル）、イソプロパノール１３４１．７ｇ（２２．４モル、下記溶液全体の６７．０質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色半透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物４を１９９５ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．６０％（正珪酸メチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．００質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
［参考例５］
参考例１のブチルセロソルブをエチルセロソルブ１８０．２ｇ（２．０モル）、イソプロパノールを８１９．７ｇ（１３．７モル、下記溶液全体の４０．９質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物５を１９９３ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．５９％（正珪酸メチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．０１質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
参考例１のブチルセロソルブをエチルセロソルブ１８０．２ｇ（２．０モル）、イソプロパノールを８１９．７ｇ（１３．７モル、下記溶液全体の４０．９質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物５を１９９３ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．５９％（正珪酸メチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．０１質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
［参考例６］
参考例１のアンモニア０．４％濃度の水溶液を２．０％濃度の水溶液８４８．１ｇ（水：４６．９モル）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色半透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物６を１９９４ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．６１％（正珪酸メチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．００質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
参考例１のアンモニア０．４％濃度の水溶液を２．０％濃度の水溶液８４８．１ｇ（水：４６．９モル）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色半透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物６を１９９４ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．６１％（正珪酸メチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．００質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
［参考例７］
参考例１の正珪酸メチル１５２ｇを正珪酸エチル（テトラエチルシリケート）２０８ｇ（１．０モル）、イソプロパノールを７０７．６ｇ（１１．８モル、下記溶液全体の３５．４質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色半透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物７を１９９７ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．６０％（正珪酸エチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．００質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
参考例１の正珪酸メチル１５２ｇを正珪酸エチル（テトラエチルシリケート）２０８ｇ（１．０モル）、イソプロパノールを７０７．６ｇ（１１．８モル、下記溶液全体の３５．４質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色半透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物７を１９９７ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．６０％（正珪酸エチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．００質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
［参考例８］
参考例１のアンモニア０．４％濃度水溶液を水酸化ナトリウム０．４％濃度水溶液８４８．１ｇ（水：４６．９モル）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色半透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物８を１９９５ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．６９％（正珪酸メチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．０１質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
参考例１のアンモニア０．４％濃度水溶液を水酸化ナトリウム０．４％濃度水溶液８４８．１ｇ（水：４６．９モル）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色半透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物８を１９９５ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．６９％（正珪酸メチルのＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．０１質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
［参考例９］
参考例１の正珪酸メチルをＸ−４０−２３０８（信越化学製メチルポリシリケート）１１７．６ｇ、ブチルセロソルブを１４７．７ｇ（１．２５モル）、イソプロパノールを８８６．６ｇ（１４．８モル、下記溶液全体の４４．３質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物９を１９９２ｇ得た。このものの固形分濃度は３．５０％（Ｘ−４０−２３０８のＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．０１質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
参考例１の正珪酸メチルをＸ−４０−２３０８（信越化学製メチルポリシリケート）１１７．６ｇ、ブチルセロソルブを１４７．７ｇ（１．２５モル）、イソプロパノールを８８６．６ｇ（１４．８モル、下記溶液全体の４４．３質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行い、青白色透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物９を１９９２ｇ得た。このものの固形分濃度は３．５０％（Ｘ−４０−２３０８のＳｉＯ２換算量は組成物全体の３．０１質量％）であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
［実施例１］
参考例１で得られた親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１：８０ｇ（固形分２．９０ｇ、ＳｉＯ２換算量２．４１ｇ）に対し、Ｌｉ＋（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−で表されるリチウム塩を０．０２９ｇ添加し（固形分に対して１質量％、ＳｉＯ２換算量１．２質量％）、攪拌・混合した。この混合物を親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１０とした。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
参考例１で得られた親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１：８０ｇ（固形分２．９０ｇ、ＳｉＯ２換算量２．４１ｇ）に対し、Ｌｉ＋（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−で表されるリチウム塩を０．０２９ｇ添加し（固形分に対して１質量％、ＳｉＯ２換算量１．２質量％）、攪拌・混合した。この混合物を親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１０とした。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
［実施例２］
参考例１で得られた親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１：８０ｇ（固形分２．９０ｇ、ＳｉＯ２換算量２．４１ｇ）に対し、ピリジニウム系イオン性液体であるピリジニウムフルオロアルキルスルホンイミド系イオン性液体を０．０２９ｇ添加し（固形分に対して１質量％、ＳｉＯ２換算量１．２質量％）、攪拌・混合した。この混合物を親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１１とした。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
参考例１で得られた親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１：８０ｇ（固形分２．９０ｇ、ＳｉＯ２換算量２．４１ｇ）に対し、ピリジニウム系イオン性液体であるピリジニウムフルオロアルキルスルホンイミド系イオン性液体を０．０２９ｇ添加し（固形分に対して１質量％、ＳｉＯ２換算量１．２質量％）、攪拌・混合した。この混合物を親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１１とした。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
［比較例１］
参考例１のブチルセロソルブを５９０．９ｇ（５．０モル）、イソプロパノールを４０９ｇ（６．８モル、組成物全体の２０．５質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行ったところ、正珪酸メチルを添加して１０分後に白濁し、増粘・ゲル化した。
参考例１のブチルセロソルブを５９０．９ｇ（５．０モル）、イソプロパノールを４０９ｇ（６．８モル、組成物全体の２０．５質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行ったところ、正珪酸メチルを添加して１０分後に白濁し、増粘・ゲル化した。
［比較例２］
参考例１のブチルセロソルブを０ｇ、イソプロパノールを９９９．９ｇ（６．８モル、組成物全体の４９．９質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行ったところ、正珪酸メチルを添加して３分後に白濁し、増粘・ゲル化した。
参考例１のブチルセロソルブを０ｇ、イソプロパノールを９９９．９ｇ（６．８モル、組成物全体の４９．９質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行ったところ、正珪酸メチルを添加して３分後に白濁し、増粘・ゲル化した。
［比較例３］
参考例１のアンモニア０．４％濃度水溶液を３２８ｇ（水：１８．２モル）、ブチルセロソルブを１１８．１ｇ（１モル）、イソプロパノールを０ｇとした以外は参考例１と同様に反応・操作を行ったところ、正珪酸メチルを添加して１分後に白濁し、増粘・ゲル化した。
参考例１のアンモニア０．４％濃度水溶液を３２８ｇ（水：１８．２モル）、ブチルセロソルブを１１８．１ｇ（１モル）、イソプロパノールを０ｇとした以外は参考例１と同様に反応・操作を行ったところ、正珪酸メチルを添加して１分後に白濁し、増粘・ゲル化した。
［比較例４］
参考例１のアンモニア０．４％濃度水溶液を３２８ｇ（水：１８．２モル）、ブチルセロソルブを０ｇ、イソプロパノールを１１８．２ｇ（１．９７モル、組成物全体の１９．８質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行ったところ、正珪酸メチルを添加して２分後に白濁し、増粘・ゲル化した。
参考例１のアンモニア０．４％濃度水溶液を３２８ｇ（水：１８．２モル）、ブチルセロソルブを０ｇ、イソプロパノールを１１８．２ｇ（１．９７モル、組成物全体の１９．８質量％）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行ったところ、正珪酸メチルを添加して２分後に白濁し、増粘・ゲル化した。
［比較例５］
参考例１のアンモニア０．４％濃度水溶液を５９８ｇ（水：３３．２モル）、ブチルセロソルブを０ｇ、イソプロパノールを０ｇとした以外は参考例１と同様に反応・操作を行ったところ、無色透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物７４８ｇを得た。この組成物の固形分濃度は９．４９％（ＳｉＯ２換算量８．０２質量％）であった。
参考例１のアンモニア０．４％濃度水溶液を５９８ｇ（水：３３．２モル）、ブチルセロソルブを０ｇ、イソプロパノールを０ｇとした以外は参考例１と同様に反応・操作を行ったところ、無色透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物７４８ｇを得た。この組成物の固形分濃度は９．４９％（ＳｉＯ２換算量８．０２質量％）であった。
このコート剤組成物２５．３ｇ（固形分２．４０ｇ）に水５４．７ｇを添加し、固形分３．０質量％の溶液に調整した。これをコート剤１２とした。このコート剤溶液を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。しかしこのコート剤組成物２５．３ｇにイソプロピルアルコール５４．７ｇを添加したところゲル化し、コート液を調製できなかった。またこのコート剤組成物２５．３ｇにブチルセロソルブ５４．７ｇを添加したところゲル化し、コート液を調製できなかった。
［比較例６］
参考例１のアンモニア０．４％濃度水溶液を塩酸０．４％濃度水溶液８４８．１ｇ（水：４６．９モル）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行ったところ、無色透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１３を１９９２ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．６０％であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
参考例１のアンモニア０．４％濃度水溶液を塩酸０．４％濃度水溶液８４８．１ｇ（水：４６．９モル）とした以外は参考例１と同様に反応・操作を行ったところ、無色透明溶液の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１３を１９９２ｇ得た。この組成物の固形分濃度は３．６０％であった。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、６ヶ月経過した時点でも溶液の粘度変化を起こすことはなかった。
［比較例７］
比較例６で得られた親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１３：８０ｇ（固形分２．９０ｇ）に対し、Ｌｉ＋（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−で現されるリチウム塩を０．０２９ｇ添加し（固形分に対して１質量％、ＳｉＯ２換算量１．２質量％）、攪拌・混合した。この混合物を親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１４とした。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、１４日経過した時点ゲル化した。
比較例６で得られた親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１３：８０ｇ（固形分２．９０ｇ）に対し、Ｌｉ＋（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−で現されるリチウム塩を０．０２９ｇ添加し（固形分に対して１質量％、ＳｉＯ２換算量１．２質量％）、攪拌・混合した。この混合物を親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１４とした。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、１４日経過した時点ゲル化した。
［比較例８］
比較例６で得られた親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１３：８０ｇ（固形分２．９０ｇ）に対し、ピリジニウム系イオン性液体（ピリジニウムフルオロアルキルスルホンイミド系イオン性液体）を０．０２９ｇ添加し（固形分に対して１質量％、ＳｉＯ２換算量１．２質量％）、攪拌・混合した。この混合物を親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１５とした。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、１ヶ月経過した時点でゲル化した。
比較例６で得られた親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１３：８０ｇ（固形分２．９０ｇ）に対し、ピリジニウム系イオン性液体（ピリジニウムフルオロアルキルスルホンイミド系イオン性液体）を０．０２９ｇ添加し（固形分に対して１質量％、ＳｉＯ２換算量１．２質量％）、攪拌・混合した。この混合物を親水性・帯電防止性付与コート剤組成物１５とした。このコート剤組成物を高密度ポリエチレン製広口瓶中で室温にて密閉保管したところ、１ヶ月経過した時点でゲル化した。
（塗膜の形成方法）
基材：ＰＥＴフィルムＮｏ．５を用い、上記親水性・帯電防止性付与コート剤組成物をディップ法（１０秒浸漬、引き上げ速度８５ｍｍ／分）で塗工した。キュアーは８５℃で３０秒乾燥し、塗膜を形成した。
基材：ＰＥＴフィルムＮｏ．５を用い、上記親水性・帯電防止性付与コート剤組成物をディップ法（１０秒浸漬、引き上げ速度８５ｍｍ／分）で塗工した。キュアーは８５℃で３０秒乾燥し、塗膜を形成した。
（評価方法）
（１）全光線透過率：ＪＩＳ−Ｋ−７３６１−１に記載された試験方法によりヘイズメーター（スガ試験機製）により測定した。
（２）ヘイズ度：ＪＩＳ−Ｋ−７３６１−１に記載された試験方法によりヘイズメーター（スガ試験機製）により測定した。
（３）密着性： ＪＩＳ−Ｋ５４００に記載された煮沸試験により評価した。
（４）表面親水性（水に対する接触角測定）：接触角の測定は、０．２ｃｃの蒸留水を塗膜表面に滴下した後、拡大カメラで観察することにより行った（接触角測定は協和界面科学(株)製の接触角計：CA-X150型を使用）。接触角が小さい程、親水性が高いことを示す。測定は塗工直後と塗膜の劣化促進試験後（８０℃乾燥機内に１ヶ月放置）の２点で測定して、親水性塗膜の持続性も評価した。
（５）帯電防止性：表面抵抗率測定により評価した。測定機器は三菱化学社製Hiresta-UP MCP-HT450機を使用した。塗工初期に２５℃／５０％ＲＨ条件と２５℃／２０％ＲＨの２条件で測定した。また特性変化は８０℃１ヶ月保存後に、２５℃／５０％ＲＨ条件と２５℃／２０％ＲＨの２条件で測定して変化をみた。
（６）コート剤の保存安定性： 調製した親水性・帯電防止性付与コート剤を２５℃で保管し、定期的に塗膜形成後親水性が発現するかどうかで評価した（親水性の判断：初期の膜の水接触角が３０°以下）。保管中の親水性・帯電防止性付与コート剤が親水性を示さなくなった保管日数を評価基準として用いた。
（１）〜（６）の評価結果を表１に示す。
（１）全光線透過率：ＪＩＳ−Ｋ−７３６１−１に記載された試験方法によりヘイズメーター（スガ試験機製）により測定した。
（２）ヘイズ度：ＪＩＳ−Ｋ−７３６１−１に記載された試験方法によりヘイズメーター（スガ試験機製）により測定した。
（３）密着性： ＪＩＳ−Ｋ５４００に記載された煮沸試験により評価した。
（４）表面親水性（水に対する接触角測定）：接触角の測定は、０．２ｃｃの蒸留水を塗膜表面に滴下した後、拡大カメラで観察することにより行った（接触角測定は協和界面科学(株)製の接触角計：CA-X150型を使用）。接触角が小さい程、親水性が高いことを示す。測定は塗工直後と塗膜の劣化促進試験後（８０℃乾燥機内に１ヶ月放置）の２点で測定して、親水性塗膜の持続性も評価した。
（５）帯電防止性：表面抵抗率測定により評価した。測定機器は三菱化学社製Hiresta-UP MCP-HT450機を使用した。塗工初期に２５℃／５０％ＲＨ条件と２５℃／２０％ＲＨの２条件で測定した。また特性変化は８０℃１ヶ月保存後に、２５℃／５０％ＲＨ条件と２５℃／２０％ＲＨの２条件で測定して変化をみた。
（６）コート剤の保存安定性： 調製した親水性・帯電防止性付与コート剤を２５℃で保管し、定期的に塗膜形成後親水性が発現するかどうかで評価した（親水性の判断：初期の膜の水接触角が３０°以下）。保管中の親水性・帯電防止性付与コート剤が親水性を示さなくなった保管日数を評価基準として用いた。
（１）〜（６）の評価結果を表１に示す。
Claims (7)
- （Ａ）組成式：ＳｉＯ4-ａ/2 （ＯＲ1 ）ａ （１）
（式中、Ｒ1は、その１部が水素原子であってもよい、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基および炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基からなる群から選択される基であり、ａは１〜４の整数である。）で示されるヒドロカルビルシリケート、その部分加水分解物、又はそれらの組み合わせを、
（Ｂ）塩基性触媒が０．０５〜５．００質量％の濃度で溶解している塩基性触媒水溶液を、水として（Ａ）成分１モルに対して１０〜５０モル、
（Ｃ）グリコールエーテルを（Ａ）成分１モルに対して０．１〜４．０モル、
及び
（Ｄ）炭素原子数１〜４の低級アルコールを（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計に対して２０〜７０質量％、
を含む混合溶液中で加水分解・縮合させて調製され、且つ（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計量１００質量部に対して（Ａ）成分のＳｉＯ２換算量が０．０５〜５質量部であり、
前記混合溶液中での（Ａ）成分の加水分解・縮合後に、更に（Ｅ）Ｌｉ ＋ （ＣＦ ３ ＳＯ ２ ） ２ Ｎ − で表されるリチウム塩、或いは非重合性の窒素オニウムカチオンとフッ素原子及びスルホニル基を構造に持つ配位アニオンとからなるオニウム塩化合物を（Ａ）成分のＳｉＯ ２ 換算量１００質量部に対して０．１〜５．０質量部を後添加して調製されたことを特徴とする親水性・帯電防止性付与コート剤組成物。 - （Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）成分を混合して混合溶液を調製した後に該混合溶液に（Ａ）成分を添加する、請求項１記載の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物。
- 前記（Ａ）成分のヒドロカルビルシリケートがテトラメチルシリケート又はテトラエチルシリケートであることを特徴とする、請求項１又は２記載の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物。
- 前記（Ｂ）成分の塩基性触媒がアンモニアであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項記載の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物。
- 前記（Ｃ）成分のグリコールエーテルがエチレングリコールモノブチルエーテルであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項記載の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物。
- 前記（Ｄ）成分の炭素原子数１〜４の低級アルコールがイソプロピルアルコールであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項記載の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物。
- 基体と、請求項１〜６のいずれか１項記載の親水性・帯電防止性付与コート剤組成物を該基体の表面に塗工して形成した親水性・帯電防止性に優れた塗膜を有する物品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008286657A JP5251437B2 (ja) | 2008-11-07 | 2008-11-07 | 親水性・帯電防止性付与コート剤組成物及びそれを塗工した物品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008286657A JP5251437B2 (ja) | 2008-11-07 | 2008-11-07 | 親水性・帯電防止性付与コート剤組成物及びそれを塗工した物品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010111806A JP2010111806A (ja) | 2010-05-20 |
| JP5251437B2 true JP5251437B2 (ja) | 2013-07-31 |
Family
ID=42300611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008286657A Active JP5251437B2 (ja) | 2008-11-07 | 2008-11-07 | 親水性・帯電防止性付与コート剤組成物及びそれを塗工した物品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5251437B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7057879B2 (ja) * | 2018-02-08 | 2022-04-21 | 株式会社スリーボンド | コーティング剤組成物 |
| JP6994149B2 (ja) * | 2018-05-16 | 2022-01-14 | 株式会社スリーボンド | 塗膜形成組成物 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH051391A (ja) * | 1991-06-21 | 1993-01-08 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 金属表面処理用組成物及びその製造方法 |
| JP4483015B2 (ja) * | 2000-04-17 | 2010-06-16 | Ｊｓｒ株式会社 | 膜形成用組成物の製造方法、膜形成用組成物、膜の形成方法およびシリカ系膜 |
| JP4257141B2 (ja) * | 2003-03-27 | 2009-04-22 | 信越化学工業株式会社 | 多孔質膜形成用組成物、多孔質膜の製造方法、多孔質膜、層間絶縁膜、及び半導体装置 |
| JP4535280B2 (ja) * | 2004-07-09 | 2010-09-01 | Ｊｓｒ株式会社 | 有機シリカ系膜の形成方法 |
| JP2006051463A (ja) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Nippon Paint Co Ltd | 親水性塗膜の形成方法及び親水性塗膜を有する基材 |
| JP2006070120A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Sdc Technologies Asia Kk | 帯電防止コート用被覆液組成物およびこれを被覆した被覆プラスチック物品 |
| JP2006265271A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Aica Kogyo Co Ltd | 帯電防止ハードコート剤およびハードコートフィルム |
| JP5458575B2 (ja) * | 2006-10-12 | 2014-04-02 | 日産化学工業株式会社 | 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材 |
| JP5224693B2 (ja) * | 2007-01-30 | 2013-07-03 | 伊藤光学工業株式会社 | ハードコーティング組成物 |
-
2008
- 2008-11-07 JP JP2008286657A patent/JP5251437B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2010111806A (ja) | 2010-05-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6599976B2 (en) | Coating process and silicon-containing liquid composition | |
| KR20140040634A (ko) | 차량의 도장 표면용 코팅제 | |
| BRPI0707817A2 (pt) | sistema de revestimento | |
| ES2595503T3 (es) | Composición curable por radiación, y método para preparar una capa híbrida sol-gel sobre una superficie de un sustrato usando dicha composición | |
| JP6715531B2 (ja) | 透明皮膜 | |
| JP5631640B2 (ja) | 防曇剤組成物 | |
| KR20190059901A (ko) | 코팅제 조성물 | |
| KR101277825B1 (ko) | 도전성 실리카졸 조성물 및 그것을 사용한 성형품 | |
| JP5251437B2 (ja) | 親水性・帯電防止性付与コート剤組成物及びそれを塗工した物品 | |
| JP6319905B2 (ja) | 被膜形成用組成物及びその製造方法、並びに被膜 | |
| EP2368950B1 (en) | Heat curable compositions for tintable abrasion resistant transparent hard-coatings | |
| KR101839779B1 (ko) | 내오염성 애자 코팅용 조성물 및 애자 코팅 방법 | |
| Seok et al. | Preparation of corrosion protective coatings on galvanized iron from aqueous inorganic–organic hybrid sols by sol–gel method | |
| JP2005272835A (ja) | ケイ素含有液状組成物 | |
| JP2019011463A (ja) | 組成物 | |
| JPH09255910A (ja) | コーテイング用組成物 | |
| JP5641434B2 (ja) | コーティング剤 | |
| JP4424780B2 (ja) | 塗装方法及びケイ素含有液状組成物 | |
| KR20140144587A (ko) | 수용성 무기바인더를 포함하는 자기 경화형 무기질계 아연말 전처리 프라이머 도료 조성물 | |
| JP7266438B2 (ja) | 防汚性膜形成用液組成物 | |
| JPH07305000A (ja) | 帯電防止被覆用組成物 | |
| JPWO2018021339A1 (ja) | 薄膜撥液層の製造方法、及び薄膜撥液層 | |
| JPH0119427B2 (ja) | ||
| JP2016050276A (ja) | 塗装鋼板用表面処理剤 | |
| JP7177889B2 (ja) | 膜形成用液組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101026 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20120808 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20120822 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120914 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121009 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121116 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130319 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130401 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5251437 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160426 Year of fee payment: 3 |