JP2005196122A - 反射防止フィルム、偏光板用保護フィルム及びそれらの製造方法、並びに偏光板、画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】塵埃（埃など）の付着防止性に優れた反射防止フィルム、偏光板用保護フィルム、偏光板、画像表示装置を提供すること。またこれら反射防止フィルム、偏光板用保護フィルム、偏光板、画像表示装置を、安価で大量に提供すること。
【解決手段】透明支持体上に、含フッ素化合物を含有する最外層及び帯電防止層を有する反射防止フィルム。該反射防止フィルムを用いた偏光板用保護フィルム、及び偏光板。並びにこれらのフィルムを装着した画像表示装置。
【選択図】 図１

Description

本発明は、反射防止フィルム、偏光板用保護フィルム、及び、それらの製造方法に関り、さらに、これらのフィルムを用いた偏光板及び画像表示装置に関する。

近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）は大画面化が進み、反射防止フィルムを配置した液晶表示装置が増大している。

反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）などのような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される。そのため反射防止フィルムには、高い物理強度（耐擦傷性など）、透明性、耐薬品性、耐候性（耐湿熱性、耐光性など）が要求される。さらにまた、ディスプレイの視認性を低下させる塵埃（埃など）が、反射防止フィルムの表面に付着するのを防止する対策が要求される。

反射防止フィルムに用いる反射防止層（高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層など）としては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から普通に用いられている。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法により形成することが通常に行われてきた。しかし、蒸着による金属酸化物の透明薄膜の形成方法は、生産性が低く大量生産に適しておらず、生産性が高い塗布により形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１〜４参照）。

一方、液晶表示装置において偏光板は不可欠な光学材料であり、一般に、偏光膜が２枚の保護フィルムによって保護された構造をしている。これらの保護フィルムに反射防止機能を付与することができれば、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。

偏光板に用いる保護フィルムは、偏光膜と貼り合わせるうえで十分な密着性を有していることが必要である。偏光膜との密着性を改良する手法として、保護フィルムを鹸化処理して保護フィルムの表面を親水化処理することが通常行われている。
特開２００２−１１６３２３号公報 特開２００２−１５６５０８号公報 特開２００２−３６１７６９号公報 特開２００３−４９０３号公報

本発明の目的は、耐擦傷性など高い物理強度を有し、透明性、耐薬品性、耐候性、更には、塵埃（埃など）の付着防止性や防汚性に優れた反射防止フィルムを提供することである。本発明の他の目的は、上記諸性能に優れた反射防止フィルムを、安価で大量に製造できる反射防止フィルムの製造方法を提供することである。

また、本発明は、適切な手段により反射防止処理がされている、偏光板用保護フィルム及びその製造方法、並びに偏光板、画像表示装置を提供することを目的とする。

上記課題は、下記構成の反射防止フィルム、偏光板用保護フィルム、及び、それらの製造方法、偏光板、画像表示装置により達成される。

（１）透明支持体上に、含フッ素化合物を含有する最外層及び帯電防止層を有することを特徴とする反射防止フィルム。

（２）最外層を有する側の表面抵抗が１×１０¹³Ω／□以下である上記（１）に記載の反射防止フィルム。
（３）最外層を有する側の表面抵抗が１×１０¹²Ω／□以下である上記（１）に記載の反射防止フィルム。
（４）最外層を有する側の表面の動摩擦係数が０．２５以下である上記（１）〜（３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（５）最外層を有する側の表面の水に対する接触角が９０゜以上である上記（１）〜（４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（６）帯電防止層が電子伝導型の導電材を含有する上記（１）〜（５）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（７）導電材が金属酸化物である上記（６）に記載の反射防止フィルム。
（８）導電材が金属である上記（６）に記載の反射防止フィルム。
（９）導電材が１０〜４００ｍ²／ｇの比表面積を有する微粒子である上記（６）〜（８）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（１０）導電材が平均粒径１〜２００ｎｍの微粒子である上記（６）〜（９）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（１１）導電材が分散剤を用いて分散されている上記（６）〜（１０）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（１２）分散剤がアニオン性基を有する上記（１１）に記載の反射防止フィルム。
（１３）アニオン性基が、カルボキシル基、スルホン酸基又はリン酸基である上記（１２）に記載の反射防止フィルム。
（１４）分散剤が架橋性又は重合性の官能基を有する上記（１１）〜（１３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（１５）帯電防止層が、さらに有機化合物のバインダーを含有する上記（１）〜（１４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（１６）有機化合物のバインダーが、架橋性又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物を含有する上記（１５）に記載の反射防止フィルム。
（１７）有機化合物のバインダーが、分散剤と架橋性又は重合性の官能基を有する化合物とから形成された硬化物を含有する上記（１５）又は（１６）に記載の反射防止フィルム。
（１８）架橋性又は重合性の官能基を有する化合物が、電離放射線硬化性化合物である上記（１６）又は（１７）に記載の反射防止フィルム。

（１９）帯電防止層を透明支持体と最外層との間に有する上記（１）〜（１８）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（２０）帯電防止層がハードコート処理されたものである上記（１）〜（１９）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（２１）最外層に含有される含フッ素化合物が、架橋性又は重合性の官能基を有するフッ素原子含有化合物の架橋又は重合反応により形成されたものである上記（１）〜（２０）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（２２）フッ素原子含有化合物が有する架橋性又は重合性の官能基が、電離放射線硬化性の官能基である上記（２１）に記載の反射防止フィルム。
（２３）最外層に含有される含フッ素化合物が、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰り返し単位と側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰り返し単位からなる共重合体を主成分として含有して形成されたものである上記（１）〜（２２）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（２４）共重合体が下記一般式（１）で表わされる上記（２３）に記載の反射防止フィルム。
一般式（１）：

一般式（１）中、Ｌ¹¹は炭素数１〜１０の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｒ¹¹は水素原子又はメチル基を表す。Ａは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。

（２５）共重合体が下記一般式（１−１）で表される上記（２３）に記載の反射防止フィルム。
一般式（１−１）：

一般式（１−１）中、Ｒ¹¹、ｘ、ｙはそれぞれ上記一般式（１）と同義である。Ｂは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。ｚ１及びｚ２はそれぞれの構成成分のモル％を表し、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たす値を表す。ｎは２≦ｎ≦１０を満たす整数を表す。

（２６）一般式（１−１）で表される共重合体が、４０≦ｘ≦６０、３０≦ｙ≦６０、ｚ２＝０を満たす上記（２５）に記載の反射防止フィルム。

（２７）最外層が、下記一般式（２）で表わされるポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体を含有してなる上記（１）〜（２６）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
一般式（２）：

一般式（２）中、Ｒ²¹〜Ｒ²⁴はそれぞれ独立に炭素原子を１〜２０含む基を表し、それぞれ互いに同じであっても異なっていてもよく、Ｒ²¹、Ｒ²³、Ｒ²⁴のうち少なくとも一つの基が架橋性又は重合性の官能基を表す。ｐは１≦ｐ≦４を満たす整数を表す。ｑは１０≦ｑ≦５００を満たす整数を表し、ｒは０≦ｒ≦５００を満たす整数を表し、ｒ≠０の時、ランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよい。

（２８）一般式（２）で表されるポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体が、架橋性又は重合性の官能基として、電離放射線硬化性の官能基を有する上記（２７）に記載の反射防止フィルム。
（２９）最外層が、含フッ素化合物形成用材料と架橋又は重合するバインダーを含有して形成されたものである上記（１）〜（２８）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（３０）最外層に含有される含フッ素化合物が、
架橋性もしくは重合性の官能基を有する含フッ素化合物形成用材料と、前記一般式（２）で表されるポリシロキサン化合物及び／もしくはその誘導体と、並びに／又は、該含フッ素化合物形成用材料と架橋又は重合するバインダーと、
から形成される硬化物である上記（２１）〜（２９）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（３１）最外層が微粒子を含有する上記（１）〜（３０）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（３２）最外層の微粒子の少なくとも１種類が中空の微粒子である上記（３１）に記載の反射防止フィルム。
（３３）最外層の微粒子の平均粒径が該最外層の厚みの２０〜１００％である上記（３１）又は（３２）に記載の反射防止フィルム。
（３４）最外層の微粒子が二酸化珪素微粒子である上記（３１）〜（３３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（３５）最外層が低屈折率層である上記（１）〜（３４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（３６）反射防止フィルムが、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有する層を有する上記（１）〜（３５）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（３７）平均粒径０．２〜１０μｍの粒子の屈折率と、該粒子を含有する層のマトリックスの屈折率との屈折率の差が０．０２以上である上記（３６）に記載の反射防止フィルム。

（３８）平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子の、下記数式（１）で表される粒径分布値Ｓが２．０以下である上記（３６）又は（３７）に記載の反射防止フィルム。
数式（１）：Ｓ＝［Ｄ_0.9−Ｄ_0.1］／Ｄ_0.5

Ｄ_0.1：体積換算粒径の積算値の１０％値、
Ｄ_0.5：体積換算粒径の積算値の５０％値、
Ｄ_0.9：体積換算粒径の積算値の９０％値。

（３９）Ｓ値が１．０以下である上記（３８）に記載の反射防止フィルム。
（４０）平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有する層が、さらに有機化合物のバインダーを含有する上記（３６）〜（３９）に記載の反射防止フィルム。
（４１）有機化合物のバインダーが、架橋性又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物を含有する上記（４０）に記載の反射防止フィルム。
（４２）有機化合物のバインダーが、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成された硬化物を含有する上記（４０）又は（４１）に記載の反射防止フィルム。
（４３）平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有する層が、ハードコート層である上記（３６）〜（４２）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（４４）平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有する層が、最外層と隣接する層である上記（３６）〜（４３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（４５）最外層を有する側の最表面に凹凸が形成されており、防眩性を有する上記（１）〜（４４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（４６）反射防止フィルムの表面の１ｍｍ²の面積当たり、凹の切断面の面積が１００μｍ²以上の凹が存在しない上記（４５）に記載の反射防止フィルム。
（４７）反射防止フィルムの表面の１ｍｍ²の面積当たりの平均表面粗さ（Ｒａ）が０．０１〜１μｍである上記（４５）又は（４６）に記載の反射防止フィルム。
（４８）上記（３６）〜（４４）に記載の平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有する層が、該粒子により該層の表面に凹凸を形成されており、
最外層を有する側の最表面の凹凸が、上記の粒子により表面に凹凸が形成された層の上に該最外層を形成することにより形成されたものである上記（４５）〜（４７）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（４９）透明支持体と最外層との間に、平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層を有する上記（１）〜（４８）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（５０）無機微粒子が、１０〜４００ｍ²／ｇの比表面積を有する上記（４９）に記載の反射防止フィルム。
（５１）無機微粒子が、分散剤を用いて分散されている上記（４９）又は（５０）に記載の反射防止フィルム。
（５２）分散剤がアニオン性基を有する上記（５１）に記載の反射防止フィルム。
（５３）アニオン性基が、カルボキシル基、スルホン酸基又はリン酸基である上記（５２）に記載の反射防止フィルム。
（５４）分散剤が、架橋性又は重合性の官能基を有する上記（５１）〜（５３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（５５）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層が、さらに有機化合物のバインダーを含有する上記（４９）〜（５４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（５６）有機化合物のバインダーが、架橋性又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物を含有する上記（５５）に記載の反射防止フィルム。
（５７）有機化合物のバインダーが、分散剤と架橋性又は重合性の官能基を有する化合物とから形成された硬化物を含有する上記（５５）又は（５６）に記載の反射防止フィルム。
（５８）有機化合物のバインダーが、電離放射線硬化性化合物の架橋性又は重合反応により形成された硬化物を含有することを上記（５５）〜（５７）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（５９）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層の屈折率が、１．５５〜２．４０である上記（４９）〜（５８）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（６０）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層の屈折率が、１．６５〜２．２０である上記（４９）〜（５８）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（６１）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層が、ハードコート層である上記（４９）〜（６０）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（６２）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層が、光学干渉層である上記（４９）〜（６０）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（６３）平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層が、最外層と隣接する層である上記（４９）〜（６２）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（６４）透明支持体上のいずれかの層が、下記一般式（３）で表されるオルガノシラン化合物及び／又はその誘導体を含有してなる上記（１）〜（６３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

一般式（３）：（Ｒ³¹）_s−Ｓｉ（Ｚ³¹）_4-s
一般式（３）中、Ｒ³¹は置換もしくは無置換のアルキル基又は、置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｚ³¹は水酸基又は加水分解可能な基を表す。ｓは１〜３の整数を表す。

（６５）オルガノシラン化合物の誘導体が、酸触媒の存在下で作製されたオルガノシラン化合物誘導体である上記（６４）に記載の反射防止フィルム。
（６６）Ｒ³¹で表される基が、架橋性又は重合性の官能基を有することを特徴とする上記（６４）又は（６５）に記載の反射防止フィルム。
（６７）Ｒ³¹で表される基が、アシルオキシ基、アシルアミノ基又はエポキシ基のいずれかを有する上記（６４）〜（６６）に記載の反射防止フィルム。

（６８）オルガノシラン化合物が、下記一般式（３−１）で表される上記（６４）〜（６７）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
一般式（３−１）：

一般式（３−１）中、Ｒ³²は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、又は塩素原子を表す。Ｙ³¹は単結合、エステル基、アミド基、エーテル基、又はウレア基を表す。Ｌ³¹は２価の連結鎖を表す。ｔは０又は１を表す。Ｒ³¹及びＺ³¹は上記一般式（３）と同義である。

（６９）オルガノシラン化合物及び／又はその誘導体が、該オルガノシラン化合物及び／又はその誘導体を含有してなる層の他の成分と、架橋又は重合反応する上記（６４）〜（６８）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（７０）オルガノシラン化合物及び／又はその誘導体を含有してなる層が、最外層及び／又は該最外層の隣接層である（６４）〜（６９）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（７１）透明支持体上のいずれかの層が、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成される硬化物を含み、該架橋又は重合反応における開始剤が光重合開始剤である上記（１）〜（７０）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（７２）光重合開始剤が光ラジカル重合開始剤である上記（７１）に記載の反射防止フィルム。

（７３）透明支持体上のいずれかの層が、酸素濃度４体積％以下の雰囲気で形成されたものである上記（１）〜（７２）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（７４）窒素ガス置換により他の気体を除去すること（窒素パージ）で、酸素濃度４体積％以下の雰囲気とした上記（７３）に記載の反射防止フィルム。
（７５）透明支持体上のいずれかの層が、酸素濃度１体積％以下の雰囲気で形成されていることを特徴とする上記（７３）に記載の反射防止フィルム。

（７６）透明支持体上のいずれかの層が、架橋性又は重合性の官能基を有する化合物を含む塗料の塗布と同時又は塗布後に、該架橋性又は重合性の官能基を有する化合物の架橋又は重合反応させることにより形成された層である上記（１）〜（７５）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（７７）透明支持体がトリアセチルセルロースから形成される上記（１）〜（７６）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（７８）透明支持体と最外層の間に、非導電材の外表面に金属又は金属酸化物の導電性部分を形成してなる粒子を含有する層を有する上記（１）〜（７７）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（７９）透明支持体上に、含フッ素化合物を含有する最外層及び帯電防止層を有する反射防止フィルムの製造方法であって、透明支持体上の少なくとも一層を主成分がケトン類、芳香族炭化水素類、又はエステル類である溶媒を含む塗料を塗布して形成することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
（８０）溶媒の主成分がケトン類又はエステル類である上記（７９）に記載の反射防止フィルムの製造方法。

（８１）透明支持体上に、含フッ素化合物を含有する最外層及び帯電防止層を有する反射防止フィルムの製造方法であって、透明支持体上の少なくとも一層を、面状改良剤を含む塗料を塗布して形成することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
（８２）面状改良剤がフルオロ脂肪族基を含有する化合物である上記（８１）に記載の反射防止フィルムの製造方法。

（８３）フルオロ脂肪族基を含有する化合物において、該化合物の形成に用いられる全モノマー量に対する下記一般式（４）で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量が５０モル％以上である上記（８２）に記載の反射防止フィルムの製造方法。
一般式（４）：

一般式（４）中、Ｒ⁴¹は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。Ｙ⁴¹は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ⁴²）−を表す。Ｒ⁴²は水素原子又は、炭素数１〜８のアルキル基を表す。ａは１〜６の整数を表し、ｂは１〜１８の整数を表す。

（８４）面状改良剤が、面状改良剤を含有しない塗料と比較して、塗料の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上下げるものである上記（８１）〜（８３）のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
（８５）面状改良剤が、層の形成後に層の表面に存在する上記（８１）〜（８４）のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
（８６）面状改良剤が表面に存在する層上に、該面状改良剤を溶解する溶媒を含有する塗料を塗布し隣接層を形成することにより、該面状改良剤を該塗料の中に溶出させる上記（８５）に記載の反射防止フィルムの製造方法。
（８７）面状改良剤をハードコート層形成用の塗料に含有させる上記（８１）〜（８６）にいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。

（８８）上記（７９）〜（８７）のいずれかに記載の方法で作製されたことを特徴とする反射防止フィルム。

（８９）上記（１）〜（７８）のいずれかの反射防止フィルム又は上記（８８）に記載の反射防止フィルムを鹸化処理することで得られる偏光板用保護フィルム。
（９０）最外層を有する側とは反対側の透明支持体表面の、水に対する接触角が４０°以下である上記（８９）に記載の偏光板用保護フィルム。

（９１）上記（１）〜（７８）のいずれかの反射防止フィルム又は上記（８８）に記載の反射防止フィルムを鹸化処理することを特徴とする偏光板用保護フィルムの製造方法。

（９２）上記（８９）又は（９０）に記載の偏光板用保護フィルムを、偏光膜の２枚の保護フィルムのうちの少なくとも一方の保護フィルムとして有することを特徴とする偏光板。
（９３）上記（８９）又は（９０）に記載の偏光板用保護フィルムを偏光膜の２枚の保護フィルムのうちの一方の保護フィルムとして有し、他方の保護フィルムとして光学異方性層を有する光学補償フィルムを有することを特徴とする偏光板。
（９４）光学補償フィルムが、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する光学異方性層を有し、該ディスコティック構造単位の円盤面がフィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面とフィルム面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向において変化している上記（９３）に記載の偏光板。

（９５）上記（１）〜（７８）のいずれかの反射防止フィルム又は上記（８８）に記載の反射防止フィルムが画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
（９６）上記（９２）〜（９４）のいずれかに記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
（９７）液晶セルの両側に配置された２枚の偏光板のうち、表示側の偏光板として上記（９２）〜（９４）のいずれかに記載の偏光板を有し、且つ該偏光板の保護フィルムである反射防止フィルムが偏光膜に対し液晶セルとは反対側に配置されている液晶表示装置である上記（９６）に記載の画像表示装置。

（９８）画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ又はＯＣＢモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする上記（９５）〜（９７）のいずれかに記載の画像表示装置。

本発明によれば、耐擦傷性が高く、埃など塵埃に対する防塵性や防汚性に優れた反射防止フィルムを安価で大量に提供することができる。
さらにこれら反射防止フィルムを用いることにより、上記特徴を保持した偏光板用保護フィルム、偏光板、画像表示装置を提供することができる。

以下に、本発明について更に詳細に説明する。
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上に、含フッ素化合物を含有する最外層及び帯電防止層を有することを特徴とするものである。以下、本発明の反射フィルムを構成する各層について詳細に説明する。

〔帯電防止層〕
本発明における帯電防止層について説明する。
本発明の反射防止フィルムは、帯電防止層を構築することで、反射防止フィルム表面に塵埃（埃など）が付着するのを防止する、すなわち優れた防塵性を発現させることができる。防塵性は、反射防止フィルム表面の表面抵抗値を下げることで発現され、帯電防止層の導電性が高いほど高い効果が得られる。本発明の反射防止フィルムにおいては、含フッ素化合物を含有する最外層を有する側の表面の表面抵抗値が、１×１０¹³Ω／□以下であることが好ましく、１×１０¹²Ω／□以下であることがより好ましく、好ましく１×１０¹¹Ω／□以下であることが更に好ましく、１×１０⁹Ω／□以下であることが更により好ましく、１×１０⁸Ω／□以下であることが特に好ましい。

本発明の反射防止フィルムにおいて、帯電防止層は、気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）、塗布法のどちらで作製してもよいが、低コストで帯電防止層を作製できる点で塗布法が好ましい。

帯電防止層は、透明支持体上に少なくとも１層以上が作製される。帯電防止層は、透明支持体と含フッ素化合物を有する最外層との間、又は透明支持体に対し該最外層とは反対側のどちらにも作製することができ、好ましくは透明支持体と最外層の間、特に透明支持体と最外層の間で該最外層により近い方に作製されることが好ましい。

気相法による帯電防止層の作製は、例えば、フィルム上に導電性物質を真空蒸着やスパッタリングすることで実施できる。導電性物質としては、具体的にはアルミニウム、銅、金、銀、ニッケル、クロム、鉄、モリブデン、チタン、タングステン、タンタル等の金属単体もしくは合金、又は、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、アルミニウムをドープした酸化亜鉛等の金属酸化物などを用いることができる。気相法で帯電防止層を作製する場合、帯電防止層の膜厚は、通常５〜２００ｎｍ程度とすればよく、好ましくは１０〜１５０ｎｍ、より好ましくは２０〜１２０ｎｍ、特に好ましくは３０〜１００ｎｍである。気相法を用いた帯電防止層の作製には従来公知の手法を用いることができる。

帯電防止層を塗布で作製する場合、導電材（電子伝導型の導電性粒子、イオン伝導型の有機化合物など）を結着剤（バインダーなど）に含有させて、帯電防止層を作製することが好ましい。特に、電子伝導型の導電材は、環境の変化を受け難く導電性能が安定し、特に低湿環境下でも良好な導電性能を発現する点で好ましい。
以下、塗布法で帯電防止層を作製する好ましい方法について記載する。

［導電材］
帯電防止層に用いられる好ましい導電材としては、π共役系導電性有機化合物、導電性微粒子などの電子伝導型の導電材が好ましい。
π共役系導電性有機化合物としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）等が挙げられる。

導電性微粒子としては、カーボン系、金属系、金属酸化物系、導電被覆系微粒子等が挙げられる。
カーボン系微粒子としては、カーボンブラック、ケッチェンブラック、アセチレンブラック等のカーボン粉末、ＰＡＮ系炭素繊維、ピッチ系炭素繊維等のカーボン繊維、膨張化黒鉛粉砕品のカーボンフレーク等が挙げられる。
金属系微粒子としては、アルミニウム、銅、金、銀、ニッケル、クロム、鉄、モリブデン、チタン、タングステン、タンタル等の金属、及び、それらの金属を含有する合金の粉末や、金属フレーク、鉄、銅、ステンレス、銀メッキ銅、黄銅等の金属繊維等が挙げられる。
金属酸化物系微粒子としては、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、などが挙げられる。

導電被覆系微粒子としては、例えば、酸化チタン（球状、針状）、チタン酸カリウム、ホウ酸アルミニウム、硫酸バリウム、マイカ、シリカ等の各種微粒子表面を、酸化錫、ＡＴＯ、ＩＴＯ等の導電材で被覆した導電性微粒子；金及び／又はニッケルなどの金属や金属酸化物で表面処理されたポリスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、ホルムアルデヒド樹脂等の樹脂ビーズなどが好ましい。これらは非導電材の外表面に金属又は金属酸化物の導電性部分を形成してなる粒子であり、粒子内部に対して表面の方が導電性が高いという特徴を有している。表面処理に用いるものとしては金属及び金属酸化物であり、金属であることが好ましい。またその中でも導電性が高く、安定な金属である金、銀又はニッケルが好ましく、金であることが最も好ましい。

帯電防止層の導電材としては、π共役系導電性有機化合物（特に、ポリチオフェン系導電性ポリマー）、導電性微粒子として金属系微粒子（特に、金、銀、銀／パラジウム合金、銅、ニッケル、アルミニウム）や金属酸化物系微粒子（特に、酸化錫、ＡＴＯ、ＩＴＯ、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛）が好ましい。特に、金属や金属酸化物などの電子伝導型の導電材が好ましく、なかでも金属酸化物系微粒子が特に好ましい。

導電材の一次粒子の質量平均粒径は１〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは１〜１００ｎｍ、特に好ましくは１〜８０ｎｍである。導電材の平均粒径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。

導電材の比表面積は、１０〜４００ｍ²／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ²／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ²／ｇであることが最も好ましい。

導電材の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、鱗片状、針状又は不定形状であることが好ましく、不定形状、針状、鱗片状であることが特に好ましい。

［帯電防止層の形成法］
帯電防止層を塗布法で作製する場合、導電材は、分散物の状態で帯電防止層の形成に使用することが好ましい。導電材の分散においては、分散剤の存在下で、分散媒体中に分散することが好ましい。
分散剤を用いて分散することにより、導電材は極めて微細に分散することができ、透明な帯電防止層の作製を可能にする。特に、帯電防止層を光学干渉層として用いて層に反射防止機能ももたせる場合には、導電材を微細に分散することで層の透明性が上がり、反射防止性能も向上させることができる点で好ましい。

（分散剤）
本発明の導電材の分散には、アニオン性基を有する分散剤を用いることが好ましい。アニオン性基としては、カルボキシル基、スルホン酸基（スルホ基）、リン酸基（ホスホノ基）、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有する基、又はその塩が有効であり、特にカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基又はその塩が好ましく、カルボキシル基、リン酸基が特に好ましい。
１分子当たりの分散剤に含有されるアニオン性基の数は１個以上であればよい。導電材の分散性をさらに改良する目的で、分散剤にはアニオン性基が１分子当たり複数個含有されていてもよい。１分子当たり平均で２個以上であることが好ましく、より好ましくは５個以上、特に好ましくは１０個以上である。また、分散剤に含有されるアニオン性基は、１分子中に複数種類が含有されていてもよい。

アニオン性の極性基を有する分散剤としては、「ホスファノール」｛ＰＥ−５１０、ＰＥ−６１０、ＬＢ−４００、ＥＣ−６１０３、ＲＥ−４１０など；以上東邦化学工業（株）製｝、“Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ”（−１１０、−１１１、−１１６、−１４０、−１６１、−１６２、−１６３、−１６４、−１７０、−１７１など；以上ビックケミー・ジャパン社製）などが挙げられる。

分散剤は、さらに架橋性又は重合性の官能基を含有することが好ましい。架橋性又は重合性の官能基としては、ラジカル種による架橋反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基｛例えば（メタ）アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等｝、カチオン重合性基（エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等）、重縮合反応性基（加水分解性シリル基等、Ｎ−メチロール基）等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。

本発明における帯電防止層での導電材の分散に用いる分散剤は、アニオン性基、及び、架橋性又は重合性の官能基を有し、かつ該架橋性又は重合性の官能基を側鎖に有する分散剤であることが特に好ましい。

上記の、本発明において特に好ましい分散剤の質量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されないが１０００以上であることが好ましい。該分散剤のより好ましい質量平均分子量（Ｍｗ）は２０００〜１００００００であり、さらに好ましくは５０００〜２０００００、特に好ましくは１００００〜１０００００である。

分散剤の導電材に対する使用量は、１〜５０質量％の範囲であることが好ましく、５〜３０質量％の範囲であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが最も好ましい。また、分散剤は２種類以上を併用してもよい。
導電材は分散剤の存在下で、分散媒体中に分散することが好ましい。

（分散媒体）
分散媒体は、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例には、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例えば、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例えば、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例えば、１−メトキシ−２−プロパノール）が含まれる。トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが好ましい。
特に好ましい分散媒体は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。

（導電材の分散）
導電材は、分散機を用いて分散することが好ましい。分散機の例には、サンドグラインダーミル（例えば、ピン付きビーズミル）、ダイノミル、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルなどが含まれる。サンドグラインダーミル、ダイノミルなどのメディア分散機が特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが含まれる。

導電材は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均粒径は１〜２００ｎｍである。好ましくは５〜１５０ｎｍであり、さらに好ましくは１０〜１００ｎｍ、特に好ましくは１０〜８０ｎｍである。導電材を２００ｎｍ以下に微細化することで透明性を損なわない帯電防止層を作製できる。

本発明の帯電防止層は、上記導電材以外に有機化合物のバインダーを含有することが好ましく、該バインダーにより層のマトリックスを形成し、導電材を分散させることが好ましい。このため帯電防止層は、分散媒体中に導電材を分散した分散液に、好ましくは、バインダー又はバインダー前駆体を添加して作製することが好ましい。バインダー又はバインダー前駆体としては、非硬化系の熱可塑性樹脂、又は熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のような硬化系樹脂等を用いることができる。

（有機化合物のバインダー又はバインダー前駆体）
バインダー又はバインダー前駆体の軟化温度又はガラス転移点は、５０℃以上であることが好ましく、７０℃以上であることがより好ましく、１００℃以上であることが特に好ましい。

本発明における帯電防止層は、分散液にバインダー前駆体（架橋性又は重合性の官能基を有する化合物）に、光重合開始剤等を加えて帯電防止層形成用の塗料とし、透明支持体上に該帯電防止層形成用の塗料を塗布して、バインダー前駆体の架橋又は重合反応により硬化させて作製することが特に好ましい。バインダー前駆体としての架橋性又は重合性の官能基を有する化合物としては、電離放射線硬化性化合物が好ましく、例えば、後述する電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなどが好ましい。

上記帯電防止層の作製法において、帯電防止層のバインダーは、架橋性又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物として形成される。さらに、帯電防止層のバインダーを層の塗布と同時又は塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させて硬化させて形成することが好ましい。

このようにして作製した帯電防止層のバインダーは、例えば、上記の分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となり、アニオン性基が導電材の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、導電材を含有する帯電防止層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良できるので好ましい。

（電離放射線硬化性の多官能モノマー又は多官能オリゴマー）
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシド又はプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；等を挙げることができる。

さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。

中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。
多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。

（光重合開始剤）
光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド及びチオキサントン類等が挙げられる。

市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬（株）製の「カヤキュアー」（ＤＥＴＸ−Ｓ、ＢＰ−１００、ＢＤＭＫ、ＣＴＸ、ＢＭＳ、２−ＥＡＱ、ＡＢＱ、ＣＰＴＸ、ＥＰＤ、ＩＴＸ、ＱＴＸ、ＢＴＣ、ＭＣＡなど）、日本チバガイギー（株）製の「イルガキュア」（６５１、１８４、５００、９０７、３６９、１１７３、２９５９、４２６５、４２６３など）、サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ”（ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＢ１、ＥＢ３、ＢＰ、Ｘ３３、ＫＴＯ４６、ＫＴ３７、ＫＩＰ１５０、ＴＺＴ）等が挙げられる。

特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、高薄一弘著「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会、１５９頁、１９９１年｝に記載されている。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製の「イルガキュア」（６５１、１８４、９０７）等が挙げられる。

光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。

光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトン及びチオキサントンを挙げることができる。
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製の「カヤキュアー」（ＤＭＢＩ、ＥＰＡ）などが挙げられる。

光重合反応は、帯電防止層の塗布及び乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。紫外線照射には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。

帯電防止層の架橋又は重合しているバインダーは、ポリマーの主鎖が架橋又は重合している構造を有することが好ましい。ポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィン（飽和炭化水素）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂が含まれる。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖及びポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレフィン主鎖及びポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィン主鎖が最も好ましい。

ポリオレフィン主鎖は、飽和炭化水素からなる。ポリオレフィン主鎖は、例えば、不飽和重合性基の付加重合反応により得られる。ポリエーテル主鎖は、エーテル結合（−Ｏ−）によって繰り返し単位が結合している。ポリエーテル主鎖は、例えば、エポキシ基の開環重合反応により得られる。ポリウレア主鎖は、ウレア結合（−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレア主鎖は、例えば、イソシアネート基とアミノ基との縮重合反応により得られる。ポリウレタン主鎖は、ウレタン結合（−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレタン主鎖は、例えば、イソシアネート基と、水酸基（Ｎ−メチロール基を含む）との縮重合反応により得られる。ポリエステル主鎖は、エステル結合（−ＣＯ−Ｏ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリエステル主鎖は、例えば、カルボキシル基（酸ハライド基を含む）と水酸基（Ｎ−メチロール基を含む）との縮重合反応により得られる。ポリアミン主鎖は、イミノ結合（−ＮＨ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミン主鎖は、例えば、エチレンイミン基の開環重合反応により得られる。ポリアミド主鎖は、アミド結合（−ＮＨ−ＣＯ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミド主鎖は、例えば、イソシアネート基とカルボキシル基（酸ハライド基を含む）との反応により得られる。メラミン樹脂主鎖は、例えば、トリアジン基（例、メラミン）とアルデヒド（例、ホルムアルデヒド）との縮重合反応により得られる。なお、メラミン樹脂は、主鎖そのものが架橋又は重合構造を有する。

アニオン性基は、連結基を介してバインダーの側鎖として、主鎖に結合していることが好ましい。
アニオン性基とバインダーの主鎖とを結合する連結基は、−ＣＯ−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。架橋又は重合構造は、二つ以上の主鎖を化学的に結合（好ましくは共有結合）する。架橋又は重合構造は、三つ以上の主鎖を共有結合することが好ましい。架橋又は重合構造は、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、窒素原子、リン原子、脂肪族残基、芳香族残基及びこれらの組み合わせから選ばれる二価以上の基からなることが好ましい。

バインダーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋又は重合構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、２〜９６モル％であることが好ましく、４〜９４モル％であることがさらに好ましく、６〜９２モル％であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二つ以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー中の架橋又は重合構造を有する繰り返し単位の割合は、４〜９８モル％であることが好ましく、６〜９６モル％であることがさらに好ましく、８〜９４モル％であることが最も好ましい。

バインダーの繰り返し単位は、アニオン性基と架橋又は重合構造の双方を有していてもよい。バインダーには、その他の繰り返し単位（アニオン性基も架橋又は重合構造もない繰り返し単位）が含まれていてもよい。

架橋又は重合しているバインダーは、帯電防止層形成用の塗料を透明支持体上に塗布して、塗布と同時又は塗布後に、架橋又は重合反応によって作製することが好ましい。

帯電防止層の中において、導電材はなるべく微細に分散されていることが好ましく、質量平均粒径は１〜２００ｎｍの範囲であるのがよい。帯電防止層中の導電材の質量平均粒径は、５〜１５０ｎｍであることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。
導電材を２００ｎｍ以下に微細化することで透明性を損なわない帯電防止層を作製できる。

帯電防止層における導電材の含有量は、帯電防止層の質量に対し３０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは４０〜８０質量％、特に好ましくは５０〜７５質量％である。導電材は帯電防止層内で二種類以上を併用してもよい。

（塗布溶媒）
帯電防止層の好ましい塗布溶媒としては、前記の導電材の分散媒体として例示した溶媒類の中から適宜選択して用いることができ、例えばケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、ｉ−プロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、水などを挙げることができる。
特に好ましい塗布溶媒としては、ケトン類、芳香族炭化水素類、又は、エステル類であり、最も好ましい溶媒としては、ケトン類である。ケトン類の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが特に好ましい。

塗布溶媒は、その他の溶媒を含んでいてもよい。例えば、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が含まれる。

塗布溶媒は、ケトン系溶媒の含有量が塗料に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。

（帯電防止層の形成）
帯電防止層の形成は、特に帯電防止層を電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成する場合には、酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。
帯電防止層を酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で作製することにより、帯電防止層の物理強度（耐擦傷性など）、耐薬品性、耐候性、更には、帯電防止層と帯電防止層と隣接する層との接着性を改良することができる。
好ましくは酸素濃度が３体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により作製することであり、更に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が１体積％以下、最も好ましくは０．５体積％以下である。

酸素濃度を４体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。

帯電防止層の膜厚は用途により適切に設計することができる。優れた透明性を有する帯電防止層を作製する場合、膜厚は１μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５００ｎｍ以下、更に好ましくは２００ｎｍ以下、特に好ましくは１５０ｎｍ以下である。
また、帯電防止層がハードコート処理されハードコート層を兼ねる場合、１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、特に好ましくは３〜５μｍである。

帯電防止層のヘイズは、低いほど好ましい。５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。

帯電防止層の物理強度は、硬度がＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また耐擦傷性は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。このために帯電防止層がハードコート処理されていることも好ましい。

帯電防止層には、前記の成分（導電材、重合開始剤、光増感剤、バインダーなど）以外に、樹脂、界面活性剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。

〔最外層〕
本発明における最外層は、含フッ素化合物を含有する。特に、含フッ素化合物を主体とする最外層を構築することが好ましい。含フッ素化合物を主体とする最外層は、低屈折率層、又は防汚層として機能する。ここで、「含フッ素化合物を主体とする」とは、最外層の中に含まれる最外層の構成成分のうち、含フッ素化合物の質量比が最も大きいことを意味し、含フッ素化合物の含有率が最外層の全質量に対し５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上含まれることがより好ましい。

本発明における含フッ素化合物を有する最外層は、気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）、塗布法のどちらで作製してもよいが、低コストで作製できる点で塗布法が好ましい。
塗布法で作製する場合、最外層の「含フッ素化合物」は、「架橋性又は重合性の官能基を有するフッ素原子含有化合物」の、架橋又は重合反応により形成することが好ましく、該架橋性又は重合性の官能基は電離放射線硬化性の官能基であることが好ましい。以下、最外層に含まれる含フッ素化合物について記載する。

［含フッ素化合物］
最外層に含まれる含フッ素化合物の屈折率は、１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７、さらに好ましくは１．３８〜１．４５である。

「含フッ素化合物」には、含フッ素ポリマー、含フッ素シラン化合物、含フッ素界面活性剤、含フッ素エーテルなどが含まれる。

含フッ素ポリマーとしては、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの架橋又は重合反応により合成されたものが挙げられる。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレフィン（例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、フッ素化ビニルエーテル及びフッ素置換アルコールとアクリル酸又はメタクリル酸とのエステルが含まれる。

含フッ素ポリマーとして、フッ素原子を含む繰り返し構造単位とフッ素原子を含まない繰り返し構造単位からなる共重合体も用いることができる。
上記共重合体は、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーとフッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることができる。

フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーとしては、オレフィン（例えば、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル（例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル等）、メタクリル酸エステル（例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン及びその誘導体（例えば、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル（例えば、メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル（例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド（例えば、Ｎ−t−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド及びアクリロニトリルが挙げられる。

含フッ素シラン化合物としては、ペルフルオロアルキル基を含むシラン化合物などが挙げられる。

含フッ素界面活性剤は、疎水性部分を構成する炭化水素の水素原子の一部又は全部が、フッ素原子により置換されているもので、その親水性部分はアニオン性、カチオン性、ノニオン性及び両性のいずれであってもよい。

含フッ素エーテルは、一般に潤滑剤として使用されている化合物である。含フッ素エーテルとしては、ペルフルオロポリエーテル等が挙げられる。

｛含フッ素化合物形成用材料｝
最外層の含フッ素化合物としては、含フッ素ポリマーが好ましい。該含フッ素ポリマーは、架橋又は重合構造が導入された含フッ素ポリマーであることが好ましい。架橋又は重合構造が導入された含フッ素ポリマーは、「架橋性又は重合性の官能基を有するフッ素原子含有化合物」を、架橋又は重合させることにより得られる。

「架橋性又は重合性の官能基を有するフッ素原子含有化合物」は、架橋性又は重合性の官能基を有さないフッ素原子含有化合物に、架橋性又は重合性の官能基を側鎖として導入することにより得ることができる。架橋性又は重合性の官能基としては、光（好ましくは紫外線照射）、電子ビーム（ＥＢ）照射又は加熱などにより反応して、含フッ素ポリマーが架橋又は重合構造を有するようになる官能基であることが好ましい。架橋性又は重合性の官能基としては、（メタ）アクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び活性メチレン等の基が挙げられる。架橋性又は重合性の官能基を有するフッ素原子含有化合物として、市販品を用いてもよい。以下、「架橋性又は重合性の官能基を有するフッ素原子含有化合物」を単に「フッ素原子含有化合物」と略称することもある。

最外層の含フッ素化合物は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位からなる共重合体を主成分として含有してなることが好ましい。主成分として含有してなるとは、該共重合体由来の成分が、最外層の全質量に対し５０質量％以上であることを意味し、７０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。以下に、最外層に用いられるのに好ましい上記共重合体について説明する。

含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類｛例えば「ビスコート６ＦＭ」（商品名）大阪有機化学工業（株）製や、“Ｍ−２０２０”（商品名）ダイキン工業（株）製等｝、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはペルフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。

（最外層に好適に用いられる共重合体）
最外層に好適に用いられる共重合体は、そのフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％であり、特に好ましくは３０〜５０質量％である。

上記共重合体は（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位を有する。（メタ）アクリロイル基の導入法は特に限定されるものではないが、例えば、（１）水酸基、アミノ基等の求核基を有するポリマーを合成した後に、（メタ）アクリル酸クロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸とメタンスルホン酸の混合酸無水物等を作用させる方法、（２）上記求核基を有するポリマーに、硫酸等の触媒存在下、（メタ）アクリル酸を作用させる方法、（３）上記求核基を有するポリマーにメタクリロイルオキシプロピルイソシアネート等のイソシアネート基と（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、（４）エポキシ基を有するポリマーを合成した後に（メタ）アクリル酸を作用させる方法、（５）カルボキシル基を有するポリマーにグリシジルメタクリレート等のエポキシ基と（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、（６）３−クロロプロピオン酸エステル部位を有するビニルモノマーを重合させた後で脱塩化水素を行う方法などが挙げられる。これらの中で本発明では、特に水酸基を含有するポリマーに対して（１）又は（２）の手法によって（メタ）アクリロイル基を導入することが好ましい。

側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位は、上記共重合体中の全繰り返し単位の５〜９０質量％、さらには３０〜７０質量％、特には４０〜６０質量％を占めることが特に好ましい。

前記共重合体には、前記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、透明支持体など下層への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶媒への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合させることもできる。これらのビニルモノマーは、目的に応じて複数を組み合わせてもよく、共重合体中の０〜６５モル％の範囲、さらには０〜４０モル％の範囲、特には０〜３０モル％の範囲であることが好ましい。

併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ,Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。

本発明に用いられる、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位からなる共重合体の好ましい形態として、下記一般式（１）で表されるものが挙げられる。
一般式（１）：

一般式（１）中、Ｌ¹¹は炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは２〜４の連結基を表し、直鎖、分岐、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。
好ましい例としては、＊−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ₂）₂−ＮＨ−＊＊、＊−（ＣＨ₂）₄−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ₂）₆−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−＊＊、−ＣＯＮＨ−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＮＨ（ＣＨ₂）₃−Ｏ−＊＊｛＊はポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す｝等が挙げられる。ｍは０又は１を表わす。

一般式（１）中、Ｒ¹¹は水素原子又はメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。

一般式（１）中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、透明支持体など下層への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶媒への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて、単一又は複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。

好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、ｉ−プロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸及びその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。

ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表わし、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０である。但し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００である。

さらに上記共重合体の特に好ましい形態として一般式（１−１）で表されるものが挙げられる。
一般式（１−１）：

一般式（１−１）中、Ｒ¹¹、ｘ、ｙはそれぞれ前記一般式（１）と同義であり、好ましい範囲も同じである。
ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表わし、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、単一組成であっても複数組成によって構成されていてもよい。例としては、前記一般式（１）におけるＡの例として説明したものが当てはまる。

ｚ１及びｚ２はそれぞれの繰返し単位のモル％を表わし、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たす値を表わす。それぞれ０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。但し、ｘ＋ｙ＋ｚ１＋ｚ２＝１００である。

一般式（１−１）で表される共重合体としては、４０≦ｘ≦６０、３０≦ｙ≦６０、ｚ２＝０を満たすものが特に好ましい。

一般式（１）又は一般式（１−１）で表わされる共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に、前記のいずれかの手法により（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。

以下に、本発明に用いられる含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位からなる共重合体の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

上記共重合体の合成は、種々の重合方法、例えば溶液重合、懸濁重合、沈殿重合、塊状重合、乳化重合によって水酸基含有重合体等の前駆体を合成した後、前記高分子反応によって（メタ）アクリロイル基を導入することにより行うことができる。重合反応は回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行うことができる。

重合の開始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光又は放射線を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方法」改定版（日刊工業新聞社刊、１９７１）や大津隆行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和４７年刊、１２４〜１５４頁に記載されている。

上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられる溶媒は、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールのような種々の有機溶媒を、単独又は２種以上の混合物でもよいし、水との混合溶媒としてもよい。

重合温度は生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり０℃以下から１００℃以上まで可能であるが、５０〜１００℃の範囲で重合を行うことが好ましい。

反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は、１〜１００ｋｇ／ｃｍ²、特に、１〜３０ｋｇ／ｃｍ²程度が望ましい。反応時間は、５〜３０時間程度である。

得られたポリマーの再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。

本発明の最外層を作製するのに用いる組成物は、塗料の形態をとることが好ましく、前記した含フッ素化合物形成用材料（前記の架橋性又は重合性の官能基を有するフッ素原子含有化合物、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位と側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位からなる共重合体等）を必須の構成成分とし、必要に応じて各種添加剤及びラジカル重合開始剤を適当な溶媒に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが０．０１〜６０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。

最外層には、目的に応じて充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り剤（ジメチルシリコーンなどのポリシロキサン化合物等）、オルガノシラン化合物及びその誘導体、バインダー、界面活性剤等の添加剤を用いることができる。特に、充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り剤（ジメチルシリコーンなどのポリシロキサン化合物等）を添加することは好ましい。
以下に、最外層に用いる好ましい充填剤、滑り剤等について記載する。

［最外層の好ましい充填剤］
充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）は、最外層の物理強度（耐擦傷性など）を改良する点で、添加することが好ましい。最外層に添加する充填剤としては無機微粒子が好ましく、中でも屈折率が低い二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）などが好ましい。特に好ましいのは二酸化珪素（シリカ）である。

充填剤の一次粒子の質量平均粒径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、１〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１〜８０ｎｍであることが最も好ましい。最外層において充填剤は、より微細に分散されていることが好ましい。充填剤の形状は米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、短繊維状、リング状、又は不定形状であることが好ましい。特に好ましいのは、球形状、不定形状である。充填剤は、結晶質、非晶質のいずれでもよい。

充填剤は、分散液中又は塗料中での分散安定化を図るために、あるいは最外層の構成成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。カップリング剤による表面処理が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシ化合物（例えば、チタネートカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。特に、シランカップリング剤処理が有効である。

充填剤の表面処理は、最外層の塗料の調製前にあらかじめ表面処理を実施しておくことが好ましいが、カップリング剤による表面処理の場合、塗料の調製時に塗料中にカップリング剤を添加して実施することも好ましい。

充填剤は、媒体（溶媒など）中に予め分散されていることが好ましい。

充填剤の添加量は、最外層の全質量に対し５〜７０質量％であることが好ましく、さらには１０〜５０質量％、特には２０〜４０質量％であることが好ましい。充填剤の添加量が該下限値以上であれば、物理強度（耐擦傷性など）の優れた改良効果が発現され、該上限値以下であれば、最外層が白濁するなどの不具合が生じないので、充填剤はこの範囲内で使用することが好ましい。

充填剤の平均粒径は、最外層の膜厚に対し２０〜１００％が好ましく、より好ましくは３０〜８０％、特に好ましくは３０％〜５０％である。

最外層に添加する充填剤が二酸化珪素微粒子の場合、中空の二酸化珪素微粒子を用いることが特に好ましい。中空の二酸化珪素微粒子は、屈折率が１．１７〜１．４５であることが好ましく、より好ましくは１．１７〜１．４０、さらに好ましくは１．１７〜１．３７である。ここで、中空の二酸化珪素微粒子の屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空の二酸化珪素微粒子を形成している外殻の二酸化珪素のみの屈折率を表わすものではない。中空の二酸化珪素微粒子を用いることで最外層の屈折率を下げることができる。

この時、粒子内の空洞の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、空隙率ｘは下記数式（２）で表される。
数式（２）：ｘ＝(ａ／ｂ）³×１００
空隙率ｘは１０〜６０％が好ましく、２０〜６０％がさらに好ましく、３０〜６０％であることが最も好ましい。

充填剤は、２種類以上を併用して用いることも好ましい。また、平均粒子径が異なる粒子も併用して用いることができる。

［最外層の好ましい滑り剤］
滑り剤は、最外層の物理強度（耐擦傷性など）、防汚性を改良する点で添加することが好ましい。
滑り剤としては、含フッ素エーテル化合物（ペルフルオロポリエーテル、及び、その誘導体など）、ポリシロキサン化合物（ジメチルポリシロキサン、及び、その誘導体など）などが挙げられる。ポリシロキサン化合物が好ましい。

ポリシロキサン化合物の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物の末端、及び／又は、側鎖に置換基を有するものが挙げられる。
ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として含む化合物中にはジメチルシリルオキシ単位以外の構造単位（置換基）を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。

好ましい置換基の例としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。

滑り剤の分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。
シロキサン化合物のＳｉ原子含有量には、特に制限はないが５質量％以上であることが好ましく、１０〜６０質量％であることが特に好ましく、１５〜５０質量％であることが最も好ましい。

特に好ましい滑り剤は、下記一般式（２）で表わされる架橋性又は重合性の官能基を有するポリシロキサン化合物及びその誘導体（誘導体とは、例えば、一般式（２）で表わされるポリシロキサン化合物の架橋体又は重合体、一般式（２）で表わされるポリシロキサン化合物とポリシロキサン化合物以外の架橋又は重合可能な官能基を有する化合物との反応生成物など）である。
一般式（２）：

一般式（２）中、Ｒ²¹〜Ｒ²⁴はそれぞれ独立に炭素原子を１〜２０含む基を表し、それぞれ互いに同じであっても異なっていてもよく、Ｒ²¹、Ｒ²³、Ｒ²⁴のうち少なくとも一つの基が架橋性又は重合性の官能基を表す。ｐは１≦ｐ≦４を満たす整数を表す。ｑは１０≦ｑ≦５００を満たす整数を表し、ｒは０≦ｒ≦５００を満たす整数を表し、｛ ｝で囲われているポリシロキサン部分は、ｒ≠０の時、ランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよい。

より好ましくは、本発明の最外層は、一般式（２）で表わされる架橋性又は重合性の官能基を有するポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体と前記の含フッ素化合物形成用材料とを含んでなる硬化物を含有することが好ましい。

ポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体の含有量は、含フッ素化合物形成用材料に対し、０．１〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％である。

ポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体において、好ましい架橋性又は重合性の官能基は、最外層に含有される含フッ素化合物を形成する他の構成成分（前記の架橋性もしくは重合性の官能基を有するフッ素原子含有化合物や、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位からなる共重合体等）、必要性に応じて用いられる後述のバインダーなどと架橋又は重合反応して結合を形成することができる官能基であればよく、例えば、活性水素原子を有する基（例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、β−ケトエステル基、ヒドロシリル基、シラノール基等）、カチオン重合可能な基（エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニル基、ビニルオキシ基等）、ラジカル種による架橋又は重合が可能な不飽和二重結合を有する基｛（メタ）アクリロイル基、アリル基等｝、加水分解性シリル基（例えばアルコキシシリル基、アシルオキシシリル基等）、酸無水物、イソシアネート基、求核剤によって置換され得る基（活性ハロゲン原子、スルホン酸エステル等）等が挙げられる。

これらの架橋性又は重合性官能基は最外層の構成成分に合わせて適宜選択される。好ましくは、電離放射線硬化性の官能基である。

また、一般式（２）の架橋性又は重合性の官能基は、含フッ素化合物形成用材料が有する架橋性又は重合性の官能基と、架橋又は重合反応することが好ましく、特に好ましい官能基はカチオン開環重合反応性基（特にエポキシ基、オキセタニル基など）、ラジカル重合反応性基｛特に（メタ）アクリロイル基｝である。

一般式（２）のＲ²²が表す基は、炭素数１〜２０の置換又は無置換の有機基であり、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ヘキシル基等）、フッ素化アルキル基（トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等）又は炭素数６〜２０のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）であり、より好ましくは炭素数１〜５のアルキル基、フッ素化アルキル基又はフェニル基であり、特に好ましくはメチル基である。こららはさらにこれらの基で置換されていてもよい。

一般式（２）のＲ²¹、Ｒ²³、Ｒ²⁴が架橋性又は重合性の官能基でない場合、上記有機基をとることができる。

ｐは１≦ｐ≦４を満たす整数を表す。ｑは１０≦ｑ≦５００を満たす整数を表し、好ましくは５０≦ｑ≦４００であり、特に好ましくは１００≦ｑ≦３００である。ｒは０≦ｒ≦５００を満たす整数を表わし、好ましくは０≦ｒ≦ｑであり、特に好ましくは０≦ｒ≦０．５ｑである。

一般式（２）で表わされる化合物のポリシロキサン構造は、その繰り返し単位［−ＯＳｉ（Ｒ²²）₂−］が単一の置換基（Ｒ²²）のみで構成された単独重合体であっても、異なる置換基を有する繰り返し単位の組み合わせによって構成されたランダム共重合体又はブロック共重合体であってもよい。

一般式（２）で表わされる化合物の質量平均分子量は、１０³〜１０⁶であることが好ましく、より好ましくは５×１０³〜５×１０⁵であり、特に好ましくは１０⁴〜１０⁵である。

一般式（２）で表されるポリシロキサン化合物は市販されているもの、例えば、“ＫＦ−１００Ｔ”、“Ｘ−２２−１６９ＡＳ”、“ＫＦ−１０２”、“Ｘ−２２−３７０１ＩＥ”、“Ｘ−２２−１６４Ｂ”、 “Ｘ−２２−１６４Ｃ”、 “Ｘ−２２−５００２”、“Ｘ−２２−１７３Ｂ”、“Ｘ−２２−１７４Ｄ”、“Ｘ−２２−１６７Ｂ”、“Ｘ−２２−１６１ＡＳ”、“Ｘ−２２−１７４ＤＸ”、“Ｘ−２２−２４２６”、“Ｘ−２２−１７０ＤＸ”、“Ｘ−２２−１７６Ｄ”、“Ｘ−２２−１８２１”｛以上、信越化学工業（株）製｝；“ＡＫ−５”、“ＡＫ−３０”、“ＡＫ−３２”｛以上、東亜合成化学（株）製｝；「サイラプレーンＦＭ−０２７５」、「サイラプレーンＦＭ−０７２１」、「サイラプレーンＦＭ−０７２５」、「サイラプレーンＦＭ−７７２５」、「サイラプレーンＤＭＳ−Ｕ２２」、「サイラプレーンＲＭＳ−０３３」、「サイラプレーンＲＭＳ−０８３」、「サイラプレーンＵＭＳ−１８２」｛以上、チッソ（株）製｝等を用いることもできる。また、市販のポリシロキサン化合物が含有する水酸基、アミノ基、メルカプト基等に、架橋性又は重合性官能基を導入することで作製することもできる。

以下に、一般式（２）で表わされる好ましいポリシロキサン化合物の例を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。

一般式（２）で表わされるポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体の添加量は、最外層の全固形分に対し、０．０５〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜２０質量％、更に好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％である。

［最外層及びその形成法］
最外層は、上記含フッ素化合物形成用材料、必要に応じて上記ポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体を含有して形成され、さらには、上記充填剤、溶媒に溶解又は分散した塗料を塗布することにより作製することが好ましい。

（溶媒）
好ましい溶媒としては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、ｉ−プロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、水などを挙げることができる。
特に好ましい溶媒としては、ケトン類、芳香族炭化水素類、エステル類であり、最も好ましい溶媒としては、ケトン類である。ケトン類の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが特に好ましい。溶媒には、ケトン系溶媒の含有量が塗料に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。より好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
２種類以上の溶媒を併用することもできる。

架橋性又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物形成用材料であれば、最外層の塗布と同時又は塗布後に、含フッ素化合物形成用材料を架橋又は重合反応させ、最外層を作製することが好ましい。
含フッ素化合物形成用材料が、ラジカルで架橋又は重合する官能基を有していれば、ラジカル重合開始剤、特に光ラジカル重合開始剤を用いて架橋又は重合反応させることが好ましい。また、カチオンで架橋又は重合する官能基を有していれば、カチオン重合開始剤、特に光カチオン重合開始剤を用いて架橋又は重合反応させることが好ましい。

（ラジカル重合開始剤）
ラジカル重合開始剤としては熱の作用によりラジカルを発生するもの、又は光の作用によりラジカルを発生するものが好ましい。特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。

熱の作用によりラジカル重合を開始する化合物としては、有機又は無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビスーシクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。

光の作用によりラジカル重合を開始する化合物を使用する場合は、例えば紫外線など用いる化合物に応じた光の照射によって硬化させ、最外層を作製することができる。
光ラジカル重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン及び２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾイン−ｉ−プロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン及びｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、高薄一弘著「最新ＵＶ硬化技術」（（株）技術情報協会、１５９頁、１９９１年）に記載されている。
市販の光ラジカル重合開始剤も好ましく用いることができ、帯電防止層で記載した開始剤等が挙げられる。

光重合開始剤は、架橋性又は重合性の官能基を有するフッ素原子含有化合物１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。

さらには、これらの光重合開始剤と併用して光増感剤も好ましく用いることができ、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトン及びチオキサントンを挙げることができる。
市販の光増感剤も好ましく用いることができ、帯電防止層で記載した増感剤等が挙げられる。

バインダーは、最外層の物理強度（耐擦傷性など）、最外層と隣接する層との密着性を改良する点で、添加することが好ましい。
含フッ素化合物形成用材料が、架橋性又は重合性の官能基を有する化合物であれば、バインダーは含フッ素化合物形成用材料と架橋又は重合する官能基を有するバインダーであることが好ましい。
特に含フッ素化合物形成用材料が、光架橋性又は光重合性の官能基を有する化合物であれば、バインダーとして光架橋性又は光重合性の官能基を有する多官能モノマーであることが好ましい。光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、帯電防止層で記載したものが挙げられる。多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。

最外層に含有される含フッ素化合物は、含フッ素化合物形成用材料（前記の架橋性又は重合性の官能基を有するフッ素原子含有化合物および／もしくは含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位と側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位からなる共重合体等）と、一般式（２）で表されるポリシロキサン化合物及び／もしくはその誘導体、ならびに／又は、含フッ素化合物形成用材料が有する該架橋性又は重合性の官能基と架橋又は重合するバインダーとから形成される硬化物であることが好ましい。

最外層は、含フッ素化合物形成用材料、その他最外層の構成成分を溶解又は分散させた塗料を、塗布と同時又は塗布後に、光照射、電子線ビーム照射、加熱処理などを実施して、架橋又は重合反応させ、作製することが好ましい。
紫外線照射の場合、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。

最外層の作製は、特に最外層を電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成する場合には、酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。
最外層を酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で作製することにより、最外層の物理強度（耐擦傷性など）、耐薬品性、耐候性、更には、最外層と最外層と隣接する層との接着性を改良することができる。
好ましくは酸素濃度が３体積％以下の雰囲気で、電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は重合反応により作製することであり、更に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が１体積％以下、最も好ましくは０．５体積％以下である。

酸素濃度を４体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。

最外層を低屈折率層として用いる場合、膜厚は３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１５０ｎｍ、特に好ましくは６０〜１２０ｎｍである。最外層を防汚層として用いる場合、膜厚は３〜５０ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜３５ｎｍ、特に好ましくは７〜２５ｎｍである。

最外層は、反射防止フィルムの物理強度を改良するために、表面の動摩擦係数が０．２５以下であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で表面を移動させたときの、表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。

また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
また、最外層の表面の水に対する接触角は後述する鹸化処理の前後で変わらないことが望ましく、鹸化処理の前後で変化量が１０°以内であることが好ましく、特に好ましくは５°以内である。

最外層のヘイズは、低いほど好ましい。３％以下であることが好ましく、さらに好ましくは２％以下、特に好ましくは１％以下である。

最外層の物理強度は、硬度がＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また耐擦傷性は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

最外層には、前記の含フッ素化合物形成材料（架橋性又は重合性の官能基を有するフッ素原子含有化合物、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位と側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位からなる共重合体等）、必要に応じて添加される重合開始剤、光増感剤、充填剤、滑り剤、バインダーなど以外に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。

〔低屈折率層〕
低屈折率層は前記の最外層を兼ねてもよいし、最外層の下層に位置していてもよい。

低屈折率層が前記の最外層を兼ねる場合、最外層について既に述べたことを適用することができる。低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は、ケイ素化合物を含むことが好ましい。

また、低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であることが好ましい。より好ましくは１．３０〜１．５０、更に好ましくは１．３５〜１．４８、特に好ましくは１．３７〜１．４５である。

低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は塗布法又は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により作製することができる。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。

［架橋性又は重合性ケイ素化合物］
低屈折率層を塗布で作製する場合、下記一般式（５）で表されるケイ素化合物、及び、その誘導体（加水分解物、及び該加水分解物が縮合して生成した架橋性ケイ素化合物など）からなる群から選ばれた化合物で作製することが好ましく、特に架橋性又は重合性ケイ素化合物で作製することが好ましい。
一般式（５）：（Ｒ⁵¹）_c（Ｒ⁵²）_dＳｉ（Ｚ⁵¹）_4-c-d

一般式（５）中：Ｒ⁵¹は、炭素数１〜１２の有機基｛例えばアルキル、アリール、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール、アルケニル、又はエポキシ基、（メタ）アクリルオキシ基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基等｝を表す。Ｒ⁵²は、炭素数１〜３の炭化水素基である。Ｚ⁵¹は、ハロゲン原子又はアルコキシ基（例えば、ＯＣＨ₃、ＯＣ₂Ｈ₅、ＯＣ₃Ｈ₇等）を表す。ｃ及びｄは、同一でも異なっていてもよく、０〜２の整数である。

特に限定されないが、一般式（５）の具体例として、メチルシリケート、エチルシリケート等のテトラアルコキシシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、３，３，３−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−（β−グリシドキシエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシ又はトリアシルオキシシラン類、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシランなどのジアルコキシ又はジアシルオキシシラン類などが挙げられる。

特に硬度を必要とする場合には、電離放射線硬化性ケイ素化合物、特に電離放射線によって架橋又は重合反応する複数の官能基を有する分子量５，０００以下のケイ素化合物が好ましい。例えば、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、もしくはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。エポキシ基、（メタ）アクリロイル基を含むケイ素化合物が好ましい。これらのケイ素化合物は単独で又は２種類以上組み合わせて使用することができる。

これらのケイ素化合物は各種硬化剤、触媒を用いて硬化することが好ましく、例えば、ルイス酸、ルイス塩基を含む各種酸・塩基、及びこれらから作製される中性又は塩基性塩、例えば有機カルボン酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、臭素酸、亜セレン酸、チオ硫酸、オルトケイ酸、チオシアン酸、亜硝酸、アルミン酸、炭酸の金属塩、特にアルカリ金属塩又はアンモニウム塩、更にアルミニウム、ジルコニウム、チタニウムのアルコキシド又はこれらの錯化合物などがあげられる。特に、好ましいのはアルミキレート化合物で、例えば、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスエチルアセトアセテート、アルミニウムトリスアセチルアセテートなどである。

また、低屈折率層には、無機微粒子、例えばＬｉＦ、ＭｇＦ₂、ＳｉＯ₂等の微粒子を添加することが好ましく、なかでもＳｉＯ₂が特に好ましい。

低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。

低屈折率層のヘイズは低いほど好ましい。３％以下であることが好ましく、２％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが特に好ましい。

低屈折率層の物理強度は、硬度がＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また耐擦傷性は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

〔透明支持体〕
透明支持体としては、プラスチックフィルムであることが好ましい。プラスチックフィルムとしてはセルロースエステル（例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４'−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例えば、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートが好ましく、特に、液晶表示装置に用いる場合、トリアセチルセルロースであることが好ましい。

透明支持体がトリアセチルセルロースフィルムの場合、トリアセチルセルロースを溶媒に溶解することで調製したトリアセチルセルロースドープを、単層流延、複数層共流延の何れかの流延方法により作製したトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。

特に、環境保全の観点から、トリアセチルセルロースを低温溶解法又は高温溶解法によってジクロロメタンを実質的に含まない溶媒に溶解することで調製したトリアセチルセルロースドープを用いて作製したトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。

本発明に好ましく用いられるトリアセチルセルロースフィルムについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５）に例示されている。

上記の透明支持体の膜厚は、特に限定されるものではないが、膜厚は１〜３００μｍがよく、好ましくは３０〜１５０μｍ、特に好ましくは４０〜１２０μｍ、最も好ましくは４０〜１００μｍである。
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。
透明支持体のヘイズは低い方が好ましい。２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
透明支持体の屈折率は、１．４０〜１．７０であることが好ましい。

透明支持体には、赤外線吸収剤又は紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、透明支持体の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに好ましい。

また、透明支持体には、滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＢａＳＯ₄、ＣａＣＯ₃、タルク及びカオリンが含まれる。

透明支持体に、表面処理を実施してもよい。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理及びオゾン酸化処理が含まれる。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理及び火焔処理が好ましく、グロー放電処理とコロナ放電処理が特に好ましい。

〔ハードコート層〕
本発明の反射防止フィルムには、物理強度を付与するためにハードコート層を設けることができる。特に、透明支持体と前記最外層の間に設けることが好ましい。

ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗料を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋又は重合反応させることにより形成することができる。

電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、帯電防止層で例示したものが挙げられ、光重合開始剤、光増感剤を用いて重合することが好ましい。光重合反応は、ハードコート層の塗布及び乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。

ハードコート層は、透明支持体の表面に、ハードコート層形成用の塗料を塗布することで構築することが好ましい。

（塗布溶媒）
塗布溶媒としては、帯電防止層で例示したケトン類、エステル類、芳香族炭化水素類であることが好ましい。特に、ケトン系溶媒を用いることで、例えば、透明支持体（特に、トリアセチルセルロース支持体）の表面とハードコート層との接着性がさらに改良する。
特に好ましい塗布溶媒は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。

塗布溶媒には、帯電防止層で例示したケトン系溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。塗布溶媒におけるケトン系溶媒の含有量は、塗布組成物に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。

ハードコート層が電離放射線硬化性の化合物の架橋又は重合反応により作製される場合、架橋又は重合反応は酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で作製することにより、物理強度（耐擦傷性など）や耐薬品性に優れたハードコート層を作製することができる。
好ましくは酸素濃度が３体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により作製することであり、更に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が１体積％以下、最も好ましくは０．５体積％以下である。

酸素濃度を４体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。

ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、特に好ましくは３〜５μｍである。

ハードコート層の物理強度は、硬度がＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また耐擦傷性は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

ハードコート層には樹脂、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。またハードコート層の硬度を高くしたり、硬化収縮を抑えたり、屈折率を制御するなどの目的で、後述する一次粒子の平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を添加することができる。
さらには、防眩機能、液晶表示装置の視野角拡大機能を付与する目的で後述する平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有することもできる。

〔反射防止フィルムの表面の凹凸〕
本発明に用いる反射防止フィルムは、最外層を有する側の表面に凹凸を形成し、防眩性を付与することもできる。

防眩性は表面の平均表面粗さ（Ｒａ）と相関している。表面の凹凸は、１００ｃｍ²の面積の中からランダムに１ｍｍ²を取り出し、取り出した表面の１ｍｍ²の面積当たりに対し、平均表面粗さ（Ｒａ）が０．０１〜１μｍであることが好ましく、０．０１〜０．４μｍであることがより好ましく、０．０３〜０．３μｍであることがさらに好ましく、０．０５〜０．２５μｍであることがさらになお好ましく、０．０７〜０．２μｍであることが特に好ましい。平均表面粗さ（Ｒａ）に関しては、奈良次郎著、テクノコンパクトシリーズ（６）「表面粗さの測定・評価法」｛（株）総合技術センター｝に記載されている。

また、上記表面の１ｍｍ²の面積当たりに対し、切断面の面積が１００μｍ²以上の凹が存在しないことが好ましい。断面積１００μｍ²以上の凹が存在しなければ、反射防止フィルムを画素のサイズが小さい画像表示装置の表面に配置したとき、画素中に存在する３原色(赤，緑，青)のいずれかの色が強調されて目に見える故障(ギラツキ故障)を引き起こして著しく画質を悪化させるなどの不具合が生じないので好ましい。特に、断面積８０μｍ²以上の凹が存在しないことが好ましい。
本発明に用いる反射防止フィルムの表面のこのような凹凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することができる。

表面の凹凸の形成法としては公知の手法が用いられる。本発明では、フィルムの表面に高い圧力で凹凸の形状を有する版を押し当てる(例えば、エンボス加工)ことにより形成する手法、また、後述する反射防止フィルム上のいずれかの層に粒子を含有させて防眩層とし、反射防止フィルムの表面に凹凸を形成する手法などが好ましい。特に、後述する平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子をいずれかの層に含有させ、該層表面に凹凸を形成し、該層上に最外層を形成することで最外層の表面に凹凸を形成する手法が好ましい。
エンボス加工により表面に凹凸を形成する方法では、公知の手法が適用できるが、特開２０００−３２９９０５号公報に記載されている手法により凹凸を形成することが特に好ましい。

〔平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層〕
［平均粒径０．２〜１０μｍの粒子］
本発明の反射防止フィルムにおいて、透明支持体と最外層の間に、平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層（例えば、防眩層、光拡散層）を構築することが好ましい。ここでいう平均粒径は、二次粒子（粒子が凝集していない場合は一次粒子）の質量平均径である。
平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子は、本発明の反射防止フィルムに防眩機能、液晶表示装置の視野角拡大機能を付与する目的で用いられる。
粒子としては、無機粒子と有機粒子が挙げられる。

無機粒子の具体例としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ＩＴＯ、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン及び硫酸カルシウムなどの粒子が挙げられる。二酸化珪素、酸化アルミニウムが好ましい。

有機粒子としては樹脂粒子が好ましい。樹脂粒子の具体例としては、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ弗化ビニリデン樹脂から作製される粒子などが挙げられる。好ましくは、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂から作製される粒子であり、特に好ましくはポリメチルメタクリレート樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリスチレン樹脂から作製される粒子である。

反射防止フィルムの最外層を有する側の表面に凹凸を形成し防眩機能を付与するための層（防眩層）、液晶表示装置の視野角拡大機能を付与するために粒子とマトリックスとに屈折率差を設け、光を拡散させるための層（光拡散層）に用いる粒子としては、樹脂粒子、二酸化珪素である方が好ましい。

粒子の平均粒径は、好ましくは０．５〜７．０μｍ、更に好ましくは１．０〜５．０μｍ、特に好ましくは１．５〜４．０μｍである。
粒子の屈折率は１．３５〜１．８０であることが好ましく、より好ましくは１．４０〜１．７５、さらに好ましくは１．４５〜１．７５である。

粒子の粒径分布は狭いほど好ましい。粒子の粒径分布を示すＳ値は下記数式（１）で表され、２．０以下であることが好ましく、さらに好ましくは１．０以下、特に好ましくは０．７以下である。
数式（１）：Ｓ＝［Ｄ_0.9−Ｄ_0.1］／Ｄ_0.5
Ｄ_0.1：体積換算粒径の積算値の１０％値、
Ｄ_0.5：体積換算粒径の積算値の５０％値、
Ｄ_0.9：体積換算粒径の積算値の９０％値。

また、粒子の屈折率は特に限定されないが、防眩層の場合、層のマトリックスの屈折率（平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を除いた層の屈折率）とほぼ同じである（屈折率差で０．００５以内）か、０．０２以上異なっていることが好ましい。
粒子の屈折率と、層のマトリックスの屈折率をほぼ同じにすることで、反射防止フィルムを画像表示面に装着したときのコントラストが改良される。一方、粒子の屈折率と層のマトリックスの屈折率との間に屈折率の差を付けることで、反射防止フィルムを液晶表示面に装着したときの視認性（ギラツキ故障、液晶表示装置の視野角特性など）が改良される。
粒子の屈折率と層のマトリックスの屈折率との間に屈折率の差を付ける場合、その差は０．０３〜０．５であることが好ましく、より好ましくは０．０３〜０．４、特に好ましくは０．０５〜０．３である。

また、光拡散層の場合、粒子の屈折率は層のマトリックスの屈折率と０．０２以上異なっていることが好ましい。
粒子の屈折率と層のマトリックスの屈折率との間に屈折率の差を付ける場合、その差は０．０３〜０．５であることが好ましく、より好ましくは０．０３〜０．４、特に好ましくは０．０５〜０．３である。

平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層は、透明支持体と最外層の間に構築されていればよく、該層が前記のハードコート層、帯電防止層、最外層、低屈折率層、後述する高屈折率層、中屈折率層であってもよい。好ましくはハードコート層、帯電防止層、高屈折率層、最も好ましくはハードコート層である。また、平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層は最外層と隣接する層であることが好ましい。

平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子は、平均粒径の異なる粒子を複数組み合わせて使用してもよい。また、異なる材質の粒子を複数組み合わせて使用することも好ましい。

平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層は、有機化合物のバインダーを含有することが好ましい。また、上記帯電防止層、ハードコート層と同様に、バインダーが架橋性又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物であることが好ましく、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。

平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層のヘイズは、３〜８０％であることが好ましく、さらに好ましくは５〜６０％、特に好ましくは７〜５０％、最も好ましくは１０〜４０％である。
平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有する層の物理強度は、硬度がＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また耐擦傷性は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

〔平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層〕
本発明の反射防止フィルムにおいて、透明支持体と最外層の間に一次粒子の平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層を構築することが好ましい。ここでいう平均粒径は質量平均径である。一次粒子の平均粒径を１〜２００ｎｍにすることで透明性を損なわない層を作製できる。
一次粒子の平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子は、層の硬度を高くしたり、硬化収縮を抑えたり、屈折率を制御するなどの目的で用いられる。

［平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子］
無機微粒子としては、帯電防止層、最外層で例示した無機微粒子（導電性微粒子、充填剤など）に加え、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛などの微粒子が挙げられる。好ましくは、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ＡＴＯ、ＩＴＯ、酸化亜鉛である。
平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子は、平均粒径の異なる粒子を複数組み合わせて使用してもよい。また、異なる材質の粒子を複数組み合わせて使用することも好ましい。

無機微粒子の一次粒子の平均粒径は、好ましくは５〜２００ｎｍであり、より好ましくは１０〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは２０〜１００ｎｍ、特に好ましくは２０〜５０ｎｍである。また、無機微粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ²／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ²／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ²／ｇであることが最も好ましい。

層の中において、無機微粒子はなるべく微細に分散されていることが好ましく、分散剤を用いて分散されていることが好ましい。層の中における無機微粒子の粒子サイズは、好ましくは平均粒径で５〜３００ｎｍ、より好ましくは１０〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは２０〜１５０ｎｍ、特に好ましくは２０〜８０ｎｍである。特に、光学干渉層に用いる場合は、２００ｎｍ以下であることが好ましい。
分散剤及び分散方法については、前述の帯電防止層で説明した事項を適用できる。

層における無機微粒子の含有量は、層の全質量に対し１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは１５〜８０質量％、特に好ましくは１５〜７５質量％である。

高い屈折率を有する層（例えば、高屈折率層、中屈折率層など）を作製する場合、帯電防止層で記載した手法を用いて高い屈折率を有する無機微粒子（例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ＡＴＯ、ＩＴＯ、酸化亜鉛など）を微細に分散して層に含有させて作製することが好ましい。

平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層として好ましいのは、前記ハードコート層、防眩層、光拡散層、後述する光学干渉層（高屈折率層、中屈折率層など）である。また、平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層は最外層と隣接する層であることが好ましい。

平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層は、有機化合物のバインダーを含有することが好ましい。また、上記帯電防止層、ハードコート層と同様に、バインダーが架橋性又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物であることが好ましく、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。

平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層の屈折率は、１．５５〜２．４０であることが好ましく、より好ましくは１．６５〜２．２０、特に好ましくは１．６５〜２．００である。
平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは２％以下、最も好ましくは１％以下である。

平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層の物理強度は、硬度がＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また耐擦傷性は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

〔反射防止フィルムのその他の層〕
より優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムを作製するためは、ハードコート層と低屈折率層の間に、低屈折率層より高い屈折率を有する光学干渉層（高屈折率層、及び／又は中屈折率層）を設けることが好ましい。

高屈折率層、中屈折率層は、前述の帯電防止層の説明であげた、高い屈折率を有する無機微粒子（例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ＡＴＯ、ＩＴＯ、酸化亜鉛など）を皮膜中に微細に分散させて作製することが好ましい。分散剤及び分散方法については、前述の帯電防止層で説明した事項を適用できる。

また、高屈折率層、中屈折率層には、芳香環及び／又はフッ素以外のハロゲン化元素（例えば、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ等）を含む電離放射線硬化性化合物、Ｓ、Ｎ、Ｐ等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの、架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。高屈折率層、中屈折率層の屈折率は、適宜制御することができ、高い屈折率を有する微粒子を含有する場合、皮膜中の微粒子の含有率を制御することで屈折率の調整が可能である。高屈折率層、中屈折率層の膜厚も適宜調整できる。ここで、高屈折率、中屈折率とは、層相互の相対的な屈折率の高低を意味し、高屈折率層の方が中屈折率層より屈折率が高い。

高屈折率層、中屈折率層の好ましい屈折率と膜厚に関しては、後述する反射防止フィルムの構成において説明する。高屈折率層の屈折率は１．６５〜２．４０が好ましく、より好ましくは１．７０〜２．２０、さらに好ましくは１．７５〜２．１０、特に好ましくは１．８０〜２．１０である。中屈折率層の屈折率は１．５５〜１．８０が好ましく、より好ましくは１．６０〜１．８０、さらに好ましくは１．６０〜１．７５、特に好ましくは１．６０〜１．７０である。

高屈折率層、中屈折率層は、有機化合物のバインダーを含有することが好ましい。また、上記帯電防止層、ハードコート層と同様に、バインダーが架橋性又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物であることが好ましく、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。

高屈折率層、中屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは２％以下、最も好ましくは１％以下である。

高屈折率層、中屈折率層の物理強度は、硬度がＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また耐擦傷性は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

反射防止フィルムには、以上に述べた以外の層を設けてもよい。例えば、接着層、シールド層などを設けてもよい。シールド層は電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。

〔オルガノシラン化合物〕
本発明において、反射防止フィルムの各層に特に好ましく用いることができるオルガノシラン化合物について記載する。
皮膜の物理強度（耐擦傷性など）、皮膜と皮膜に隣接する層の密着性を改良する点でオルガノシラン化合物及び／又はその誘導体を添加して、透明支持体上のいずれかの層を形成することが好ましい。

オルガノシラン化合物及び／又はその誘導体としては、下記一般式（３）で表される化合物及び／又はその誘導体を用いることができる。好ましいのは、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基を含有するオルガノシラン化合物であり、特に好ましいのはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基（（メタ）アクリロイルなど）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノなど）を含有するオルガノシラン化合物である。
一般式（３）：（Ｒ³¹）_s−Ｓｉ（Ｚ³¹）_4-s

一般式（３）中、Ｒ³¹は置換もしくは無置換のアルキル基又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６である。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。

Ｚ³¹は水酸基又は加水分解可能な基を表す。例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ³²ＣＯＯ（Ｒ³²は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ₃ＣＯＯ、Ｃ₂Ｈ₅ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。
ｓは１〜３の整数を表す。好ましくは１又は２であり、特に好ましくは１である。
Ｒ³¹又はＺ³¹が複数存在するとき、複数のＲ³¹又はＺ³¹はそれぞれ異なっていてもよい。

Ｒ³¹に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ基（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アルコキシシリル基（トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更にこれらの置換基で置換されていてもよい。

これらのうちで更に好ましくは水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基である。特に、架橋性又は重合性の官能基が好ましく、エポキシ基、重合性のアシルオキシ基｛（メタ）アクリロイル｝、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノ）が好ましい。またこれら置換基は更に上記の置換基で置換されていてもよい。

Ｒ³¹が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。一般式（３）で表されるオルガノシラン化合物及びその誘導体の中でも、下記一般式（３−１）で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物及び／又はその誘導体が好ましい。
一般式（３−１）：

一般式（３−１）において、Ｒ³²は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、又は塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、及び塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、及び塩素原子が更に好ましく、水素原子及びメチル基が特に好ましい。

Ｙ³¹は単結合、＊−ＣＯＯ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−＊＊、＊−Ｏ−＊＊、又は＊−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−＊＊を表し、単結合、＊−ＣＯＯ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−＊＊が好ましく、単結合、＊−ＣＯＯ−＊＊が更に好ましく、＊−ＣＯＯ−＊＊が特に好ましい。ここで、＊は＝Ｃ（Ｒ³²）−に結合する位置を、＊＊はＬ³¹に結合する位置を表す。

Ｌ³¹は２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテル又はエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテル又はエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。

ｔは０又は１を表す。ｔとして好ましくは０である。
Ｒ³¹は一般式（３）と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Ｚ³¹は一般式（３）と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。Ｚ³¹が複数存在するとき、複数のＺ³¹はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。

一般式（３）、一般式（３−１）の化合物、及びその誘導体は、２種類以上を併用してもよい。
以下に、一般式（３）、一般式（３−１）で表されるオルガノシラン化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

これらオルガノシラン化合物のうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、及び（Ｍ−５）が特に好ましい。

本発明において、一般式（３）、一般式（３−１）で表されるオルガノシラン化合物の誘導体とは、一般式（３）、一般式（３−１）で表されるオルガノシラン化合物の加水分解物、部分縮合物などを意味する。以下、本発明で用いるオルガノシラン化合物の好ましい誘導体（加水分解物及び／又は部分縮合物）について説明する。

オルガノシラン化合物の加水分解反応及び／又は縮合反応は、一般に触媒の存在下で行われる。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。無機酸では塩酸、硫酸、有機酸では、水中での酸解離定数｛ｐＫａ値（２５℃）｝が４．５以下のものが好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸がより好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。

オルガノシランの加水分解・縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができるが、成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。

［溶媒］
溶媒はオルガノシランと触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒を塗料又は塗料の一部として用いることが好ましく、その他の素材と混合した場合に、溶解性又は分散性を損なわないものが好ましい。

このうち、アルコール類としては、例えば１価アルコール又は２価アルコールを挙げることができ、このうち１価アルコールとしては炭素数１〜８の飽和脂肪族アルコールが好ましい。

これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。

また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。

これらの有機溶媒は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することもできる。該反応における固形分の濃度は特に限定されるものではないが通常１〜９０質量％の範囲であり、好ましくは２０〜７０質量％の範囲である。

オルガノシラン化合物の加水分解反応は、オルガノシラン化合物の加水分解性基１モルに対して０．３〜２モル、好ましくは０．５〜１モルの水を添加し、上記溶媒の存在下又は非存在下に、そして触媒の存在下に、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。

［金属キレート化合物］
本発明では、一般式Ｒ⁰¹ＯＨ（式中、Ｒ⁰¹は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールと、一般式Ｒ⁰²ＣＯＣＨ₂ＣＯＲ⁰³（式中、Ｒ⁰²は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ⁰³は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ及びＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物の存在下で、２５〜１００℃で撹拌することにより加水分解を行うことが好ましい。

金属キレート化合物は、上記に示されたものであれば特に制限なく好適に用いることができ、２種以上の金属キレート化合物を併用してもよい。本発明に用いられる金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ⁰¹）_p1（Ｒ⁰²ＣＯＣＨＣＯＲ⁰³）_p2、Ｔｉ（ＯＲ⁰¹）_q1（Ｒ⁰²ＣＯＣＨＣＯＲ⁰³）_q2、及びＡｌ（ＯＲ⁰¹）_r1（Ｒ⁰²ＣＯＣＨＣＯＲ⁰³）_r2で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。

金属キレート化合物中のＲ⁰¹及びＲ⁰²は、同一又は異なってもよく炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ⁰³は、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１及びｒ２は、それぞれ、ｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。

これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジ−ｉ−プロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジ−ｉ−プロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、ｉ−プロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。

これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独で又は２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。

金属キレート化合物は、前記オルガノシラン化合物に対し、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜５０質量％、さらに好ましくは０．５〜１０質量％の割合で用いられる。０．０１質量％未満では、オルガノシラン化合物の縮合反応が遅く、塗膜の耐久性が低下するおそれがあり、一方５０質量％を超えると、オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物と金属キレート化合物を含有してなる組成物の保存安定性が低下するおそれがあり好ましくない。

上記オルガノシラン化合物及び／又はその誘導体（加水分解物、部分縮合物）、さらに必要に応じて添加される金属キレート化合物などを含む組成物に、β−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物を添加することが好ましい。

本発明では、一般式Ｒ⁰²ＣＯＣＨ₂ＣＯＲ⁰³で表されるβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物が好ましく用いられ、組成物の安定性向上剤として作用するものである。すなわち、前記金属キレート化合物（ジルコニウム、チタニウム及び／又はアルミニウム化合物）中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の誘導体（加水分解物、部分縮合物等）などの縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。
β−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物を構成するＲ⁰²及びＲ⁰³は、前記金属キレート化合物を構成するＲ⁰²及びＲ⁰³と同様である。

このβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−ｓ−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチル及びアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物１モルに対し好ましくは２モル以上、より好ましくは３〜２０モル用いられる。２モル以上であれば、得られる組成物の保存安定性が優れており好ましい。

上記オルガノシラン化合物及び／又はその誘導体の添加量は、添加する層により適宜調整される。添加量は層の全固形分に対し、０．１〜５０質量％であることが好ましく、より好ましくは１〜３０質量％、さらに好ましくは３〜２５質量％、特に好ましくは５〜２０質量％である。

オルガノシラン化合物及び／又はその誘導体は、これらを含有してなる層の他の成分と架橋又は重合反応することが、皮膜の物理強度（耐擦傷性など）を極めて向上させることが可能となるので好ましい。このため、オルガノシラン化合物が架橋又は重合する官能基を有したり、無機微粒子やバインダーなどにオルガノシラン化合物と架橋又は重合する官能基を有する化合物を用いたりすることが好ましい。
例えば、電離放射線硬化性の架橋性又は重合性の官能基を有するオルガノシラン化合物及び／又はその誘導体は、さらに、皮膜中の電離放射線硬化性の架橋性又は重合性の官能基を有する他の化合物と架橋又は重合反応して硬化物を生成する。

オルガノシラン化合物を添加するのに好ましい層は、帯電防止層、ハードコート層、防眩層、光拡散層、高屈折率層、低屈折率層、最外層であり、より好ましくはハードコート層、防眩層、光拡散層、低屈折率層、最外層であり、特に好ましくは最外層及び／又は該最外層の隣接層である。

〔反射防止フィルムの形成法等〕
本発明において反射防止フィルムを構成する各層は、塗布法により作製したものが好ましい。塗布で形成する場合、各層はディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２，６８１，２９４号明細書記載）により作製することができる。２層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２，７６１，７９１号、同２，９４１，８９８号、同３，５０８，９４７号、同３，５２６，５２８号の各明細書、及び原崎勇次著、「コーティング工学」、２５３頁、朝倉書店（１９７３年）に記載がある。ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法が好ましい。特に、マイクログラビアコート法が好ましい。

マイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を支持体に転写させて塗工することを特徴とする塗布法である。

マイクログラビアコート法では、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本／インチが好ましく、より好ましくは１００〜３００本／インチである。グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、より好ましくは５〜２００μｍである。グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、より好ましくは５〜２００ｒｐｍである。支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ／分であることが好ましく、より好ましくは１〜５０ｍ／分である。

反射防止フィルムの各層を塗布法で作製する上で、層を作製するのに用いる塗料には、面状改良剤を添加することが好ましい。以下に、面状改良剤について説明する。

〔面状改良剤〕
本発明の透明支持体上のいずれかの層を作製するのに用いる塗料には、面状故障（塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥など）を改良するために、フッ素系及び／又はシリコーン系の面状改良剤を添加することが好ましい。

面状改良剤は、塗料の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上変化させることが好ましい。ここで、塗料の表面張力が１ｍＮ／ｍ以上変化するとは、面状改良剤を添加後の塗料の表面張力が、塗布／乾燥時での濃縮過程を含めて、面状改良剤を添加してない塗料の表面張力と比較して、１ｍＮ／ｍ以上変化することを意味する。
好ましくは、塗料の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上下げる効果がある面状改良剤であり、更に好ましく２ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤、特に好ましくは３ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤である。

［フッ素系面状改良剤］
フッ素系の面状改良剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基を含有する化合物（「フッ素系面状改良剤」と略記する）が挙げられる。特に、下記一般式（４）のモノマーに相当する繰り返し単位、及び、下記一般式（６）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とするアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が好ましい。

このような単量体としては、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ２ｎｄ ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ ２，Ｐａｇｅ １〜４８３記載のものを用いることが好ましい。例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。
一般式（４）：

一般式（４）においてＲ⁴¹は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｙ⁴¹は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ⁴²）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ⁴²）−がより好ましく、特に酸素原子が好ましい。Ｒ⁴²は水素原子又は、炭素数１〜８のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。ａは１〜６の整数を表し、１〜３がより好ましく、１であることが特に好ましい。ｂは１〜１８の整数を表し、４〜１２がより好ましく、６〜８が特に好ましい。
フッ素系面状改良剤中に一般式（４）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが２種類以上構成成分として含まれていてもよい。

フッ素系の面状改良剤には、上記のとおり、上記一般式（４）のモノマーに相当する繰り返し単位と共に、下記一般式（６）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことが好ましい。
一般式（６）：

一般式（６）において、Ｒ⁶¹は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｙ⁶¹は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ⁶³）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ⁶³）−がより好ましく、特に酸素原子が好ましい。Ｒ⁶³は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。

Ｒ⁶²は水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜２０の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、ポリ（アルキレンオキシ）基を含むアルキル基、又は置換もしくは無置換の芳香族基（例えば、フェニル基又はナフチル基）を表す。炭素数１〜１２の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、又は総炭素数６〜１８の芳香族がより好ましく、炭素数１〜８の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基が更に好ましい。以下でポリ（アルキレンオキシ）基について説明する。

ポリ（アルキレンオキシ）基は、−（ＯＲ⁶⁴）−を繰り返し単位とした基であり、Ｒ⁶⁴は２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基、例えば−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ(ＣＨ₃)ＣＨ₂−、−ＣＨ(ＣＨ₃)ＣＨ(ＣＨ₃)−が挙げられる。該オキシアルキレン単位（前記−ＯＲ⁶⁴−）はポリ（オキシプロピレン）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のオキシアルキレンが不規則に分布されたものであってもよく、直鎖もしくは分岐状のオキシプロピレンもしくはオキシエチレン単位であっても、又は直鎖もしくは分岐状のオキシプロピレン単位のブロックもしくはオキシエチレン単位のブロックのように存在するものであってもよい。ポリ（オキシアルキレン）鎖は１つ又はそれ以上の連鎖結合（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など：Ｐｈはフェニレン基を表す）で連結されたものも含むことができる。連鎖の結合が３つ又はそれ以上の原子価を有する場合には、これは分岐鎖のオキシアルキレン単位を得るための手段を供する。またこの共重合体を本発明に用いる場合には、ポリ（オキシアルキレン）基の分子量は２５０〜３０００が適当である。

ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（オキシアルキレン）材料、例えば商品名「プルロニック」｛旭電化工業（株）製｝、「アデカポリエーテル」（旭電化工業（株）製）、“Ｃａｒｂｏｗａｘ”（グリコ・プロダクス社製）、"Ｔｒｉｔｏｎ"（ローム・アンド・ハース社製）及びＰ．Ｅ．Ｇ．｛第一工業製薬（株）製｝として販売されているものを、公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリド又は無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。

本発明で用いられるフッ素系面状改良剤において、フッ素系面状改良剤の形成に用いられる全モノマー量に対する一般式（４）で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量が５０モル％以上であることが好ましく、より好ましくは７０〜１００モル％であり、特に好ましくは８０〜１００モル％の範囲である。

本発明で用いられるフッ素系面状改良剤の好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、６，０００〜８０，０００がより好ましく、８，０００〜６０，０００が更に好ましい。
ここで、質量平均分子量は、“ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ”、“ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ”、“ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ”｛以上、何れも東ソー(株)製の商品名｝のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。

更に、本発明で用いられるフッ素系面状改良剤の好ましい添加量は、添加する層の塗料に対して０．００１〜５質量％の範囲であり、好ましくは０．００５〜３質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。

以下、本発明によるフッ素系面状改良剤の具体的な構造の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。

［溶媒］
本発明の面状改良剤は、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン、キシレン等）を含有する塗料に用いることが好ましくい。特に、ケトン系溶媒が好ましい。ケトン系溶媒の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが好ましい。
また、特にケトン系溶媒を全溶媒の１０質量％以上含有する塗料であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。

塗料の溶媒は、ケトン系溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。例えば、水、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例えば、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例えば、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例えば、１−メトキシ−２−プロパノール）などがあげられる。

面状改良剤は、層と層の界面の密着性を悪化させることがある。従って、層の表面に存在する面状改良剤を、該層の隣接層を形成する塗料中に溶出させて、層と層の界面近傍に面状改良剤が残らないようにすることが好ましい。そのため、隣接層の塗料中に面状改良剤を溶解する溶媒を含有させることが好ましい。そのような溶媒としては、上記ケトン系溶媒が好ましい。

透明支持体上に形成する層の塗料において、面状改良剤を添加するのが特に好ましいのは、ハードコート層、防眩層、光散乱層、帯電防止層、高屈折率層を形成するための塗料であり、特に好ましいのはハードコート層、防眩層、光散乱層を形成するための塗料である。

〔反射防止フィルム〕
本発明において反射防止フィルムは、前述の通り、最外層の表面に塵埃（埃など）が付着するのを防止するために、最外層を有する側の表面の表面抵抗値が１×１０¹³Ω／□以下であることが好ましい。

また、本発明の反射防止フィルムは、物理強度（耐擦傷性など）を改良するために、最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で最外層を有する側の表面を移動させたときの、最外層を有する側の表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。

さらに反射防止フィルムは、防汚性能を改良するために、最外層を有する側の表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。

反射防止フィルムが防眩機能を持たない場合、ヘイズは低いほど好ましい。
反射防止フィルムが防眩機能を有する場合、ヘイズは、０．５〜５０％であることが好ましく、１〜４０％であることがさらに好ましく、１〜３０％であることが最も好ましい。

本発明の反射防止フィルムの反射率は低いほど好ましく、好ましくは３．０％以下、より好ましくは２．５％以下、更に好ましくは２．０％以下、特に好ましくは１．５％以下である。

［反射防止フィルムの構成］
次ぎに本発明の反射防止フィルムの構成例を、図面を引用しながら説明する。
図１は、優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムの層構成を模式的に示す断面図である。
図１（ａ）に示す態様は、透明支持体１、帯電防止層２、ハードコート層３、低屈折率層（最外層）４の順序の層構成を有する。透明支持体１と低屈折率層４は次ぎの関係を満足する屈折率を有することが好ましい。すなわち、透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率。

図１（ａ）のような層構成では、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているように、低屈折率層が下記数式（３）を満足することが好ましい。
数式（３）：（ｍ₁λ／４）×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜（ｍ₁λ／４）×１．３

数式（３）中、ｍ₁は正の整数（一般に１）であり、ｎ₁は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₁は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。なお、上記数式（３）を満たすとは、上記各波長の範囲において数式（３）を満たすｍ（正の奇数、一般に１である）が存在することを意味している。以下、数式（４）〜（１４）についても同様である。

図１（ｂ）に示す態様は、透明支持体１、ハードコート層３、帯電防止層（高屈折率層）２、低屈折率層（最外層）４の順序の層構成を有する。透明支持体１と帯電防止層２と低屈折率層４は次ぎの関係を満足する屈折率を有することが好ましい。すなわち、帯電防止層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率。

図１（ｂ）のような層構成では、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているように、帯電防止層が下記数式（４）、低屈折率層が下記数式（５）をそれぞれ満足することがさらに優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムにすることができる点で好ましい。
数式（４）：（ｍ₂λ／４）×０．７＜ｎ₂ｄ₂＜（ｍ₂λ／４）×１．３
数式（５）：（ｍ₃λ／４）×０．７＜ｎ₃ｄ₃＜（ｍ₃λ／４）×１．３

数式（４）中、ｍ₂は正の整数（一般に１、２又は３）であり、ｎ₂は帯電防止層の屈折率であり、そして、ｄ₂は帯電防止層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
また数式（５）中、ｍ₃は正の奇数（一般に１）であり、ｎ₃は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₃は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。

図１（ｃ）に示す態様は、透明支持体１、ハードコート層３、帯電防止層（中屈折率層）２、高屈折率層５、低屈折率層（最外層）４の順序の層構成を有する。透明支持体１、帯電防止層２、高屈折率層５及び低屈折率層４は、次ぎの関係を満足する屈折率を有することが好ましい。すなわち、高屈折率層の屈折率＞帯電防止層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率。

図１（ｃ）のような層構成では、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているように、帯電防止層が下記数式（６）、高屈折率層が下記数式（７）、低屈折率層が下記数式（８）をそれぞれ満足することがより優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムにすることができる点で好ましい。
数式（６） （ｍ₄λ／４）×０．７＜ｎ₄ｄ₄＜（ｍ₄λ／４）×１．３
数式（７） （ｍ₅λ／４）×０．７＜ｎ₅ｄ₅＜（ｍ₅λ／４）×１．３
数式（８） （ｍ₆λ／４）×０．７＜ｎ₆ｄ₆＜（ｍ₆λ／４）×１．３

数式（６）中、ｍ₄は正の整数（一般に１、２又は３）であり、ｎ₄は帯電防止層の屈折率であり、そして、ｄ₄は帯電防止層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
数式（７）中、ｍ₅は正の整数（一般に１、２又は３）であり、ｎ₅は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₅は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
数式（８）中、ｍ₆は正の奇数（一般に１）であり、ｎ₆は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₆は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。

図１（ｃ）のような層構成では、帯電防止層が下記数式（９）、高屈折率層が下記数式（１０）、低屈折率層が下記数式（１１）をそれぞれ満足することが、特に好ましい。ここで、λは５００ｎｍ、ｍ₄は１、ｍ₅は２、ｍ₆は１である。
数式（９）：（ｍ₄λ／４）×０．８０＜ｎ₄ｄ₄＜（ｍ₄λ／４）×１．００
数式（１０）：（ｍ₅λ／４）×０．７５＜ｎ₅ｄ₅＜（ｍ₅λ／４）×０．９５
数式（１１）：（ｍ₆λ／４）×０．９５＜ｎ₆ｄ₆＜（ｍ₆λ／４）×１．０５

なお、ここで記載した高屈折率、中屈折率、低屈折率とは層相互の相対的な屈折率の高低をいう。また、図１（ｂ）〜（ｃ）では、帯電防止層を光干渉層として用いており、極めて優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムである。
ハードコート層、帯電防止層、高屈折率層に、平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子を含有させて、防眩機能を有する反射防止フィルムを作製することも好ましい。

図２（ａ）に示す態様は、透明支持体１、帯電防止層２、防眩層６、そして低屈折率層（最外層）４の順序の層構成を有する。防眩層に含まれる粒子７は、平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子である。
図２（ａ）に示す態様では透明支持体１、低屈折率層４は、次ぎの関係を満足する屈折率を有する。すなわち、透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率。

図２（ａ）のような層構成では、低屈折率層４が下記数式（１２）を満足することが優れた反射防止フィルムとすることができる点で好ましい。
数式（１２）：（ｍ₇λ／４）×０．７＜ｎ₇ｄ₇＜（ｍ₇λ／４）×１．３

数式（１２）中、ｍ₇は正の奇数（一般に１）であり、ｎ₇は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₇は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。また、λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。

図２（ｂ）に示す態様は、透明支持体１、防眩層６、帯電防止層２、そして低屈折率層（最外層）４の順序の層構成を有する。防眩層６に含まれる粒子７は、平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子である。
図２（ｂ）に示す態様では透明支持体１、帯電防止層２、低屈折率層４は、次ぎの関係を満足する屈折率を有する。すなわち、帯電防止層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率。

図２（ｂ）のような層構成では、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているように、帯電防止層が下記数式（１３）、低屈折率層が下記数式（１４）をそれぞれ満足することがさらに優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムとすることができる点で好ましい。
数式（１３）：（ｍ₈λ／４）×０．７＜ｎ₈ｄ₈＜（ｍ₈λ／４）×１．３
数式（１４） （ｍ₉λ／４）×０．７＜ｎ₉ｄ₉＜（ｍ₉λ／４）×１．３

数式（１３）中、ｍ₈は正の整数（一般に１、２又は３）であり、ｎ₈は帯電防止層の屈折率であり、そして、ｄ₈は帯電防止層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
数式（１４）中、ｍ₉は正の奇数（一般に１）であり、ｎ₉は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₉は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であり、３８０〜６８０（ｎｍ）の範囲の値である。
なお、図２（ａ）〜（ｂ）に示した態様は、防眩性に優れた反射防止フィルムである。

〔偏光板用保護フィルム〕
本発明の反射防止フィルムは、偏光板の偏光膜の保護フィルムの上に貼付して、偏光板用の反射防止フィルムとして使用することもできるが、また本発明の反射防止フィルムを、偏光膜に直接貼付することによって偏光膜の反射防止性保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いることもできる。この場合、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の、水に対する接触角が４０°以下であることが好ましい。さらに好ましくは３０°以下であり、特に好ましくは２５°以下である。接触角を４０°以下にすることは、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに有効である。この接触角は下記の鹸化処理の処理条件により調整することができる。

本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いるとき、反射防止フィルムの透明支持体としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。

本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、下記２つの手法が挙げられる。
（１）鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の各層（例えば、帯電防止層、ハードコート層、低屈折率層、高屈折率層、最外層など）を塗設する手法。
（２）透明支持体の一方の面に上記の各層（例えば、帯電防止層、ハードコート層、低屈折率層、最外層など）を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理する手法。

上記（１）の手法において、透明支持体の一方の面のみが鹸化処理されている場合、各層は鹸化処理されていない側に塗設する。透明支持体の両方の面が鹸化処理されている場合、各層を塗設する側の鹸化処理した透明支持体の表面をコロナ放電処理、グロー放電処理、火焔処理などの手法により表面処理し、その後、各層を塗設することが好ましい。

上記（２）において、反射防止フィルム全体を鹸化液に浸漬することが好ましい。この場合、反射防止フィルムは各層を有する側の表面を保護フィルムで保護して鹸化液に浸せきし、偏光膜と貼り合わせる側の透明支持体の表面を鹸化処理することもできる。さらにまた、反射防止フィルムの偏光膜と貼り合わせる側の透明支持体の表面に鹸化処理液を塗布して、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理することもできる。

鹸化処理は、透明支持体の上に反射防止性能を付与した後に実施することで、よりコストを削減でき、特に（２）の手法が、偏光板用保護フィルムを安価に製造できる点で好ましい。

偏光板用保護フィルムは、光学性能（反射防止性能、防眩性能など）、物理性能（耐擦傷性など）、耐薬品性、防汚性能（耐汚染性など）、耐候性（耐湿熱性、耐光性）、防塵性能において、本発明の反射防止フィルムで記載した性能を満足することが好ましい。

従って、最外層を有する側の表面の表面抵抗値が１×１０¹³Ω／□以下であることが好ましい。表面抵抗値は低いほど好ましく、より好ましくは１×１０¹²Ω／□以下、更に好ましくは１×１０¹¹Ω／□以下、特に好ましくは１×１０⁹Ω／□以下、最も好ましくは１×１０⁸Ω／□以下である。

最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。

また、最外層を有する側の表面の水に対する接触角は９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。

［鹸化処理］
本発明における反射防止フィルムの鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に透明支持体、又は、反射防止フィルムを適切な時間浸漬して実施するのが好ましい。

アルカリ液は、水酸化カリウム水溶液、及び／又は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３規定であり、特に好ましくは１〜２規定である。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７０℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。

アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。

鹸化処理することにより、透明支持体の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに有効である。

鹸化処理は、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以下、特に好ましくは２５゜以下である。

〔偏光板〕
本発明の偏光板は、偏向膜の２枚の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）のうちの少なくとも一方の保護フィルムとして、本発明の反射防止フィルムが使用される。偏光板用保護フィルムは、上記のように、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が４０°以下であることが好ましい。

本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また本発明の反射防止フィルムを、偏向膜の２枚の保護フィルムのうちの一方の保護フィルムとして用い、後述する光学異方性のある光学補償フィルムをもう一方の保護フィルムとして用いた偏光板は、さらに、液晶表示装置の明室でのコントラストを改良し、上下左右の視野角を非常に広げることができるので好ましい。

［光学補償フィルム］
光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されているディスコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する光学異方性層を有し、該ディスコティック化合物とフィルム面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向で変化していることを特徴とする光学補償フィルムが好ましい。すなわち、ディスコティック構造単位を有する化合物の配向状態としては、例えば、ハイブリッド配向、ベント配向、ツイスト配向、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向等であることが好ましく、ハイブリッド配向であることが特に好ましい。該角度は、光学異方性層中で光学補償フィルムの支持体面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。

光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。

また、光学異方性層が更にセルロースエステルを含んでいる態様、光学異方性層と光学補償フィルムの透明支持体との間に配向層が形成されている態様、該光学異方性層を有する光学補償フィルムの透明支持体が、光学的に負の一軸性を有し、且つ該透明支持体面の法線方向に光軸を有する態様、更に下記数式（１５）の条件を満足する態様も好ましい。
数式（１５）：２０≦｛（ｎ_x＋ｎ_y）／２−ｎ_z｝×ｄ_p≦４００

式中、ｎ_xは面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎ_yは面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率、ｎ_zは面に垂直方向の屈折率である。また、ｄ_pは光学異方性層の厚さ（ｎｍ）である。

〔画像表示装置〕
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。反射防止フィルムは、反射防止フィルムの透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着する。

図３及び図４は、本発明の反射防止フィルムの画像表示装置に適用する様々な態様を模式的に示す概略断面図である。

図３（ａ）は、反射防止フィルムを画像表示装置、特に、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＣＲＴに適用する好ましい態様である。この反射防止フィルムは、透明支持体１を、粘着剤層８を介して画像表示装置の画像表示面に接着することができる。

図３（ｂ）と図４（ｃ）及び（ｄ）は、反射防止フィルムをＬＣＤに適用する好ましい態様である。
図３（ｂ）では、反射防止フィルムの透明支持体１が粘着剤層８を介して偏光膜１１の保護フィルム９に接着している。もう一方の偏光膜の保護フィルム１０側を、粘着剤層８を介して液晶表示装置の液晶表示面に接着することができる。

図４（ｃ）では、反射防止フィルムの透明支持体１が、粘着剤層８を介して偏光膜１１に接着されて偏光板用保護フィルムとして機能しており、偏光膜１１のもう一方の保護フィルム１０側を、粘着剤層８を介して液晶表示装置の液晶表示面に接着することができる。

図４（ｄ）では、本発明の反射防止フィルムの透明支持体１が、直接偏光膜１１に接着されて偏光板用保護フィルムとして機能しており、偏光膜１１のもう一方の保護フィルム１０側を、粘着剤層８を介して液晶表示装置の液晶表示面に接着することができる。粘着剤層８には、粒子、染料などの添加剤を添加してもよい。

本発明に用いる反射防止フィルム及び偏光板は、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。

特にＴＮモードやＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開２００１−１０００４３号公報等に記載されているように、上記の光学補償フィルムと反射防止フィルムを保護フィルムとして有する偏光板を用いることで、視野角特性と反射防止特性を大幅に改良できる。

また、さらに市販の輝度向上フィルム｛偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製の“Ｄ−ＢＥＦ”など｝と併せて用いることにより、透過型又は半透過型の液晶表示装置において、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。

また、λ／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面及び内部からの反射光を低減するのに用いることができる。

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

［ペルフルオロオレフィン共重合体の合成］

ステンレス製撹拌機付オートクレーブに、酢酸エチル４０質量部、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７質量部、及び過酸化ジラウロイル０．５５質量部を仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５質量部をオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は５．４ｋｇ／ｃｍ²であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．２ｋｇ／ｃｍ²に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。

得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶媒を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー生成物２８質量部を得た。

次に得られたポリマー生成物の２０質量部を、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００質量部に溶解し、氷冷下で、アクリル酸クロリド１１．４質量部を滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加えて水洗し、有機層を抽出後、濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより下記のフルオロオレフィン共重合体１９質量部を得た。得られたペルフルオロオレフィン共重合体の屈折率は１．４２１であった。
上記ペルフルオロオレフィン共重合体をメチルエチルケトンに溶解し、固形分濃度３０質量％の溶液を得た。

［オルガノシラン化合物Ａ溶液の調製］
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０質量部、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加えて混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させた。室温まで冷却し、オルガノシラン化合物Ａの溶液を得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料の３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランは殆ど残存していなかった。

［帯電防止層用塗料（ＡＳ１）］
市販の透明帯電防止層用塗料「ペルトロンＣ−４４５６Ｓ−７」｛固形分濃度４５質量％、日本ペルノックス（株）製｝を帯電防止層用塗料（ＡＳ１）として用いた。「Ｃ−４４５６Ｓ−７」は、分散剤を用いて分散された導電性微粒子ＡＴＯを含有する透明帯電防止層用塗料である。この塗料による塗膜の屈折率は１．５５であった。

［帯電防止層用塗料（ＡＳ２）］
市販の導電性微粒子ＡＴＯ「アンチモンドープ酸化錫Ｔ−１」｛比表面積８０ｍ²／ｇ、三菱マテリアル（株）製｝２０．０質量部に、アニオン性基とメタアクリロイル基を有する下記の分散剤（Ｂ−１）６．０質量部、メチルイソブチルケトン７４質量部を添加して撹拌した。

メディア分散機（直径０．１ｍｍのジルコニアビーズ使用）を用いて、上記液中のＡＴＯ粒子を分散した。光散乱法で分散液中のＡＴＯ粒子の質量平均粒径を評価した結果、５５ｎｍであった。このようにして、ＡＴＯ分散液を作製した。

上記ＡＴＯ分散液１００質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”｛日本化薬（株）製｝６質量部、重合開始剤「イルガキュア９０７」｛日本チバガイギー（株）製｝０．８質量部を添加して撹拌した。このようにして帯電防止層用塗料（ＡＳ２）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．６３であった。

［帯電防止層用塗料（ＡＳ３）］
市販の導電性微粒子ＡＴＯ「アンチモンドープ酸化錫Ｔ−１」｛比表面積８０ｍ²／ｇ、三菱マテリアル（株）製｝２０．０質量部に、アニオン性基とメタアクリロイル基を有する上記分散剤（Ｂ−１）３．０質量部、シクロヘキサノン７７質量部を添加して撹拌した。

メディア分散機（直径０．１ｍｍのジルコニアビーズ使用）を用いて上記液中のＡＴＯ粒子を分散した。光散乱法で分散液中のＡＴＯ粒子の質量平均粒径を評価した結果、６５ｎｍであった。このようにして、ＡＴＯ分散液を作製した。

上記ＡＴＯ分散液１００質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”｛日本化薬（株）製｝３質量部、重合開始剤「イルガキュア９０７」｛日本チバガイギー（株）製｝０．５質量部を添加して撹拌した。このようにして帯電防止層用塗料（ＡＳ３）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．６８であった。

［帯電防止層用塗料（ＡＳ４）］
市販の導電性微粒子ＡＴＯ「アンチモンドープ酸化錫Ｔ−１」｛比表面積８０ｍ²／ｇ、三菱マテリアル（株）製｝２０．０質量部に、シクロヘキサノン８０質量部を添加して撹拌した。分散剤は使用しなかった。
メディア分散機（直径０．１ｍｍのジルコニアビーズ使用）を用いて帯電防止層用塗料Ｃで記載したのと全く同様に、上記液中のＡＴＯ粒子を分散した。光散乱法で分散液中のＡＴＯ粒子の質量平均粒径を評価した結果、２５０ｎｍであり、ＡＴＯ微粒子を微細に分散できなかった。このようにして、ＡＴＯ分散液を作製した。

上記ＡＴＯ分散液１００質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”｛日本化薬（株）製｝６質量部、重合開始剤「イルガキュア９０７」｛日本チバガイギー（株）製｝０．５質量部を添加して撹拌した。このようにして帯電防止層用塗料（ＡＳ４）を調製した。

［ハードコート層用塗料（ＨＣ１−１）の調製］
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物“ＰＥＴＡ”｛日本化薬（株）製｝５０．０質量部に、重合開始剤「イルガキュア１８４」｛日本チバガイギー（株）製｝２．０質量部、下記のフッ素系面状改良剤（ＦＰ−１）０．７５質量部、オルガノシラン化合物“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝１０．０質量部、トルエン３８．５質量部を添加して撹拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。

さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子“ＳＸ−３５０”｛屈折率１．６０、綜研化学（株）製｝の３０質量％トルエン分散液１．７質量部、及びポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで分散した平均粒径３．５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子｛屈折率１．５５、綜研化学（株）製｝の３０質量％トルエン分散液１３．３質量部を添加して撹拌した。次いで孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して防眩性ハードコート層用塗料（ＨＣ１−１）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．５１であった。得られた防眩性ハードコート層用塗料（ＨＣ１−１）の表面張力は３２ｍＮ／ｍであった。

［ハードコート層用塗料（ＨＣ１−２）の調製］
防眩性ハードコート層用塗料（ＨＣ１−１）において、フッ素系面状改良剤（ＦＰ−１）を添加していない以外は同様にして、防眩性ハードコート層用塗料（ＨＣ１−２）を作製した。塗料の表面張力は３５ｍＮ／ｍであり、塗料（ＨＣ１−１）と比較して３ｍＮ／ｍ高かった。この塗料による塗膜の屈折率は１．５１であった。

［ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の調製］
酸化ジルコニウム微粒子を含有する透明高屈折率ハードコート材料「デソライトＺ７４０４」｛ＪＳＲ（株）製｝２８５．０質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”｛日本化薬（株）製｝８５．０質量部、オルガノシラン化合物“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝２８．０質量部、メチルイソブチルケトン６０．０質量部、メチルエチルケトン１７．０質量部を添加して撹拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。

さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで分散した平均粒径３．０μｍの分級を強化した架橋ＰＭＭＡ粒子“ＭＸＳ−３００”｛屈折率１．４９、綜研化学（株）製｝の３０質量％メチルイソブチルケトン分散液３５．０質量部、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで分散した平均粒径１．５μｍのシリカ粒子「シーホスタＫＥ−Ｐ１５０」｛屈折率１．４６、（株）日本触媒製｝の３０質量％メチルエチルケトン分散液９０．０質量部を添加して撹拌した。孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用塗料（ＨＣ２）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．６１であった。得られたハードコート層用塗料（ＨＣ２）の表面張力は２５ｍＮ／ｍであった。

［ハードコート層用塗料（ＨＣ３）の調製］
ハードコート層用塗料（ＨＣ２）において、前記のフッ素系面状改良剤（ＦＰ−１）を３．５０質量部添加してハードコート層用塗料（ＨＣ３）を作製した。塗料の表面張力は２４ｍＮ／ｍであり、フッ素系面状改良剤（ＦＰ−１）を添加していないハードコート層用塗料（ＨＣ２）と比較し１ｍＮ／ｍ低かった。この塗料による塗膜の屈折率は１．６１であった。

［ハードコート層用塗料（ＨＣ４）の調製］
酸化ジルコニウム微粒子を含有する透明高屈折率ハードコート材料「デソライトＺ７４０４」｛ＪＳＲ（株）製｝２８５．０質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”｛日本化薬（株）製｝８５．０質量部、オルガノシラン化合物“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝２８．０質量部、メチルイソブチルケトン６０．０質量部、メチルエチルケトン１７．０質量部を添加して撹拌した。孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用塗料（ＨＣ４）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．６１であった。

［ハードコート層用塗料（ＨＣ５）の調製］
ハードコート層用塗料（ＨＣ１）に対して更に、「ブライト２０ＧＮＲ４．６−ＥＨ」｛ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物球状粉体にニッケル及び金をめっきしたもの、日本化学工業（株）製｝を０．１２質量％分散し、ハードコート層用塗料（ＨＣ５）を調製した。

［ハードコート層用塗料（ＨＣ６）の調製］
ハードコート層用塗料（ＨＣ４）に対して更に、「ブライト２０ＧＮＲ４．６−ＥＨ」｛ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物球状粉体にニッケル及び金をめっきしたもの、日本化学工業（株）製｝を０．１０質量％分散し、ハードコート層用塗料（ＨＣ６）を調製した。

［低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）の調製］
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー“ＪＮ−７２２８”｛固形分濃度６質量％、ＪＳＲ（株）製｝１３．０質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液“ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ”｛平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０質量％、日産化学工業（株）製｝１．３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．６質量部、及びメチルエチルケトン５．０質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４２であった。

［低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）の調製］
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー“ＪＮ−７２２８”｛固形分濃度６質量％、ＪＳＲ（株）製｝１５．０質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液“ＭＥＫ−ＳＴ”｛平均粒径１５ｎｍ、固形分濃度３０質量％、日産化学工業（株）製｝０．６質量部、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液“ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ”｛平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０質量％、日産化学工業（株）製｝０．８質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．４質量部、及びメチルエチルケトン３．０質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４２であった。

［低屈折率層用塗料（Ｌｎ３）の調製］
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー“ＪＮ−７２２８”｛固形分濃度６質量％、ＪＳＲ（株）製｝１３．０質量部に、中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０質量％）１．９５質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．６質量部、及びメチルエチルケトン４．３５質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗料（Ｌｎ３）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４０であった。

［低屈折率層用塗料（Ｌｎ４）の調製］
ｉ−プロピルアルコール／メチルエチルケトン＝１／１（質量比）の混合溶媒に、テトラメトキシシラン１モル、０．１Ｎの塩酸２モルを添加した。室温で２時間撹拌して加水分解反応を行い、テトラメトキシシランの加水分解物の溶液を調製した。

ｉ−プロピルアルコール／メチルエチルケトン＝１／１（質量比）に、上記のテトラメトキシシランの加水分解物９．０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート１．０質量部、重合開始剤「イルガキュア９０７」｛日本チバガイギー（株）製｝０．５質量部、固形分濃度が４．５質量％になるように添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗料（Ｌｎ４）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４５であった。

［低屈折率層用塗料（Ｌｎ５）の調製］
上記ペルフルオロオレフィン共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）１５．０質量部に、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物“Ｘ−２２−１６４Ｃ”｛信越化学工業（株）製｝０．１５質量部、光重合開始剤「イルガキュア９０７」｛日本チバガイギー（株）製｝０．２３質量部、及びメチルエチルケトン８１．８質量部、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗料（Ｌｎ５）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４３であった。

［低屈折率層用塗料（Ｌｎ６）の調製］
上記ペルフルオロオレフィン共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）１０．５質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液“ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ”｛平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０質量％、日産化学工業（株）製｝４．５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物“Ｘ−２２−１６４Ｃ”｛信越化学工業（株）製｝０．１５質量部、光重合開始剤「イルガキュア９０７」｛日本チバガイギー（株）製｝０．２３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液２．０質量部、及び、メチルエチルケトン８１．２質量部、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗料（Ｌｎ６）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４４であった。

［低屈折率層用塗料（Ｌｎ７）の調製］
上記ペルフルオロオレフィン共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）１０．５質量部に、中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０質量％）６．７５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物“Ｘ−２２−１６４Ｃ”｛信越化学工業（株）製｝０．１５質量部、光重合開始剤「イルガキュア９０７」｛日本チバガイギー（株）製｝０．２３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液２．０質量部、及びメチルエチルケトン８１．２質量部、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗料（Ｌｎ７）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４１であった。

［低屈折率層用塗料（Ｌｎ８）の調製］
上記ペルフルオロオレフィン共重合体の溶液（固形分濃度３０質量％）１３．５質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”｛日本化薬（株）製｝０．４５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物“Ｘ−２２−１６４Ｃ”｛信越化学工業（株）製｝０．１５質量部、光重合開始剤「イルガキュア９０７」｛日本チバガイギー（株）製｝０．２３質量部、及びメチルエチルケトン８１．２質量部、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して、撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗料（Ｌｎ８）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４４であった。

［低屈折率層用塗料（Ｌｎ９）の調製］
「オプスターＪＴＡ１１３」｛熱架橋性含フッ素含シリコーンポリマー組成液（固形分６質量％）：ＪＳＲ(株)製、屈折率１．４４｝８２０質量部（固形分として５６．０質量部）に対して、中空のシリカ微粒子のシクロヘキサノン分散液を１９５質量部［シリカ＋表面処理剤固形分として４９．２質量部、平均粒子径４５ｎｍ、粒子屈折率１．３０、特開２００２−７９６１６号公報の調製例４に準じサイズを変更して作製、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン｛信越化学工業（株）製｝及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテートを用い表面処理］、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液１８質量部（固形分として５．３質量部）を添加した。塗布液全体の固形分濃度が６質量％になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が１０対９０になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率層用塗料（Ｌｎ９）を調製した。

〔反射防止フィルムの作製〕
実施例１−１
膜厚８０μｍ、幅１３４０ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム“ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ”｛富士写真フイルム（株）製｝上に、前記帯電防止層用塗料（ＡＳ１）を、マイクログラビア塗工方式で、搬送速度１５ｍ／分の条件で塗布し、１００℃で１５０秒乾燥した後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚１．２μｍの帯電防止層を作製した。このようにして帯電防止層を有する長さ１０００ｍのフィルムを作製した。

上記帯電防止層の上に、ハードコート層用塗料（ＨＣ１−１）をマイクログラビア塗工方式で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚６μｍの防眩性を有するハードコート層を作製した。このようにしてハードコート層を有する長さ１０００ｍのフィルムを作製した。

上記ハードコート層の上に、低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）をマイクログラビア塗工方式で、搬送速度１５ｍ／分の条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量９００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚９５ｎｍの低屈折率層（最外層）を作製した。このようにして長さ１０００ｍの反射防止フィルムを作製した。原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて低屈折率層（最外層）を有する側の平均表面粗さ（Ｒａ）を評価したところ０．１９であった。

［反射防止フィルムの評価］
得られた反射防止フィルムについて、以下の項目の評価を行った。結果を表１３に示す。

（１）表面抵抗の評価
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側の表面の表面抵抗を、超絶縁抵抗／微小電流計“ＴＲ８６０１”｛（株）アドバンテスト製｝を用いて、２５℃、湿度６０％ＲＨの条件下で測定した。

（２）塵埃除去性の評価
反射防止フィルムをモニターに張り付け、モニター表面に塵埃（布団、衣服の繊維屑）を振りかけた。クリーニングクロスで塵埃を拭き取り、塵埃の除去性を調べ、下記３段階で評価した。
○；塵埃が完全に取り除けたもの。
△；塵埃が若干残ったもの。
×；塵埃がかなり残ったもの。

（３）反射防止フィルムの面状故障の評価
作製した１０００ｍの反射防止フィルムから、ランダムに縦５０ｃｍ×横５０ｃｍのフィルムを１０００枚取り出し、モニターに貼ったときに目視で認識できる面状故障が存在するかどうかを検証し、下記４段階で評価した。
◎；認識できる面状故障のあるフィルムが５枚以下のもの。
○；認識できる面状故障のあるフィルムが５〜１０枚のもの。
△；認識できる面状故障のあるフィルムが１１〜２０枚のもの。
×；認識できる面状故障のあるフィルムが２１枚以上のもの。

（４）平均反射率の評価
分光光度計“Ｖ−５５０”｛日本分光（株）製｝を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、積分球を用いて、入射角５°における分光反射率を測定した。分光反射率の評価において、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を用いた。

（５）動摩擦係数の評価
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側の表面の滑り性の指標として動摩擦係数を評価した。動摩擦係数は試料を温度２５℃、湿度６０％ＲＨの条件で２時間調湿した後、動摩擦測定機“ＨＥＩＤＯＮ−１４”で、直径５ｍｍのステンレス剛球を用い、荷重０．９８Ｎ、速度６０ｃｍ／分で測定した。

（６）耐擦傷性の評価
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側の表面において、ラビングテスターを用いてスチールウールによる擦りテストを実施した。
こすり材としてスチールウール｛日本スチールウール（株）製、グレードＮｏ．００００｝を用い、移動距離（片道）１３ｃｍ、こすり速度１３ｃｍ／秒、荷重４．９Ｎ／ｃｍ²、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数１０往復の条件で実施した。最外層の表面についた傷について目視観察して、下記４段階で評価した。
◎；注意深く見ても、全く傷が見えない。
○；注意深く見ると、僅かに弱い傷が見える。
△；弱い傷が見える。
×；一目見ただけで目立つ傷が見える。

（７）接触角の評価
反射防止フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨの条件で２時間調湿した。反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側の表面における水の接触角を評価した。

（８）防汚性の評価
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側の表面に油性マジック（ＺＥＢＲＡマッキー、赤）を付着させて３０分経時させ、それをクリーニングクロスで拭き取った時の状態を観察して、以下の３段階で評価した。
○；マジックが完全に拭き取れたもの。
△；マジックの一部が拭き取れずに残ったもの。
×；マジックのほとんどが拭き取れずに残ったもの。

実施例１−２
実施例１−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）の代わりに、低屈折率層用塗料（Ｌｎ３）を用いた以外は、実施例１−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

実施例１−３
実施例１−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）の代わりに、低屈折率層用塗料（Ｌｎ５）を用いた以外は、実施例１−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

実施例１−４
実施例１−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）の代わりに、低屈折率層用塗料（Ｌｎ６）を用いた以外は、実施例１−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

実施例１−５
実施例１−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）の代わりに、低屈折率層用塗料（Ｌｎ７）を用いた以外は、実施例１−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

実施例１−６
実施例１−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）の代わりに、低屈折率層用塗料（Ｌｎ８）を用いた以外は、実施例１−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

実施例１−７
実施例１−１において、帯電防止層用塗料（ＡＳ１）の代わりに、帯電防止層用塗料（ＡＳ２）を用いた以外は、実施例１−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

実施例１−８
実施例１−２において、帯電防止層用塗料（ＡＳ１）の代わりに、帯電防止層用塗料（ＡＳ２）を用いた以外は、実施例１−２と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

実施例１−９
実施例１−３において、帯電防止層用塗料（ＡＳ１）の代わりに、帯電防止層用塗料（ＡＳ２）を用いた以外は、実施例１−３と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

実施例１−１０
実施例１−４において、帯電防止層用塗料（ＡＳ１）の代わりに、帯電防止層用塗料（ＡＳ２）を用いた以外は、実施例１−４と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

実施例１−１１
実施例１−５において、帯電防止層用塗料（ＡＳ１）の代わりに、帯電防止層用塗料（ＡＳ２）を用いた以外は、実施例１−５と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

実施例１−１２
実施例１−６において、帯電防止層用塗料（ＡＳ１）の代わりに、帯電防止層用塗料（ＡＳ２）を用いた以外は、実施例１−６と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

比較例１−１
実施例１−１において、帯電防止層を設けない以外は、実施例１−１と同様にして塗布、硬化して、反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

比較例１−２
比較例１−１において、ハードコート層用塗料（ＨＣ１−１）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ１−２）を用いた以外は、比較例１−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

比較例１−３
比較例１−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ３）を用いた以外は、比較例１−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

比較例１−４
比較例１−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ４）を用いた以外は、比較例１−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

比較例１−５
比較例１−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ５）を用いた以外は、比較例１−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

比較例１−６
比較例１−５において、窒素パージを実施せずに、大気雰囲気（酸素濃度約２１体積％）の中で低屈折率層を硬化させた以外は、比較例１−５と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

比較例１−７
比較例１−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ６）を用いた以外は、比較例１−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

比較例１−８
比較例１−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ７）を用いた以外は、比較例１−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

比較例１−９
比較例１−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ８）を用いた以外は、比較例１−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１３に示す。

実施例１−１３
実施例１−１の帯電防止層の上に、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）をマイクログラビア塗工方式で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布した。
６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚３．７μｍのハードコート層を作製した。

上記ハードコート層の上に、低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）を実施例１−１と全く同様にして塗布、硬化して、低屈折率層（最外層）を作製した。このようにして長さ１０００ｍの反射防止フィルムを作製した。
作製した反射防止フィルムを実施例１−１と全く同様にして評価した。結果を表１４に示す。

実施例１−１４
実施例１−１３において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）の代わりに、低屈折率層用塗料（Ｌｎ３）を用いた以外は、実施例１−１３と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１４に示す。

実施例１−１５
実施例１−１３において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）の代わりに、低屈折率層用塗料（Ｌｎ５）を用いた以外は、実施例１−１３と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１４に示す。

実施例１−１６
実施例１−１３において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）の代わりに、低屈折率層用塗料（Ｌｎ６）を用いた以外は、実施例１−１３と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１４に示す。

実施例１−１７
実施例１−１３において、（Ｌｎ２）の代わりに、低屈折率層用塗料（Ｌｎ７）を用いた以外は、実施例１−１３と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１４に示す。

実施例１−１８
実施例１−１３において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）の代わりに、低屈折率層用塗料（Ｌｎ８）を用いた以外は、実施例１−１３と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１４に示す。

実施例１−１９
実施例１−７で作製した帯電防止層の上に、実施例１−１３と全く同様にしてハードコート層と低屈折率層を構築して反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１４に示す。

実施例１−２０
実施例１−７で作製した帯電防止層の上に、実施例１−１４と全く同様にしてハードコート層と低屈折率層を構築して反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１４に示す。

実施例１−２１
実施例１−７で作製した帯電防止層の上に、実施例１−１５と全く同様にしてハードコート層と低屈折率層を構築して反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１４に示す。

実施例１−２２
実施例１−７で作製した帯電防止層の上に、実施例１−１６と全く同様にしてハードコート層と低屈折率層を構築して反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１４に示す。

実施例１−２３
実施例１−７で作製した帯電防止層の上に、実施例１−１７と全く同様にしてハードコート層と低屈折率層を構築して反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１４に示す。

実施例１−２４
実施例１−７で作製した帯電防止層の上に、実施例１−１８と全く同様にしてハードコート層と低屈折率層を構築して反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１４に示す。

実施例１−２５
実施例１−１３において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例１−１３と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１５に示す。

実施例１−２６
実施例１−１４において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例１−１４と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１５に示す。

実施例１−２７
実施例１−１５において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例１−１５と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１５に示す。

実施例１−２８
実施例１−１６において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例１−１６と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１５に示す。

実施例１−２９
実施例１−１７において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例１−１７と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１５に示す。

実施例１−３０
実施例１−１８において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例１−１８と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１５に示す。

実施例１−３１
実施例１−１９において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例１−１９と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１５に示す。

実施例１−３２
実施例１−２０において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例１−２０と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１５に示す。

実施例１−３３
実施例１−２１において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例１−２１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１５に示す。

実施例１−３４
実施例１−２２において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例１−２２と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１５に示す。

実施例１−３５
実施例１−２３において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例１−２３と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１５に示す。

実施例１−３６
実施例１−２４において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例１−２４と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１５に示す。

実施例１−３７
実施例１−１において、帯電防止層用塗料（ＡＳ１）の代わりに、帯電防止用塗料（ＡＳ２）を用い塗設し硬化させた。その上に、実施例１−１に準じてハードコート層用塗料（ＨＣ１）を塗説し硬化させた。該ハードコート層の上に、低屈折率層用塗料（Ｌｎ９）をマイクログラビア塗工方式で、搬送速度１５ｍ／分の条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１１０℃で１０分乾燥させてから窒素パージ（酸素濃度０．０５％以下）しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量９００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚９５ｎｍの低屈折率層（最外層）を作製した。このようにして長さ１０００ｍの反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。評価結果を第１６表に示す。
低屈折率層に中空シリカを用いることで、反射率が大きく低下することが分かる（対実施例１−７）。

実施例１−３８
実施例１−３７において、ハードコート層用塗料（ＨＣ１）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ５）を用い、低屈折率層用塗料（Ｌｎ９）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）を用いた以外は、実施例１−３７と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１６に示す。
ハードコート層に、非導電材の外表面に金属又は金属酸化物の導電性部分を形成してなる粒子を含有することで表面抵抗が低下できることが分かる（対実施例１−７）。

実施例１−３９
実施例１−３７において、ハードコート層用塗料（ＨＣ１）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ５）を用いた以外は、実施例１−３７と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１６に示す。
低屈折率層に中空シリカを用い、ハードコート層に、非導電材の外表面に金属又は金属酸化物の導電性部分を形成してなる粒子を含有することで、反射率が低く表面抵抗が低い反射防止フィルムができることが分かる（対実施例１−７、３７、３８）。

実施例１−４０
実施例１−３７において、ハードコート層用塗料（ＨＣ１）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ５）を用い、低屈折率層用塗料（Ｌｎ９）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ７）を用いた以外は、実施例１−３７と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１６に示す。
低屈折率層に中空シリカを用い、ハードコート層に、非導電材の外表面に金属又は金属酸化物の導電性部分を形成してなる粒子を含有することで、反射率が低く表面抵抗が低い反射防止フィルムができることが分かる（対実施例１−７、３７、３８）。

実施例１−４１
実施例１−３７において、ハードコート層用塗料（ＨＣ１）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ４）を用いた以外は、実施例１−３７と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１６に示す。
低屈折率層に酸化ジルコニウム微粒子を用いることで、反射率が大きく低下することが分かる（対実施例１−３７）。

実施例１−４２
実施例１−３７において、ハードコート層用塗料（ＨＣ１）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ６）を用い、低屈折率層用塗料（Ｌｎ９）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）を用いた以外は、実施例１−３７と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１６に示す。
ハードコート層に、非導電材の外表面に金属又は金属酸化物の導電性部分を形成してなる粒子を含有することで表面抵抗が低下できることが分かる（対実施例１−４１）。

実施例１−４３
実施例１−３７において、ハードコート層用塗料（ＨＣ１）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ６）を用いた以外は、実施例１−３７と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１６に示す。
低屈折率層に中空シリカを用い、ハードコート層に、非導電材の外表面に金属又は金属酸化物の導電性部分を形成してなる粒子を含有することで、反射率が低く表面抵抗が低い反射防止フィルムができることが分かる（対実施例１−４１、４２）。

実施例１−４４
実施例１−３７において、ハードコート層用塗料（ＨＣ１）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ６）を用い、低屈折率層用塗料（Ｌｎ９）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ７）を用いた以外は、実施例１−３７と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と同様に評価した。結果を表１６に示す。
ハードコート層に、非導電材の外表面に金属又は金属酸化物の導電性部分を形成してなる粒子を含有することで、表面抵抗が低い反射防止フィルムができることが分かる（対実施例１−４１）。

実施例２−１
膜厚８０μｍ、幅１３４０ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム“ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ”｛富士写真フイルム（株）製｝上に、上記ハードコート層用塗料（ＨＣ２）をマイクログラビア塗工方式で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布した。６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚３．７μｍのハードコート層を作製した。このようにしてハードコート層を有する長さ１０００ｍのフィルムを作製した。

上記ハードコート層の上に、前記帯電防止層用塗料（ＡＳ３）をマイクログラビア方式で、搬送速度１５ｍ／分の条件で塗布した。１００℃で１５０秒乾燥した後、窒素パージ（酸素濃度０．３％以下）しながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚１００ｎｍの帯電防止層を作製した。このようにして帯電防止層を有する長さ１０００ｍのフィルムを作製した。

上記帯電防止層の上に、低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）をマイクログラビア塗工方式で、搬送速度１５ｍ／分の条件で塗布した。１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量９００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚９５ｎｍの低屈折率層（最外層）を作製した。このようにして長さ１０００ｍの反射防止フィルムを作製した。

得られた反射防止フィルムについて、実施例１−１と全く同様にして評価した。結果を表１７に示す。

比較例２−１
実施例２−１において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）により形成されたハードコート層の上に、帯電防止層用塗料（ＡＳ３）を塗設することなく、直接低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）を実施例２−１と同様にして塗布、硬化する以外は、実施例２−１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
得られた反射防止フィルムについて、実施例１−１と全く同様にして評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−２
実施例２−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ３）を用いた以外は、実施例２−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

比較例２−２
実施例２−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ４）を用いた以外は、実施例２−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−３
実施例２−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ５）を用いた以外は、実施例２−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−４
実施例２−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ６）を用いた以外は、実施例２−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−５
実施例２−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ７）を用いた以外は、実施例２−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−６
実施例２−１において、低屈折率層用塗料（Ｌｎ２）の代わりに低屈折率層用塗料（Ｌｎ８）を用いた以外は、実施例２−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−７
実施例２−１において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例２−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−８
実施例２−２において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例２−２と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−９
実施例２−３において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例２−３と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−１０
実施例２−４において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例２−４と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−１１
実施例２−５において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例２−５と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−１２
実施例２−６において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ３）を用いた以外は、実施例２−６と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−１３
実施例２−１において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ４）を用いた以外は、実施例２−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−１４
実施例２−２において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ４）を用いた以外は、実施例２−２と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−１５
実施例２−３において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ４）を用いた以外は、実施例２−３と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−１６
実施例２−４において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ４）を用いた以外は、実施例２−４と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−１７
実施例２−５において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ４）を用いた以外は、実施例２−５と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−１８
実施例２−６において、ハードコート層用塗料（ＨＣ２）の代わりに、ハードコート層用塗料（ＨＣ４）を用いた以外は、実施例２−６と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。

実施例２−１９
実施例２−１の低屈折率層の作製において、窒素パージを実施せずに、大気雰囲気（酸素濃度約２１％）の中で低屈折率層を硬化させた以外は、実施例２−１と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。
実施例２−１に比べて、耐擦傷性がやや劣っていた。

実施例２−２０
実施例２−１３において、帯電防止層用塗料（ＡＳ３）の代わりに、帯電防止層用塗料（ＡＳ４）を用いた以外は、実施例２−１３と全く同様にして反射防止フィルムを作製して、実施例１−１と全く同様に評価した。結果を表１７に示す。
帯電防止層用塗料（ＡＳ４）から作製した帯電防止層に含有される導電材は、分散性が悪いため、光学干渉層としての機能が低いことに起因して、実施例２−１３よりも反射防止性能が若干劣っていた。

実施例３
〔反射防止フィルムの作製とその評価〕
低屈折率層用塗料（Ｌｎ１）〜（Ｌｎ３）に用いた、屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー“ＪＮ−７２２８”｛固形分濃度６質量％、ＪＳＲ（株）製｝を、屈折率１．４４の熱架橋性含フッ素ポリマー“ＪＴＡ−１１３”｛固形分濃度６質量％、ＪＳＲ（株）製｝に変更して、低屈折率層用塗料を作製した以外は、実施例１−１〜１−３６及び２−１〜２−１８のそれぞれと全く同様にして反射防止フィルムを作製して、前記実施例１−１と全く同様に評価した結果、実施例１−１〜１−３６及び２−１〜２−１８のそれぞれとほぼ同様の結果が得られ、特に耐擦傷に優れる反射防止フィルムが得られた。

実施例４
〔画像表示装置の評価〕
実施例１−１〜１−３６、実施例２−１〜２−１８、及び実施例３で作製した反射防止フィルムを、画像表示装置（ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、又はＯＣＢのモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置、及び、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ））のディスプレイ面に装着した。本発明の反射防止フィルムを用いた画像表示装置は、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。

さらにまた、防眩性を有する反射防止フィルム（実施例１−１〜１−１２）において、表面の１ｍｍ²の面積当たりに対し、切断面の面積が１００μｍ²以上の凹は存在せず、画素サイズが１００ｐｐｉ（１００ピクセル／インチ：１インチ角に１００画素がある）における画像表示装置におけるギラツキ故障の発生が無かった。

実施例５
〔偏光板用保護フィルムの作製〕
１．５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を５０℃に保温した鹸化液を調整した。さらに、０．０１Ｎの希硫酸水溶液を調製した。

実施例１−１〜１−４２、実施例２−１〜２−１８、及び実施例３で作製した反射防止フィルムにおいて、低屈折率層（最外層）を有する側とは反対側の透明支持体の表面を、上記鹸化液を用いて５５℃で２分鹸化処理し、次いで鹸化処理した透明支持体表面の水酸化ナトリウム水溶液を、水で十分に洗浄した後、上記の希硫酸水溶液で３０℃、２０秒洗浄し、さらに希硫酸水溶液を水で十分に洗浄して、１００℃で十分に乾燥させた。

反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側とは反対側の、鹸化処理した透明支持体の表面の水に対する接触角を評価したところ、４０°以下であった。このようにして、偏光板用保護フィルムを作製した。

〔偏光板の作製〕
特開２００２−８６５５４号公報に記載の偏向膜の一方の面に、ＰＶＡ“ＰＶＡ−１１７Ｈ”｛（株）クラレ製｝３質量％水溶液を接着剤として用いて、上記のように鹸化処理した本発明の反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には上記と同様にして鹸化処理したトリアセチルセルロースフィルム「フジタック」｛富士写真フィルム（株）製、レターデーション値３．０ｎｍ｝を同じ接着剤を用いて貼り合わせた。このようにして、本発明の偏光板を作製した。

〔画像表示装置の評価〕
このようにして作製した本発明の偏光板を装着した、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置は、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
なお、種々公知化されている偏向膜を用い、上記と同様に作製した偏光板においても同様の結果が得られた。

実施例６
〔偏光板の作製〕
ディスコティック構造単位の円盤面が、透明支持体面（フィルム面）に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、透明支持体からの距離に伴って変化している、光学異方性層を有する光学補償フィルム「ワイドビューフィルムＳＡ−１２Ｂ」｛富士写真フイルム（株）製｝において、光学異方性層を有する側とは反対側の表面を実施例５と同様の条件で鹸化処理した。

次ぎに実施例５と同様にして、偏光膜の一方の面に、実施例５で作製した反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう一方の面に、鹸化処理した上記光学補償フィルムのトリアセチルセルロース面を同様にして貼り合わせた。

〔画像表示装置の評価〕
このようにして作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置は、光学補償フィルムを用いていない偏光板を装着した液晶表示装置よりも明室でのコントラストに優れ、上下左右の視野角が広く、さらに、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。

特に、ハードコート層用塗料として（ＨＣ１−１）、（ＨＣ１−２）、（ＨＣ２）、（ＨＣ３）を用いて作製した反射防止フィルムにおいて、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリル−ポリスチレン粒子、架橋ＰＭＭＡ粒子、シリカ粒子による透過光の光散乱効果により、特に下方向の視野角が顕著に広がり、左右方向の黄色味が改善されていた。

なお、種々公知化されている偏向膜を用い、上記と同様に作製した偏光板においても同様の結果が得られた。

実施例７
〔画像表示装置の評価〕
実施例１−１〜１−４２、実施例２−１〜２−１８、及び実施例３で作製した反射防止フィルムを、有機ＥＬ表示装置に装着したところ、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。

また、偏光膜の一方の面に実施例５で作製した偏光板用保護フィルム、もう一方の面にλ／４板を有する偏光板を実施例５と同様にして作製した。この偏光板を有機ＥＬ表示装置に装着したところ、偏光板を貼ったガラス表面からの光の反射もカットされ、極めて視認性の高い表示装置が得られた。

実施例８
〔反射防止フィルムの作製とその評価〕
実施例１−１〜１−４２、実施例２−１〜２−２０、及び実施例３において、低屈折率層（最外層）の隣接層（ハードコート層、又は、帯電防止層）の作製を、窒素パージを実施せずに、大気雰囲気（酸素濃度約２１％）中で行った以外は、全く同様にして反射防止フィルムを作製した。得られた反射防止フィルムを実施例１−１と全く同様にして評価したところ、全く同様の結果が得られた。

実施例９
〔偏光板用保護フィルムの作製〕
実施例１−１〜１−４２、実施例２−１〜２−２０、実施例３、及び実施例８で作製した反射防止フィルムにおいて、鹸化処理の時間を短くして、偏向膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角を４１〜４５°に調整した偏光板用保護フィルムを作製した。

〔偏光板の作製とその評価〕
次いでこれらの偏光板用保護フィルムを用いて、実施例５と同様にして、偏光板を作製したところ、偏向膜と偏光板用保護フィルムの間の密着性が、実施例５と比較して若干劣っていたものの、実用性は問題なかった。また、実施例５〜７と全く同様に評価を実施したところ、全く同様の結果が得られた。

図１は、反射防止性能に優れた本発明の反射防止フィルムの層構成を模式的に示す概略断面図である。図１（ａ）は、透明支持体、帯電防止層、ハードコート層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成を有する本発明の一態様である。図１（ｂ）は、透明支持体、ハードコート層、帯電防止層（高屈折率層）、低屈折率層（最外層）の順序の層構成を有する本発明の別の態様である。図１（ｃ）は、透明支持体、ハードコート層、帯電防止層（中屈折率層）、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成を有する本発明のまた別の態様である。

図２は、防眩性能を有する本発明の反射防止フィルムの層構成を模式的に示す概略断面図である。図２（ａ）は、透明支持体、帯電防止層、防眩層、そして低屈折率層（最外層）の順序の層構成を有する本発明の一態様である。図２（ｂ）は、透明支持体、防眩層、帯電防止層、そして低屈折率層（最外層）の順序の層構成を有する本発明の別の態様である。

図３（ａ）は、本発明の反射防止フィルムを、画像表示装置に適用する態様を模式的に示す概略断面図である。図３（ｂ）は、本発明の反射防止フィルムを偏光板の一方の保護フィルム上に粘着剤を介して貼付することにより、本発明の反射防止フィルムを、偏光板が設置された液晶表示装置に適用する態様を模式的に示す概略断面図である。

図４（ｃ）は、本発明の反射防止フィルムを、偏光膜の一方の保護フィルムとして、偏光膜上に粘着剤を介して貼付して得た偏光板を、液晶表示装置に適用する態様を模式的に示す概略断面図である。図４（ｄ）は、本発明の反射防止フィルムを、偏光膜の一方の保護フィルムとして、偏光膜上に直接貼付して得た偏光板を、液晶表示装置に適用する態様を模式的に示す概略断面図である。

符号の説明

１：透明支持体
２：帯電防止層
３：ハードコート層
４：低屈折率層（最外層）
５：高屈折率層
６：防眩層
７：平均粒径が０．２〜１０μｍの粒子
８：粘着剤層
９：偏光膜の保護フィルム
１０：偏光膜の保護フィルム
１１：偏光膜

Claims (29)

1. 透明支持体上に、含フッ素化合物を含有する最外層及び帯電防止層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
2. 最外層を有する側の表面抵抗が１×１０¹³Ω／□以下である請求項１に記載の反射防止フィルム。
3. 帯電防止層が電子伝導型の導電材を含有する請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
4. 導電材が金属酸化物である請求項３に記載の反射防止フィルム。
5. 導電材が分散剤を用いて分散されている請求項３又は４に記載の反射防止フィルム。
6. 帯電防止層を透明支持体と最外層との間に有する請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
7. 最外層に含有される含フッ素化合物が、架橋性又は重合性の官能基を有するフッ素原子含有化合物の架橋又は重合反応により形成されたものである請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
8. 最外層に含有される含フッ素化合物が、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰り返し単位と側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰り返し単位からなる共重合体を主成分として含有して形成されたものである請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
9. 共重合体が下記一般式（１）で表わされる請求項８に記載の反射防止フィルム。
   一般式（１）：
   

   

   一般式（１）中、Ｌ¹¹は炭素数１〜１０の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｒ¹¹は水素原子又はメチル基を表す。Ａは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。
10. 最外層が下記一般式（２）で表わされるポリシロキサン化合物及び／又はその誘導体を含有してなる請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルム。
    一般式（２）：
    

    

    一般式（２）中、Ｒ²¹〜Ｒ²⁴はそれぞれ独立に炭素原子を１〜２０含む基を表し、それぞれ互いに同じであっても異なっていてもよく、Ｒ²¹、Ｒ²³、Ｒ²⁴のうち少なくとも一つの基が架橋性又は重合性の官能基を表す。ｐは１≦ｐ≦４を満たす整数を表す。ｑは１０≦ｑ≦５００を満たす整数を表し、ｒは０≦ｒ≦５００を満たす整数を表し、ｒ≠０の時、ランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよい。
11. 最外層が微粒子を含有する請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルム。
12. 最外層が含有する微粒子の少なくとも１種類が中空の微粒子である請求項１１に記載の反射防止フィルム。
13. 反射防止フィルムが、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有する層を有する請求項１〜１２のいずれかに記載の反射防止フィルム。
14. 最外層を有する側の最表面に凹凸が形成されており、防眩性を有する請求項１〜１３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
15. 透明支持体と最外層との間に、平均粒径１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する層を有する請求項１〜１４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
16. 透明支持体上のいずれかの層に、下記一般式（３）で表されるオルガノシラン化合物及び／又はその誘導体を含有してなる請求項１〜１５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
    一般式（３）：（Ｒ³¹）_s−Ｓｉ（Ｚ³¹）_4-s
    一般式（３）中、Ｒ³¹は置換もしくは無置換のアルキル基又は、置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｚ³¹は水酸基又は加水分解可能な基を表す。ｓは１〜３の整数を表す。
17. 透明支持体上のいずれかの層が、酸素濃度４体積％以下の雰囲気で形成されたものである請求項１〜１６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
18. 透明支持体と最外層の間に、非導電材の外表面に金属又は金属酸化物の導電性部分を形成してなる粒子を含有する層を有する請求項１〜１７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
19. 透明支持体上に、含フッ素化合物を含有する最外層及び帯電防止層を有する反射防止フィルムの製造方法であって、透明支持体上の少なくとも一層を、主成分がケトン類、芳香族炭化水素類又はエステル類である溶媒を含む塗料を塗布して形成することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
20. 透明支持体上に、含フッ素化合物を含有する最外層及び帯電防止層を有する反射防止フィルムの製造方法であって、透明支持体上の少なくとも一層を、面状改良剤を含む塗料を塗布して形成することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
21. 面状改良剤がフルオロ脂肪族基を含有する化合物である請求項２０に記載の反射防止フィルムの製造方法。
22. 請求項１９〜２１のいずれかに記載の方法で作製された反射防止フィルム。
23. 請求項１〜１８のいずれかの反射防止フィルム又は請求項２２に記載の反射防止フィルムを鹸化処理することで得られる偏光板用保護フィルム。
24. 請求項１〜１８のいずれかの反射防止フィルム又は請求項２２に記載の反射防止フィルムを鹸化処理することを特徴とする偏光板用保護フィルムの製造方法。
25. 請求項２３に記載の偏光板用保護フィルムを、偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方の側に有することを特徴とする偏光板。
26. 請求項２３に記載の偏光板用保護フィルムを、偏光膜の２枚の保護フィルムの一方の側に有し、他方の保護フィルムの側に光学異方性層を有する光学補償フィルムを有することを特徴とする偏光板。
27. 請求項１〜１８のいずれかの反射防止フィルム又は請求項２２に記載の反射防止フィルムが画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
28. 請求項２５又は２６に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
29. 画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ又はＯＣＢモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする請求項２８に記載の画像表示装置。
    
    

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