JP2007264291A - 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】十分な反射防止性能を有しながら、耐擦傷性、下層および支持体（基材）との密着性をより向上した反射防止フィルムの提供。また、そのような反射防止フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置の提供。
【解決手段】支持体１上に反射防止層を有する反射防止フィルムであって、前記支持体上に積層された層の少なくとも一層が、特定の構造を有する少なくとも１種の光重合開始剤Ａ、前記光重合開始剤Ａ以外の少なくとも１種の光重合開始剤Ｂ、及び電離放射線硬化性化合物を含有する組成物を電離放射線照射によって硬化させてなる層であることを特徴とする反射防止フィルム。
【選択図】図１

Description

本発明は、反射防止フィルム、偏光板、及びそれを用いた画像表示装置に関する。

反射防止フィルムは、一般に陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようディスプレイの最表面に配置される。

反射防止フィルムは、一般に支持体上に、該支持体より低屈折率の、適切な膜厚の低屈折率層を形成することにより作製できる。低い反射率を実現するために、低屈折率層にはできるだけ屈折率の低い材料の使用が望まれる。また反射防止フィルムは、ディスプレイの最表面に用いられるため高い耐擦傷性が要求される。高い耐擦傷性を実現するためには、皮膜自体の強度、および下層への密着性が必要である。

材料の屈折率を下げるには、エチレン性不飽和基を有するモノマーバインダーポリマー中にフッ素原子を導入する、密度を下げる（空隙を導入する）という手段があるが、いずれも皮膜強度および密着性が損なわれ耐擦傷性が低下する方向であり、低い屈折率と高い耐傷性の両立は困難な課題であった。

例えば、低酸素濃度で光硬化樹脂を硬化させることで硬度があがることが記載されている（特許文献１）。しかし反射防止フィルムをウェッブで効率よく製造するためには、窒素置換により低酸素濃度とするには限界があり、満足する硬度を得ることが困難である。

また、熱ロール表面に巻きつけて電離放射線を照射する方法が記載されている（特許文献２）。しかし、低屈折率層のような薄膜が硬化するには不十分であった。

さらに、コーティングの表面に集中できる光重合開始剤を含んだ組成物の利用により、耐引っ掻き性が向上することが記載されている（特許文献３）。
しかし、この組成物を反射防止フィルムの低屈折率層用塗布組成物として用いた場合、該光重合開始剤が表面に集中するために、下層との密着が十分でないことが予期される。
特開２００２−１５６５０８号公報 特公平７−５１６４１号公報 特表２００４−５２２８１９号公報

本発明の目的は、十分な反射防止性能を有しながら、耐擦傷性、下層および支持体（基材）との密着性をより向上した反射防止フィルムの提供にある。また、そのような反射防止フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置の提供にある。

本発明者は、上述の課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより、前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、下記の構成により前記目的を達成したものである。

（１） 支持体上に反射防止層を有する反射防止フィルムであって、前記支持体上に積層された層の少なくとも一層が、下記式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）又は（Ｉｄ）で表される少なくとも１種の光重合開始剤Ａ、前記式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）又は（Ｉｄ）以外の少なくとも１種の光重合開始剤Ｂ、及び電離放射線硬化性化合物を含有する組成物を電離放射線照射によって硬化させてなる層であることを特徴とする反射防止フィルム。

〔式（１ａ）および（１ｂ）中、Ｒ及びＲ１は、互いに独立して、下記式（ＩＩ）：

（式（ＩＩ）において、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−；非置換であるか又は−ＯＨ、炭素数１〜４のアルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲン、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１若しくは−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換されている炭素数１〜１２のアルキル；又は１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；或いは、ＯＲ１２、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５、−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｏ−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１又はハロゲンであるか；非置換であるか又は炭素数１〜４のアルキル及び／若しくは炭素数１〜４のアルコキシで置換されているフェニルであり、置換基ＯＲ１２、ＳＲ１３及びＮＲ１４Ｒ１５は、基Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及び／若しくはＲ１５を介して、フェニル環の更なる置換基と一緒に、又はフェニル環の炭素原子のうちの１個と一緒になって５又は６員環を形成することができる）の基、ナフチル基、アントラシル基、フェナントリル基、または複素環基であり、
但し、式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）において、Ｒ及び／又はＲ１が一般式（ＩＩ）の基を表す場合、置換基Ａ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−の少なくとも１個が、基Ｒ及びＲ１のうちの少なくとも１個に存在するか；或いはＲ及びＲ１は、ナフチル、アントラシル、フェナントリル又は複素環基であり、基ナフチル、アントラシル、フェナントリル及び複素環は、少なくとも１つの置換基Ａ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−を有しており、さらに炭素数１〜８のアルキル、フェニル、ＯＲ１２、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５、−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５および−Ｏ−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５から選ばれる少なくとも一種で置換されることができるが、ここで置換基ＯＲ１２、ＳＲ１３及びＮＲ１４Ｒ１５は、基Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及び／若しくはＲ１５を介して、ナフチル環、アントラシル環、フェナントリル環若しくは複素環の更なる置換基と一緒になって、又はナフチル環、アントラシル環、フェナントリル環若しくは複素環の炭素原子のうちの１個と一緒になって５又は６員環を形成することができ；
式（Ｉｃ）において、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−；非置換であるか又は−ＯＨ、炭素数１〜４のアルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲン、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換されている炭素数１〜１２のアルキル；又は１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；
或いは、ＯＲ１２、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５、−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｏ−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１又はハロゲンであるか；非置換であるか又は炭素数１〜４のアルキル及び／若しくは炭素数１〜４のアルコキシで置換されているフェニルであり、ここで置換基ＯＲ１２、ＳＲ１３及びＮＲ１４Ｒ１５は、基Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及び／若しくはＲ１５を介して、フェニル環の更なる置換基と一緒に、又はフェニル環の炭素原子のうちの１個と一緒になって５又は６員環を形成することができるが、
但し、式（Ｉｃ）において、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうちの少なくとも１個がＡ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−であり；
式（Ｉｄ）において、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−；非置換であるか又は−ＯＨ、炭素数１〜４のアルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲン、ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換されている炭素数１〜１２のアルキル；又は１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；或いは、ＯＲ１２、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５、−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｏ−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１又はハロゲンであるか；非置換であるか又は炭素数１〜４のアルキル及び／若しくは炭素数１〜４のアルコキシで置換されているフェニルであり、ここで置換基ＯＲ１２、ＳＲ１３及びＮＲ１４Ｒ１５は、基Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及び／若しくはＲ１５を介して、フェニル環の更なる置換基と一緒に、又はフェニル環の炭素原子のうちの１個と一緒になって５又は６員環を形成することができ；
Ｒ１０は、炭素数１〜８のアルキルであるか、非置換であるか又はＡ−Ｘ−、炭素数１〜４のアルキル及び／若しくは炭素数１〜４のアルコキシで置換されているフェニルであるが；
但し、式（Ｉｄ）において、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のうちの少なくとも１個がＡ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−であるか、又は置換基Ｒ１０が基Ａ−Ｘ−を含んでおり；
Ｒ１１は、炭素数１〜８のアルキルであるか、非置換であるか又は炭素数１〜４のアルキル及び／若しくは炭素数１〜４のアルコキシで置換されているフェニルであり；

Ｒ１２及びＲ１３は、互いに独立して水素；非置換であるか又は−ＯＨ、炭素数１〜４のアルコキシ、フェニル、フェノキシ及び／若しくは−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換されている炭素数１〜１２のアルキルであるか；１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；或いは、フェニル、炭素数３〜６のアルケニル、シクロペンチル、シクロヘキシル又はナフチルであり、これらの基は、非置換であるか又は炭素数１〜４のアルコキシ、フェニル及び／若しくは炭素数１〜４のアルキルで置換され；
Ｒ１４及びＲ１５は、互いに独立して、水素；非置換であるか又は−ＯＨ、炭素数１〜４のアルコキシ及び／若しくはフェニルで置換されている炭素数１〜１２のアルキル；１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；フェニル、−（ＣＯ）Ｒ１１又はＳＯ_２Ｒ１６であるか；或いはＲ１４及びＲ１５は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、場合により−Ｏ−又は−ＮＲ１７−により中断されている５、６又は７員環を形成し；
Ｒ１６は、炭素数１〜１２のアルキル、非置換のフェニル又は炭素数１〜４のアルキルで置換されているフェニルであり；
Ｒ１７は、水素、非置換であるか又は−ＯＨ若しくは炭素数１〜４のアルコキシで置換されている炭素数１〜８のアルキル；或いは非置換であるか又は−ＯＨ、炭素数１〜４のアルキル若しくは炭素数１〜４のアルコキシで置換されているフェニルであり；
Ａ及びＡ１は、互いに独立して、式（ＩＩＩ）

（式中、単位（ＩＩＩａ１）、（ＩＩＩａ２）、（ＩＩＩａ３）、（ＩＩＩａ４）、（ＩＩＩｂ）及び／又は（ＩＩＩｃ）

は、ランダムに又はブロックで分布し、式中の円は、上記で定義された式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）又は（Ｉｄ）の芳香族基が、適切なシリル基により架橋Ｘを介して置換されていることを表すことが意図される）の界面活性基であるか；
或いはＡ及びＡ１は、互いに独立して、界面活性基Ａ０であり；
ｎは１〜１０００の数であり、但し、シロキサン出発材料がオリゴマーシロキサンの混合物である場合、ｎは、また、１未満であるが０を超えることができ；
ｍは０〜１００の数であり；
ｐは０〜１００００の数であり；
Ａ０は、炭素数６〜３０のアルキル、炭素数６〜３０のアルケニル、炭素数６〜３０のアルキニル、炭素数６〜３０のアラルキル、炭素数６〜３０のアルキル−（ＣＯ）−、炭素数６〜３０のアルケニル−（ＣＯ）−、炭素数６〜３０のアルキニル−（ＣＯ）−、炭素数６〜３０のアラルキル−（ＣＯ）−、炭素数６〜３０のアルキル−Ｓｉ（Ｒ１８）（Ｒ１９）−、炭素数６〜３０のアルケニル−Ｓｉ（Ｒ１８）（Ｒ１９）−又は炭素数６〜３０のアルキニル−Ｓｉ（Ｒ１８）（Ｒ１９）−であり、ここでこれらは、それぞれ非置換であるか又は−ＯＨ、炭素数１〜４のアルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲン、−ＣＮ、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５及び／若しくは−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換され、場合により−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ１７−の１以上によって中断され；
Ｇ１は、炭素数１〜１８のアルキル又は下記式

の基であり；
Ｇ２は、炭素数１〜１８のアルキル又は下記式

の基であるか；
或いはＧ１及びＧ２は共に単結合であり；
Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６及びＲ２７は、互いに独立して、炭素数１〜１８のアルキル、フェニル、炭素数２〜６のヒドロキシアルキル、炭素数２〜６のアミノアルキル又は炭素数５〜８のシクロアルキルであり；
Ｒ２１は、非置換の炭素数１〜１８のアルキル、又はヒドロキシ、炭素数１〜１２のアルコキシ、ハロゲン、炭素数３〜８のシクロアルキル及び／若しくはＮ（Ｒ１４）（Ｒ１５）で置換されている炭素数１〜１８のアルキルであるか；或いはＲ２１は、非置換のフェニル、又は炭素数１〜１２のアルキル、炭素数１〜１２のアルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ及び／若しくはＮ（Ｒ１４）（Ｒ１５）で置換されているフェニルであるか；或いはＲ２１は、炭素数５〜８のシクロアルキルであり；
Ｘ及びＸ１は、Ａ又はＡ１が式（ＩＩＩ）の基である場合、互いに独立して、単結合、−Ｕ−（炭素数１〜１０のアルキレン）、−Ｕ−（炭素数３〜１２のシクロアルキレン）、−Ｕ−炭素数６〜１２のビシクロアルキレン）、１以上の不連続な（炭素数３〜１２のシクロアルキレン）、−Ｕ−（炭素数３〜１２のシクロアルキレン）、炭素数６〜１２のビシクロアルキレン若しくは−Ｕ−（炭素数６〜１２のビシクロアルキレン）により中断されている−Ｕ−（炭素数１〜１０のアルキレン）、１以上の不連続Ｏ及び炭素数３〜１２のシクロアルキレン、−Ｕ−（炭素数３〜１２のシクロアルキレン）、炭素数６〜１２のビシクロアルキレン及び／若しくは−Ｕ−（炭素数６〜１２のビシクロアルキレン）により中断されている−Ｕ−（炭素数１〜１０のアルキレン）、

−（ＣＨ_２）_ａ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ_２）_ｂ−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ_２）_ｃ−、炭素数２〜１０のアルケニレン、炭素数２〜１０のアルキニレン、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−、（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ｂ−、−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ｃ−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−ＮＲ１７−、−（炭素数２〜１０のアルケニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−、−（炭素数２〜１０のアルケニレン）−Ｏ−、−（炭素数２〜１０のアルキニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−、−（炭素数２〜１０のアルキニレン）−Ｏ−、−（炭素数２〜１０のアルケニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−（炭素数２〜１０のアルキニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−（炭素数２〜１０のアルケニレン）−ＮＲ１７−、−（炭素数２〜１０のアルキニレン）−ＮＲ１７−、−（炭素数２〜１０のアルケニレン）−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ａ−、−（炭素数２〜１０のアルキニレン）−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ａ−、−（炭素数２〜１０のアルケニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−又は−（炭素数２〜１０のアルキニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−であり；
Ｘ及びＸ１は、Ａ又はＡ１がＡ０を表す場合、互いに独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ１７−であり；
−Ｕ−は、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ_２）_ａ−ＣＯＯ−、−Ｓｉ−又は（ＣＨ_２）_ａ−Ｓｉ−であり；
ａ、ｂ及びｃは、互いに独立して、０〜１０の数であるが、但し、当該メチレン基が酸素原子２個の間、又は酸素原子１個と窒素原子１個の間に位置する場合、これらは少なくとも１である〕。

（２）前記式（Ｉａ）および（Ｉｂ）において、Ｒ及びＲ１が、互いに独立して、式（ＩＩ）：（式（ＩＩ）において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−、非置換の炭素数１〜１２のアルキル、または１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；或は、ＯＲ１２、ハロゲン若しくは非置換のフェニルである）の基またはナフチル基であり、
但し、式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）において、Ｒ及び／又はＲ１が一般式（ＩＩ）の基を表す場合、置換基Ａ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−の少なくとも１個が、基Ｒ及びＲ１のうちの少なくとも１個に存在するか；或いはＲ及びＲ１が、ナフチル基であり、該ナフチル基は、少なくとも１つの置換基Ａ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−を有しており、さらに炭素数１〜８のアルキル及び／若しくはＯＲ１２で置換されることができ；
式（Ｉｃ）において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９が、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−、非置換の炭素数１〜１２のアルキル、または１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；或は、ＯＲ１２、ハロゲン若しくは非置換のフェニルであるが、但し、式（Ｉｃ）において、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうちの少なくとも１個がＡ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−であり；
式（Ｉｄ）において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５が、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−、非置換の炭素数１〜１２のアルキル、又は１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；或は、ＯＲ１２、ハロゲン若しくは非置換のフェニルであり；Ｒ１０が、炭素数１〜８のアルキル、又は非置換であるか若しくはＡ−Ｘ−で置換されているフェニルであるが；但し、式（Ｉｄ）において、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のうちの少なくとも１個がＡ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−であるか、又は置換基Ｒ１０が基Ａ−Ｘ−を含んでおり；
Ｒ１２が、水素若しくは非置換の炭素数１〜１２のアルキルであるか；又は、１以上の不連続酸素原子で中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；或は、フェニル、炭素数３〜６のアルケニル、シクロペンチル若しくはシクロヘキシルであり；
Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６及びＲ２７が、互いに独立して、炭素数１〜１８のアルキル又はフェニルであり；
Ｘ及びＸ１が、Ａ又はＡ１が式（ＩＩＩ）の基である場合、互いに独立して、炭素数１〜１０のアルキレン、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ｂ−又は−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−であり；
Ｘ及びＸ１が、Ａ又はＡ１がＡ０を表す場合、互いに独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ１７−であることを特徴とする上記（１）の反射防止フィルム。

（３）前記式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）及び（Ｉｄ）の化合物において、Ａ及びＡ１が前記式（ＩＩＩ）の基であることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載の反射防止フィルム。
（４）前記電離放射線硬化性化合物が、二個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物であることを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（５）前記電離放射線硬化性化合物が、含フッ素ポリマーであることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（６）前記含フッ素ポリマーが、下記一般式１で表されるであることを特徴とする上記（５）に記載の反射防止フィルム。

〔一般式１中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、ｍは０または１を表す。Ｘは水素原子またはメチル基を表す。Ａは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。また、シリコーン部位を含んでいても良い。ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。〕
（７）前記組成物が、無機粒子を含有していることを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（８）前記無機粒子が、シリカ微粒子であることを特徴とする上記（７）に記載の反射防止フィルム。
（９）前記無機粒子が、中空構造を有し、屈折率が１．１５〜１．４０の範囲であることを特徴とする上記（７）又は（８）に記載の反射防止フィルム。
（１０）前記組成物が、更にオルガノシラン化合物、該オルガノシラン化合物の加水分解物および／またはその部分縮合物を含有することを特徴とする上記（１）〜（９）のいずれかに記載の反射防止フィルム。

（１１）前記組成物がポリシロキサン化合物を含有していることを特徴とする上記（１）〜（１０）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（１２）一対の保護フィルムの間に偏光膜を有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一つが上記（１）〜（１１）のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
（１３）上記（１）〜（１１）に記載の反射防止フィルム、又は上記（１２）に記載の偏光板がディスプレイの最表面に用いられていることを特徴とする画像表示装置。

本発明によれば、低反射率でありながら耐擦傷性が向上した反射防止フィルムが得られる。また、本発明の反射防止フィルム及びそれを用いた偏光板を備えた画像表示装置は、外光の映り込み及び背景の映りこみが少なく、極めて視認性が高いだけでなく、従来のものに比較してより耐擦傷性に優れている。さらに、本発明の反射防止フィルムは、下層および支持体（基材）との密着性にも優れている。

以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレートおよびメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
また、本明細書において、炭素数を表す場合に、「Ｃ（数値１）−Ｃ（数値２）」という記載は「炭素数が、（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表わす。

１．反射防止フィルムの層構成
本発明の反射防止フィルムについては、支持体上に、下記のような反射防止層を用い、公知の層構成を使用することができる。たとえば、代表的な例としては以下のようなものがある。
ａ．支持体／（防眩性）ハードコート層
ｂ．支持体／（防眩性）ハードコート層／低屈折率層（図１）
ｃ．支持体／（防眩性）ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層（図２）
ｄ．支持体／（防眩性）ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図３）

ｂ（図１）のように、支持体（１）上にハードコート層（２）を塗布した上に、低屈折率層（５）を積層すると、反射防止フィルムとして好適に用いることができる。低屈折率層（５）はハードコート層（２）の上に低屈折率層（５）を光の波長の１／４前後の膜厚で形成することにより、薄膜干渉の原理により表面反射を低減することができる。
また、ｃ（図２）のように支持体（１）上にハードコート層（２）を塗布した上に、高屈折率層（４）、低屈折率層（５）を積層しても反射防止フィルムとして好適に用いることができる。さらに、ｄ（図３）のように支持体（１）、ハードコート層（２）、中屈折率層（３）、高屈折率層（４）、そして低屈折率層（５）の順序の層構成を設置することにより、反射率を１％以下とすることができる。

ａないしｄの構成において、ハードコート層（２）は防眩性を有する防眩層とすることができる。防眩性は図４に示されるようなマット粒子（６）の分散によるものでも、図５に示されるようなエンボス加工などの方法による表面の賦形によって形成されてもよい。マット粒子（６）の分散によって形成される防眩層は、バインダーとバインダー中に分散された透光性粒子とからなる。防眩性を有する防眩層は、好ましくは防眩性とハードコート性を兼ね備えており、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。

また支持体とそれよりも表面側の層の間あるいは最表面に設けても良い層として、干渉ムラ（虹ムラ）防止層、帯電防止層（ディスプレイ側からの表面抵抗値を下げる等の要求がある場合、表面等へのゴミつきが問題となる場合）、別のハードコート層（１層のハードコート層ないし防眩層だけで硬度が不足する場合）、ガスバリアー層、水吸収層（防湿層）、密着改良層、防汚層（汚染防止層）、等が挙げられる。
本発明における反射防止層を有する反射防止フィルムを構成する各層の屈折率は以下の関係を満たすことが好ましい。
ハードコート層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率

２．本発明の反射防止フィルムの構成成分
まず、本発明の構成成分について説明する。

２−（１）光重合開始剤
本発明の反射防止フィルムは、該フィルムの支持体上に積層される層の少なくとも一層を、式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）又は（Ｉｄ）で表される光重合開始剤Ａ及び前記式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）又は（Ｉｄ）以外の少なくとも１種の光重合開始剤Ｂを含有する組成物を硬化させることで得る。
まず、式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）又は（Ｉｄ）で表される光重合開始剤Ａについて説明する。

〔式（１ａ）および（１ｂ）中、Ｒ及びＲ１は、互いに独立して、下記式（ＩＩ）：

（式（ＩＩ）において、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−；非置換であるか又は−ＯＨ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲン、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１若しくは−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換されているＣ１−Ｃ１２アルキル；又は１以上の不連続な酸素原子により中断されているＣ２−Ｃ１２アルキルであるか；或いは、ＯＲ１２、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５、−（Ｃ１−Ｃ６アルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｏ−（Ｃ１−Ｃ６アルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１又はハロゲンであるか；非置換であるか又はＣ１−Ｃ４アルキル及び／若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシで置換されているフェニルであり、置換基ＯＲ１２、ＳＲ１３及びＮＲ１４Ｒ１５は、基Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及び／若しくはＲ１５を介して、フェニル環の更なる置換基と一緒に、又はフェニル環の炭素原子のうちの１個と一緒になって５又は６員環を形成することができる）の基、ナフチル基、アントラシル基、フェナントリル基、または複素環基であり、
但し、式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）において、Ｒ及び／又はＲ１が一般式（ＩＩ）の基を表す場合、置換基Ａ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−の少なくとも１個が、基Ｒ及びＲ１のうちの少なくとも１個に存在するか；或いはＲ及びＲ１は、ナフチル、アントラシル、フェナントリル又は複素環基であり基ナフチル、アントラシル、フェナントリル及び複素環は、少なくとも１つの置換基Ａ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−を有しており、さらにＣ１〜Ｃ８のアルキル、フェニル、ＯＲ１２、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５、−（Ｃ１〜Ｃ６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５および−Ｏ−（Ｃ１〜Ｃ６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５から選ばれる少なくとも一種で置換されることができるが、ここで置換基ＯＲ１２、ＳＲ１３及びＮＲ１４Ｒ１５は、基Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及び／若しくはＲ１５を介して、ナフチル環、アントラシル環、フェナントリル環若しくは複素環の更なる置換基と一緒になって、又はナフチル環、アントラシル環、フェナントリル環若しくは複素環の炭素原子のうちの１個と一緒になって５又は６員環を形成することができ；
式（Ｉｃ）において、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−；非置換であるか又は−ＯＨ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲン、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換されているＣ１−Ｃ１２アルキル；又は１以上の不連続な酸素原子により中断されているＣ２−Ｃ１２アルキルであるか；
或いは、ＯＲ１２、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５、−（Ｃ１−Ｃ６アルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｏ−（Ｃ１−Ｃ６アルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１又はハロゲンであるか；非置換であるか又はＣ１−Ｃ４アルキル及び／若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシで置換されているフェニルであり、ここで置換基ＯＲ１２、ＳＲ１３及びＮＲ１４Ｒ１５は、基Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及び／若しくはＲ１５を介して、フェニル環の更なる置換基と一緒に、又はフェニル環の炭素原子のうちの１個と一緒になって５又は６員環を形成することができるが、
但し、式（Ｉｃ）において、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうちの少なくとも１個がＡ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−であり；
式（Ｉｄ）において、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−；非置換であるか又は−ＯＨ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲン、ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換されているＣ１−Ｃ１２アルキル；又は１以上の不連続な酸素原子により中断されているＣ２−Ｃ１２アルキルであるか；或いは、ＯＲ１２、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５、−（Ｃ１−Ｃ６アルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｏ−（Ｃ１−Ｃ６アルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１又はハロゲンであるか；非置換であるか又はＣ１−Ｃ４アルキル及び／若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシで置換されているフェニルであり、ここで置換基ＯＲ１２、ＳＲ１３及びＮＲ１４Ｒ１５は、基Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及び／若しくはＲ１５を介して、フェニル環の更なる置換基と一緒に、又はフェニル環の炭素原子のうちの１個と一緒になって５又は６員環を形成することができ；Ｒ１０は、Ｃ１−Ｃ８アルキルであるか、非置換であるか又はＡ−Ｘ−、Ｃ１−Ｃ４アルキル及び／若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシで置換されているフェニルであるが；
但し、式（Ｉｄ）において、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のうちの少なくとも１個がＡ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−であるか、又は置換基Ｒ１０が基Ａ−Ｘ−を含んでおり；
Ｒ１１は、Ｃ１−Ｃ８アルキルであるか、非置換であるか又はＣ１−Ｃ４アルキル及び／若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシで置換されているフェニルであり；
Ｒ１２及びＲ１３は、互いに独立して水素；非置換であるか又は−ＯＨ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、フェニル、フェノキシ及び／若しくは−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換されているＣ１−Ｃ１２アルキルであるか；１以上の不連続な酸素原子により中断されているＣ２−Ｃ１２アルキルであるか；或いは、フェニル、Ｃ３−Ｃ６アルケニル、シクロペンチル、シクロヘキシル又はナフチルであり、これらの基は、非置換であるか又はＣ１−Ｃ４アルコキシ、フェニル及び／若しくはＣ１−Ｃ４アルキルで置換され；
Ｒ１４及びＲ１５は、互いに独立して、水素；非置換であるか又は−ＯＨ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ及び／若しくはフェニルで置換されているＣ１−Ｃ１２アルキル；１以上の不連続な酸素原子により中断されているＣ２−Ｃ１２アルキルであるか；フェニル、−（ＣＯ）Ｒ１１又はＳＯ_２Ｒ１６であるか；或いはＲ１４及びＲ１５は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、場合により−Ｏ−又は−ＮＲ１７−により中断されている５、６又は７員環を形成し；
Ｒ１６は、Ｃ１−Ｃ１２アルキル、非置換のフェニル又はＣ１−Ｃ４アルキルで置換されているフェニルであり；
Ｒ１７は、水素、非置換であるか又は−ＯＨ若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシで置換されているＣ１−Ｃ８アルキル；或いは非置換であるか又は−ＯＨ、Ｃ１−Ｃ４アルキル若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシで置換されているフェニルであり；
Ａ及びＡ１は、互いに独立して、式（ＩＩＩ）

（式中、単位（ＩＩＩａ１）、（ＩＩＩａ２）、（ＩＩＩａ３）、（ＩＩＩａ４）、（ＩＩＩｂ）及び／又は（ＩＩＩｃ）

は、ランダムに又はブロックで分布し、式中の円は、上記で定義された式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）又は（Ｉｄ）の芳香族基が、適切なシリル基により架橋Ｘを介して置換されていることを表すことが意図される）の界面活性基であるか；
或いはＡ及びＡ１は、互いに独立して、界面活性基Ａ０であり；
ｎは１〜１０００の数であり、但し、シロキサン出発材料がオリゴマーシロキサンの混合物である場合、ｎは、また、１未満であるが０を超えることができ；
ｍは０〜１００の数であり；
ｐは０〜１００００の数であり；
Ａ０は、Ｃ６−Ｃ３０アルキル、Ｃ６−Ｃ３０アルケニル、Ｃ６−Ｃ３０アルキニル、Ｃ６−Ｃ３０アラルキル、Ｃ６−Ｃ３０アルキル−（ＣＯ）−、Ｃ６−Ｃ３０アルケニル−（ＣＯ）−、Ｃ６−Ｃ３０アルキニル−（ＣＯ）−、Ｃ６−Ｃ３０アラルキル−（ＣＯ）−、Ｃ６−Ｃ３０アルキル−Ｓｉ（Ｒ１８）（Ｒ１９）−、Ｃ６−Ｃ３０アルケニル−Ｓｉ（Ｒ１８）（Ｒ１９）−又はＣ６−Ｃ３０アルキニル−Ｓｉ（Ｒ１８）（Ｒ１９）−であり、ここでこれらは、それぞれ非置換であるか又は−ＯＨ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲン、−ＣＮ、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５及び／若しくは−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換され、場合により−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ１７−の１以上によって中断され；
Ｇ１は、Ｃ１−Ｃ１８アルキル又は下記式

の基であり；
Ｇ２は、Ｃ１−Ｃ１８アルキル又は下記式

の基であるか；
或いはＧ１及びＧ２は共に単結合であり；
Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６及びＲ２７は、互いに独立して、Ｃ１−Ｃ１８アルキル、フェニル、Ｃ２−Ｃ６ヒドロキシアルキル、Ｃ２−Ｃ６アミノアルキル又はＣ５−Ｃ８シクロアルキルであり；
Ｒ２１は、非置換のＣ１−Ｃ１８アルキル、又はヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ１２アルコキシ、ハロゲン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル及び／若しくはＮ（Ｒ１４）（Ｒ１５）で置換されているＣ１−Ｃ１８アルキルであるか；或いはＲ２１は、非置換のフェニル、又はＣ１−Ｃ１２アルキル、Ｃ１−Ｃ１２アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ及び／若しくはＮ（Ｒ１４）（Ｒ１５）で置換されているフェニルであるか；或いはＲ２１は、Ｃ５−Ｃ８シクロアルキルであり；
Ｘ及びＸ１は、Ａ又はＡ１が式（ＩＩＩ）の基である場合、互いに独立して、単結合、−Ｕ−（Ｃ１−Ｃ１０アルキレン）、−Ｕ−（Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキレン）、−Ｕ−（Ｃ６−Ｃ１２ビシクロアルキレン）、１以上の不連続な（Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキレン）、−Ｕ−（Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキレン）、Ｃ６−Ｃ１２ビシクロアルキレン若しくは−Ｕ−（Ｃ６−Ｃ１２ビシクロアルキレン）により中断されている−Ｕ−（Ｃ１−Ｃ１０アルキレン）、１以上の不連続Ｏ及びＣ３−Ｃ１２シクロアルキレン、−Ｕ−（Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキレン）、Ｃ６−Ｃ１２ビシクロアルキレン及び／若しくは−Ｕ−（Ｃ６−Ｃ１２ビシクロアルキレン）により中断されている−Ｕ−（Ｃ１−Ｃ１０アルキレン）、

−（ＣＨ_２）_ａ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ_２）_ｂ−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ_２）_ｃ−、Ｃ２−Ｃ１０アルケニレン、Ｃ２−Ｃ１０アルキニレン、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−、（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ｂ−、−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ｃ−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−ＮＲ１７−、−（Ｃ２−Ｃ１０アルケニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−、−（Ｃ２−Ｃ１０アルケニレン）−Ｏ−、−（Ｃ２−Ｃ１０アルキニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−、−（Ｃ２−Ｃ１０アルキニレン）−Ｏ−、−（Ｃ２−Ｃ１０アルケニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−（Ｃ２−Ｃ１０アルキニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−（Ｃ２−Ｃ１０アルケニレン）−ＮＲ１７−、−（Ｃ２−Ｃ１０アルキニレン）−ＮＲ１７−、−（Ｃ２−Ｃ１０アルケニレン）−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ａ−、−（Ｃ２−Ｃ１０アルキニレン）−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ａ−、−（Ｃ２−Ｃ１０アルケニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−又は−（Ｃ２−Ｃ１０アルキニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−であり；
Ｘ及びＸ１は、Ａ又はＡ１がＡ０を表す場合、互いに独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ１７−であり；
−Ｕ−は、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ_２）_ａ−ＣＯＯ−、−Ｓｉ−又は（ＣＨ_２）_ａ−Ｓｉ−であり；
ａ、ｂ及びｃは、互いに独立して、０〜１０の数であるが、但し、当該メチレン基が酸素原子２個の間、又は酸素原子１個と窒素原子１個の間に位置する場合、これらは少なくとも１である〕。

尚、式（１ａ）〜（１ｄ）の説明において、
Ｃ１−Ｃ１８アルキルは、直鎖状又は分岐鎖状であり、例えば、Ｃ１−Ｃ１２−、Ｃ１−Ｃ８−、Ｃ１−Ｃ６−又はＣ１−Ｃ４アルキルである。例には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、２，４，４−トリメチルペンチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル及びオクタデシルが含まれる。Ｃ１−Ｃ１２アルキル、Ｃ１−Ｃ８アルキル及びＣ１−Ｃ４アルキルは、炭素原子の対応する数まで、上記で示された意味と同一の意味を有する。Ｃ６−Ｃ３０アルキルも、同様に直鎖状及び分岐鎖状であり、例えば、Ｃ６−Ｃ２４−、Ｃ６−Ｃ１２−、Ｃ１０−Ｃ３０−、Ｃ１０−Ｃ２４−、Ｃ１２−Ｃ３０アルキルである。例には、ヘキシル、ヘプチル、２，４，４−トリメチルペンチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシル、ヘニコシル、ドコシル、トリコシル、テトラコシル、ペンタコシル、ヘキサコシル、ヘプタコシル、オクタコシル及びトリアコンチルが含まれる。

１以上の酸素原子により中断されているＣ２−Ｃ１２アルキルは、例えば、−Ｏ−により１〜９回、例えば１〜７回又は１若しくは２回中断されている。基が複数の酸素原子により中断されている場合、酸素原子は、それぞれの場合、少なくとも１個のメチレン基により互いに分けられて、例えば、−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_３、−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_３、−〔ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ〕ｙ−ＣＨ_３（ここで、ｙ＝１〜９）、−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）７ＣＨ_２ＣＨ_３、−ＣＨ_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２ＣＨ_３又は−ＣＨ_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_３のような構造単位となる。

Ｃ２−Ｃ６ヒドロキシアルキルは、−ＯＨで置換されているＣ２−Ｃ６アルキルである。アルキル基は、直鎖状又は分岐鎖状であり、（炭素原子の対応する数まで）上記で示された意味を有することができる。

Ｃ２−Ｃ６アミノアルキルは、ＮＨ_２で置換されているＣ２−Ｃ６アルキルである。アルキル基は、直鎖状又は分岐鎖状であり、（炭素原子の対応する数まで）上記で示された意味を有することができる。−（Ｃ１−Ｃ６アルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５は、基ＮＲ１４Ｒ１５で置換されているＣ１−Ｃ６アルキルを表す。−Ｏ−（Ｃ１−Ｃ６アルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５は、基ＮＲ１４Ｒ１５で置換されているＣ１−Ｃ６アルコキシを表す。対応するアルキル及びアルコキシ基の定義は、上記および下記に示されている。

Ｃ１−Ｃ１２アルコキシは、直鎖状又は分岐鎖状基を表し、例えば、Ｃ１−Ｃ１０−、Ｃ１−Ｃ８−、Ｃ１−Ｃ６−又はＣ１−Ｃ４アルコキシである。例には、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブチルオキシ、ｓｅｃ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、２，４，４−トリメチルペンチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ及びドデシルオキシ、特にメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブチルオキシ、ｓｅｃ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ、好ましくはメトキシが含まれる。Ｃ１−Ｃ４アルコキシも、同様に直鎖状又は分岐鎖状であり、例えば、炭素原子の対応する数まで、上記で示された意味を有する。

Ｃ３−Ｃ８シクロアルキルは、少なくとも１個の環を含む直鎖状又は分岐鎖状アルキルであり、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、メチルシクロペンチル、シクロヘキシル、メチル−若しくはジメチル−シクロヘキシル又はシクロオクチルであり、特にシクロペンチル又はシクロヘキシルである。Ｃ５−Ｃ８シクロアルキルは、炭素原子の対応する数まで、上記で示された意味を有する。

Ｃ３−Ｃ６アルケニルは、モノ不飽和又はポリ不飽和でもよく、また直鎖状又は分岐鎖状でもよく、例えば、Ｃ３−Ｃ４アルケニルである。例には、アリル、メタリル、１，１−ジメチルアリル、１−ブテニル、２−ブテニル、１，３−ペンタジエニル及び１−ヘキセニル、特にアリルが含まれる。
Ｃ６−Ｃ３０アルケニルも、同様に直鎖状又は分岐鎖状、そしてモノ不飽和又はポリ不飽和であり、例えば、Ｃ６−Ｃ２４−、Ｃ６−Ｃ１２−、Ｃ１０−Ｃ３０−、Ｃ１０−Ｃ２４−又はＣ１２−Ｃ３０アルケニルである。例には、ヘキセニル、ヘプテニル、２，４，４−トリメチルペンテニル、２−エチルヘキセニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニル、ヘプタデセニル、オクタデセニル、ノナデセニル、イコセニル、ヘニコセニル、ドコセニル、トリコセニル、テトラコセニル、ペンタコセニル、ヘキサコセニル、ヘプタコセニル、オクタコセニル及びトリアコンテニルが含まれる。

Ｃ６−Ｃ３０アルキニルは、直鎖状又は分岐鎖状、そしてモノ不飽和又はポリ不飽和であり、例えば、Ｃ６−Ｃ２４−、Ｃ６−Ｃ１２−、Ｃ１０−Ｃ３０−、Ｃ１０−Ｃ２４−又はＣ１２−Ｃ３０アルキニルである。例には、ヘキシニル、へプチニル、２，４，４−トリメチルペンチニル、２−エチルヘキシニル、オクチニル、ノニニル、デシニル、ウンデシニル、ドデシニル、テトラデシニル、ペンタデシニル、ヘキサデシニル、ヘプタデシニル、オクタデシニル、ノナデシニル、イコシニル、ヘニコシニル、ドコシニル、トリコシニル、テトラコシニル、ペンタコシニル、ヘキサコシニル、ヘプタコシニル、オクタコシニル及びトリアコンチニルが含まれる。

アルキレン及びシクロアルキレン基は、上記で定義されたアルキル及びシクロアルキル基の二価の形態である。

Ｃ６−Ｃ１２ビシクロアルキレンは、好ましくはビシクロヘプチレン、ビシクロオクチレンである。

Ｃ６−Ｃ３０アラルキルは、芳香族基で置換されているアルキルである。例には、フェニル−Ｃ１−Ｃ２４アルキル、ナフチル−Ｃ１−Ｃ２０アルキル、アントリル−Ｃ１−Ｃ１６アルキル及びフェナントリル−Ｃ１−Ｃ１６アルキルがあり、該アルキル基Ｃ１−Ｃ２４−、Ｃ１−Ｃ２０−及びＣ１−Ｃ１６−は、それぞれ芳香族基フェニル、ナフチル、アントリル又はフェナントリルで置換されている。アルキル基は、直鎖状又は分岐鎖状であり、上記で示された意味を有してよい。例には、ベンジル、フェニルエチル、α−メチルベンジル、フェニルペンチル、フェニルヘキシル及びα，α−ジメチルベンジル、特にベンジル、ナフチルメチル、ナフチルエチル、ナフチルプロピル及びナフチル−１−メチルエチル、更に特にナフチルメチルが含まれる。アルキル単位は、ナフチル環の１位又は２位のいずれかで存在できる。

ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素であり、特に塩素又は臭素であり、好ましくはフッ素である。

置換されているフェニルは、フェニル環がモノないしペンタ置換され、例えば、モノ、ジ又はトリ置換、特にモノ置換又はジ置換されている。

これに関して、複素環式基は、１以上の特に１又は２個のヘテロ原子を含む脂肪族環か、又は芳香族環のいずれかを意味すると理解されるべきである。縮合環系であってもよい。ヘテロ原子として、例えば、特にＯ、Ｎ及びＳが考慮される。例には、フリル、チエニル、ピロリル、オキシニル、ジオキシニル及びピリジルが含まれる。５又は６員環が好ましい。

複素環式基を表すＲ及びＲ１は、例えば、ピロリル、ピロリジニル、オキサゾリル、ピリジル、１，３−ジアジニル、１，２−ジアジニル、ピペリジル、モルホリニル、チアントレニル、フラニル、ピラニル、キサンテニル、イミダゾリル、チアゾイリル、ピリミジニル、インダゾリニル、インドリル、インダゾリル、プリニル、イソキノリル、キノリル、キサンチル、チオキサンチル、アクリジニル等である。

ＯＲ１２−、ＳＲ１３−若しくはＮＲ１４Ｒ１５置換ナフチル、アントラシル、フェナントリル又は複素環式環が、基Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４又は／及びＲ１５と一緒になって、５若しくは６員環を形成する場合、例えば、下記：

の構造が含まれ、いずれの場合にも弧及び２個の二重結合は、芳香族環系を表す。

ＯＲ１２、ＳＲ１３又はＮＲ１４Ｒ１５を表すＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８又はＲ９が、フェニル環の更なる置換基と一緒になって、又はフェニル環の炭素原子と一緒になって５若しくは６員環を形成する場合、例えば、下記：

の系が含まれる。

Ｒ１４及びＲ１５が、それらが結合している窒素原子と一緒になって、更に−Ｏ−又は−ＮＲ１７−により中断されていてもよい５、６、若しくは７員環を形成する場合、環は、例えば飽和又は不飽和の環であり、例えば、アジリジン、ピペラジン、ピロール、ピロリジン、オキサゾール、ピリジン、１，３−ジアジン、１，２−ジアジン、ピペリジン又はモルホリンであり、特にモルホリニル、ピペリジニル又はピペラジニル環が形成される。

式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）及び／又は（ＩＩＩｃ）の単位は、ランダムに又はブロックで配置され、すなわち式（ＩＩＩ）で表される単位の序列は所望のとおりになる。例えば、調製方法で使用されるシロキサンに応じて、（ＩＩＩａ１）、（ＩＩＩａ２）、（ＩＩＩａ３）、（ＩＩＩａ４）、（ＩＩＩｂ）、（ＩＩＩｃ）の単位のブロックは連続して現れることができるが、個別の単位がランダム分布方法で結合することも可能である。

Ｃ１−Ｃ１０アルキレンを表すＸ及びＸ１は、それぞれ直鎖状又は分岐鎖状アルキレンであり、例えば、Ｃ１−Ｃ８−、Ｃ１−Ｃ６−、Ｃ１−Ｃ４−、Ｃ２−Ｃ８−又はＣ２−Ｃ４アルキレンであり、例としては、メチレン、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ｎ−ブチレン、ｓｅｃ−ブチレン、イソブチレン、ｔｅｒｔ−ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニレン又はデシレンである。Ｘ及びＸ１は、特にＣ１−Ｃ８アルキレンであり、例えば、エチレン、オクチレン、

である。

Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキレンを表すＸ及びＸ１は、それぞれ少なくとも１個の環を含む直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基であり、例えば、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン等である。

Ｃ６−Ｃ１２ビシクロアルキレンを表すＸ及びＸ１は、それぞれ少なくとも１個の二環式環を含む直鎖状又は分岐鎖状基であり、例えば、ビシクロヘプチレン、ビシクロオクチレンである。

Ｃ２−Ｃ１０アルケニレンは、モノ不飽和又はポリ不飽和であり、直鎖状又は分岐鎖状であり、例えば、Ｃ２−Ｃ８−、Ｃ４−Ｃ８−、Ｃ３−Ｃ６−又はＣ２−Ｃ４アルケニレンであり、例としては、エテニレン、１−プロペニレン、１−ブテニレン、３−ブテニレン、２−ブテニレン、１，３−ペンタジエニレン、５−ヘキセニレン又は７−オクテニレンである。Ｃ４−Ｃ８アルケニレンは、炭素原子の数に従って、上記と同じ意味を有する。

Ｃ２−Ｃ１０アルキニレンは、モノ不飽和又はポリ不飽和であり、直鎖状又は分岐鎖状であり、例えば、Ｃ２−Ｃ８−、Ｃ３−Ｃ６−又はＣ２−Ｃ４アキニレンである。例には、ヘキシニレン、ヘプチニレン、２，４，４−トリメチルペンチニレン、２−エチルヘキシニレン、オクチニレン、ノニニレン及びデシニレンが含まれる。

「ａ」、「ｂ」及び「ｃ」は、好ましくは０〜１０の数、例えば０〜３、特に３であるが、但し、該メチレン基が酸素原子２個の間、又は酸素原子１個と窒素原子１個の間に位置する場合、ａ、ｂ、及び／又はｃは少なくとも１であり；「ｎ」は、好ましくは１〜１００であり；「ｐ」は、例えば、１〜１０００、１〜１００、１〜５０、又は１〜２５であり；「ｍ」は、０〜１００、例えば、０〜５０又は０〜２５、特に０である。
シロキサン出発材料がオリゴマーシロキサンの混合物である場合、「ｎ」は、また、１未満であるが０を超えることが可能である。この場合、例えば、０．１〜１０００、０．５〜１０００、０．８〜１０００等の数である。

Ａ及びＡ１は、好ましくは式（ＩＩＩ）の基である。

式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）の化合物において、Ｒ及びＲ１は、特に式（ＩＩ）の基又はナフチルであり、式（ＩＩ）の基が好ましい。

式（Ｉｃ）の化合物において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、特に基Ａ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−である。
式（Ｉｄ）の化合物において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、特に基Ａ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−である。

式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）の化合物において、Ｒ及び／又はＲ１が式（ＩＩ）の基を表す場合、置換基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６のうちの少なくとも１個は、基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１である。したがって、例えば、置換基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６のうちの１〜３個、又は１若しくは２個、又は１個が、基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１である。好ましくは、置換基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６のうちの１又は２個が基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１である。Ｒ２、Ｒ６又は／及びＲ４が、特に基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１である。好ましくは、Ｒ４又は／及びＲ６が、基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１である。

化合物（Ｉｃ）において、置換基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうちの少なくとも１個は、基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１である。したがって、例えば、置換基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうちの１〜３個、又は１若しくは２個、又は１個が、基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１である。好ましくは、置換基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうちの１又は２個が基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１である。特に、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ９、Ｒ４又は／及びＲ７が、基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１である。好ましくは、Ｒ４又は／及びＲ７が、基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１である。

式（Ｉｄ）の化合物において、置換基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のうちの少なくとも１個が、基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１であるか、又は置換基Ｒ１０が基Ａ−Ｘ−を含む。したがって、例えば、置換基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のうちの１〜３個、又は１若しくは２個、又は１個が、基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１である。好ましくは、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のうちの１又は２個が基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１であるか、又は置換基Ｒ１０が基Ａ−Ｘ−を含む。好ましくは、Ｒ４が基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１であるか、又は置換基Ｒ１０が基Ａ−Ｘ−を含む。

式（Ｉｃ）において、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１である他に、特に水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はＣ１−Ｃ４アルコキシであり、好ましくは水素である。

式（Ｉｄ）において、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１である他に、特に水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はＣ１−Ｃ４アルコキシであり、好ましくは水素である。Ｒ１０は特にＡ−Ｘ−で置換されているフェニルである。Ｒ１１は、特にＣ１−Ｃ４アルキル又はフェニルである。Ｒ１２及びＲ１３は、特に、Ｃ１−Ｃ４アルキル、水素、フェニル、又は酸素により中断されているＣ２−Ｃ８アルキルであり、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキル又は水素である。Ｒ１４及びＲ１５は、特にＣ１−Ｃ４アルキル、好ましくはメチルであるか、又はこれらが結合している窒素原子と一緒になって、モルホリニル基を形成する。Ｒ１６は、特に、Ｃ１−Ｃ４アルキル、非置換のフェニル又はＣ１−Ｃ４アルキルで置換されているフェニルである。Ｒ１７は、好ましくは、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はＯＨで置換されているＣ１−Ｃ４アルキルである。Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキル、特にメチルである。Ｒ２１は、特にＣ１−Ｃ４アルキル、例えばメチルである。Ａ０は、特にＣ６−Ｃ３０アルキル基であり、この基は非置換であるか、又はハロゲンで置換されている。好ましくは、Ｃ６−Ｃ３０アルキルは非置換であるか、又はハロゲン、好ましくはフッ素で置換されている。基Ｃ６−Ｃ３０アルキルがフッ素で置換されている場合、好ましくは過フッ素化されている。
Ｘ及びＸ１は、好ましくはＣ３−Ｃ６アルキレン、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ又は−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−Ｏ−、特に−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ又は−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−Ｏ−であり、ここでａは、特に２又は３、そしてｂは特に２又は３である。
式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）及び（Ｉｄ）の化合物は、当業者に既知の従来の方法に従って調製される。

前記式（Ｉａ）および（Ｉｂ）において、好ましくはＲ及びＲ１が、互いに独立して、式（ＩＩ）：（式（ＩＩ）において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−、非置換のＣ１−Ｃ１２アルキル、または１以上の不連続な酸素原子により中断されているＣ２−Ｃ１２アルキルであるか；或は、ＯＲ１２、ハロゲン若しくは非置換のフェニルである）の基またはナフチル基であり、
但し、式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）において、Ｒ及び／又はＲ１が一般式（ＩＩ）の基を表す場合、置換基Ａ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−の少なくとも１個が、基Ｒ及びＲ１のうちの少なくとも１個に存在するか；或いはＲ及びＲ１が、ナフチル基であり、該ナフチル基は、少なくとも１つの置換基Ａ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−を有しており、さらに炭素数１〜８のアルキル及び／若しくはＯＲ１２で置換されることができ；
式（Ｉｃ）において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９が、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−、非置換のＣ１−Ｃ１２アルキル、または１以上の不連続な酸素原子により中断されているＣ２−Ｃ１２アルキルであるか；或は、ＯＲ１２、ハロゲン若しくは非置換のフェニルであるが、但し、式（Ｉｃ）において、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうちの少なくとも１個がＡ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−であり；
式（Ｉｄ）において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５が、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−、非置換の炭素数１〜１２のアルキル、又は１以上の不連続な酸素原子により中断されているＣ２−Ｃ１２アルキルであるか；或は、ＯＲ１２、ハロゲン若しくは非置換のフェニルであり；Ｒ１０が、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、又は非置換であるか若しくはＡ−Ｘ−で置換されているフェニルであるが；但し、式（Ｉｄ）において、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のうちの少なくとも１個がＡ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−であるか、又は置換基Ｒ１０が基Ａ−Ｘ−を含んでおり；
Ｒ１２が、水素若しくは非置換のＣ１−Ｃ１２アルキルであるか；又は、１以上の不連続な酸素原子で中断されているＣ２−Ｃ１２アルキルであるか；或は、フェニル、Ｃ３−Ｃ６アルケニル、シクロペンチル若しくはシクロヘキシルであり；
Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６及びＲ２７が、互いに独立して、Ｃ１−Ｃ１８アルキル又はフェニルであり；
Ｘ及びＸ１が、Ａ又はＡ１が式（ＩＩＩ）の基である場合、互いに独立して、Ｃ１−Ｃ１０アルキレン、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ｂ−又は−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−であり；
そしてＸ及びＸ１が、Ａ又はＡ１がＡ０を表す場合、互いに独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ１７−である。

特に好ましくは、式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）及び（Ｉｄ）の化合物において、Ａ及びＡ１が式（ＩＩＩ）の化合物である。

下記は本発明の式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）及び（Ｉｄ）の化合物の例である。

式（１ａ）〜（１ｄ）の化合物は、少なくとも１個の置換基−Ｘ−Ａ又は−Ｘ１−Ａ１を含む。このために、該化合物は、表面に集中して存在する。例えば、組成物として塗布したとき塗布表面に該化合物は、塗布表面に集中して存在する。

本発明の反射防止フィルムは、下層および支持体（基材）との密着性に優れている。この機構は明確ではないが、下記のような機構が推定される。支持体上に反射防止層（例えば、低屈折率層）を有する反射防止フィルムにおいて、低屈折率層の更なる低屈折率化を目指すとき、低屈折率層を構成するバインダーを含有する組成物を塗布した際に、塗布表面に光重合開始剤Ａが集中すると考えられる。バインダーを効率よく硬化させるためには、開始剤も上部偏析する必要がある。しかし、光重合開始剤が光重合開始剤Ａのみであると、光重合開始剤Ａが表面に集中する影響で下層との密着が低下することが予期される。しかし、本発明では、光重合開始剤Ａと併用する光重合開始剤Ｂが下層に集中して存在するために、下層との密着が向上できる。また、密着性が向上すること、および塗布表面のバインダーが効率よく硬化することにより、耐擦傷性にも優れる。

式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）及び（Ｉｄ）の光重合開始剤の使用量に特に制限はないが、電離放射線硬化性化合物１００質量部に対して、０．１〜３０質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜２０質量部である。

次に式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）又は（Ｉｄ）以外の光重合開始剤Ｂについて説明する。式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）又は（Ｉｄ）以外の光重合開始剤Ｂは光重合開始剤Ａよりも表面自由エネルギーが小さいものが好ましい。光重合開始剤Ａの表面自由エネルギーと光重合開始剤Ｂのそれとの差は、光重合開始剤Ａの表面自由エネルギーが光重合開始剤Ｂのそれより大きければよく、具体的にはその差が５ｍＪ／ｍ²であることが好ましい。

光重合開始剤Ｂは、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類（特開２００１−１３９６６３号公報等）、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。

アセトフェノン類の例には、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシ-ジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシ-ジメチル-p-イソプロピルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、４-フェノキシジクロロアセトフェノン、４-t-ブチル-ジクロロアセトフェノン、が含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。

ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４-ベンゾイル-４'-メチルジフェニルサルファイド、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノン、４，４'-ジメチルアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、３，３'、４、４'-テトラ(t-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノンなどが含まれる。
ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。

活性エステル類の例には１、２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、スルホン酸エステル類、環状活性エステル化合物などが含まれる。
具体的には特開２０００−８００６８記載の実施例記載化合物１〜２１が特に好ましい。
オニウム塩類の例には、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩が挙げられる。

ボレート塩としては、例えば、特許第２７６４７６９号、特開２００２−１１６５３９号等の各公報、および、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ“Ｒａｄ Ｔｅｃｈ’９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ Ａｐｒｉｌ １９〜２２頁，１９９８年，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物があげられる。例えば、前記特開２００２−１１６５３９号明細書の段落番号［００２２］〜［００２７］記載の化合物が挙げられる。またその他の有機ホウ素化合物としては、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられ、具体例にはカチオン性色素とのイオンコンプレックス類が挙げられる。

活性ハロゲン類としては、具体的には、若林 等の“Ｂｕｌｌ Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ Ｊａｐａｎ”４２巻、２９２４頁（１９６９年）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特開平５−２７８３０号、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ“Ｊｕｒｎａｌ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１巻（３号），（１９７０年）等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物：ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。より好適には、少なくとも一つのモノ、ジまたはトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体が挙げられる。具体的な例にはS-トリアジンやオキサチアゾール化合物が知られており、２-(p-メトキシフェニル)-４，６-ビス(トリクロルメチル)-s-トリアジン、２-(p-メトキシフェニル)-４，６-ビス(トリクロルメチル)-s-トリアジン、２-(p-スチリルフェニル)-４，６-ビス(トリクロルメチル)-s-トリアジン、２-(３-Br-４-ジ（エチル酢酸エステル）アミノ)フェニル)-４，６-ビス(トリクロルメチル)-s-トリアジン、２-トリハロメチル-５-(p-メトキシフェニル)-１，３，４-オキサジアゾールが含まれる。具体的には特開昭５８−１５５０３のｐ１４〜ｐ３０、特開昭５５−７７７４２のｐ６〜ｐ１０、特公昭６０−２７６７３のｐ２８７記載のＮｏ．１〜Ｎｏ．８、特開昭６０−２３９７３６のｐ４４３〜ｐ４４４のＮｏ．１〜Ｎｏ．１７、ＵＳ−４７０１３９９のＮｏ．１〜１９などの化合物が特に好ましい。

無機錯体の例にはビス(η5-２，４-シクロペンタジエン-1-イル)-ビス(2,6−ジフルオロ-３-(１H-ピロール-１-イル)-フェニル)チタニウムが挙げられる。
クマリン類の例には３−ケトクマリンが挙げられる。

これらの開始剤は単独でも混合して用いても良い。「最新ＵＶ硬化技術」，（株）技術情報協会，１９９１年，ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」 加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、ｐ.６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，８１９、９０７、１８７０(CGI-403/Irg184=7/3混合開始剤、５００，３６９，１１７３，２９５９，４２６５，４２６３など)、ＯＸＥ０１）等、日本化薬（株）製のKAYACURE（DETX-S，BP-100，BDMK，CTX，BMS，2-EAQ，ABQ，CPTX，EPD，ITX，QTX，BTC，MCAなど）、サートマー社製のEsacure（KIP100F，KB1，EB3，BP，X33，KT046，KT37，KIP150，TZT）等及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。

光重合開始剤Ｂは、電離放射線硬化性化合物１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーケトンおよびチオキサントン、などを挙げることができる。
更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を1種以上組み合わせて用いてもよい。
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ）などが挙げられる。

熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２，２'−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２'−アゾビス（プロピオニトリル）、１，１'−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。

２−（２）電離放射線硬化性化合物
本発明の反射防止フィルムは電離放射線硬化性化合物、好ましくはエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する組成物を硬化して得られる。電離放射線硬化性化合物の含有量は、無機粒子を除く皮膜形成成分のうち１０質量％以上１００質量％以下が好ましく、より好ましくは、２０質量％以上１００質量％以下、更に好ましくは３０質量％以上９５％以下である。また、本明細書において、「電離放射線硬化性化合物」とは、電離放射線照射によって硬化する化合物であればよい。
電離放射線硬化性化合物としては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがより好ましい。更に、これらポリマーは架橋構造を有していることが好ましい。
飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。
さらに、高屈折率な皮膜にする場合には、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むことが好ましい。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４-シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３-シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４-ジビニルベンゼン、４-ビニル安息香酸-２-アクリロイルエチルエステル、１，４-ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。

更に、高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４-メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４-メタクリロキシフェニル-４'-メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、先に述べた光重合開始剤Ａ及び光重合開始剤Ｂにより、例えば光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。

本発明においてはポリエーテルを主鎖として有するポリマーを使用することもできる。多官能エポキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。光酸発生剤および熱酸発生剤としては、公知ものが使用できる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

特に、反射防止層の中でも、低屈折率層は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位を必須の構成成分とする共重合体の硬化皮膜によって形成されるのが好ましい。該共重合体由来の成分は皮膜固形分の６０質量％以上を占めることが好ましく、７０質量％以上を占めることがより好ましく、８０質量％以上を占めることが特に好ましい。低屈折率化と皮膜硬度の両立の観点から多官能（メタ）アクリレート等の硬化剤も相溶性を損なわない範囲の添加量で好ましく用いられる。また特開平１１−２２８６３１号公報記載の化合物も好ましく使用される。

低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４６であることが好ましく、１．２５〜１．４６であることがより好ましく、１．３０〜１．４６であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、５０〜２００ｎｍであることが好ましく、７０〜１００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。

以下に本発明の低屈性率層に好ましく用いられる電離放射線硬化性化合物の共重合体について説明する。
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学工業（株）製）やＲ−２０２０（商品名、ダイキン工業（株）製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する。本発明では共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％の場合であり、特に好ましくは３０〜５０質量％の場合である。

前記共重合体は側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位を必須の構成成分として有するのが好ましい。これらの（メタ）アクリロイル基含有繰返し単位の組成比を高めれば皮膜強度は向上するが屈折率も高くなる。含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位の種類によっても異なるが、一般に（メタ）アクリロイル基含有繰返し単位は５〜９０質量％を占めることが好ましく、３０〜７０質量％を占めることがより好ましく、４０〜６０質量％を占めることが特に好ましい。

本発明に有用な共重合体では上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、０〜４０モル％の範囲であることがより好ましく、０〜３０モル％の範囲であることが特に好ましい。

併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ、Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル等を挙げることができる。

本発明において下記一般式１で記載される含フッ素ポリマーが好ましく用いられる。

一般式１中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは２〜４の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
好ましい例としては、＊−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ₂）₂−ＮＨ−＊＊，＊−（ＣＨ₂）₄−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ₂）₆−Ｏ−＊＊，−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−＊＊，＊−ＣＯＮＨ−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−＊＊，＊−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−Ｏ−＊＊，＊−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＮＨ（ＣＨ₂）₃−Ｏ−＊＊（＊はポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０または１を表わす。

一般式１中、Ｘは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。

一般式１中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。

好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。

ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表わし、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０の場合である。

本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として一般式２が挙げられる。

一般式２においてＸ、ｘ、ｙは一般式１と同じ意味を表し、好ましい範囲も同じである。
ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表し、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を単位を表わし、単一組成であっても複数の組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式１におけるＡの例として説明したものが当てはまる。
ｚ１およびｚ２はそれぞれの繰返し単位のｍｏｌ％を表わし、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たす値を表す。それぞれ０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。

一般式１又は２で表される共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。

本発明で有用な共重合体は特開平2004-45462の段落番号［００４３］〜［００４７］に示すものが好ましい。

本発明に用いられる共重合体は特開２００４−４５４６２号公報に記載の方法により合成することができる。また、本発明に用いられる共重合体の合成は、上記以外の種々の重合方法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、沈殿重合、塊状重合、乳化重合によって水酸基含有重合体等の前駆体を合成した後、前記高分子反応によって（メタ）アクリロイル基を導入することによって行なうこともできる。重合反応は回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行なうことができる。

重合の開始方法はラジカル開始剤を用いる方法、電離放射線を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二，「高分子合成方法」改定版，日刊工業新聞社，１９７１年や大津隆行、木下雅悦共著，「高分子合成の実験法」，化学同人，昭和４７年，１２４〜１５４頁に記載されている。

上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられる溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールのような種々の有機溶剤の単独あるいは２種以上の混合物でも良いし、水との混合溶媒としても良い。

重合温度は生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり０℃以下から１００℃以上まで可能であるが、５０〜１００℃の範囲で重合を行なうことが好ましい。

反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は、１〜１００ｋＰａ、特に、１〜３０ｋＰａ程度が望ましい。反応時間は、５〜３０時間程度である。

得られたポリマーの再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。

２−（４）無機粒子
本発明には硬度などの物理特性、反射率、散乱性などの光学特性などの向上のため、各種無機粒子を用いることができる。
無機粒子としては、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つ金属の酸化物、具体例としては、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＩＴＯ等が挙げられる。その他ＢａＳＯ_４、ＣａＣＯ_３、タルクおよびカオリンなどが含まれる。

本発明に使用する無機粒子の粒径は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均径は１〜２００ｎｍである。好ましくは５〜１５０ｎｍであり、さらに好ましくは１０〜１００ｎｍ、特に好ましくは１０〜８０ｎｍである。無機粒子を１００ｎｍ以下に微細化することで透明性を損なわないフィルムを形成できる。無機粒子の粒子径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。

無機粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ^２／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ^２／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ^２／ｇであることが最も好ましい。

本発明に使用する無機粒子は分散媒体中に分散物として使用する層の塗布液に添加することが好ましい。
無機粒子の分散媒体は、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例には、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が含まれる。トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが特に好ましい。
特に好ましい分散媒体は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。

無機粒子は、分散機を用いて分散する。分散機の例には、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミルおよび高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。

＜高屈折率粒子＞
本発明を構成する層を高屈折率化する目的に対しては、屈折率の高い無機粒子をモノマーと開始剤、有機置換されたケイ素化合物中に分散した組成物の硬化物が好ましく用いられる。
この場合の無機粒子としては、屈折率の観点から、特にＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２好ましく用いられる。ハードコート層の高屈折率化に対してはＺｒＯ_２が、高屈折率層、中屈折率層用の粒子としてはＴｉＯ_２の微粒子が最も好ましい。

上記ＴｉＯ_２の粒子としては、コバルト、アルミニウム、ジルコニウムから選ばれる少なくとも１つの元素を含有するＴｉＯ_２を主成分とする無機粒子が特に好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。
本発明におけるＴｉＯ_２を主成分とする粒子は、屈折率が１．９０〜２．８０であることが好ましく、２．１０〜２．８０であることがさらに好ましく、２．２０〜２．８０であることが最も好ましい。
ＴｉＯ_２を主成分とする粒子の一次粒子の質量平均径は１〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは１〜１００ｎｍ、特に好ましくは１〜８０ｎｍである。

ＴｉＯ_２を主成分とする粒子の結晶構造は、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造が主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。

ＴｉＯ_２を主成分とする粒子に、Ｃｏ（コバルト）、Ａｌ（アルミニウム）およびＺｒ（ジルコニウム）から選ばれる少なくとも１つの元素を含有することで、ＴｉＯ_２が有する光触媒活性を抑えることができ、本発明のフィルムの耐候性を改良することができる。
特に、好ましい元素はＣｏ（コバルト）である。また、２種類以上を併用することも好ましい。
本発明のＴｉＯ_２を主成分とする無機粒子は、表面処理により特開２００１−１６６１０４号公報記載のごとく、コア／シェル構造を有していても良い。

層中のモノマーや無機粒子の添加量は、バインダーの全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。無機粒子は層内で二種類以上用いても良い。

＜低屈折率粒子＞
低屈折率層に含有させる無機粒子は、低屈折率であることが望ましく、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点でシリカ微粒子が好ましい。
シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの３０％以上１５０％以下が好ましく、より好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、シリカ微粒子の粒径は３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、更に好ましくは、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。

シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。

また、平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満であるシリカ微粒子（「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）の少なくとも１種を上記の粒径のシリカ微粒子（「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）と併用することが好ましい。
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層が１００ｎｍの場合、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。

低屈折率粒子の塗設量は、１ｍｇ／ｍ^２〜１００ｍｇ／ｍ^２が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ^２〜８０ｍｇ／ｍ^２、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ^２〜６０ｍｇ／ｍ^２である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。

＜中空シリカ粒子＞
屈折率をより低下させる目的のためには、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましい。

中空のシリカ微粒子は屈折率が１．１５〜１．４０が好ましく、更に好ましくは１．１７〜１．３５、最もに好ましくは１．１７〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、下記数式（ＶＩＩＩ）で表される空隙率ｘは
（数式ＶＩＩＩ）
ｘ＝（４πａ^３／３）／（４πｂ^３／３）×１００
好ましくは１０〜６０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から１．１５未満の低屈折率の粒子は好ましくない。

中空シリカの製造方法は、例えば特開２００１−２３３６１１や特開２００２−７９６１６号の各公報に記載されている。特にシェルの内部に空洞を有している粒子で、そのシェルの細孔が閉塞されている粒子が特に好ましい。なお、これら中空シリカ粒子の屈折率は特開２００２−７９６１６号公報に記載の方法で算出することができる。

中空シリカの塗設量は、１ｍｇ／ｍ^２〜１００ｍｇ／ｍ^２が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ^２〜８０ｍｇ／ｍ^２、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ^２〜６０ｍｇ／ｍ^２である。少なすぎると、低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。
中空シリカの平均粒径は、低屈折率層の厚みの３０％以上１５０％以下が好ましく、より好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、中空シリカの粒径は３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以上１００ｎｍ以下、更に好ましくは、４０ｎｍ以上６５ｎｍ以下である。
シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、空腔部の割合が減り屈折率の低下が見込めず、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
また、中空シリカは粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
本発明において中空シリカの比表面積は、２０〜３００ｍ^２／ｇが好ましく、更に好ましくは３０〜１２０ｍ^２／ｇ、最も好ましくは４０〜９０ｍ^２／ｇである。表面積は窒素を用いＢＥＴ法で求めることが出来る。

本発明においては、中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、更に好ましくは３５ｎｍ以上１００ｎｍ以下、最も好ましくは４０ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。

２−（４）オルガノシラン化合物
本発明の組成物には、オルガノシラン化合物または、該オルガノシラン化合物の加水分解物および／またはその部分縮合物等（以下、得られた反応溶液を「ゾル成分」とも称する）を含有させることが好ましい。
これら化合物は、前記組成物を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成することによりバインダーとして機能する。また、多官能アクリレートポリマーを有する場合、活性光線の照射により３次元構造を有するバインダーが形成され、硬化物の硬度の上昇、下層との密着性が良くなる。

前記オルガノシラン化合物は、下記一般式［Ａ］で表されるものが好ましい。
一般式［Ａ］
（Ｒ^１０）_ｍ−Ｓｉ（Ｘ）_４−ｍ
前記一般式［Ａ］において、Ｒ^１０は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜６のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｘは、水酸基または加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、およびＲ^２ＣＯＯ（Ｒ^２は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ_３ＣＯＯ、Ｃ_２Ｈ_５ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
ｍは１〜３の整数を表し、好ましくは１または２であり、特に好ましくは１である。

Ｒ^１０あるいはＸが複数存在するとき、複数のＲ^１０あるいはＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｒ^１０に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。

Ｒ^１０が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。
前記一般式［Ａ］で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式［Ｂ］で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。

一般式［Ｂ］

前記一般式［Ｂ］において、Ｒ^１は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Ｙは単結合もしくは＊−ＣＯＯ−＊＊，＊−ＣＯＮＨ−＊＊または＊−Ｏ−＊＊を表し、単結合、＊−ＣＯＯ−＊＊および＊−ＣＯＮＨ−＊＊が好ましく、単結合および＊−ＣＯＯ−＊＊が更に好ましく、＊−ＣＯＯ−＊＊が特に好ましい。＊は＝Ｃ（Ｒ^１）−に結合する位置を、＊＊はＬに結合する位置を表す。

Ｌは２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。

ｎは０または１を表す。Ｘが複数存在するとき、複数のＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｎとして好ましくは０である。
Ｒ^１０は一般式［Ａ］と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Ｘは一般式［Ａ］と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。

一般式［Ａ］、一般式［Ｂ］の化合物は２種類以上を併用しても良い。以下に一般式［Ａ］、一般式［Ｂ］で表される化合物の具体例を示すが、限定されるものではない。

Ｍ−１１ メチルトリメトキシシラン
Ｍ―１２ トリメチルメトキシシラン
Ｍ―１３ トリエチルメトキシシラン

これらの化合物のうち、Ｍ−１、Ｍ−２、Ｍ−５、Ｍ−１１、Ｍ−１２を用いることが好ましい。
２種を併用する時は、重合性基を持つ化合物として、Ｍ−１またはＭ―２を選択し重合性基を持たない化合物としてはＭ−１１またはＭ―１２を選択して併用することが好ましい。また上記の重合性基を持つ化合物と重合性基を持たない化合物を組み合わせて加水分解した後縮合させたオリゴマーを使用することも好ましい。

これらのうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、および（Ｍ−５）が特に好ましい。

そして、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、ＴｉまたはＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類および有機酸類の酸触媒を用いるのが好ましい。無機酸では塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数（ｐＫａ値（２５℃））が４．５以下のものが好ましく、更には、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸が好ましく、特に、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、具体的には、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。

金属キレート化合物としては、一般式Ｒ^３ＯＨ（式中、Ｒ^３は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールとＲ^４ＣＯＣＨ_２ＣＯＲ^５（式中、Ｒ^４は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ^５は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる 金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ^３）_ｐ１（Ｒ^４ＣＯＣＨＣＯＲ^５）_ｐ２、Ｔｉ（ＯＲ^３）_ｑ１（Ｒ^４ＣＯＣＨＣＯＲ^５）_ｑ２、およびＡｌ（ＯＲ^３）_ｒ１（Ｒ^４ＣＯＣＨＣＯＲ^５）_ｒ２で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
金属キレート化合物中のＲ^３およびＲ^４は、同一または異なってもよく炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ^５は、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１、およびｒ２は、それぞれｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。

これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。

また、本発明においては、前記硬化性組成物に、更にβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。

本発明で使用されるのは、一般式Ｒ^４ＣＯＣＨ_２ＣＯＲ^５で表されるβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる硬化性組成物の安定性向上剤として作用するものである。ここで、Ｒ^４は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ^５は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を表す。すなわち、前記金属キレート化合物（ジルコニウム、チタニウムおよび／またはアルミニウム化合物）中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物を構成するＲ^４およびＲ^５は、前記金属キレート化合物を構成するＲ^４およびＲ^５と同様である。

このβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−ｓｅｃ−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物は、１種単独でまたは２種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物１モルに対し好ましくは２モル以上、より好ましくは３〜２０モル用いられる。２モル未満では得られる組成物の保存安定性に劣るおそれがあり好ましいものではない。

前記オルガノシラン化合物または、その加水分解物および/またはその部分縮合物の配合量は、低屈折率層の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜２０質量％が最も好ましい。
前記オルガノシラン化合物は塗布組成物に直接添加してもよいが、前記オルガノシラン化合物をあらかじめ触媒の存在下に処理して前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物を調製し、得られた反応溶液（ゾル液）を用いて前記塗布組成物を調整するのが好ましく、本発明においてはまず前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物および金属キレート化合物を含有する組成物を調製し、これにβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物を添加した液を塗布組成物に含有せしめて塗設することが好ましい。

２−（５）ポリシロキサン化合物
本発明の組成物には、ポリシロキサン化合物を含有させることが好ましい。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。

ポリシロキサン化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端および／または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、３０００〜３００００であることが特に好ましく、１００００〜２００００であることが最も好ましい。ポリシロキサン化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７．８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。好ましいポリシロキサン化合物の例 としては信越化学（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１８２１（以上商品名）やチッソ（株）製、ＦＭ−０７２５、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−５５２１、ＦＭ６６２１、ＦＭ−１１２１やＧｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ−Ｕ２２、ＲＭＳ−０３３、ＲＭＳ−０８３、ＵＭＳ−１８２、ＤＭＳ−Ｈ２１、ＤＭＳ−Ｈ３１、ＨＭＳ−３０１、ＦＭＳ１２１、ＦＭＳ１２３、ＦＭＳ１３１、ＦＭＳ１４１、ＦＭＳ２２１（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。

３．本発明に使用できる各種化合物
次に、本発明のフィルムに使用することのできるその他の化合物について記載する。

３−（１）透光性粒子
本発明の組成物、特に防眩層やハードコート層に用いられる組成物は、防眩性（表面散乱性）や内部散乱性を付与するため、各種の透光性粒子を用いることが出来る。

透光性粒子は有機粒子であっても、無機粒子であってもよい。粒径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなり、ヘイズ値の設計が容易となる。透光性粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、バインダーとの屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子（屈折率１．４９）、架橋ポリ（アクリル−スチレン）共重合体粒子（屈折率１．５４）、メラミン樹脂粒子（屈折率１．５７）、ポリカーボネート粒子（屈折率１．５７）、ポリスチレン粒子（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニル粒子（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子（屈折率１．６８）等が用いられる。
無機粒子としては、シリカ粒子（屈折率１．４４）、アルミナ粒子（屈折率１．６３）、ジルコニア粒子、チタニア粒子、また中空や細孔を有する無機粒子が挙げられる。

なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを達成することができる。
さらに、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としたバインダー（硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３）とアクリル含率５０〜１００質量パーセントである架橋ポリ（メタ）アクリレート重合体からなる透光性粒子を組合せて用いることが好ましく、特にバインダーと架橋ポリ（スチレン−アクリル）共重合体からなる透光性粒子（屈折率が１．４８〜１．５４）との組合せが好ましい。

本発明におけるバインダーと透光性粒子との屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．６５である。屈折率を前記範囲とするには、バインダーおよび透光性粒子の種類および量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
また、本発明においては、バインダーと透光性粒子との屈折率の差（透光性粒子の屈折率−バインダーの屈折率）は、絶対値として好ましくは０．００１〜０．０３０であり、より好ましくは０．００１〜０．０２０、更に好ましくは０．００１〜０．０１５である。この差が０．０３０を超えると、フィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じる。

ここで、バインダーの屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。前記透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。

上記のような透光性粒子の場合には、バインダー中で透光性粒子が沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透光性粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、バインダーに対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させるとよい。

透光性粒子の平均粒径は０．５〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２．０〜６．０μｍである。

また、粒子径の異なる２種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。

前記透光性粒子は、添加層全固形分中に３〜３０質量％含有されるように配合される。より好ましくは５〜２０質量％である。３質量％未満であると、添加効果が不足し、３０質量％を超えると、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題が生じる。

また、透光性粒子の密度は、好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ^２、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ^２である。

＜透光性粒子調製、分級法＞
本発明に係る透光性粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社）１３０頁および１４６頁から１４７頁の記載、「合成高分子」１巻、ｐ．２４６〜２９０、同３巻、ｐ．１〜１０８等に記載の方法、および特許第２５４３５０３号明細書、同第３５０８３０４号明細書、同第２７４６２７５号明細書、同第３５２１５６０号明細書、同第３５８０３２０号明細書、特開平１０−１５６１号公報、特開平７−２９０８号公報、特開平５−２９７５０６号公報、特開２００２−１４５９１９号公報等に記載の方法を参考にすることができる。

透光性粒子の粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒度分布を持つ粒子は、調製または合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、望ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。

３−（２）導電性粒子
本発明の組成物には導電性を付与するために、各種の導電性粒子を用いることができる。
導電性粒子は、金属の酸化物または窒化物から形成することが好ましい。金属の酸化物または窒化物の例には、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛および窒化チタンが含まれる。酸化錫および酸化インジウムが特に好ましい。導電性無機粒子は、これらの金属の酸化物または窒化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素の例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖおよびハロゲン原子が含まれる。酸化錫および酸化インジウムの導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｐ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖおよびハロゲン原子を添加することが好ましい。Ｓｂを含有する酸化錫（ＡＴＯ）およびＳｎを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）が特に好ましい。ＡＴＯ中のＳｂの割合は、３〜２０質量％であることが好ましい。ＩＴＯ中のＳｎの割合は、５〜２０質量％であることが好ましい。

３−（３）表面処理剤
本発明で使用する無機粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。

表面処理は、無機化合物または有機化合物の表面処理剤を用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例には、コバルトを含有する無機化合物（ＣｏＯ_２，Ｃｏ_２Ｏ_３，Ｃｏ_３Ｏ_４など）、アルミニウムを含有する無機化合物（Ａｌ_２Ｏ_３，Ａｌ（ＯＨ）_３など）、ジルコニウムを含有する無機化合物（ＺｒＯ_２，Ｚｒ（ＯＨ）_４など）、ケイ素を含有する無機化合物（ＳｉＯ_２など）、鉄を含有する無機化合物（Ｆｅ_２Ｏ_３など）などが含まれる。
コバルトを含有する無機化合物、アルミニウムを含有する無機化合物、ジルコニウムを含有する無機化合物が特に好ましく、コバルトを含有する無機化合物、Ａｌ（ＯＨ）_３、Ｚｒ（ＯＨ）_４が最も好ましい。
表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤およびチタネートカップリング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。特にシランカップリング剤（オルガノシラン化合物）、その部分加水分解物、およびその縮合物の少なくとも一種で表面処理されていることが好ましい。

チタネートカップリング剤としては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、のどのテトライソプロポキシチタンなどの金属アルコキシド、プレンアクト（ＫＲ−ＴＴＳ、ＫＲ−４６Ｂ、ＫＲ−５５、ＫＲ−４１Ｂなど；味の素（株）製）などが挙げられる。
表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、その他アニオン性基を有する有機化合物などが好ましく、特に好ましいのは、カルボキシル基、スルホン酸基、または、リン酸基を有する有機化合物である。ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸などが好ましく用いることができる。
表面処理に用いる有機化合物は、さらに、架橋または重合性官能基を有することが好ましい。架橋、または、重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基（例えば（メタ）アクリル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等）、カチオン重合性基（エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等）、重縮合反応性基（加水分解性シリル基等、Ｎ−メチロール基）等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する基である。

これらの表面処理は、２種類以上を併用することもでき、アルミニウムを含有する無機化合物とジルコニウムを含有する無機化合物を併用することが、特に好ましい。

無機粒子がシリカである場合、カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
上記カップリング剤は、低屈折率層の無機フィラーの表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
シリカ微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
本発明に好ましく用いることのできる表面処理剤および表面処理用の触媒の具体的化合物は、例えば、ＷＯ２００４／０１７１０５号に記載のオルガノシラン化合物および触媒を挙げることができる。

３−（４）分散剤
本発明に使用する粒子の分散には各種の分散剤を使用することができる。
分散剤は、さらに架橋または重合性官能基を含有することが好ましい。架橋または重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基（例えば（メタ）アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等）、カチオン重合性基（エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等）、重縮合反応性基（加水分解性シリル基等、Ｎ−メチロール基）等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。

３−（５）防汚剤
本発明の組成物、特にフィルムの最上層に用いられる組成物には防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のポリシロキサン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することが好ましい。
これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。

防汚剤として用いられるフッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０であり、直鎖（例えば−ＣＦ_２ＣＦ_３，−ＣＨ_２（ＣＦ_２）_４Ｈ，−ＣＨ_２（ＣＦ_２）８ＣＦ_３，−ＣＨ_２ＣＨ_２（ＣＦ_２）_４Ｈ等）であっても、分岐構造（例えばＣＨ（ＣＦ_３）_２，ＣＨ_２ＣＦ（ＣＦ_３）_２，ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＦ_２ＣＦ_３，ＣＨ（ＣＨ_３）（ＣＦ_２）_５ＣＦ_２Ｈ等）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環または６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等）であっても良く、エーテル結合を有していても良い（例えばＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_３，ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２Ｃ_４Ｆ８Ｈ，ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ_８Ｆ_１７，ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。

フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業（株）製、Ｒ−２０２０、Ｍ−２０２０、Ｒ−３８３３、Ｍ−３８３３（以上商品名）、大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７９Ａ、ディフェンサＭＣＦ−３００（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。

防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１５０（商品名）、東レダウコーニング（株）製、ＳＨ−３７４８（商品名）などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。

３−（６）界面活性剤
本発明の組成物には、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を塗布組成物中に含有することが好ましい。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いることができる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることができる。

フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体（「フッ素系ポリマー」と略記することもある）が挙げられ、該フッ素系ポリマーは、下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とする、アクリル樹脂、メタアクリル樹脂、およびこれらに共重合可能なビニル系モノマー（例えば、下記（ｉｉ）のモノマー）との共重合体が有用である。

（ｉ）下記一般式イで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
一般式イ

一般式イにおいてＲ^１１は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ^１２）−を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは２〜４の整数を表す。Ｒ^１２は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｘは酸素原子が好ましい。

（ｉｉ）前記（ｉ）と共重合可能な下記一般式ロで示されるモノマー
一般式ロ

一般式ロにおいて、Ｒ^１３は水素原子またはメチル基を表し、Ｙは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ^１５）−を表し、Ｒ^１５は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｙは酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−、および−Ｎ（ＣＨ_３）−が好ましい。
Ｒ^１４は置換基を有しても良い炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す。Ｒ^１４のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるがこの限りではない。炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基としては、直鎖および分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基およびビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。

本発明で用いられるフッ素系ポリマー中に用いられるこれらの一般式イで示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの各単量体に基づいて１０モル％以上であり、好ましくは１５〜７０モル％であり、より好ましくは２０〜６０モル％の範囲である。

本発明で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、５，０００〜８０，０００がより好ましい。
更に、本発明で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい添加量は、塗布液に対して０．００１〜５質量％の範囲であり、好ましくは０．００５〜３質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。

３−（７）増粘剤

本発明の組成物には、塗布組成物の粘度を調整するために増粘剤を用いてもよい。
ここでいう増粘剤とは、それを添加することにより液の粘度が増大するものを意味し、添加することにより塗布組成物の粘度が上昇する大きさとして好ましくは０．０５〜５０ｃＰであり、さらに好ましくは０．１０〜２０ｃＰであり、最も好ましくは０．１０〜１０ｃＰである。

３−（８）塗布溶剤
本発明の各層を形成するための塗布組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解または分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。
溶媒は２種類以上のものを混合して用いることができる。特に、乾燥負荷の観点から、常圧室温における沸点が１００℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が１００℃以上の溶剤を少量含有することが好ましい。

沸点が１００℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２−ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン（８７．２℃）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６８．５℃）、ジプロピルエーテル（９０．５℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９℃）などのエステル類、アセトン（５６．１℃）、２−ブタノン（メチルエチルケトンと同じ、７９．６℃）などのケトン類、メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．３℃）、２−プロパノール（８２．４℃）、１−プロパノール（９７．２℃）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２℃）などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。

沸点が１００℃を以上の溶剤としては、例えば、オクタン（１２５．７℃）、トルエン（１１０．６℃）、キシレン（１３８℃）、テトラクロロエチレン（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、ジオキサン（１０１．３℃）、ジブチルエーテル（１４２．４℃）、酢酸イソブチル（１１８℃）、シクロヘキサノン（１５５．７℃）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫと同じ、１１５．９℃）、１−ブタノール（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノンである。

３−（９）その他
本発明の組成物には、前記の成分以外に、樹脂、カップリング剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤などを添加することもできる。

３−（１０）支持体
本発明のフィルムの支持体としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム等が使用できる。

＜セルロースアシレートフィルム＞
その中でも、透明性が高く、光学的に複屈折が少なく、製造が容易であり、偏光板の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアシレートフィルムが好ましく、セルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。又、透明支持体の厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度とする。

本発明ではセルロースアシレートフィルムに、酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。
また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の値が１．０に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがさらに好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。

一般に、セルロースアシレートの２，３，６の水酸基は全体の置換度の１／３づつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。さらにセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。
本発明ではセルロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号公報の段落「００４３」〜「００４４」［実施例］［合成例１］、段落「００４８」〜「００４９」［合成例２］、段落「００５１」〜「００５２」［合成例３］に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。

＜ポリエチレンテレフタレートフィルム＞
本発明では、ポリエチレンテレフタレートフィルムも、透明性、機械的強度、平面性、耐薬品性および耐湿性共に優れており、その上安価であり好ましく用いられる。
透明プラスチックフィルムとその上に設けられるハードコート層との密着強度をより向上させるため、透明プラスチックフィルムは易接着処理が施されたされたものであることが更に好ましい。
市販されている光学用易接着層付きＰＥＴフィルムとしては東洋紡績社製コスモシャインＡ４１００、Ａ４３００等が挙げられる。

４．フィルムを構成する層
本発明のフィルムは、上記の各種化合物を混合、塗設することによって得られるものであるが、次に、本発明のフィルムを構成する層について記載する。

４−（１）防眩層（防眩性ハードコート層）
防眩層は、本発明で規定される表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。

防眩性を形成する方法としては、特開平６−１６８５１号記載のような表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法、特開２０００−２０６３１７号記載のように電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法、特開２０００−３３８３１０号記載のように乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の質量比が減少することにより透光性微粒子および透光性樹脂とをゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法、特開２０００−２７５４０４号記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法などが知られており、これら公知の方法を利用することができる。
本発明で用いることができる防眩層は好ましくはハードコート性を付与することのできるバインダー、防眩性を付与するための透光性粒子、および溶媒を必須成分として含有し、透光性粒子自体の突起あるいは複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸を形成されるものであることが好ましい。
マット粒子の分散によって形成される防眩層は、バインダーとバインダー中に分散された透光性粒子とからなる。防眩性を有する防眩層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えていることが好ましい。

上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ_２粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、シリカ粒子が好ましい。
マット粒子の形状は、球形あるいは不定形のいずれも使用できる。

マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。

これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせて透光性樹脂の屈折率を調整することにより、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズを達成することができる。具体的には、後述する本発明の防眩層に好ましく用いられる３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としてなる透光性樹脂（硬化後の屈折率が１．５５〜１．７０）と、スチレン含率５０〜１００質量％である架橋ポリ（メタ）アクリレート重合体からなる透光性粒子および／またはベンゾグアナミン粒子との組合せが好ましく、特に前記透光性樹脂とスチレン含率５０〜１００質量％である架橋ポリ（スチレン−アクリレート）共重合体からなる透光性粒子（屈折率が１．５４〜１．５９）との組合せが特に好ましい。

透光性粒子は、形成された防眩層中に、防眩層全固形分中に３〜３０質量％含有されるように配合されることが好ましい。より好ましくは５〜２０質量％である。
また、透光性粒子の密度は、好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ²、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ²である。

また、透光性樹脂の屈折率と透光性粒子の屈折率の差の絶対値が０．０４以下が好ましい。透光性樹脂の屈折率と透光性粒子の屈折率の差の絶対値は好ましくは０．００１〜０．０３０であり、より好ましくは０．００１〜０．０２０、更に好ましくは０．００１〜０．０１５である。
ここで、前記透光性樹脂の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。前記透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。

また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに防眩性反射防止フィルムを貼り付けた場合に、「ギラツキ」と呼ばれる表示画像品位上の不具合が発生する場合がある。「ギラツキ」は、防眩性反射防止防止フィルム表面に存在する凹凸により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与するマット粒子よりも小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なるマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。

防眩層の膜厚は、１〜１０μｍが好ましく、１．２〜８μｍがより好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が低下する場合があるので、前記範囲内とするのが好ましい。

一方、防眩層の中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．１０〜０．４０μｍの範囲が好ましい。また、透過画像鮮明度の値は、５〜６０％とするのが好ましい。

防眩層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

４−（２）ハードコート層
本発明のフィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、防眩層に加えてハードコート層を設けることができる。
好ましくは、その上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。

本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．５２〜１．９０であり、更に好ましくは１．５５〜１．８０である。本発明では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも１層あるので、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。

ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは２μｍ〜１０μｍ、最も好ましくは３μｍ〜７μｍである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
さらに、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、または、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子を含有してもよい。

ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマーまたは無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマーおよび／または高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。

画像の鮮明性を維持する目的では、表面の凹凸形状を調整することに加えて、透過画像鮮明度を調整することが好ましい。クリアな反射防止フィルムの透過画像鮮明度は６０％以上が好ましい。透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像の呆け具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。透過画像鮮明度は好ましくは７０％以上であり、更に好ましくは８０％以上である。

４−（３）高屈折率層、中屈折率層
本発明のフィルムには、高屈折率層、中屈折率層を設け、反射防止性を高めることができる。
以下の本明細書では、この高屈折率層と中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また、透明支持体との関係で言えば屈性率は、透明支持体＞低屈折率層、高屈折率層＞透明支持体の関係を満たすことが好ましい。
また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。

高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．４０であることが好ましく、より好ましくは１．６０〜２．２０、更に好ましくは、１．６５〜２．１０、最も好ましくは１．８０〜２．００である。

支持体から近い順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作成する場合、高屈折率層の屈折率は、１．６５乃至２．４０であることが好ましく、１．７０乃至２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５５乃至１．８０であることが好ましい。

高屈折率層および中屈折率層に用いるＴｉＯ_２を主成分とする無機粒子は、分散物の状態で高屈折率層および中屈折率層の形成に使用する。
無機粒子の分散において、分散剤の存在下で分散媒体中に分散する。

本発明に用いる高屈折率層および中屈折率層は、分散媒体中に無機粒子を分散した分散液に、好ましくは、さらにマトリックス形成に必要なバインダー前駆体（例えば、後述する電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）、光重合開始剤等を加えて高屈折率層および中屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層および中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、電離放射線硬化性化合物（例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）の架橋反応または重合反応により硬化させて形成することが好ましい。

さらに、高屈折率層および中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時または塗布後に、分散剤と架橋反応または重合反応させることが好ましい。
このようにして作製した高屈折率層および中屈折率層のバインダーは、例えば、上記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋または重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。さらに高屈折率層および中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋または重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機粒子を含有する高屈折率層および中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。

高屈折率層のバインダーは、該層の塗布組成物の固形分量に対して、５〜８０質量％添加する。

高屈折率層における無機粒子の含有量は、高屈折率層の質量に対し１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは１５〜８０質量％、特に好ましくは１５〜７５質量％である。無機粒子は高屈折率層内で二種類以上を併用してもよい。
高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましい。
高屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素（例えば、Ｂｒ，Ｉ，Ｃｌ等）を含む電離放射線硬化性化合物、Ｓ，Ｎ，Ｐ等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋または重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。

高屈折率層の膜厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層を後述する光学干渉層として用いる場合、３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１７０ｎｍ、特に好ましくは６０〜１５０ｎｍである。

高屈折率層のヘイズは、防眩機能を付与する粒子を含有しない場合、低いほど好ましい。５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。
高屈折率層は、前記透明支持体上に直接、または、他の層を介して構築することが好ましい。

４−（４）低屈折率層
本発明のフィルムの反射率を低減するため、低屈折率層を用いる必要がある。

低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４６であることが好ましく、１．２５〜１．４６であることがより好ましく、１．３０〜１．４６であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、５０〜２００ｎｍであることが好ましく、７０〜１００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、光学フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０度以上であることが好ましい。更に好ましくは９５度以上であり、特に好ましくは１００度以上である。

４−（５）帯電防止層、導電性層
本発明においては、帯電防止層を設けることがフイルム表面での静電気防止の点で好ましい。帯電防止層を形成する方法は、例えば、導電性微粒子と反応性硬化樹脂を含む導電性塗工液を塗工する方法、或いは透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリングして導電性薄膜を形成する方法等の従来公知の方法を挙げることができる。導電性層 は、支持体に直接または支持体との接着を強固にするプライマー層を介して形成することができる。また、帯電防止層を反射防止膜の一部として使用することもできる。この場合、最表層から近い層で使用する場合には、膜の厚さが薄くても十分に帯電防止性を得ることができる

帯電防止層の厚さは、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０３〜７μｍであることがより好ましく、０．０５〜５μｍであることがさらに好ましい。帯電防止層の表面抵抗は、１０^５〜１０^１２Ω／ｓｑであることが好ましく、１０^５〜１０^９Ω／ｓｑであることがさらに好ましく、１０^５〜１０^８Ω／ｓｑであることが最も好ましい。帯電防止層の表面抵抗は、四探針法により測定することができる。

帯電防止層は、実質的に透明であることが好ましい。具体的には、帯電防止層のヘイズが、１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。波長５５０ｎｍの光の透過率が、５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、６５％以上であることがさらに好ましく、７０％以上であることが最も好ましい。
本発明の帯電防止層は、強度が優れており、具体的な帯電防止層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましく、４Ｈ以上であることが最も好ましい。

４−（６）防汚層
本発明の最表面には防汚層を設けることができる。防汚層は反射防止層の表面エネルギーを下げ、親水性あるいは親油性の汚れを付きにくくするものである。
防汚層には含フッ素ポリマーや防汚剤を用いて形成することができる。
防汚層の厚さは２〜１００ｎｍであることが好ましく、５〜３０ｎｍであることがさらに好ましい。

４−（７）干渉ムラ（虹ムラ）防止層
透明支持体とハードコート層、または透明支持体と防眩層に実質的な屈折率差（屈折率差が０．０３以上）がある場合、透明支持体／ハードコート層、または透明支持体／防眩界面で反射光が生じる。この反射光は反射防止層表面での反射光と干渉し、ハードコート層（または防眩層）の微妙な膜厚ムラに起因した干渉ムラを生じることがある。この様な干渉ムラを防止するために、例えば透明支持体とハードコート層（または防眩層）の間に中間の屈折率ｎ_Ｐを有し、膜厚ｄ_Ｐが下記式を満たす様な干渉ムラ防止層を設けることもできる。

ｄ_Ｐ＝（２Ｎ−１）×λ／（４ｎ_Ｐ）
但し、λは可視光の波長で４５０〜６５０ｎｍの範囲の何れかの値、Ｎは自然数。

また、反射防止フィルムを画像表示等に貼合する場合、透明支持体の反射防止層を積層していない側に粘着剤層（または接着剤層）を積層する場合がある。この様な態様で、透明支持体と粘着剤層（または接着剤層）の間に実質的な屈折率差（０．０３以上）がある場合、透明支持体／粘着剤層（または接着剤層）の反射光が生じ、この反射光が、反射防止層表面の反射光などと干渉し、上記と同様に支持体やハードコート層の膜厚ムラに起因した干渉ムラを生じることがある。この様な干渉ムラを防止する目的で透明支持体の反射防止層を積層していない側に上記と同様の干渉ムラ防止層を設けることもできる。

尚、この様な干渉ムラ防止層に関しては特開２００４−３４５３３３号公報に詳しく記載されており、本発明ではここで紹介されている干渉ムラ防止層を用いることもできる。

４−（８）易接着層
本発明のフィルムには易接着層を塗設することもできる。易接着層とは、例えば、偏光板用保護フィルムとその隣接層、あるいはハードコート層と支持体とを接着し易くする機能を付与する層のことをいう。
易接着処理としては、ポリエステル、アクリル酸エステル、ポリウレタン、ポリエチレンイミン、シランカップリング剤等からなる易接着剤により透明プラスチックフィルム上に易接着層を設ける処理が挙げられる。
本技術にて好ましく用いられる易接着層の例としては、−ＣＯＯＭ（Ｍは水素原子またはカチオンを表す）基を有する高分子化合物を含有する層を含むものであり、さらに好ましい態様はフィルム基材側に−ＣＯＯＭ基を有する高分子化合物を含有する層を設け、それに隣接させて偏光膜側に親水性高分子化合物を主たる成分として含む層を設けたものである。ここでいう−ＣＯＯＭ基を有する高分子化合物としては例えば−ＣＯＯＭ基を有するスチレン−マレイン酸共重合体や−ＣＯＯＭ基を有する酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸−無水マレイン酸共重合体などであり、特に−ＣＯＯＭ基を有する酢酸ビニル−マレイン酸共重合体を用いると好ましい。このような高分子化合物を単独でまたは２種以上併用して用い、好ましい質量平均分子量としては５００〜５００，０００程度のものであるとよい。−ＣＯＯＭ基を有する高分子化合物の特に好ましい例は特開平６−０９４９１５号、特開平７−３３３４３６号各公報記載のものが好ましく用いられる。

また親水性高分子化合物として好ましくは、親水性セルロース誘導体（例えば、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシセルロース等）、ポリビニルアルコール誘導体（例えば、ポリビニルアルコール、酢酸ビニルービニルアルコール共重合体、ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマール、ポリビニルベンザール等）、天然高分子化合物（例えば、ゼラチン、カゼイン、アラビアゴム等）、親水性ポリエステル誘導体（例えば、部分的にスルホン化されたポリエチレンテレフタレート等）、親水性ポリビニル誘導体（例えば、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリビニルインダゾール、ポリビニルピラゾール等）が挙げられ、単独或いは２種以上併用して用いられる。
易接着層の厚みとしては０．０５〜１．０μｍの範囲が好ましい。０．０５μｍより薄いと十分な接着性が得られ難く、また、１．０μｍより厚いと接着性の効果は飽和する。

４−（９）カール防止層
本技術のフィルムには、カール防止加工を施すこともできる。カール防止加工とは、これを施した面を内側にして丸まろうとする機能を付与するものであるが、この加工を施すことによって、透明樹脂フィルムの片面に何らかの表面加工をして、両面に異なる程度・種類の表面加工を施した際に、その面を内側にしてカールしようとするのを防止する働きをするものである。
カール防止層は基材の防眩層または反射防止層を有する側と反対側に設ける態様或いは、例えば透明樹脂フィルムの片面に易接着層を塗設する場合もあり、また逆面にカール防止加工を塗設するような態様が挙げられる。

カール防止加工の具体的方法としては、溶剤塗布によるもの、溶剤とセルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネート等の透明樹脂層を塗設するもの等が挙げられる。溶剤による方法とは、具体的には偏光板用保護フィルムとして用いるセルロースアシレートフィルムを溶解させる溶剤または膨潤させる溶剤を含む組成物を塗布することによって行われる。これらのカールを防止する機能を有する層の塗布液は従ってケトン系、エステル系の有機溶剤を含有するものが好ましい。好ましいケトン系の有機溶媒の例としてはアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、乳酸エチル、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、エチル−ｎ−ブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジエチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、メチル−ｎ−へプチルケトン等であり、好ましいエステル系の有機溶剤の例としては酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。しかしながら、用いる溶剤としては溶解させる溶剤および／または膨潤させる溶剤の混合物の他、さらに溶解させない溶剤を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合や樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物および塗布量を用いて行う。この他にも、透明ハード加工や帯電防止加工を施してもカール防止機能を発揮する。

４−（１０）水吸収層
本発明のフィルムには水吸収剤を使用することができる。水吸収剤は、アルカリ土類金属を中心に、水吸収機能を有する化合物から選択することができる。例えば、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＣａＯ、およびＭｇＯなどが挙げられる。さらに、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｃａの様な金属元素から選択することもできる。これらの吸収剤粒子の粒子サイズは、好ましくは１００ｎｍ以下であり、５０ｎｍ以下で使用されるのがさらに好ましい。
これらの水吸収剤を含む層は前述のバリア層と同様に真空下蒸着法等を使って作成してもよいし、ナノ粒子を各種方法で作成して用いてもよい。層の厚みは１〜１００ｎｍが好ましく、１〜１０ｎｍがより好ましい。水吸収剤を含む層は、支持体と積層体（バリア層と有機層の積層体）の間、積層体の最上層、積層体の間、或いは、積層体中の有機層或いはバリア層中に添加されていてもよい。バリア層に添加する場合には共蒸着法を用いることが好ましい。

４−（１１）プライマー層・無機薄膜層
本発明のフィルムでは、支持体と積層体との間に、公知のプライマー層または無機薄膜層を設置することでガスバリアー性を高めたりすることができる。
プライマー層としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を用いることが可能であるが、本発明においてはこのプライマー層として有機無機ハイブリッド層を、無機薄膜層として無機蒸着層またはゾルーゲル法による緻密な無機コーティング薄膜が好ましい。無機蒸着層としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ等の蒸着層が好ましい。無機蒸着層は真空蒸着法、スパッタリング法等により形成することができる。

５．製造方法
本発明のフィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。

本発明の反射防止フィルムの製造方法は、下記（１）及び（２）の工程を含む製造工程によって支持体上に積層される層の少なくとも一層を形成する工程を有することが好ましい。
（１）連続して走行する、支持体を含むウェッブ上に、光重合開始剤Ａ、光重合開始剤Ｂ、および電離放射線硬化性化合物を含む塗布液を塗布及び乾燥し、塗布層を形成する工程、
（２）前記ウェッブ上の塗布層に、酸素濃度１５体積％以下の雰囲気下で電離放射線を０．５秒以上照射することにより、塗布層を硬化する工程（以後、（２）の塗布層を硬化する工程を「硬化工程」と称することもある）。
以下、上記の製造方法について説明する。
５−（１）塗布液の調製

＜調製＞
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。その際、溶剤の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は５％以下が好ましく、２％以下がより好ましい。溶剤の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、或いはその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。

＜塗布液物性＞
本発明の塗布方式は液物性により塗布可能な上限の速度が大きく影響を受けるため、塗布する瞬間の液物性、特に粘度および表面張力を制御する必要がある。
粘度については２．０［ｍＰａ・ｓｅｃ］以下であることが好ましく、更に好ましくは１．５［ｍＰａ・ｓｅｃ］以下、最も好ましくは１．０［ｍＰａ・ｓｅｃ］以下である。塗布液によってはせん断速度により粘度が変化するものもあるため、上記の値は塗布される瞬間のせん断速度における粘度を示している。塗布液にチキソトロピー剤を添加して、高せん断のかかる塗布時は粘度が低く、塗布液にせん断が殆どかからない乾燥時は粘度が高くなると乾燥時のムラが発生しにくくなり、好ましい。
また、液物性ではないが、支持体に塗り付けられる塗布液の量も塗布可能な上限の速度に影響を与える。支持体に塗り付けられる塗布液の量は２．０〜５．０［ｃｃ／ｍ^２］であることが好ましい。支持体に塗り付けられる塗布液の量を増やすと塗布可能な上限の速度が上がるため好ましいが、支持体に塗り付けられる塗布液の量を増やしすぎると乾燥にかかる負荷が大きくなるため、液処方・工程条件によって最適な支持体に塗り付けられる塗布液の量を決めることが好ましい。
表面張力については、１５〜３６［ｍＮ／ｍ］の範囲にあることが好ましい。レベリング剤を添加するなどして表面張力を低下させることは乾燥時のムラが抑止されるため好ましい。一方、表面張力が下がりすぎると塗布可能な上限の速度が低下してしまうため、１７［ｍＮ／ｍ］から３２［ｍＮ／ｍ］の範囲がより好まく、１９［ｍＮ／ｍ］から２６［ｍＮ／ｍ］の範囲が更に好ましい。

＜濾過＞
塗布に用いる塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルターは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が０．１〜１０μｍのフィルターが用いられ、さらには絶対濾過精度が０．１〜５μｍであるフィルターを用いることが好ましく用いられる。フィルターの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、ろ過圧力は１．５ＭＰａ以下、より好ましくは１．０ＭＰａ以下、更には０．２ＭＰａ以下で濾過することが好ましい。
ろ過フィルター部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物のろ過部材と同様のものが挙げられる。
また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。

５−（２）塗布前の処理
本発明で使用する支持体は、塗布前に表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。

さらに、塗布が行われる前工程としての除塵工程に用いられる除塵方法として、特開昭５９−１５０５７１号公報に記載のフィルム表面に不織布や、ブレード等を押しつける方法、特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法、特開平７−３３３６１３号公報に記載される超音波振動する圧縮空気を吹き付けて付着物を剥離させ、吸引する方法（伸興社製、ニューウルトラクリーナー等）等の乾式除塵法が挙げられる。
また、洗浄槽中にフィルムを導入し、超音波振動子により付着物を剥離させる方法、特公昭４９−１３０２０号公報に記載されているフィルムに洗浄液を供給したあと、高速空気の吹き付け、吸い込みを行なう方法、特開２００１−３８３０６号に記載のように、ウェブを液体でぬらしたロールで連続的に擦った後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法等の湿式除塵法を用いることができる。このような除塵方法の内、超音波除塵による方法もしくは湿式除塵による方法が、除塵効果の点で特に好ましい。
また、このような除塵工程を行う前に、フィルム支持体上の静電気を除電しておくことは、除塵効率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。このような除電方法としては、コロナ放電式のイオナイザ、ＵＶ、軟Ｘ線等の光照射式のイオナイザ等を用いることができる。除塵、塗布前後のフィルム支持体の帯電圧は、１０００Ｖ以下が望ましく、好ましくは３００Ｖ以下、特に好ましくは、１００Ｖ以下である。

フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアシレートフィルムの温度をＴｇ以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
本発明のフィルムを偏光板の保護フィルムとして使用する場合のようにセルロースアシレートフィルムを偏光膜と接着させる場合には、偏光膜との接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアシレートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
接着性などの観点から、セルロースアシレートフィルムの表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましく、上記表面処理により調整することができる。

５−（３）塗布
本発明のフィルムの各層は以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。
ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（米国特許２６８１２９４号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。

本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、少なくともハードコート層乃至フッ素含有オレフィン系重合体を含む低屈折率層の内の少なくとも一層をマイクログラビアコート法によって塗工することができる。

マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本／インチが好ましく、１００〜３００本／インチがより好ましく、グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましく、グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、５〜２００ｒｐｍであることがより好ましく、支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ／分であることが好ましく、１〜５０ｍ／分がより好ましい。

本発明のフィルムを高い生産性で供給するために、エクストルージョン法（ダイコート法）が好ましく用いられる。特に、ハードコート層や反射防止層のような、ウエット塗布量の少ない領域（２０ｃｃ／ｍ^２以下）で好ましく用いることができるダイコーターについて、以下に説明する。

<ダイコーターの構成>
図６は本発明のフィルムを製造するために用いられるスロットダイを用いたコーターの断面図である。コーター１０はバックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブＷに対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブＷ上に塗膜１４ｂを形成する。

スロットダイ１３の内部にはポケット１５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、その断面が曲線および直線で構成されており、例えば図５に示すような略円形でもよいし、あるいは半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、あるいはスロット開口部１６ａとは反対側の面中央から行う。また、ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。

スロット１６は、ポケット１５からウェブＷへの塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様にスロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６のスロット先端における、バックアップロール１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。

スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１８とされている。このランド１８であって、スロット１６に対してウェブＷの進行方向の上流側を上流側リップランド１８ａ、下流側を下流側リップランド１８ｂと称する。

図７は、スロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示すもので、（Ａ）は本発明のスロットダイ１３を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０を示している。従来のスロットダイ３０では、上流側リップランド３１ａと下流側リップランド３１ｂのウェブとの距離は等しい。なお、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対
して、本発明のスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩ_ＬＯが短くされており、これによって、湿潤膜厚が２０μｍ以下の塗布を精度良くおこなうことができる。

上流側リップランド１８ａのランド長さＩ_ＵＰは特に限定はされないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲で好ましく用いられる。下流側リップランド１８ｂのランド長さＩ_ＬＯは３０μｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下、さらに好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。下流側リップのランド長さＩ_ＬＯが３０μｍよりも短い場合は、先端リップのエッジあるいはランドが欠けやすく、塗膜にスジが発生しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流側で広がりやすくなるという問題も発生する。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来より知られている。一方、下流側リップのランド長さＩ_ＬＯが１００μｍよりも長い場合は、ビードそのものを形成することができないために、薄層塗布を行うことは不可能である。

さらに、下流側リップランド１８ｂは、上流側リップランド１８ａよりもウェブＷに近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブＷとの距離の差（以下、オーバーバイト長さＬＯと称する）は３０μｍ以上１２０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下、もっとも好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下である。スロットダイ１３がオーバーバイト形状のとき、先端リップ１７とウェブＷの隙間Ｇ_Ｌとは、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間を示す。

図８は、本発明のフィルムを製造するために用いられる塗布工程のスロットダイおよびその周辺を示す斜視図である。
ウェブＷの進行方向側とは反対側に、ビード１４ａに対して十分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバー４０を設置する。減圧チャンバー４０は、その作動効率を保持するためのバックプレート４０ａとサイドプレート４０ｂを備えており、バックプレート４０ａとウェブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間にはそれぞれ隙間Ｇ_Ｂ、Ｇ_Ｓが存在する。
減圧チャンバー４０とウェッブＷとの関係について図９及び図１０を参照して説明する。図９及び図１０は、近接している減圧チャンバー４０とウェッブＷを示す断面図である。
サイドプレート４０ｂとバックプレート４０ａは図９のようにチャンバー４０本体と一体のものであってもよいし、例えば、図１０のように適宜隙間Ｇ_Bを変えられるようにバックプレート４０ａをチャンバー４０にネジ４０ｃなどで留められている構造でもよい。いかなる構造でも、バックプレート４０ａとウェッブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェッブＷの間に実際にあいている部分を、それぞれ隙間Ｇ_B、Ｇ_Sと定義する。減圧チャンバー４０のバックプレート４０ａとウェッブＷとの隙間Ｇ_Bとは、減圧チャンバー４０を図８のようにウェッブＷ及びスロットダイ１３の下方に設置した場合、バックプレート４０ａの最上端からウェッブＷまでの隙間を示す。

バックプレート４０ａとウェッブＷとの隙間Ｇ_Bをスロットダイ１３の先端リップ１７とウェッブＷとの隙間Ｇ_L（図７（Ａ）参照）よりも大きくして設置するのが好ましく、これによりバックアップロール１１の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。例えば、スロットダイ１３の先端リップ１７とウェッブＷとの隙間Ｇ_Lが３０μｍ以上１００μｍ以下のとき、バックプレート４０ａとウェッブＷの間の隙間Ｇ_Bは１００μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。

５−（４）乾燥
本発明のフィルムは、支持体上に直接または他の層を介して塗布された後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送されることが好ましい。
溶剤を乾燥する方法としては、各種の知見を利用することができる。具体的な知見としては特開２００１−２８６８１７号、同２００１−３１４７９８号、同２００３−１２６７６８号、同２００３−３１５５０５号、同２００４−３４００２号などが挙げられる。
乾燥ゾーンの温度は２５℃〜１４０℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤のなかには１２０℃の温風中で数分以内にその数１０％前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、２官能のアクリレートモノマー等は１００℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。

また、各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布組成物の固形分濃度が１〜５０％の間は塗膜表面の風速が０．１〜２ｍ／秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。
また、各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後、乾燥ゾーン内で支持体の塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと支持体との温度差が０℃〜２０℃以内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。

５−（５）硬化工程
電離放射線の照射は、酸素濃度は１５体積％以下の雰囲気下で行なうことが好ましい。より好ましくは１０体積％以下であり、更に好ましくは５．０体積％以下である。酸素濃度が５体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成することが好ましく、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、最も好ましくは１体積％以下である。しかし、必要以上に酸素濃度を低減するためには、不活性ガスの多量の使用量が必要であり、製造コストの観点から好ましくない。
酸素濃度を低下させる手段としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の不活性気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
本発明では、ウェッブ上の塗布層に、酸素濃度５体積％以下の雰囲気下で電離放射線を０．５秒以上の間照射することによって塗布層の硬化を行なうことが好ましい。照射時間は照射開始から０．７秒以上６０秒以下が好ましく、０．７秒以上１０秒以下がより好ましい。０．５秒未満では、硬化反応が完了することができず、十分な硬化を行うことができない。
尚、本明細書中、「ウェッブ」とは、支持体自体であっても、支持体上に層を形成したものであってもよい。

本発明では、前記の硬化工程を、所望の酸素濃度に制御された電離放射線反応室（以後、単に「反応室」ということもある）で行なうことが好ましい。不活性ガスを反応室に供給する際、反応室のウェッブ入り口側（ウェッブを搬入する入り口である）にやや吹き出す条件にすることで、ウェッブ搬送にともなう導搬エアーを排除して反応室の酸素濃度を有効に下げられるとともに、酸素による硬化阻害の大きい極表面の実質の酸素濃度を効率よく低減することができる。反応室のウェッブ入り口側での不活性ガスの流れの方向は、反応室の給気、排気のバランスを調整することなどで制御できる。なお、ウェッブ上の塗布層に電離放射線を照射する直前に、不活性ガスをウェッブ上の塗布層表面に直接吹き付けることも、導搬エアーを除去する方法として好ましい。
特に最外層であり、且つ、膜厚が薄い低屈折率層がこの方法で硬化されることが好ましい。

また反応室の前に前室を設けることも好ましい。前室は、不活性ガスで置換され、低酸素濃度であることが好ましく、好ましくは酸素濃度５体積％以下且つ酸素濃度０．０１体積％以上であることが好ましい。前室内を電離放射線照射前のウェッブを通過（搬送）させるのみであってもよく、前記した導搬エアーを除去する方法である不活性ガスのウェッブ上の塗布層表面への直接吹き付けを行なってもよい。
前室を設けて、事前にウェッブの塗布層表面の酸素を排除することで、反応室の低酸素濃度を維持することが可能となり、より硬化を効率よく進めることができる。

また反応室または前室のウェッブ入り口側を構成する側面の少なくとも一方は、不活性ガスを効率的に使用するために、ウェッブ上の塗布層表面とのギャップが０．２〜１５ｍｍであることが好ましく、より好ましくは、０．２〜１０ｍｍとするのがよく、０．２〜５ｍｍとすることが最も好ましい。ここで、ギャップとは、ウェッブ上の塗布層表面とウェッブ入り口側を構成する側面におけるウェッブ入り口上端との間の長さを指す。
しかし、ウェッブを連続製造するには、ウェッブを接合して繋げていく必要があり、接合には接合テープなどで貼る方法が広く用いられている。このため、反応室または前室の入り口とウェッブ上の塗布層表面とのギャップをあまり狭くすると、接合テープなどの接合部材が引っかかる問題が生じる。このためギャップを狭くするためには、反応室または前室の入り口面の少なくとも一部を可動とし、接合部が入るときは接合厚み分だけギャップを広げるのが好ましい。この実現のためには、（１）反応室または前室の入り口面を進行方向前後に可動にしておき、接合部が通過する際に前後に動いてギャップを広げる方法（図１２参照）や、（Ｂ）反応室または前室の入り口面をウェッブ面に対し、垂直方向に可動にし、接合部が通過する際に上下に動いてギャップを広げる方法（図１３参照）などが挙げられる。

以下、前室のウェッブ入り口面の動作を例にとり、本発明で適用可能な反応室または前室のウェッブ入り口面の動作事例を、図１１〜１４を基に説明する（尚、以下の図面説明では、塗布層（図示せず）を有したウェッブを単に「ウェッブ」と称する）。
図１１は、本発明の反応室及び前室を具備した製造装置の模式図である。
図１２は、本発明の反応室及び前室を具備した製造装置のウェッブ入り口面の装置動作の一例を示した側面図であり、上記（Ａ）の態様を示す。図１２の構成を有する装置は、ウェッブ搬送時に、ウェッブを接合して繋げる接合部材が前室入り口に進入する前に、センサで接合部材を検知し、制御部（図示せず）を通して該センサと連動して作動する前室のウェッブ入り口面の少なくとも一部に取り付けれらたエアシリンダによって、入り口面をウェッブの進行方向前後に動かせるようにしたものであり、これにより接合部材の厚み分を逃げることができるものである。

図１３及び図１４は、上記（Ｂ）の態様を示した図であり、図１３は前室のウェッブ入り口面を模式的に示した図であり、図１４は前室のウェッブ入り口面の動作を模式的に示した図である。前室ウェッブ入り口面の一部を可動にし、ウェッブの幅両端をベアリングタッチロールで接触することでウェッブと入り口面とのギャップが決まる。接合部材が通過するときは、ベアリングタッチロールが接合部材を乗り越え、ウェッブ入り口面のギャップが一定に保たれる。入り口の可動手段は、接合部を逃げられるようになっていれば良く、限定されるものではない。

本発明では、ウェッブ上の塗布層を硬化させる際、前記硬化工程における５体積％以下の雰囲気下で行なわれる電離放射線照射を複数回に分けて行うことも好ましい。
この場合、少なくとも２回の電離放射線照射が、連続した酸素濃度５体積％以下、より好ましくは連続した酸素濃度３体積％以下の反応室で行われることが好ましい。複数回の電離放射線照射を同一の低酸素濃度の反応室で行なうことにより、硬化に必要な反応時間を有効に確保することができる。特に高生産性のため製造速度を上げた場合には、硬化反応に必要な電離放射線のエネルギーを確保するために複数回の電離放射線照射が必要となり、硬化反応に必要な反応時間の確保とあわせ、上記の態様が有効である。
「連続した反応室」とは、酸素濃度５体積％以下の反応室内で少なくとも２回の電離放射線照射を行なう態様や、酸素濃度５体積％以下の反応室を少なくとも２室以上設け、反応室の間を酸素濃度５体積％以下の低酸素ゾーンとする態様等がある。後者の場合には各々の反応室は、酸素濃度５体積％以下であれば、酸素濃度が異なっていてもよい。

本発明では、塗布層表面温度が２５℃以上、好ましくは６０℃以上になるようにウェッブを加熱しながら、前記硬化工程を行なうことも好ましい。また電離放射線照射と同時および／または連続して酸素濃度５体積％以下、好ましくは３体積％以下の雰囲気で加熱することも好ましい。加熱しながら前記硬化工程を行なうことで、硬化反応が熱で加速され、物理強度、耐薬品性に優れた皮膜を形成することができる。

加熱は塗布層表面温度が２５℃以上１７０℃以下で加熱されることが好ましい。加熱の硬化が十分な点で２５℃以上が好ましく、一方、基材の変形などの問題が生じにくい点で１７０℃以下が好ましい。更に好ましい温度は２５℃〜１００℃、より好ましくは６０〜１００℃である。また塗布層表面温度が前記温度に保持される時間は、電離放射線照射開始から０．１秒以上、好ましくは０．５秒以上、３００秒以下が好ましく、更に１０秒以下が好ましい。塗布層表面温度の温度を上記の温度範囲に保つ時間が短すぎると、皮膜を形成する硬化性組成物の反応を促進できず、逆に長すぎてもフィルムの光学性能が低下し、また設備が大きくなるなどの製造上の問題も生じる。

加熱する方法に特に限定はないが、ロールを加熱してウェッブに接触させる方法、加熱した窒素を吹き付ける方法、遠赤外線あるいは赤外線の照射などが好ましい。特許２５２３５７４号に記載の回転金属ロールに温水や蒸気・オイルなどの媒体を流して加熱する方法も利用できる。加熱の手段としては誘電加熱ロールなどを使用しても良い。

本発明における電離放射線種は特に制限されるものではなく、皮膜を形成する硬化性組成物の種類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができる。本発明では紫外線による照射が好ましい。重合速度が早く設備をコンパクトにできる、選択できる化合物種が豊富でかつ低価格であることから紫外線硬化が好ましい。
紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく利用できる。

また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。

照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は１０ｍＪ／ｃｍ^２以上が好ましく、更に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ^２〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ^２〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２である。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて５０〜１００％の分布が好ましく、８０〜１００％の分布がより好ましい。

紫外線照射は、構成する複数の層それぞれに対して１層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。あるいはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。

また、本発明では乾燥工程後、電離放射線照射工程の前に、まず５分から２０分間の間、７０℃以上１３０℃以下の温度で加熱硬化する工程を設け、その後、紫外線に代表される活性エネルギー線により硬化することが好ましい。
この時の塗布層表面温度は好ましくは７０℃以上１２０℃以下であり、８０℃以上１１５℃以下であることが最も好ましい。

また、硬化率（１００−残存官能基含率）が１００％未満のある値となった場合、その上に層を設けて電離放射線および／または熱により硬化した際に下層の硬化率が上層を設ける前よりも高くなると、下層と上層との間の密着性が改良され、好ましい。

５−（６）ハンドリング
本発明のフィルムを連続的に製造するために、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。
ロール状のフィルム支持体からフィルム支持体がクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、フィルム支持体に帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きフィルム支持体上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布部で塗布液がフィルム支持体上に塗布され、塗布されたフィルム支持体は乾燥室に送られて乾燥される。
乾燥した塗布層を有するフィルム支持体は乾燥室から硬化室へ送り出され、塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。さらに、硬化した層を有するフィルム支持体は硬化部へ送られ硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するフィルム支持体は巻き取られてロール状となる。

上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−放射線硬化部−熱硬化室（熱硬化室は必要に応じて設けられる）を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能であるが、生産性の観点から各層の形成を連続的に行う事が好ましい。各層の塗布を連続的に行う装置の構成例を図１５に示す。該装置はロール状の基材フィルムを連続的に送り出す工程Ａと、ロール状の基材フィルムを巻き取る工程Ｂの間に製膜ユニット１００，２００、３００、４００を適宜必要な数だけ設置したものである。図１５で示される装置は４層を巻き取ることなく連続的に塗布する際の構成の一例であるが、層構成に合わせて製膜ユニット数を変化させることはもちろん可能である。製膜ユニット１００は塗布液を塗布する工程１０１、塗膜を乾燥する工程１０２、塗膜を硬化する工程１０３から構成されている。例えば、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層を有する反射防止フィルムを製造する場合には、製膜ユニットが３つ設置された装置を用いて、前記ハードコート層を塗設したロール状の基材フィルムを連続的に送り出し、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を各製膜ユニットで順次塗設した後に巻き取る事がより好ましく、製膜ユニットが４つ設置された、図１５に示す装置を用いて、ロール状の基材フィルムを連続的に送り出し、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を各製膜ユニットで順次塗設した後に巻き取る事が更に好ましい。

本発明のフィルムを作成するためには、前記したように塗布液の精密濾過操作と同時に、塗布部における塗布工程および乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、かつ塗布が行われる前に、フィルム上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。塗布工程および乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス１０（０．５μｍ以上の粒子が３５３個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましく、更に好ましくはクラス１（０．５μｍ以上の粒子が３５．５個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好ましい。

５−（７）鹸化処理
本発明のフィルムを２枚の偏光膜の表面保護フィルムの内の一方として用いて偏光板を作成する際には、偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。

（１）アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中にフィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３ｍｏｌ／Ｌであり、特に好ましくは１〜２ｍｏｌ／Ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７５℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
前記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。

鹸化処理することにより、塗布層を有する表面と反対の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、塗布層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に塗布層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは１０度〜５０度、より好ましくは３０度〜５０度、さらに好ましくは４０度〜５０度となる。５０度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じる為、好ましくない。一方、１０度未満では、フィルムが受けるダメージが大きすぎる為、物理強度を損ない、好ましくない。

（２）アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を塗布層を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では（１）の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。

前記（１）、（２）のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行っても良い。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板を作成することができる。

（３）ラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記（２）と同様に、塗布層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。この方法でも、塗布層へのダメージなしに偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理をトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。前記（２）の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。

（４）中途層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
下層層まではアルカリ液に対する耐性があるが、上層のアルカリ液に対する耐性不足である場合には、下層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に上層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、たとえば防眩層とフッ素含有ゾルーゲル膜の低屈折率層とからなるフィルムにおいて、親水基を有する場合には防眩層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。

（５）予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに塗布層層を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接または他の層を介して塗布層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、塗布層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してから塗布層を形成することで対処できる。また、塗布層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。

５−（８）偏光膜の作製
本発明のフィルムは、偏光膜およびその片側ないし両側に配置された保護フィルムとして使用することができる。
一方の保護フィルムとして、本発明のフィルムを用いる、他方の保護フィルムは、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、上述の溶液製膜法で製造され、且つ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることが好ましい。
更には、本発明の偏光板において、片面が反射防止フィルムであるのに対して他方の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであることが好ましい。

偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
反射防止フィルムの透明支持体やセルロースアセテートフィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。

偏光板の生産性には保護フィルムの透湿性が重要である。偏光膜と保護フィルムは水系接着剤で貼り合わせられており、この接着剤溶剤は保護フィルム中を拡散することで、乾燥される。保護フィルムの透湿性が高ければ、高いほど乾燥は早くなり、生産性は向上するが、高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境（高湿下）により、水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下する。
保護フィルムの透湿性は、透明支持体やポリマーフィルム（および重合性液晶化合物）の厚み、自由体積、親疎水性、等により決定される。
本発明のフィルムを偏光板の保護フィルムとして用いる場合、透湿性は１００〜１０００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒｓであることが好ましく、３００〜７００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒｓであることが更に好ましい。
透明支持体の厚みは、製膜の場合、リップ流量とラインスピード、あるいは、延伸、圧縮により調整することができる。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により好ましい範囲にすることが可能である。
透明支持体の自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整することができる。
この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にすることが可能である。
透明支持体の親疎水性は、添加剤により調整することが出来る。上記自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることができる。
上記透湿性を独立に制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能となる。

偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。

ポリマーフィルムの延伸方法については、特開２００２−８６５５４号公報の段落００２０〜００３０に詳しい記載がある。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。

６．本発明の使用形態
本発明のフィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に用いられる。本発明に従う光学フィルターは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）または陰極管表示装置（ＣＲＴ）など公知のディスプレー上に用いることが出来る。

６−（１）液晶表示装置
本発明のフィルム、偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。
液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板を有し、液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。さらに、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置されることもある。

液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモードまたはＥＣＢモードであることが好ましい。

＜ＴＮモード＞
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０〜１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。

＜ＶＡモード＞
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ Ｔｅｃｈ． Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。

＜ＯＣＢモード＞
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）液晶モードと呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。

＜ＩＰＳモード＞
ＩＰＳモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはＰｒｏｃ．ＩＤＲＣ（Ａｓｉａ Ｄｉｓｐｌａｙ ’９５），ｐ．５７７−５８０および同ｐ．７０７−７１０に記載されている。

＜ＥＣＢモード＞
ＥＣＢモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ＥＣＢモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平５−２０３９４６号公報に詳細が記載されている。

６―（２）液晶表示装置以外のディスプレイ
＜ＰＤＰ＞
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、一般に、ガス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、既に市販されている。プラズマディスプレイパネルについては、特開平５−２０５６４３号、同９−３０６３６６号の各公報に記載がある。

前面板をプラズマディスプレイパネルの前面に配置することがある。前面板はプラズマディスプレイパネルを保護するために充分な強度を備えていることが好ましい。前面板は、プラズマディスプレイパネルと隙間を置いて使用することもできるし、プラズマディスプレイ本体に直貼りして使用することもできる。
プラズマディスプレイパネルのような画像表示装置では、光学フィルターをディスプレイ表面に直接貼り付けることができる。また、ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前面板の表側（外側）または裏側（ディスプレイ側）に光学フィルターを貼り付けることもできる。

＜タッチパネル＞
本発明のフィルムは、特開平５−１２７８２２号公報、特開２００２−４８９１３号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。

＜有機ＥＬ素子＞
本発明のフィルムは、有機ＥＬ素子等の基板（基材フィルム）や保護フィルムとして用いることができる。
本発明のフィルムを有機ＥＬ素子等に用いる場合には、特開平１１−３３５６６１号、特開平１１−３３５３６８号、特開２００１−１９２６５１号、特開２００１−１９２６５２号、特開２００１−１９２６５３号、特開２００１−３３５７７６号、特開２００１−２４７８５９号、特開２００１−１８１６１６号、特開２００１−１８１６１７号、特開２００２−１８１８１６号、特開２００２−１８１６１７号、特開２００２−０５６９７６号等の各公報記載の内容を応用することができる。また、特開２００１−１４８２９１号、特開２００１−２２１９１６号、特開２００１−２３１４４３号の各公報記載の内容と併せて用いることが好ましい。

７．各種特性値
以下に本発明に関する各種測定法と、好ましい特性値を示す。
７−（１）反射率
鏡面反射率および色味の測定は、分光光度計“Ｖ−５５０”［日本分光（株）製］にアダプター“ＡＲＶ−４７４”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５゜の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。
本発明の防眩性反射防止フィルムは、鏡面反射率２．０％以下、透過率９０％以上とするのが、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため、好ましい。鏡面反射率は１．５％以下が特に好ましく、３−ｄ記載のような層構成を用いることにより反射率を１．０％以下とすることが最も好ましい。

７−（２）色味
本発明の反射防止能付き偏光板は、ＣＩＥ標準光源Ｄ_６５の、波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域における入射角５゜の入射光に対して、正反射光の色味、すなわちＣＩＥ１９７６Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊色空間のＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊値を求めることで色味を評価することができる。
Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊値は、それぞれ３≦Ｌ^＊≦２０、−７≦ａ^＊≦７、且つ、−１０≦ｂ^＊≦１０の範囲内であることが好ましい。この範囲とすることで、従来の偏光板で問題となっていた赤紫色から青紫色の反射光の色味が低減され、さらに３≦Ｌ^＊≦１０、０≦ａ^＊≦５、且つ、−７≦ｂ^＊≦０の範囲内とすることで大幅に低減され、液晶表示装置に適用した場合、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味がニュートラルで、気にならない。詳しくはａ^＊≦７であれば赤味が強くなりすぎることがなく、ａ^＊≧−７であればシアン味が強くなりすぎることがなく好ましい。またｂ^＊≧−７であれば青味が強くなりすぎることがなく、ｂ^＊≦０であれば黄味が強くなりすぎることがなく好ましい。

更には、反射光の色味均一性は、反射光の３８０ｎｍ〜６８０ｎｍの反射スペクトルにより求めたＬ^＊ａ^＊ｂ^＊色度図上でのａ^＊ｂ^＊より、下記の数式２１に従って色味の変化率として得ることができる。

ここで、ａ^＊ _ｍａｘおよびａ^＊ _ｍｉｎは、それぞれａ^＊値の最大値および最小値；ｂ^＊ _ｍａｘおよびｂ^＊ _ｍｉｎは、それぞれｂ^＊値の最大値および最小値；ａ^＊ _ａｖおよびｂ^＊ _ａｖは、それぞれａ^＊値およびａ^＊値の平均値である。色の変化率は、それぞれ３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましく、８％以下であることが最も好ましい。

また、本発明のフィルムは、耐候性試験前後の色味の変化であるΔＥ_ｗが１５以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましく、５以下であることが最も好ましい。この範囲において、低反射と反射光の色味の低減を両立することができるため、例えば画像表示装置の最表面に適用した場合、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味が、ニュートラルで、表示画像の品位が良好となり、好ましい。

上記の色味の変化ΔＥ_ｗは、下記の数式（２２）に従って求めることができる。
数式（２２）：ΔＥ_ｗ＝［（ΔＬ_ｗ）^２＋（Δａ_ｗ）^２＋（Δｂ_ｗ）^２］^１／２
ここで、ΔＬ_ｗ，Δａ_ｗ，Δｂ_ｗは、耐候性試験前後のＬ^＊値，ａ^＊値，ｂ^＊値それぞれの変化量である。

７−（３）透過画像鮮明度
透過画像鮮明度は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に従い、スガ試験機（株）製の写像性測定器（ＩＣＭ−２Ｄ型）にて、スリット幅が０．５ｍｍの光学櫛を用いて測定できる。

本発明のフィルムの透過画像鮮明度は６０％以上が好ましい。透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像の呆け具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。本発明のフィルムの透過画像鮮明製は５％〜３０％であるのが、充分な防眩性と画像ボケ、暗室コントラスト低下の改善が両立されるので、好ましい。

７−（４）表面粗さ
中心線平均粗さ（Ｒａ）の測定は、ＪＩＳ−Ｂ０６０１に準じて行なうことができる。
本発明の反射防止フィルムは、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．３０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５度の面が１０％以上となるように設計するのが、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成されるので、好ましい。Ｒａが０．０８未満では充分な防眩性が得られず、０．３０を超えるとギラツキ、外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生する。

７−（５）ヘイズ
本発明のフィルムのヘイズはＪＩＳ−Ｋ７１０５に規定されたヘーズ値のことであり、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−１で規定された測定法に基づき、日本電色工業（株）製の濁度計「ＮＤＨ−１００１ＤＰ」を用いて測定したヘイズ＝（拡散光／全透過光）×１００（％）として自動計測される。

なお、表面ヘイズと内部ヘイズは以下の手順で測定することができる。
（１）ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じてフィルムの全ヘイズ値（Ｈ）を測定する。
（２）フィルムの低屈折率層側の表面および裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）を２枚用いて裏表より挟んで、完全に２枚のガラス板とフィルムを光学的に密着させ、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ（Ｈｉ）として算出する。
（３）上記（１）で測定した全ヘイズ（Ｈ）から上記（２）で算出した内部ヘイズ（Ｈｉ）を引いた値をフィルムの表面ヘイズ（Ｈｓ）として算出する。

７−（６）耐擦傷性
＜スチールウール耐傷性評価＞
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなうことで、耐擦傷性の指標とすることが出来る。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードＮｏ．００００） 試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、
こすり速度：１３ｃｍ／秒、
荷重：５００ｇ／ｃｍ^２、および２００ｇ／ｃｍ^２
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、こすり部分の傷を反射光で目視観察したり、擦った部分以外との反射光量との差によって評価する。

＜消しゴム擦り耐傷性評価＞
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなうことで、耐擦傷性の指標とすることが出来る。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
こすり材：プラスチック消しゴム（（株）トンボ鉛筆性 ＭＯＮＯ）
試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に固定
移動距離（片道）：４ｃｍ、
こすり速度：２ｃｍ／秒、
荷重：５００ｇ／ｃｍ^２
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、
こすり回数：１００往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、こすり部分の傷を反射光で目視観察したり、擦った部分以外との反射光量との差によって評価する。

＜テーパー試験＞
ＪＩＳ―Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量から擦傷性を評価することができる。
この摩耗量が少ないほど好ましい。

７−（７）硬度
＜鉛筆硬度＞
本発明のフィルムの強度は、ＪＩＳ―Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で評価することが出来る。
鉛筆硬度はＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

＜表面弾性率＞
本発明における表面弾性率は微小表面硬度計（（株）フィッシャー・インスツルメンツ製：フィッシャースコープＨ１００ＶＰ−ＨＣＵ）を用いて求めた値である。具体的には、ダイヤモンド製の四角錐圧子（先端対面角度；１３６°）を使用し、押し込み深さが１μｍを超えない範囲で、適当な試験荷重下での押し込み深さを測定し、除荷重時の荷重と変位の変化から求められる弾性率である。
また、前述の微小表面硬度計を用いて表面硬度をユニバーサル硬度として求めることもできる。ユニバーサル硬度は四角錐圧子の試験荷重下での押し込み深さを測定し、試験荷重をその試験荷重で生じた圧痕の幾何学的形状から計算される圧痕の表面積で割った値である。上記の表面弾性率とユニバーサル硬度の間には、正の相関を有することが知られている。

本発明で定義する架橋性ポリマーのユニバーサル硬度とはガラス板上に硬化形成した約２０〜３０μｍ厚の該架橋性ポリマー膜についてフィッシャーインストルメンツ（株）製の微小硬度計Ｈ１００によって以下測定手順で求めたユニバーサル硬度（Ｎ／ｍｍ^２）によって表わされる。
架橋性ポリマーの他に必要な触媒や架橋剤、重合開始剤等を含んだ固形分濃度約２５％の塗布液を硬化後の膜厚が約２０〜３０μｍになるように適切なバーコーターを選択してＴＯＳＨＩＮＲＩＫＯ．ＣＯ．ＬＴＤ製、（２６ｍｍ×７６ｍｍ×１．２ｍｍ）みがきスライドガラス板上に塗布する。架橋性ポリマーが熱硬化性の場合には膜が十分硬化される熱硬化条件をあらかじめ求めておき（一例として１２５℃１０分）、架橋性ポリマーが電離放射線硬化性の場合にも同様に膜が十分硬化される硬化条件をあらかじめ求めておく（一例として酸素濃度１２ｐｐｍ、ＵＶ照射量７５０ｍＪ／ｃｍ^２）。それぞれの膜に対して荷重を０から４ｍＮまで連続的に増加させ、基材のガラス板硬度の影響がでない１／１０膜厚を最大として円錐ダイヤモンド圧子を押し込んだ際の各荷重Ｆに対する窪み面積Ａ（ｍｍ^２）から求めたＦ／ＡのＮ＝６測定平均値からユニバーサル硬度を算出する。
また、特開２００４−３５４８２８記載のナノインデンテーションによって表面硬度をもとめることができ、この場合の硬度としては２ＧＰａ〜４ＧＰａ、ナノインデンテーション弾性率は１０ＧＰａ〜３０ＧＰａであることが好ましい。

７−（８）防汚性試験
＜マジック拭き取り性＞
フィルムをガラス面上に粘着剤で固定し、２５℃６０ＲＨ％の条件下で黒マジック「マッキー極細（商品名：ＺＥＢＲＡ製）」のペン先（細）にて直径５ｍｍの円形を３周書き込み、５秒後に１０枚重ねに折り束ねたベンコット（商品名、旭化成（株））でベンコットの束がへこむ程度の荷重で２０往復拭き取る。マジック後が拭き取りで消えなくなるまで前記の書き込みと拭き取りを前記条件で繰り返し、拭き取りできた回数により防汚性を評価することが出来る。
消えなくなるまでの回数は５回以上であることが好ましく、１０回以上であることが更に好ましい。

黒マジックについてはマジックインキ Ｎｏ．７００（Ｍ７００―Ｔ１ 黒）極細を用い試料の上に直径１ｃｍの円を描いて塗りつぶし、２４時間放置後にベンコット（旭化成（株）製）で擦り、マジックがふき取れるかによっても評価することができる。

７−（９）接触角
接触角計［“ＣＡ−Ｘ”型接触角計、協和界面科学（株）製］を用い、乾燥状態（２０℃／６５％ＲＨ）で、液体として純水を使用して直径１．０ｍｍの液滴を針先に作り、これをフィルムの表面に接触させてフィルム上に液滴を作った。フィルムと液体とが接する点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で、液体を含む側の角度を接触角とする。
本発明のフィルムの接触角は純水に対して９４度以上であることが好ましく。９７度以上であることがさらに好ましく、１０１度以上であることが最も好ましい。

７−（１０）表面自由エネルギー
表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」，リアライズ社，１９８９．１２．１０発行に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアシレートフィルム
に滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。

本発明のフィルムの表面自由エネルギー（γｓ^ｖ：単位、ｍＮ／ｍ）とはＤ．Ｋ．Ｏｗｅｎｓ：Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，１３，１７４１（１９６９）を参考に、反射防止フィルム上で実験的に求めた純水Ｈ２Ｏとヨウ化メチレンＣＨ_２Ｉ_２のそれぞれの接触角θ_Ｈ２Ｏ、θ_{ＣＨ２Ｉ２}から以下の連立方程式ａ，ｂより求めたγｓ^ｄとγｓ^ｈの和で表される値γｓ^ｖ（＝γｓ^ｄ＋γｓ^ｈ）で定義する反射防止フィルムの表面張力を表す。このγｓ^ｖが小さく、低表面自由エネルギーであるほど表面のはじき性が高く、一般に防汚性に優れる。
ａ．１＋ｃｏｓθ_Ｈ２Ｏ＝
２√γｓ^ｄ（√γ_Ｈ２Ｏ ^ｄ／γ_Ｈ２Ｏ ^ｖ）＋２√γｓ^ｈ（√γ_Ｈ２Ｏ ^ｈ／γ_Ｈ２Ｏ ^ｖ）
ｂ．１＋ｃｏｓθ_{ＣＨ２Ｉ２}＝
２√γｓ^ｄ（√γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｄ／γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｖ）＋２√γｓ^ｈ（√γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｈ／γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｖ）
γ_Ｈ２Ｏ ^ｄ＝２１．８、γ_Ｈ２Ｏ ^ｈ＝５１．０、γ_Ｈ２Ｏ ^ｖ＝７２．８、
γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｄ＝４９．５、γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｈ＝１．３、γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｖ＝５０．８
で、接触角の測定はフィルムを２５℃６０％の条件下で１時間以上調湿した後に、協和界面科学（株）製、自動接触角計ＣＡ−Ｖ１５０型を用いて２μｌの液滴をフィルム上に滴下してから３０秒後に接触角を求めた。

本発明のフィルムの表面自由エネルギーは２５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２０ｍＮ／ｍ以下であることが特に好ましい。

７−（１１）カール
カールの測定は、ＪＩＳ―Ｋ７６１９−１９８８の「写真フィルムのカールの測定法」中の方法Ａのカール測定用型板を用いて行われる。
測定条件は２５℃、相対湿度６０％、調湿時間１０時間である。
本発明におけるフィルムは、カールを以下の数式で表したときの値が、マイナス１５〜プラス１５の範囲に入っていることが好ましく、マイナス１２〜プラス１２の範囲がより好ましく、さらに好ましくはマイナス１０〜プラス１０である。このときのカールの試料内測定方向は、ウェッブ形態での塗布の場合、基材の搬送方向について測ったものである。
（数式） カール＝１／Ｒ Ｒは曲率半径（ｍ）
これは、フィルムの製造、加工、市場での取り扱いで、ひび割れ、膜はがれを起こさないための重要な特性である。カール値が前記範囲にあり、カールが小さいことが好ましい。
ここで、カールがプラスとはフィルムの塗設側が湾曲の内側になるカールを言い、マイナスとは塗設側が湾曲の外側になるカールをいう。

また、本発明におけるフィルムは、上記したカール測定法に基づいて、相対湿度のみを８０％と１０％に変更したときの各カール値の差の絶対値が、２４〜０が好ましく、１５〜０がさらに好ましく、８〜０が最も好ましい。これはさまざまな湿度下でフィルムを貼り付けたときのハンドリング性や剥がれ、ひび割れに関係する特性である。

７−（１２）密着性評価
フィルムの層間、あるいは支持体と塗布層との密着性は以下の方法により評価することが出来る。
塗布層を有する側の表面にカッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを１ｍｍ間隔で入れて合計１００個の正方形の升目を刻み、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（ＮＯ．３１Ｂ）を圧着し、２４時間放置後引き剥がす試験を同じ場所で繰り返し３回行い、剥がれの有無を目視で観察する。

１００個の升目中、剥がれが１０升以内であることが好ましく、２升以内であることが更に好ましい。

７−（１３）脆性試験（耐ひび割れ性）
耐ひび割れ性は、フィルムの塗布、加工、裁断、粘着剤の塗布、種々の物体への貼りつけ等のハンドリングで割れ欠陥を出さないための重要な特性である。
フィルム試料を３５ｍｍ×１４０ｍｍに切断し、温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間放置した後、筒状に丸めたときにひび割れが発生し始める曲率直径を測定し、表面のひび割れを評価することができる。

本発明のフィルムの耐ひび割れ性は、塗布層側を外側にして丸めたときに、ひび割れが発生する曲率直径が、５０ｍｍ以下であることが好ましく、４０ｍｍ以下がより好ましく、３０ｍｍ以下が最も好ましい。エッジ部のひび割れについては、ひび割れがないか、ひび割れの長さが平均で１ｍｍ未満であることが好ましい。

７−（１４）塵埃除去性
本発明のフィルムをモニターに張り付け、モニター表面に塵埃（布団、衣服の繊維屑）を振りかけ、クリーニングクロスで塵埃を拭き取り、塵埃除去性を評価することができる。
６回の拭取りで完全に取除けることが好ましく、３回以内の拭き取りで塵埃が完全に取り除けることが更に好ましい。

７−（１５）液晶表示装置の性能
以下に、本発明のフィルムを表示装置上に用いたときの特性の評価方法と好ましい状況について記載する。
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＴＨ−１５ＴＡ２、松下電器産業（株）製）に設けられている視認側の偏光板を剥がし、代わりに本発明のフィルムあるいは偏光板を、塗布面が視認側に、且つ偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように粘着剤を介して貼り付ける。５００ｌｕｘの明室にて、液晶表示装置を黒表示にして、種々の視角から目視により以下の各種特性を評価することができる。

＜画像のムラ、色味評価＞
作成した液晶表示装置を用いて、黒表示（Ｌ１）時のムラや色味変化を複数の観察者により目視評価する。
１０人が評価し、ムラ、左右色味変化、温湿度による色味変化、白ボケを認識できるものが３人以下であることが好ましく、１人も認識できないことがより好ましい。
また、外光の映り込みは蛍光灯を用いて行い、目視にて映り込みの変化を相対的に評価することができる。

＜黒表示の光漏れ＞
液晶表示装置正面からの方位方向４５゜、極角方向７０゜における黒表示の光漏れ率を測定する。光漏れ率が０．４％以下であることが好ましく、０．１％以下であることがより好ましい。

＜コントラスト、および視野角＞
コントラストおよび視野角は、測定機（“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ １６０Ｄ”ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、コントラスト比および左右方向（セルのラビング方向と直交方向）の視野角（コントラスト比が１０以上となる角度範囲の広さ）を調べることができる。

［実施例１］
以下に、実施例に基づき本発明について更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記の実施例、合成例中、特に断らない限り％および部は質量基準である。

（ゾル液aの調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ―５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。固形分の濃度が２９％になるようにメチルエチルケトンで調節してゾル液ａとした。

（中空シリカ分散液の調製）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０．５部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１部加え混合した後に、イオン交換水９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２％の分散液を得た。得られた分散液のＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５％以下であった。

［低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１０１）の調製］
含フッ素共重合体Ｐ−１（重量平均分子量約５００００）をメチルイソブチルケトンに７質量％の濃度になるように溶解し、光重合開始剤Ｉ−１を含フッ素共重合体Ｐ−１対して2％、光重合開始剤イルガキュア９０７（商品名）を含フッ素共重合体Ｐ−１に対して３％を加えて低屈折率層用塗布液を調製した。

［低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１０２〜ＬＬ１１３）の調製］
表１に示す各成分を混合し、硬化性組成物（ＬＬ−１０１）と同様にして硬化組成物（ＬＬ１０２〜ＬＬ１１３）を調整した。表１中の（ ）内は各成分の固形分の質量部を表す。

「イルガキュア１８４」：重合開始剤｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝
「ＭＥＫ−ＳＴ-Ｌ」：日産化学工業（株）製コロイダルシリカ平均粒子サイズ１０〜１５ｎｍ、
「中空シリカ」：実施例１で合成した中空シリカ分散液、
「Ｘ−２２−１６４Ｃ」：信越化学工業（株）製

（防眩層用塗布液（ＨＣＬ−１０１）の調製）
“ＰＥＴ−３０” ５０．０ｇ
「イルガキュア１８４」 ２．０ｇ
“ＳＸ−３５０”（３０％） １．５ｇ
架橋アクリル−スチレン粒子（３０％） １３．９ｇ
“ＫＢＭ−５１０３” １０．０ｇ
トルエン ３８．５ｇ

上記混合液を、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して防眩層用塗布液（ＨＣＬ−１０１）を調製した。

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
“ＰＥＴ−３０”：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物｛日本化薬（株）製｝
「イルガキュア１８４」：重合開始剤｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝
“ＳＸ−３５０”：平均粒径３．５μｍ架橋ポリスチレン粒子｛屈折率１．６０、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用｝。
架橋アクリル−スチレン粒子：平均粒径３．５μｍ｛屈折率１．５５、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用｝。
“ＫＢＭ−５１０３”：アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン｛信越化学工業（株）製｝。

［反射防止フィルム試料１０１の作製］
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム“ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ”｛富士写真フイルム（株）製｝をロール形態で巻き出して、直接、上記の防眩層用塗布液（ＨＣＬ−１０１）を、線数１８０本／ｉｎ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下酸素濃度０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの「空冷メタルハライドランプ」｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量１００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの層を形成し、巻き取った。このようにして作製して得られた防眩層（ＨＣ−１０１）の表面粗さは、Ｒａ＝０．１８μｍ、Ｒｚ＝１．４０μｍ、表面ヘイズは１２％、内部ヘイズは２９％であった。尚、これらは本文記載の方法により測定した。

このようにして得られた防眩層の上に、上記硬化性組成物（ＬＬ−１０１）を用い、膜厚が９５ｎｍになるように調節して、反射防止フィルム試料１０１を作製した。硬化性組成物ＬＬ−１０１は各成分を２時間混合後塗設し、乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージ（０．２ｍ³の反応室に１．４０ｍ³／分の窒素ガスを使用）しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２００ｍJ／ｃｍ²の照射量とした。
［反射防止フィルム１０２〜１１３の作製］
反射防止フィルム（１０１）の作製において、硬化性組成物（ＬＬ−１０１）を用いる代わりに、（ＬＬ−１０２）〜（ＬＬ−１１３）を用いること以外は反射防止フィルム１０１と同様にしてにより反射防止フィルム１０２〜１１３を作製した。

［反射防止フィルムの鹸化処理］
得られた反射防止フィルムは、以下の鹸化標準条件で処理・乾燥した。
アルカリ浴：１．５ｍｏｌ／ｄｍ^３水酸化ナトリウム水溶液、５５℃−１２０秒。
第１水洗浴：水道水、６０秒。
中和浴：０．０５ｍｏｌ／ｄｍ^３硫酸、３０℃−２０秒。
第２水洗浴：水道水、６０秒。
乾燥：１２０℃、６０秒。

[反射防止フィルムの評価]
このようにして得られた、鹸化済みの反射防止フィルムを用いて以下の評価を行った。

（評価１）平均反射率の測定
本文記載の方法により４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を用いた。偏光板に加工されている試料は、偏光板形態のものをそのまま用い、フィルムそのものや偏光板を使用しない形態の表示装置の場合には、反射防止フィルムの裏面を粗面化処理した後、黒色のインクで光吸収処理（３８０〜７８０ｎｍにおける透過率が１０％未満）を行い、黒色の台上にて測定した。

（評価２）スチールウール耐傷性評価（ＳＷ耐性）
本文記載の方法により試験し、こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。ただし、荷重は５００ｇ/ｃｍ^２、こすり回数は２０回とした。
○ ：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○△：非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
△ ：弱い傷が見える。
△×：中程度の傷が見える。
× ：一目見ただけで分かる傷がある。

（評価３）消しゴム擦り耐傷性評価（消しゴム擦り耐性）
本文記載の方法により試験し、こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。ただし、荷重は５００ｇ/ｃｍ^２、こすり回数は２００回とした。
○ ：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○△：非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
△ ：弱い傷が見える。
△×：中程度の傷が見える。
× ：一目見ただけで分かる傷がある。
××：一面膜が傷ついている。

（評価４）密着性評価
各フィルム試料を温度２５℃、湿度６０％ＲＨの条件で２時間調湿した。各試料の反射防止膜を有する側の表面を、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて合計１００個の正方形の升目を刻み、その升目が刻まれた箇所について、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ"ＮＯ．３１Ｂ"を用いて密着試験を繰り返し３回行った。剥がれの有無を目視で観察し、下記の４段階評価を行った。
○ ：１００升において剥がれが全く認められなかったもの。
△ ：１００升において剥がれが認められたものが２升以内のもの。
△×：１００升において剥がれが認められたものが１０〜３升のもの。
× ：１００升において剥がれが認められたものが１０升をこえたもの。

本実施例から明らかなように、本発明の硬化性組成物を用いた反射防止フィルムは、ＳＷ擦り耐性や消しゴム擦り耐性、密着性に優れていることがわかる。

［実施例２］
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−２０１）の調製）
メチルエチルケトン５００部に対して、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”｛日本化薬（株）製｝４０．５部、末端メタクリレート基含有シリコーン“ＲＭＳ−０３３”（Ｇｅｌｅｓｔ社製）３．０部、光ラジカル発生剤「イルガキュア１８７０」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝３．０部、“Ｆ３０３５”｛日本油脂（株）製｝３．０部を加えて溶解した。その後に、平均粒子サイズ１０〜１５ｎｍのコロイダルシリカＭＥＫ−ＳＴ-Ｌ（日産化学工業（株）製）を固形分として４５．５部、ゾル液ａを固形分として５．０部添加した。塗布液全体の固形分濃度が６％になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が１５対８５になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率層用塗布液（ＬＬ−２０１）を調製した。

［低屈折率層用塗布液（ＬＬ−２０２〜ＬＬ２１１）の調製］
表３に示す各成分を混合し、硬化性組成物（ＬＬ−２０１）と同様にして硬化組成物（ＬＬ２０２〜ＬＬ２１１）を調整した。表３中の（ ）内は各成分の固形分の質量部を表す。

［反射防止フィルム試料２０１の作製］
実施例１で得られた防眩層の上に、上記低屈折率層用塗布液（ＬＬ−２０１〜ＬＬ−２１１）を実施例１と同様にして塗布を行い、反射防止フィルム２０１〜２１１を作製した。
[反射防止フィルムの評価]
このようにして得られた、反射防止フィルムを実施例１と同様に鹸化処理を行い、評価した。

本実施例から明らかなように、本発明の硬化性組成物を用いた反射防止フィルムは、ＳＷ擦り耐性や消しゴム擦り耐性、密着性に優れていることがわかる。

［実施例３］
（防眩層用塗布液（ＨＣＬ−３０１）の調製）
ＰＥＴ−３０ [日本化薬（株）製]２８５．０ｇをメチルイソブチルケトン１７５．０ｇで希釈した。更に、光重合開始剤イルガキュア１８４をＰＥＴ−３０に対し５％添加し、混合攪拌した後、エアーディスパーにて１２０分間攪拌して溶質を完全に溶解した。
最後に、この溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５３６）の３０％メチルイソブチルケトン分散液を２４０．０ｇ加えた後に、フッ素レベリング剤ＦＰ−１を０．５ｇ、メチルエチルケトン１２５ｇ添加し、エアーディスパーにて１０分間攪拌した。
前記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用塗布液（ＨＣＬ−３０１）を調製した。

（防眩層用塗布液（ＨＣＬ−３０２）の調製）
平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子に替えて、二次粒子径１．０μｍの凝集性シリカ（日本シリカ製）に変更した以外はＨＣＬ−３０１と同様にして、防眩層用塗布液（ＨＣＬ−３０２）を調製した。

（防眩層用塗布液（ＨＣＬ−３０３）の調製）
平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子に替えて、平均粒径１０〜１５ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業（株）製）に変更した以外はＨＣＬ−３０１と同様にして、防眩層用塗布液（ＨＣＬ−３０３）を調製した。

（防眩層用塗布液（ＨＣＬ−３０４〜ＨＣＬ−３１６）の調製）
防眩層用塗布液（ＨＣＬ−３０１〜ＨＣＬ−３０３）の光重合開始剤を表５に示す様に変えた以外は同様にして、防眩層用塗布液（ＨＣＬ−３０４〜ＨＣＬ−３１６）を調製した。表５中の（ ）内は各成分の固形分の質量部を表す。

［反射防止フィルム試料３０１の作製］
特開２００３−２１１０５２号の図１に記載されたスロットダイコーターを用いて、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、防眩層用塗布液（ＨＣＬ−３０１）を１７．３ｇ／ｍ²となるように塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの防眩層を有する反射防止フィルム３０１を作製した。

［反射防止フィルム３０２〜３１６の作製］
反射防止フィルム（３０１）の作製において、硬化性組成物（ＨＣＬ−３０１）を用いる代わりに、（ＨＣＬ−３０２）〜（ＨＣＬ−３１６）を用いること以外は反射防止フィルム３０１と同様にしてにより反射防止フィルム３０２〜３１６を作製した。
[反射防止フィルムの評価]
このようにして得られた、反射防止フィルムを実施例１と同様に鹸化処理を行い、評価した。

本実施例から明らかなように、本発明の硬化性組成物を用いた反射防止フィルムは、ＳＷ擦り耐性や消しゴム擦り耐性、密着性に優れていることがわかる。

［実施例４］
（ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−４０１）の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）７５０．０質量部に、質量平均分子量１５０００のポリ（グリシジルメタクリレート）２７０．０質量部、メチルエチルケトン７３０．０質量部、シクロヘキサノン５００．０質量部および光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５０．０質量部、を添加して攪拌した。
孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液（ＨＣＬ−４０１）を調製した。

（二酸化チタン微粒子分散液の調製）
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９Ｃ、石原産業（株）製、ＴｉＯ₂：Ｃｏ₃Ｏ₄：Ａｌ₂Ｏ₃：ＺｒＯ₂＝９０．５：３．０：４．０：０．５重量比）を使用した。
この粒子２５７．１質量部に、下記分散剤４１．１質量部、およびシクロヘキサノン７０１．８質量部を添加してダイノミルにより分散し、重量平均径７０ｎｍの二酸化チタン分散液を調製した。

（中屈折率層用塗布液の調製）
上記の二酸化チタン分散液９９．１質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）６８．０質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）３．６質量部、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．２質量部、メチルエチルケトン２７９．６質量部およびシクロヘキサノン１０４９．０質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液を調製した。

（高屈折率層用塗布液の調製）
上記の二酸化チタン分散液４６９．８質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）４０．０質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）３．３質量部、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．１質量部、メチルエチルケトン５２６．２質量部、およびシクロヘキサノン４５９．６質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液を調製した。

（反射防止フィルム４０１の作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−４０１）をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて５〜１００ｍ／分の速度で連続して塗布した。

中屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２００ｍＪ／ｃｍ²の照射量とした。
硬化後の中屈折率層は屈折率１．６３０、膜厚６７ｎｍであった。

高屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ²、照射量４００ｍＪ／ｃｍ²の照射量とした。
硬化後の高屈折率層は屈折率１．９０５、膜厚１０７ｎｍであった。

低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージ（０．２ｍ³の反応室に１．４０ｍ³／分の窒素ガスを使用）しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２００ｍJ／ｃｍ²の照射量とした。尚、低屈折率層用塗布溶液には、実施例１で作成した低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１０１）を用いた。

このようにして得られた反射防止フィルム試料４０１に対して、低屈折率層の塗布液を（ＬＬ−１０２）〜（ＬＬ−１１３）に変更した以外は反射防止フィルム試料４０１と同様にして試料４０２〜４１３を作製した。実施例１に準じた鹸化処理および評価を行った結果、中屈折率層と高屈折率層を設けることでどの試料も反射率が大きく低下した。本発明に従えば、低反射で耐擦傷性、密着性に優れた射防止フィルムが得られることが分かった。

［実施例５］
（ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−５０１）の調製）
デソライトＺ７４０４（ジルコニア微粒子含有ハードコート組成液：ＪＳＲ(株)製）１００質量部、ＤＰＨＡ（ＵＶ硬化性樹脂：日本化薬(株)製）３１質量部、ＫＢＭ−５１０３（シランカップリング剤：信越化学工業(株)製）１０質量部、ＫＥ−Ｐ１５０（１．５μｍシリカ粒子：日本触媒(株)製）８．９質量部、ＭＸＳ−３００（３μｍ架橋ＰＭＭＡ粒子：綜研化学(株)製）３．４質量部、ＭＥＫ ２９質量部、ＭＩＢＫ １３質量部、をミキシングタンクに投入し攪拌してハードコート層塗布液とした。

（反射防止フィルム５０１の作製）
支持体としてトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム(株)製）をロール形態で巻き出して、上記のハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−５０１）を線数１３５本/インチ、深度６０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、搬送速度１０ｍ/分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ハードコート層を形成し、巻き取った。硬化後のハードコート層の厚さが４．０μｍとなるようにグラビアロール回転数を調整してハードコート５０１を作製した。このようにして得られたハードコート５０１の表面粗さはRa＝0.02μｍ、RMS=0.03μｍ、Rz＝0.25μｍであった。（Ｒａ（中心線平均あらさ）、ＲＭＳ（自乗平均面あらさ）、Ｒｚ（ｎ点平均あらさ）は、走査型プローブ顕微鏡システム ＳＰＩ３８００ セイコーインスツルメンツ（株）製にて測定）

ハードコート５０１上に実施例１の低屈折率層を塗設し、鹸化処理を行い実施例１に準じた評価を行った結果、本発明に従えば低反射で、耐擦傷性、密着性に優れた射防止フィルムが得られることが分かった。

［実施例６］
＜反射防止フィルム付き偏光板の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実施例１の鹸化処理済みの反射防止フィルムに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、該反射防止フィルムの支持体（トリアセチルセルロース）側が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。光学補償層を有する視野角拡大フィルム「ワイドビューフィルムＳＡ１２Ｂ」｛富士写真フイルム（株）製｝を鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜のもう一方の側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。この偏光板状態で実施例１に準じた評価を行った結果、本発明の低屈折率層を用いることにより同様の効果が得られた。

［実施例７］
作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢのモードの透過型液晶表示装置の視認性、耐擦傷性、防汚性が優れていることが確認できた。

［実施例８］
実施例１の反射防止フィルム試料を、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。

本発明のフィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。 本発明のフィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。 本発明のフィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。 本発明のフィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。 本発明のフィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。 本発明において好ましく用いられるダイコーターの一実施形態を示す概略断面図である。 （Ａ）図６のダイコーターの拡大図である。（Ｂ）従来のスロットダイを示す概略断面図である。 本発明において好ましく用いられる塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。 図８の減圧チャンバーとウェッブとの関係を模式的に示す断面図である。 図８の減圧チャンバーとウェッブとの関係を模式的に示す断面図である。 本発明において用いられる、電離放射線照射反応室及び前室を具備した製造装置の一例を示した模式図である。 本発明の電離放射線照射反応室及び前室を具備した製造装置のウェッブ入り口面の動作の一例を示した側面図である。 本発明の電離放射線照射反応室及び前室を具備した製造装置のウェッブ入り口面の動作の一例を示した側面図である。 図１３の前室のウェッブ入り口面の動作を模式的に示した側面図である。 本発明の反射防止フィルムの反射防止層の塗設及び硬化を行なう装置の一例を示す図である。

符号の説明

Ａ 送り出しロール
Ｂ 巻き取りロール
１００，２００，３００，４００ 製膜ユニット
１０１，２０１，３０１，４０１ 塗布液塗布工程
１０２，２０２，３０２，４０２ 塗膜乾燥工程
１０３，２０３，３０３，４０３ 塗膜硬化工程
（１）支持体
（２）ハードコート層
（３）中屈折率層
（４）高屈折率層
（５）低屈折率層
Ｗ ウェッブ
１０ コーター
１１ バックアップロール
１３ スロットダイ
１４ 塗布液
１４ａ ビード形状
１４ｂ 塗膜
１５ ポケット
１６ スロット
１６ａ スロット開口部
１７ 先端リップ
１８ ランド（平坦部）
１８ａ 上流側リップランド
１８ｂ 下流側リップランド
Ｉ_UP 上流側リップランド１８ａのランド長さ
Ｉ_LO 下流側リップランド１８ｂのランド長さ
ＬＯ オーバーバイト長さ
Ｇ_L 先端リップ１７とウェッブＷの隙間
３０ スロットダイ
３１ａ 上流側リップランド
３１ｂ 下流側リップランド
３２ ポケット
３３ スロット
４０ 減圧チャンバー
４０ａ バックプレート
４０ｂ サイドプレート
４０ｃ ネジ
Ｇ_B バックプレート４０ａとウェッブＷの間の隙間
Ｇ_S サイドプレート４０ｂとウェッブＷの間の隙間

Claims (13)

1. 支持体上に反射防止層を有する反射防止フィルムであって、前記支持体上に積層された層の少なくとも一層が、下記式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）又は（Ｉｄ）で表される少なくとも１種の光重合開始剤Ａ、前記式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）又は（Ｉｄ）以外の少なくとも１種の光重合開始剤Ｂ、及び電離放射線硬化性化合物を含有する組成物を電離放射線照射によって硬化させてなる層であることを特徴とする反射防止フィルム。
   

   

   〔式（１ａ）および（１ｂ）中、Ｒ及びＲ１は、互いに独立して、下記式（ＩＩ）：
   

   

   （式（ＩＩ）において、
   Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−；非置換であるか又は−ＯＨ、炭素数１〜４のアルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲン、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１若しくは−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換されている炭素数１〜１２のアルキル；又は１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；或いは、ＯＲ１２、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５、−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｏ−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１又はハロゲンであるか；非置換であるか又は炭素数１〜４のアルキル及び／若しくは炭素数１〜４のアルコキシで置換されているフェニルであり、置換基ＯＲ１２、ＳＲ１３及びＮＲ１４Ｒ１５は、基Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及び／若しくはＲ１５を介して、フェニル環の更なる置換基と一緒に、又はフェニル環の炭素原子のうちの１個と一緒になって５又は６員環を形成することができる）の基、ナフチル基、アントラシル基、フェナントリル基、または複素環基であり、
   但し、式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）において、Ｒ及び／又はＲ１が一般式（ＩＩ）の基を表す場合、置換基Ａ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−の少なくとも１個が、基Ｒ及びＲ１のうちの少なくとも１個に存在するか；或いはＲ及びＲ１は、ナフチル、アントラシル、フェナントリル又は複素環基であり、基ナフチル、アントラシル、フェナントリル及び複素環は、少なくとも１つの置換基Ａ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−を有しており、さらに炭素数１〜８のアルキル、フェニル、ＯＲ１２、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５、−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５および−Ｏ−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５から選ばれる少なくとも一種で置換されることができるが、ここで置換基ＯＲ１２、ＳＲ１３及びＮＲ１４Ｒ１５は、基Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及び／若しくはＲ１５を介して、ナフチル環、アントラシル環、フェナントリル環若しくは複素環の更なる置換基と一緒になって、又はナフチル環、アントラシル環、フェナントリル環若しくは複素環の炭素原子のうちの１個と一緒になって５又は６員環を形成することができ；
   式（Ｉｃ）において、
   Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−；非置換であるか又は−ＯＨ、炭素数１〜４のアルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲン、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換されている炭素数１〜１２のアルキル；又は１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；
   或いは、ＯＲ１２、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５、−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｏ−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１又はハロゲンであるか；非置換であるか又は炭素数１〜４のアルキル及び／若しくは炭素数１〜４のアルコキシで置換されているフェニルであり、ここで置換基ＯＲ１２、ＳＲ１３及びＮＲ１４Ｒ１５は、基Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及び／若しくはＲ１５を介して、フェニル環の更なる置換基と一緒に、又はフェニル環の炭素原子のうちの１個と一緒になって５又は６員環を形成することができるが、
   但し、式（Ｉｃ）において、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうちの少なくとも１個がＡ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−であり；
   式（Ｉｄ）において、
   Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−；非置換であるか又は−ＯＨ、炭素数１〜４のアルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲン、ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換されている炭素数１〜１２のアルキル；又は１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；或いは、ＯＲ１２、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５、−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｏ−（炭素数１〜６のアルキル）−ＮＲ１４Ｒ１５、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１又はハロゲンであるか；非置換であるか又は炭素数１〜４のアルキル及び／若しくは炭素数１〜４のアルコキシで置換されているフェニルであり、ここで置換基ＯＲ１２、ＳＲ１３及びＮＲ１４Ｒ１５は、基Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及び／若しくはＲ１５を介して、フェニル環の更なる置換基と一緒に、又はフェニル環の炭素原子のうちの１個と一緒になって５又は６員環を形成することができ；、
   Ｒ１０は、炭素数１〜８のアルキルであるか、非置換であるか又はＡ−Ｘ−、炭素数１〜４のアルキル及び／若しくは炭素数１〜４のアルコキシで置換されているフェニルであるが；
   但し、式（Ｉｄ）において、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のうちの少なくとも１個がＡ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−であるか、又は置換基Ｒ１０が基Ａ−Ｘ−を含んでおり；
   Ｒ１１は、炭素数１〜８のアルキルであるか、非置換であるか又は炭素数１〜４のアルキル及び／若しくは炭素数１〜４のアルコキシで置換されているフェニルであり；
   Ｒ１２及びＲ１３は、互いに独立して水素；非置換であるか又は−ＯＨ、炭素数１〜４のアルコキシ、フェニル、フェノキシ及び／若しくは−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換されている炭素数１〜１２のアルキルであるか；１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；或いは、フェニル、炭素数３〜６のアルケニル、シクロペンチル、シクロヘキシル又はナフチルであり、これらの基は、非置換であるか又は炭素数１〜４のアルコキシ、フェニル及び／若しくは炭素数１〜４のアルキルで置換され；
   Ｒ１４及びＲ１５は、互いに独立して、水素；非置換であるか又は−ＯＨ、炭素数１〜４のアルコキシ及び／若しくはフェニルで置換されている炭素数１〜１２のアルキル；１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；フェニル、−（ＣＯ）Ｒ１１又はＳＯ_２Ｒ１６であるか；或いはＲ１４及びＲ１５は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、場合により−Ｏ−又は−ＮＲ１７−により中断されている５、６又は７員環を形成し；
   Ｒ１６は、炭素数１〜１２のアルキル、非置換のフェニル又は炭素数１〜４のアルキルで置換されているフェニルであり；
   Ｒ１７は、水素、非置換であるか又は−ＯＨ若しくは炭素数１〜４のアルコキシで置換されている炭素数１〜８のアルキル；或いは非置換であるか又は−ＯＨ、炭素数１〜４のアルキル若しくは炭素数１〜４のアルコキシで置換されているフェニルであり；
   Ａ及びＡ１は、互いに独立して、式（ＩＩＩ）
   

   

   （式中、単位（ＩＩＩａ１）、（ＩＩＩａ２）、（ＩＩＩａ３）、（ＩＩＩａ４）、（ＩＩＩｂ）及び／又は（ＩＩＩｃ）
   

   

   は、ランダムに又はブロックで分布し、式中の円は、上記で定義された式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）又は（Ｉｄ）の芳香族基が、適切なシリル基により架橋Ｘを介して置換されていることを表すことが意図される）の界面活性基であるか；
   或いはＡ及びＡ１は、互いに独立して、界面活性基Ａ０であり；
   ｎは１〜１０００の数であり、但し、シロキサン出発材料がオリゴマーシロキサンの混合物である場合、ｎは、また、１未満であるが０を超えることができ；
   ｍは０〜１００の数であり；
   ｐは０〜１００００の数であり；
   Ａ０は、炭素数６〜３０のアルキル、炭素数６〜３０のアルケニル、炭素数６〜３０のアルキニル、炭素数６〜３０のアラルキル、炭素数６〜３０のアルキル−（ＣＯ）−、炭素数６〜３０のアルケニル−（ＣＯ）−、炭素数６〜３０のアルキニル−（ＣＯ）−、炭素数６〜３０のアラルキル−（ＣＯ）−、炭素数６〜３０のアルキル−Ｓｉ（Ｒ１８）（Ｒ１９）−、炭素数６〜３０のアルケニル−Ｓｉ（Ｒ１８）（Ｒ１９）−又は炭素数６〜３０のアルキニル−Ｓｉ（Ｒ１８）（Ｒ１９）−であり、ここでこれらは、それぞれ非置換であるか又は−ＯＨ、炭素数１〜４のアルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲン、−ＣＮ、ＳＲ１３、ＮＲ１４Ｒ１５及び／若しくは−Ｏ（ＣＯ）Ｒ１１で置換され、場合により−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ１７−の１以上によって中断され；
   Ｇ１は、炭素数１〜１８のアルキル又は下記式
   

   

   の基であり；
   Ｇ２は、炭素数１〜１８のアルキル又は下記式
   

   

   の基であるか；
   或いはＧ１及びＧ２は共に単結合であり；
   Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６及びＲ２７は、互いに独立して、炭素数１〜１８のアルキル、フェニル、炭素数２〜６のヒドロキシアルキル、炭素数２〜６のアミノアルキル又は炭素数５〜８のシクロアルキルであり；
   Ｒ２１は、非置換の炭素数１〜１８のアルキル、又はヒドロキシ、炭素数１〜１２のアルコキシ、ハロゲン、炭素数３〜８のシクロアルキル及び／若しくはＮ（Ｒ１４）（Ｒ１５）で置換されている炭素数１〜１８のアルキルであるか；或いはＲ２１は、非置換のフェニル、又は炭素数１〜１２のアルキル、炭素数１〜１２のアルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ及び／若しくはＮ（Ｒ１４）（Ｒ１５）で置換されているフェニルであるか；或いはＲ２１は、炭素数５〜８のシクロアルキルであり；
   Ｘ及びＸ１は、Ａ又はＡ１が式（ＩＩＩ）の基である場合、互いに独立して、単結合、−Ｕ−（炭素数１〜１０のアルキレン）、−Ｕ−（炭素数３〜１２のシクロアルキレン）、−Ｕ−炭素数６〜１２のビシクロアルキレン）、１以上の不連続な（炭素数３〜１２のシクロアルキレン）、−Ｕ−（炭素数３〜１２のシクロアルキレン）、炭素数６〜１２のビシクロアルキレン若しくは−Ｕ−（炭素数６〜１２のビシクロアルキレン）により中断されている−Ｕ−（炭素数１〜１０のアルキレン）、１以上の不連続Ｏ及び炭素数３〜１２のシクロアルキレン、−Ｕ−（炭素数３〜１２のシクロアルキレン）、炭素数６〜１２のビシクロアルキレン及び／若しくは−Ｕ−（炭素数６〜１２のビシクロアルキレン）により中断されている−Ｕ−（炭素数１〜１０のアルキレン）、
   

   

   −（ＣＨ_２）_ａ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ_２）_ｂ−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ_２）_ｃ−、炭素数２〜１０のアルケニレン、炭素数２〜１０のアルキニレン、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−、（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ｂ−、−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ｃ−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−ＮＲ１７−、−（炭素数２〜１０のアルケニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−、−（炭素数２〜１０のアルケニレン）−Ｏ−、−（炭素数２〜１０のアルキニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−、−（炭素数２〜１０のアルキニレン）−Ｏ−、−（炭素数２〜１０のアルケニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−（炭素数２〜１０のアルキニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−（炭素数２〜１０のアルケニレン）−ＮＲ１７−、−（炭素数２〜１０のアルキニレン）−ＮＲ１７−、−（炭素数２〜１０のアルケニレン）−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ａ−、−（炭素数２〜１０のアルキニレン）−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ａ−、−（炭素数２〜１０のアルケニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−又は−（炭素数２〜１０のアルキニレン）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−であり；
   Ｘ及びＸ１は、Ａ又はＡ１がＡ０を表す場合、互いに独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ１７−であり；
   −Ｕ−は、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ_２）_ａ−ＣＯＯ−、−Ｓｉ−又は（ＣＨ_２）_ａ−Ｓｉ−であり；
   ａ、ｂ及びｃは、互いに独立して、０〜１０の数であるが、但し、当該メチレン基が酸素原子２個の間、又は酸素原子１個と窒素原子１個の間に位置する場合、これらは少なくとも１である〕
2. 前記式（Ｉａ）および（Ｉｂ）において、Ｒ及びＲ１が、互いに独立して、式（ＩＩ）：（式（ＩＩ）において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−、非置換の炭素数１〜１２のアルキル、または１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；或は、ＯＲ１２、ハロゲン若しくは非置換のフェニルである）の基またはナフチル基であり、
   但し、式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）において、Ｒ及び／又はＲ１が一般式（ＩＩ）の基を表す場合、置換基Ａ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−の少なくとも１個が、基Ｒ及びＲ１のうちの少なくとも１個に存在するか；或いはＲ及びＲ１が、ナフチル基であり、該ナフチル基は、少なくとも１つの置換基Ａ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−を有しており、さらに炭素数１〜８のアルキル及び／若しくはＯＲ１２で置換されることができ；
   式（Ｉｃ）において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９が、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−、非置換の炭素数１〜１２のアルキル、または１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；或は、ＯＲ１２、ハロゲン若しくは非置換のフェニルであるが、但し、式（Ｉｃ）において、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうちの少なくとも１個がＡ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−であり；
   式（Ｉｄ）において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５が、互いに独立して、水素；Ａ−Ｘ−、Ａ１−Ｘ１−、非置換の炭素数１〜１２のアルキル、又は１以上の不連続な酸素原子により中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；或は、ＯＲ１２、ハロゲン若しくは非置換のフェニルであり；Ｒ１０が、炭素数１〜８のアルキル、又は非置換であるか若しくはＡ−Ｘ−で置換されているフェニルであるが；但し、式（Ｉｄ）において、基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のうちの少なくとも１個がＡ−Ｘ−又はＡ１−Ｘ１−であるか、又は置換基Ｒ１０が基Ａ−Ｘ−を含んでおり；
   Ｒ１２が、水素若しくは非置換の炭素数１〜１２のアルキルであるか；又は、１以上の不連続酸素原子で中断されている炭素数２〜１２のアルキルであるか；或は、フェニル、炭素数３〜６のアルケニル、シクロペンチル若しくはシクロヘキシルであり；
   Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６及びＲ２７が、互いに独立して、炭素数１〜１８のアルキル又はフェニルであり；
   Ｘ及びＸ１が、Ａ又はＡ１が式（ＩＩＩ）の基である場合、互いに独立して、炭素数１〜１０のアルキレン、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ、−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−（ＣＨ_２）_ｂ−又は−（ＣＨ_２）_ａ−ＮＲ１７−であり；
   Ｘ及びＸ１が、Ａ又はＡ１がＡ０を表す場合、互いに独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ１７−であることを特徴とする請求項１の反射防止フィルム。
3. 前記式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）及び（Ｉｄ）の化合物において、Ａ及びＡ１が前記式（ＩＩＩ）の基であることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
4. 前記電離放射線硬化性化合物が、二個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
5. 前記電離放射線硬化性化合物が、含フッ素ポリマーであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
6. 前記含フッ素ポリマーが、下記一般式１で表されるであることを特徴とする請求項５に記載の反射防止フィルム。
   

   

   〔一般式１中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、ｍは０または１を表す。Ｘは水素原子またはメチル基を表す。Ａは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。また、シリコーン部位を含んでいても良い。ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。〕
7. 前記組成物が、無機粒子を含有していることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
8. 前記無機粒子が、シリカ微粒子であることを特徴とする請求項７に記載の反射防止フィルム。
9. 前記無機粒子が、中空構造を有し、屈折率が１．１５〜１．４０の範囲であることを特徴とする請求項７又は８に記載の反射防止フィルム。
10. 前記組成物が、更にオルガノシラン化合物、該オルガノシラン化合物の加水分解物および／またはその部分縮合物を含有することを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルム。
11. 前記組成物がポリシロキサン化合物を含有していることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルム。
12. 一対の保護フィルムの間に偏光膜を有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一つが請求項１〜１１のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
13. 請求項１〜１１に記載の反射防止フィルム、又は請求項１２に記載の偏光板がディスプレイの最表面に用いられていることを特徴とする画像表示装置。

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