JP2008233239A - 反射防止フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】ハードコート層の膜厚を薄くしても、耐擦傷性を満たし、光線透過率と耐擦傷性を両立でき、コストの低減が可能な反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】基材上の一方の面にハードコート層と低屈折率層とを順次積層した反射防止フィルムであり、ハードコート層は、比表面積が40m²／ｇ以上の導電性の金属酸化物粒子と比表面積が40m²／ｇ以上の非導電性の金属酸化物粒子と電離放射線による硬化物とを含み、前記導電性と非導電性の金属酸化物粒子の比表面積の比が0.5〜1.5でハードコート層膜厚が1.3〜2.0μｍ未満であり、前記ハードコート層の電離放射線硬化物を形成するモノマー成分の少なくとも一つが、低屈折率層の電離放射線硬化物を形成するモノマー成分と同一である電離放射線硬化物を有している反射防止フィルム。
【選択図】 なし

Description

本発明は、反射防止フィルムに係り、さらに詳しくは改良されたハードコート層を有する反射防止フィルムに関する。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等に代表される高精細かつ大画面ディスプレイの開発が急速に進んでいる。ディスプレイの表示面には、その視認性を高めるために、画面への蛍光灯など外光の映り込みを防止するため反射防止機能を有する反射防止層を表面に配置する必要がある。反射防止層の形成方法としては、ディスプレイ表面に無機金属を蒸着又はスパッタリングする、いわゆるドライコーティング法、及び低屈折率材料等を溶液や分散液などの液状で基材に塗布し、乾燥させ、必要に応じて硬化させるウェットコーティング法などが知られている。近年のディスプレイの大型化に伴い、Roll-to-Roll（ロールコーティングなどのロールを用いた長尺物の連続生産技術）で安価にかつ大型化にも対応しやすいウェットコーティング法が主流になりつつある。ウェットコーティング法で作られる反射防止層には、透明基材フィルム上に、基材自体の硬度を高めるためのハードコート層、その上に屈折率の異なる層を単層または複層をそれぞれ約100nm前後の膜厚で形成された、反射防止フィルムがある。(例えば特許文献１参照)。

最近では、市場の低コスト要求に対応するため、反射防止層をハードコート層とそれより屈折率の低い低屈折率層との２層構造として、製造工程を削減することが提案されている。(例えば特許文献２、３参照)。

反射防止層をハードコート層と低屈折率層との２層構造として帯電防止機能を有し、反射防止機能を両立させた光学フィルムとして、基材上の少なくとも一方の面に、ハードコート層と低屈折率層とを順次積層し、ハードコート層に導電性の金属酸化物である針状のアンチモンドープ酸化錫と金属酸化物と電離放射線による硬化物を含みハードコート層の屈折率が1.60〜1.75で膜厚が２〜２０ミクロンであり、低屈折率層の屈折率が1.30〜1.45で膜厚が40〜200nmで高光線透過率を有し、低屈折率層との密着性を両立させた光学用フィルムが提案されている。（例えば特許文献４参照）。

なお、光学用フィルムにおいてハードコート層には、高光線透過率を維持しながら、屈折率や耐擦傷性あるいは帯電防止性改良などの要求に応じた性能を付与する観点から、微細な金属酸化物粒子などが用いられているが、これらの微細な金属酸化物は高価であり、従がって、ハードコート層の膜厚が厚いとコストがかかる要因となる。近年、プラズマディスプレイパネルなどの光学フィルムがその一部に用いられているディプレイを有する薄型テレビジョンなどの価格競争は極めて熾烈であり、これらに用いられる光学用フィルムのコストダウンの要求も極めて高くなってきている。
特開２００２−２００６９０号公報 特開平９−１４５９０３号公報 特開２００１−３１８２０６号公報 WO０４／０８８３６４号

従来の方法においては、高光線透過率と低屈折率層との密着性を両立させることができるものの、耐擦傷性を有するためにはハードコート層の膜厚が少なくとも２μｍ以上は必要であった。すなわち、高屈折率ハードコート層の厚みが２．０μｍ未満であると、膜厚を薄くして光線透過率を向上させることができるが耐擦傷性を満たすことができなかった。

本発明は、ハードコート層の膜厚を薄くしても、耐擦傷性を満たし、従って、光線透過率と耐擦傷性を両立でき、その結果、コストも下げることができる反射防止フィルムを提供することを目的とする。

（１）前記課題を解決するため、本発明の反射防止フィルムは、基材上の少なくとも一方の面にハードコート層と低屈折率層とを順次積層した反射防止フィルムにおいて、前記ハードコート層は、少なくとも比表面積が40m²／ｇ以上の導電性の金属酸化物粒子と比表面積が40m²／ｇ以上の非導電性の金属酸化物粒子と電離放射線による硬化物とを含み、前記導電性の金属酸化物粒子／非導電性の金属酸化物粒子の比表面積の比が0.5から1.5でかつハードコート層の膜厚が1.3〜2.0μｍ未満であり、前記ハードコート層の電離放射線硬化物を形成するモノマー成分の少なくとも一つが、低屈折率層の電離放射線硬化物を形成するモノマー成分と同一である電離放射線硬化物を有していることを特徴とする。

（２）前記（１）項に記載の本発明の反射防止フィルムにおいては、前記ハードコート層の膜屈折率が1.60〜1.70であり、前記低屈折率層の膜屈折率が1.30〜1.45であることが好ましい。

（３）前記（１）〜（２）項のいずれか１項に記載の本発明の反射防止フィルムにおいては、前記低屈折率層を構成する材料として少なくとも中空状のシリカを含有することが好ましい。

（４）前記（１）〜（３）項のいずれか１項に記載の本発明の反射防止フィルムにおいては、ハードコート層と低屈折率層とが積層された基材上の反対面に、更に少なくとも近赤外線吸収機能を有する層が設けられていることが好ましい。

（５）前記（１）〜（４）項のいずれか１項に記載の本発明の反射防止フィルムにおいては、前記ハードコート層の膜厚が1.5〜1.7μｍであることが好ましい。

本発明の反射防止フィルムは、基材上の少なくとも一方の面に、ハードコート層と低屈折率層とを順次積層した反射防止フィルムにおいて、ハードコート層として、比表面積が40m²／ｇ以上の導電性の金属酸化物粒子と比表面積が40m²／ｇ以上の非導電性の金属酸化物粒子と電離放射線による硬化物とを含み、前記導電性の金属酸化物粒子／非導電性の金属酸化物粒子との比表面積の比が0.5から1.5でかつハードコート層の膜厚が1.3〜2.0μｍ未満であり、前記ハードコート層の電離放射線硬化物を形成するモノマー成分の少なくとも一つが、低屈折率層の電離放射線硬化物を形成するモノマー成分と同一である電離放射線硬化物を有していることにより、ハードコート層の膜厚を低減させても、耐擦傷性を達成でき、ハードコートと低屈折率層との密着性、ハードコート層と低屈折率層からなる反射防止層の帯電防止機能、高光線透過率を保持させることができ、ハードコート層の膜厚を低減させることによりコストダウンすることが可能となる反射防止フィルムを提供できる。

本発明の反射防止フィルムの一例は、基材と、この基材の一方の主面に比表面積が40m²／ｇ以上の導電性の金属酸化物粒子と比表面積が40m²／ｇ以上の非導電性の金属酸化物粒子と電離放射線による硬化物とをハードコート層に含み、前記導電性の金属酸化物粒子／非導電性の金属酸化物粒子の比表面積の比が0.5から1.5でかつハードコート層の膜厚が1.3〜2.0μｍ未満であり、前記ハードコート層の電離放射線硬化物を形成するモノマー成分の少なくとも一つが、低屈折率層の電離放射線硬化物を形成するモノマー成分と同一である電離放射線硬化物を有している反射防止フィルムである。

本発明の反射防止フィルムの製造に用いる基材としては、透光性を有する材料であれば、その形状や製造方法等は特に限定されない。例えば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂等の材料を、フィルム状又はシート状に加工したものを用いることができる。フィルム状又はシート状に加工する方法としては、押し出し成形、カレンダー成形、圧縮成形、射出成形、上記樹脂を溶剤に溶解させてキャスティングする方法等が挙げられる。基材の厚さは、通常１０μｍ〜５００μｍ程度である。なお、上記材料には、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤等の添加剤が添加されていてもよい。また、この基材フィルムにはその上層に設けられる層との密着性を向上させる目的で、プライマー層を設けてもよい。プライマー層には反射防止フィルムの基材として用いる場合に、通常適用されている光線透過率を大幅に低下させない範囲での無機微粒子などの易滑剤などが入っていても良い。

本発明のハードコート層は、少なくとも比表面積が40m²／ｇ以上の導電性の金属酸化物粒子と比表面積が40m²／ｇ以上の非導電性の金属酸化物粒子と電離放射線による硬化物とを含み、前記導電性の金属酸化物粒子／非導電性の金属酸化物粒子との比表面積の比が0.5から1.5でかつハードコート層の膜厚が1.3〜2.0μｍ未満のものが設けられる。反射防止フィルムとするには、ハードコート層の膜屈折率は低屈折率層の膜屈折率よりも大きくすることが必要であり、より好ましくはハードコート層の膜屈折率は1.60〜1.70程度が好ましい。

ハードコート層に帯電防止機能をもたすには導電性の金属酸化物粒子が必要となる。しかしながら、導電性の金属酸化物粒子の屈折率はそれほど大きいものはなく、通常、1.6〜1.9で電離放射線硬化物の屈折率は1.50程度なので、導電性の金属酸化物粒子と電離放射線硬化物のみの構成でハードコート層の膜屈折率を高くするためには、例えば上述した好ましい範囲の膜屈折率1.60〜1.70にするためには導電性の金属酸化物粒子の体積割合を35vol%以上にする必要があり、その結果ハードコート層の臨界顔料容積濃度以上となるので塗膜中に空隙が生じ耐擦傷性がかなり低下する。ここで、臨界顔料容積濃度とは、バインダーポリマーが無機粒子（顔料粒子）間の空隙を充填しきれなくなり、塗膜に未充填の空間が内蔵されるようになるが、この限界値の無機粒子の濃度が臨界顔料容積濃度（CPVC：critical pigment volume concentration）であり、必要とあれば、「高分子ラテックスの応用 紙塗工」室井宗一著 高分子刊行会１９９２年０１月２０日発行）、１９３〜１９５頁、その他を参照できる。

帯電防止機能とハードコート層の膜屈折率を高くすると言う点を両立させるためには、好ましくは屈折率が1.9を超える非導電性の金属酸化物粒子を用い、これと導電性の金属酸化物粒子と電離放射線硬化物の構成にすることにより臨界顔料容積濃度以下での設計が可能となる。また、上記非導電性の金属酸化物粒子と導電性の金属酸化物粒子が同一形状（球状、粒状）のものどおしだと、膜中での粒子が最密充填されやすいので非導電性の金属酸化物粒子と導電性の金属酸化物粒子は粒子以外の部分（電離放射線硬化物や空間など）を少なくでき、従って屈折率が1.9を超える非導電性の金属酸化物粒子もそれだけ多く添加できることになる。

非導電性の金属酸化物粒子としては、前述したように導電性の金属酸化物粒子で屈折率の大きいものが存在しないことから非導電性の金属酸化物粒子を用いるものであり、従ってその非導電性の程度は何ら本発明とは直接関係しないが、強いて体積抵抗率で示すならば、体積抵抗率で1.0×10⁹Ωcm以上の金属酸化物粒子が用いられ、これらの非導電性の金属酸化物粒子として、屈折率が1.9を超えるような非導電性の金属酸化物材料としては、特に限定するものではないが、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化チタン等が挙げられる。

一方、導電性の金属酸化物粒子としては、反射防止膜に帯電防止性を付与する観点から、体積抵抗率で1.0×10⁸Ωcm以下の金属酸化物粒子が好ましく、このような、金属酸化物材料としては、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫（ATO）、リンドープ酸化錫(PTO)、錫ドープ酸化インジウム(ITO),アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、五酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛等があげられる、
非導電性の金属酸化物粒子と導電性の金属酸化物粒子の比表面積をともに40m²／ｇ未満にすると塗膜にした場合の光線透過率が低下するので非導電性の金属酸化物粒子と導電性の金属酸化物粒子の比表面積は何れも40m²／ｇ以上とすることが必要である。また。上述したようにハードコート層への金属酸化物粒子の十分な充填と言う観点から導電性の金属酸化物粒子／非導電性の金属酸化物粒子の比表面積の比が0.5から1.5であることが必要となる。上記比表面積の比が0.5未満であったり、1.5を超えると光線透過率は維持できるものの粒子間にわずかな隙間が生じて、膜厚２μｍ未満、特に1.5μｍ以下の薄い膜にする場合に耐擦傷性が低下しやすいので、前記比表面積の比は0.5から1.5であることが必要となる。

ハードコート層（ＨＣ層）の膜厚としては、1.3μｍ以下になると耐擦傷性に劣り、2.0μｍ以上では材料費がコストアップするので1.3〜2.0μｍ未満とすることが必要である。特に1.5〜1.7μｍの範囲がより好ましい。

前記ハードコート層を形成する電離放射線硬化型樹脂としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基を有するモノマー、プレポリマー、オリゴマー、ポリマー等が用いられ、低屈折率層の電離放射線硬化物を形成する原料モノマー成分と同一である電離放射線硬化物を有していることが好ましい。ハードコート層の電離放射線硬化物を形成する原料モノマー成分の少なくとも一つが、低屈折率層の電離放射線硬化物を形成する原料モノマー成分と同一であると、ハードコート層と低屈折率層の密着性の向上を図れるからである。また、ハードコート層の電離放射線硬化物は、低屈折率層の電離放射線硬化物を形成する原料モノマー成分と同一である電離放射線硬化物を有していれば、従来より用いられている各種の電離放射線硬化物を適宜使用することができる。これらの原料は単独でも二種類以上を組み合わせても用いることができる。生産性及び硬度の両立の観点より、多官能樹脂を用いることが好ましい。さらに、分子中に水素結合を形成するような結合基や官能基を多く有していると、基材との密着性が向上する。また、ビスフェノールA変性(メタ)アクリレート等の高屈折率タイプの樹脂を用いてもよい。

不飽和基を２つ以上有する多官能アクリル系化合物の例としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサントリメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート（例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマーなど）、ポリエステルポリアクリレート等の、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とから生成されるエステル類、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン等のビニルベンゼンおよびその誘導体等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいが、２種以上を組み合せて用いてもよい。なかでも、耐擦傷性をより高める観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートから選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましい。なお、上記において“（メタ）アクリレート”とは、“アクリレート及び／又はメタクリレート”を意味するものである。

上記ハードコート層に含まれる電離放射線硬化型樹脂を硬化させる際に、紫外線照射を行う場合には、ハードコート層の塗布液に光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、べンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物、２、３-ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物などが用いられる。これらは単独でも、二種以上を組み合わせても使用することは可能である。光重合開始剤の使用量は、特に限定するものではないが、通常、用いる電離放射線硬化型樹脂バインダーの重量（モノマー重量）に対し１〜１５重量％程度である。

前記ハードコート層の組成物のその他の成分として、屈折率を大きく変化させない程度に重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤及びレベリング剤などの添加剤を適宜添加してもよい。分散系を壊さず、電離放射線硬化型樹脂を溶解させることが可能であれば既知の溶媒を使用することも可能である。

基材の上にハードコート層を形成する方法については特に制限はなく、上記材料を含む塗布液を基材上に塗布することにより形成できる。塗布方法も特に制限されず、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコート等の塗工法、又はグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷等の印刷法等を用いることができる。

前記ハードコート層上に配置される低屈折率層は、その膜屈折率がハードコート層の膜屈折率よりも小さい。低屈折率層の膜屈折率は、1.30〜1.45が好ましい。低屈折率層の屈折率ｎと膜厚ｄの積である光学膜厚がnd=λ／４となるように設計すると、反射率がより低くなるので、通常、λは人間の可視光の波長のうち特に人間の目の視感度が高い光の波長５５０ｎｍ前後に設定されることが多いので、膜厚ｄは80〜150ｎｍが好ましい。また、低屈折率層の膜屈折率を1.30〜1.45の好ましい範囲に調整する材料としてはシリカ、フッ素委系樹脂、中空シリカ粒子等が考えられるが屈折率と膜の凝集力と観点から中空シリカ粒子を用いるのが好ましい。また、中空シリカの粒子径は低屈折率の膜厚が80nmから150nmになるように設計されるので、80nm以下が好ましく、60nm以下になるとより好ましい。前記低屈折率層を形成する電離放射線硬化型樹脂としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基を有するモノマー、プレポリマー、オリゴマー、ポリマー等、ハードコート層の電離放射線硬化物を形成する原料モノマー成分の少なくとも一つが、低屈折率層の電離放射線硬化物を形成する原料モノマー成分と同一である電離放射線硬化物とすれば適宜のものを使用することができる。これらは単独でも二種類以上を組み合わせても用いることができる。生産性及び硬度の両立の観点より、多官能樹脂を用いることが好ましい。また、ビスフェノールA変性(メタ)アクリレート等の高屈折率タイプの樹脂を用いてもよい。これらの具体例は、ハードコート層の電離放射線硬化物のところで説明したものと同様のものが挙げられるので、説明を省略する。

上記低屈折率層に含まれる電離放射線硬化型樹脂を硬化させる際に、紫外線照射を行う場合には、ハードコート層の塗布液に光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、べンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物、２、３-ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物などが用いられる。これらは単独でも、二種以上を組み合わせても使用することは可能である。光重合開始剤の使用量は、特に限定するものではないが、通常、用いる電離放射線硬化型樹脂バインダーの重量（モノマー重量）に対し１〜１５重量％程度である。

前記低屈折率層の組成物のその他の成分として、屈折率を大きく変化させない程度に重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤及びレベリング剤などの添加剤を添加してもよい。本実施形態の反射防止フィルムはディスプレイの最表面に位置するため、強度と防汚性を有していることが好ましのでシリコーン系、フッ素系の添加剤を屈折率を大きく変化させない程度に添加してもよい。また、分散系を壊さず、電離放射線硬化型樹脂を溶解させることが可能であれば既知の溶媒を使用することも可能である。

ハードコート層の上に低屈折率層を形成する方法については特に制限はなく、上記材料を含む塗布液を前述したような基材のハードコート層が形成されている面のハードコート層上に塗布することにより形成できる。塗布方法も特に制限されず、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコート等の塗工法、又はグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷等の印刷法等を用いることができる。

また、上記基材上にハードコート層と低屈折率層の積層面の反対面側に必要に応じて、近赤外線吸収層、電磁波遮蔽層、紫外線カット層などの１種又は２種以上の層を適宜形成することができ、少なくとも近赤外線吸収層をさらに配置することが好ましい。近赤外線吸収層を設けることにより、本実施形態の反射防止フィルムをＰＤＰの表面に配置すれば、プラズマ放電を起こした際に放出される不要な近赤外線が遮断され、周辺の電子部品を用いる機器に悪影響を与えることがなく、特にテレビやエアコン等のリモコンの誤動作を生じさせるといった問題が解消できる。このように一枚の基材に近赤外線吸収層と反射防止層とを一体化して複合化することにより、プラズマディスプレイの前面板に貼り合わせる部材を削減することができる。

上記近赤外線吸収層の材料は、近赤外線（NIRと略称することあり）を吸収する透光性を有する材料であれば特に制限されず、通常は、近赤外線を吸収する化合物を分散させた樹脂が用いられる。

上記近赤外線を吸収する化合物は、８５０〜１１００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する化合物であることが好ましい。近赤外線吸収層が上記化合物を含んでいると、波長４００〜８５０ｎｍの可視光の透過率を大きく低減させることなく、波長領域８５０〜１１００ｎｍの近赤外線の透過率を低減させることが可能となる。これにより、本実施形態の反射防止フィルム（光学フィルム）をＰＤＰ等の近赤外線吸収フィルターとしても好適に用いることができる。

上記８５０〜１１００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する化合物としては、例えば、アミニウム系、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロニン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ジイモニウム系、フタロシアニン系、シアニン系、ポリメチン系等の有機色素適宜組み合わせてを用いることができる。

特に、スルホン酸イミド誘導体を含みかつカチオン部位の末端の窒素原子に結合している置換基に少なくともひとつは分岐鎖構造からなるアルキル基を有するジイモニウム化合物と、下記式（１）で表される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体アニオンと下記式（２）で表される構造を有するカチオンとの対イオン結合体である化合物だと長期保存安定性に優れるので好ましい。

但し、式（１）の中で、Ｒ₁、Ｒ₂は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜８のアルキルアミノ基、置換又は未置換のモルホリノ基、置換又は未置換のチオモルホリノ基、置換又は未置換のピペラジノ基及び置換又は未置換のフェニル基からなる群から選ばれる少なくともひとつの置換基を示し、Ｍは遷移金属を示す。

但し、式（２）の中で、Ｑ₁、Ｑ₂は、５員環の含窒素複素環、５員環の含窒素複素環を含む縮合環、６員環の含窒素複素環及び６員環の含窒素複素環を含む縮合環からなる群から選ばれる少なくともひとつの複素環式化合物を示し、Ｒ₃、Ｒ₄は炭素数１〜８のアルキル基を示し、ｎは２、３又は４の数字を示す。

前記近赤外線を吸収する化合物を分散させる樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、セルロース樹脂、ポリブチラール樹脂等を用いることができ、またこれらの樹脂の２種以上を組み合わせてポリマーブレンドとしても用いることができる。

ハードコート層と低屈折率層とを順次積層した基材の裏面側に近赤外線吸収層を形成する方法については特に制限はなく、前述のハードコート層の場合と同様に上記した近赤外線吸収層用の材料を含む塗布液を基材に塗布することにより形成できる。近赤外線吸収層の厚さは、１〜１０μｍが好ましく、２〜７μｍがより好ましい。厚さが１μｍ未満では、近赤外線の吸収が困難となり、１０μｍを超えるとクラックが生じたり、カール（フィルムの反り）が発生したりする。近赤外線吸収層には、ＰＤＰのネオン輝線スペクトル（オレンジ色）をカットする化合物を適宜添加することも可能である。これにより、ＰＤＰにおいて赤色をより鮮やかに発色させることができる。

ネオン輝線スペクトルをカットする化合物としては、５８０〜６２０ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する有機色素が使用でき、例えば、シアニン系、アズレニウム系、スクワリウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、オキサジン系、アジン系、チオピリウム系、ビオローゲン系、アゾ系、アゾ金属錯塩系、アザポルフィリン系、ビスアゾ系、アントラキノン系、フタロシアニン系等の有機色素を用いることができる。

上記近赤外線吸収層の厚さ、材料の種類、含有率等は、波長８５０〜１１００ｎｍの全領域において、反射防止フィルム（光学フィルム）の分光透過率が２０％以下となるように適宜定めればよい。

［実施例］
以下、実施例に基づき本発明をより具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。

また、以下において、特に断らない限り「部」は「重量部」を表す。

ポリエチレンテレフタレート（PET）基材として、片面のみに易滑剤含有ポリエステル系樹脂からなるプライマー層が形成された、厚さ１００μｍの紫外線カット性ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（屈折率1.65、全光線透過率：９２．０％）を準備した。

＜ハードコート層用塗料＞
下記材料が分散された屈折率１．６６のハードコート層用塗料を準備した。（ここで屈折率１．６６のハードコート層用塗料とは硬化後のハードコート層の膜屈折率が１．６６となるようなハードコート層用塗料を意味している。以下の実施例等も同様の趣旨である）。
（１）非導電性の金属酸化物粒子：酸化ジルコニア微粒子（比表面積：90ｍ²／g）：3.5部
（２）導電性金属酸化物粒子：アンチモンドープ酸化スズ（比表面積：73ｍ²／g）：3.5部
（３）ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（PETHI）：２部
（４）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（DPHA）：１部
（５）光重合開始剤“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）184”（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）：0.03部
（６）表面調整材剤“BYK-302”（ビックケミー・ジャパン社製）：0.01部
（７）イソプロピルアルコール：27部
上記塗料を上記プライマー層付透光性基材のプライマー層の設けられていない面側に、放電量171.4W・min/m²のコロナ処理をした後、上記ハードコート層用塗料をマイクログラビアコータ(康井精機社製)を用いて塗布し、その後乾燥させた。続いて、塗膜に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ²の線量で照射して塗膜を硬化させ、厚さ1.5μｍのハードコート層を形成した。

＜低屈折率層用塗料＞
下記材料を混合・攪拌して、屈折率１．４１の低屈折率層用塗料を作製した。（ここで屈折率１．４１の低屈折率層用塗料とは硬化後の屈折率層の膜屈折率が１．４１となるような低屈折率層用塗料を意味している。以下の実施例等も同様の趣旨である）。
（１）中空シリカ微粒子(触媒化成社製)：６０部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート（PETA）：10部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（DPHA）：30部
（４）光重合開始剤“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）：４部
（５）アクリル変性シリコーン“X-22-2457”(信越シリコーン社製)：１部
（６）イソプロピルアルコール：２０００部
次に、上記プライマー層付透光性基材のハードコート層の上に、上記低屈折率層用塗料を上記マイクログラビアコータを用いて塗布して乾燥させた。その後、塗膜に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ²の線量で照射して塗膜を硬化させ、厚さ１０７ｎｍの低屈折率層を形成した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表１に示した。

実施例１のハードコート層コーティング材を下記に変更した以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作成した。

＜ハードコート層用塗料＞
下記材料を分散し、屈折率１．６６のハードコート層用塗料を作製した。
（１）非導電性の金属酸化物粒子：酸化ジルコニア微粒子（比表面積：90ｍ²／g）：3.5部
（２）導電性の金属酸化物粒子：ガリウムドープ酸化スズ（比表面積：45ｍ²／g）：3.5部
（３）ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（PETHI）：2部
（４）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（DPHA）：１部
（５）光重合開始剤“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）184”（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）：0.03部
（６）表面調整材剤“BYK-302”（ビックケミー・ジャパン社製）：0.01部
（７）イソプロピルアルコール：30.7部
得られた反射防止フィルムの評価結果を表１に示した。

実施例１のハードコート層コーティング材を下記に変更した以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作成した。

＜ハードコート層用塗料＞
下記材料を分散して、屈折率１．６5のハードコート層用塗料を作製した。
（１）非導電性の金属酸化物粒子：酸化セリウム微粒子（比表面積：43ｍ²／g）：4.0部
（２）導電性の金属酸化物粒子：アンチモン酸亜鉛（比表面積：63.9ｍ²／g）：3.0部
（３）ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（PETHI）：2部
（４）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（DPHA）：１部
（５）光重合開始剤“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）184”（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）：0.03部
（６）表面調整材剤“BYK-302”（ビックケミー・ジャパン社製）：0.01部
（７）イソプロピルアルコール：30.7部
得られた反射防止フィルムの評価結果を表１に示した。

下記組成の塗料を塗工・乾燥して、実施例１で作製した反射防止層の裏面側に近赤外線吸収層を設けた。
＜近赤外線吸収層用塗料＞
下記材料を混合・攪拌して、近赤外線吸収層用塗料を作製した。
（１）アクリル樹脂“ダイヤナール”（三菱レイヨン社製）：１００部
（２）芳香族ジイモニウム色素“ＣＩＲ−１０８５”（日本カーリット社製）：６部
（３）シアニン部位・ジチオール金属錯体部位含有近赤外線吸収化合物“ＳＤ５０−Ｅ０４Ｎ”（住友精化社製、最大吸収波長：８７７ｎｍ）：１部
（４）シアニン部位・ジチオール金属錯体部位含有近赤外線吸収化合物“ＳＤ５０−Ｅ０５Ｎ”（住友精化社製、最大吸収波長：８３３ｎｍ）：１部
（５）メチルエチルケトン：１２５部
（６）トルエン：４６０部
次に、上記プライマー層付透光性基材のプライマー層の上に、上記近赤外線吸収層用塗料を上記マイクログラビアコータを用いて塗布しその後乾燥させ、厚さが４μｍになるように近赤外線吸収層を形成し、評価用の反射防止フィルムを作製した。

得られた反射防止フィルムの評価結果を表１に示した。

比較例１

実施例１のハードコート層コーティング材を下記に変更した以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。

＜ハードコート層用塗料＞
下記材料を分散して、屈折率１．６７のハードコート層用塗料を作製した。
（１）非導電性の金属酸化物粒子：酸化ジルコニア微粒子（比表面積：90ｍ²／g）：3.5部
（２）導電性の金属酸化物粒子：酸化スズ（比表面積：175ｍ²／g）：3.5部
（３）ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（PETHI）：２部
（４）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（DPHA）：１部
（５）光重合開始剤“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）184”（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）：0.03部
（６）表面調整材剤“BYK-302”（ビックケミー・ジャパン社製）：0.01部
（７）イソプロピルアルコール：27部
得られた反射防止フィルムの評価結果を表１に示した。

比較例２

実施例１のハードコート層の膜厚を1.0ミクロンにした以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。

得られた反射防止フィルムの評価結果を表１に示した。

比較例３

実施例１の低屈折率層コーティング材の組成を下記に変更した以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
得られた反射防止フィルムの評価結果を表１に示した。

＜低屈折率層用塗料＞
下記材料を混合・攪拌して、屈折率１．４１の低屈折率層用塗料を作製した。
（１）中空シリカ微粒子(触媒化成社製)：６０部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート（PETA）：10部
（３）１．６ヘキサンジアクリレート（1.6−HDA）：30部
（４）光重合開始剤“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）：４部
（５）アクリル変性シリコーン“X-22-2457”(信越シリコーン社製)：１部
（６）イソプロピルアルコール：２０００部

上記実施例１〜４及び比較例１〜３の反射防止フィルムの特性を下記のように評価した。

＜屈折率＞
各評価用の反射防止フィルムのハードコート層と低屈折率層との屈折率を、屈折率測定装置“ＦｉｌｍＴｅｋ３０００”（ＳＣＩ社製）により測定した。

＜耐擦傷性＞
スチールウール＃００００を用い、反射防止層の表面を荷重2.45Ｎ／ｃｍ²、ストローク幅25mm、速度30mm/sで10往復摺動した表面を目視観察し下記基準にて評価した。○：傷がつかない ×傷がつく
＜接着性＞
ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６に基づいて碁盤目剥離試験を行い、ハードコート層と低屈折率層との接着性を評価した。１００個の碁盤目から剥離した箇所がなかったものを○、それ以外を×で表示した。

＜反射率・視感度反射率＞
分光光度計“Ｕｂｅｓｔ Ｖ−５７０型”（日本分光社製）を用い、近赤外線吸収層を設ける前の各評価用の反射防止フィルムの反射率及び視感度反射率を、反射防止層側と反対面側を紙やすりで削った後、黒インクの油性フェルトペンで黒く塗りつぶしてから、分光光度計“Ｕｂｅｓｔ Ｖ−５７０型”（日本分光社製）を用い測定した。

＜全光線透過率・ヘイズ＞
分光光度計“Ｕｂｅｓｔ Ｖ−５７０型”（日本分光社製）を用い、近赤外線吸収層を設ける前の各評価用の反射防止フィルムの全光線透過率およびヘイズを、透光性基材のハードコート層を設けた面とは反対側の面を入射光側として測定した。

＜表面抵抗値＞
表面高抵抗率計“ハイレスタＨＴ−２０”（三菱油化社製）を用い、近赤外線吸収層を有する場合には近赤外線吸収層を設けた後の各評価用の反射防止フィルムを用い、低屈折率層側の表面抵抗値を測定した。

＜近赤外線透過率＞
上記分光光度計を用いて、近赤外線吸収層を設けた後の反射防止フィルムを用い、近赤外線吸収層側を入射光側として、８５０〜１１００ｎｍの近赤外線波長領域における透過率の最大値を測定した。

＜比表面積＞
塗膜中の導電性の金属酸化物粒子や非導電性の金属酸化物粒子の比表面積の測定方法は、倍率５万倍の透過型電子顕微鏡で反射防止膜の断面写真を撮影する。断面観察の際に粒子の形状観察(粒子径と形状観察)と写真に写っている粒子に電子線を照射することで構成元素を特定して元素分析を行う。X線回折を行い、結晶性物質の同定を行う。酸化物の密度は材料固有の値なので、形状および粒子径から表面積／体積を計算する。（表面積／体積）/（密度）で比表面積を求める。

＜ハードコート層の膜厚＞
倍率5万倍の透過型電子顕微鏡で、任意の10点の断面写真を撮影し、各写真から得られる厚みの平均値を求めた。

＜低屈折率層の膜厚＞
倍率50万倍の透過型電子顕微鏡で、任意の10点の断面写真を撮影し、各写真から得られる厚みの平均値を求めた。

表１から明らかなように、実施例１〜３の反射防止フィルムは、本発明の構成要件を具備しない比較例１、２、３の反射防止フィルムに比較して、光線透過率が高く、ハードコート層の厚さを１．３μｍ〜２．０μｍ未満の範囲に薄くでき、ハードコート層と低屈折率層との密着にもすぐれかつ耐擦傷性にすぐれることがわかる。

Claims (4)

1. 基材上の少なくとも一方の面にハードコート層と低屈折率層とを順次積層した反射防止フィルムにおいて、前記ハードコート層は、少なくとも比表面積が40m²／ｇ以上の導電性の金属酸化物粒子と比表面積が40m²／ｇ以上の非導電性の金属酸化物粒子と電離放射線による硬化物とを含み、前記導電性の金属酸化物粒子／非導電性の金属酸化物粒子の比表面積の比が0.5から1.5でかつハードコート層の膜厚が1.3〜2.0μｍ未満であり、前記ハードコート層の電離放射線硬化物を形成するモノマー成分の少なくとも一つが、低屈折率層の電離放射線硬化物を形成するモノマー成分と同一である電離放射線硬化物を有していることを特徴とする反射防止フィルム。
2. 前記ハードコート層の膜屈折率が1.60〜1.70であり、前記低屈折率層の膜屈折率が1.30〜1.45である請求項１に記載の反射防止フィルム。
3. 前記低屈折率層を構成する材料として少なくとも中空状のシリカを含有する請求項１又は２のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
4. ハードコート層と低屈折率層とが積層された基材上の反対面に、更に少なくとも近赤外線吸収機能を有する層が設けられている請求項１〜３のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。