TWI673513B - 抗反射膜、顯示裝置及顯示裝置之抗反射膜之選擇方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種於使用超高精細顯示元件之情形時可抑制顯示裝置表面之反射，防止損害超高精細顯示元件之影像品質並且抑制白化之抗反射膜。
本發明之抗反射膜係於透明基材上具有高折射率層及低折射率層者，且藉由下述條件所測定之擴散光線反射率(RSCE)為0.12%以下，並且該抗反射膜用於全光線反射率(RSCI)為4.0%以上之顯示元件。
(擴散光線反射率及全光線反射率之測定)
製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之擴散光線反射率(RSCE)進行測定。

Description

抗反射膜、顯示裝置及顯示裝置之抗反射膜之選擇方法
本發明係關於一種抗反射膜、顯示裝置及顯示裝置之抗反射膜之選擇方法。
近年來，隨著朝數位地面廣播之轉移等，正不斷推進可實現超高精細影像顯示之顯示裝置之開發。為了無損此種超高精細顯示裝置之影像品質，對於顯示裝置之表面要求防止外界光映入之性能。
作為防止外界光映入之手段，主要可列舉使表面凹凸而減少正反射光之防眩處理、及藉由多層薄膜之干涉作用而降低反射率之抗反射處理。近年來，容易展現出影像之高級感之抗反射處理正成為主流。
多層薄膜係薄膜越重疊越可降低反射率，但就費用相對於效果之觀點而言，大多為藉由塗佈而得之2層或3層結構者。作為此種抗反射膜，例如可列舉專利文獻1中之抗反射膜。
又，近年來，為了無損超高精細顯示裝置之影像品質，對2層或3層結構之抗反射膜亦要求反射率0.5%以下之超低反射率製品。
然而，超低反射率之抗反射膜雖然於通用進行之對背面實施黑化處理時之抗反射評價中顯示出良好之視認性，但存在於組入至超高精細顯示裝置之情形時產生白化之情況。該白化無法利用光學膜之領域中通用之評價即霧度來進行檢測。換言之，該白化之白色等級較低，為於通常之使用環境中難以被人辨識出之程度之白色。然而，於在超高精細顯示裝置中組入超低反射率之抗反射膜時，存在藉由仔細地觀察而辨識出白色之情況。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2010-152311號公報
本發明之目的在於提供一種於使用超高精細顯示元件之情形時可抑制顯示裝置表面之反射並且抑制白化，防止損害超高精細顯示元件之影像品質的抗反射膜及顯示裝置。又，本發明之目的在於提供一種效率良好地選擇抑制使用有超高精細顯示元件之顯示裝置表面之反射並且抑制白化、且無損超高精細顯示元件之影像品質之抗反射膜的抗反射膜之選擇方法。
本發明者等人為了解決上述課題進行努力研究，首先，關於近年來之經超高精細化之顯示裝置，獲得如下知識見解：(1)構成顯示元件之透明電極之密度增加，而顯示元件之反射率增加；(2)經超低反射率 化之抗反射膜產生無法利用霧度檢測到之光擴散；(3)於抗反射膜為超低反射之情形時，因擴散所產生之白化容易變明顯。
並且，本發明者等人經過進一步之努力研究，結果發現，因顯示元件之反射率增加，入射至顯示裝置之外界光中成為反射光而返回至視認者側之比例增加，所增加之反射光因再次通過產生光擴散之抗反射膜而增大光擴散之程度，產生白化之問題，從而解決上述課題。
為了解決上述課題，本發明提供以下之[1]~[9]之抗反射膜、顯示裝置及顯示裝置之抗反射膜之選擇方法。
[1]一種抗反射膜，其係於透明基材上具有高折射率層及低折射率層者，並且藉由下述條件所測定之擴散光線反射率(RSCE)為0.12%以下，且該抗反射膜用於全光線反射率(RSCI)為4.0%以上之顯示元件。
(擴散光線反射率之測定)
製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之擴散光線反射率(RSCE)進行測定。
[2]一種顯示裝置，其係於全光線反射率(RSCI)為4.0%以上之顯示元件上具有抗反射膜而成，該抗反射膜於透明基材上具有高折射率層及低折射率層，並且該抗反射膜藉由下述條件所測定之擴散光線反射率(RSCE)為0.12%以下。
(擴散光線反射率之測定)
製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之擴散光線反 射率(RSCE)進行測定。
[3]如上述[2]記載之顯示裝置，其中，上述抗反射膜之上述擴散光線反射率(RSCE)與藉由下述條件所測定之全光線反射率(RSCI)之比[RSCE/RSCI]為0.32以下。
(全光線反射率之測定)
製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之全光線反射率(RSCI)進行測定。
[4]如上述[2]或[3]記載之顯示裝置，其中，上述抗反射膜藉由下述條件所測定之反射率Y值為0.5%以下。
(抗反射膜之反射率Y值之測定)
製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之反射率Y值進行測定。
[5]如上述[2]至[4]中任一項記載之顯示裝置，其中，上述高折射率層係含有高折射率粒子而成。
[6]如上述[2]至[5]中任一項記載之顯示裝置，其中，上述低折射率層係含有低折射率粒子而成。
[7]如上述[2]至[6]中任一項記載之顯示裝置，其中，上述顯示元件之像素數為3840×2160像素以上。
[8]如上述[2]至[7]中任一項記載之顯示裝置，其中，於上述顯示元件上具有觸控板，且於該觸控板上具有上述抗反射膜。
[9]一種顯示裝置之抗反射膜之選擇方法，其選擇於透明基材上具有高折射率層及低折射率層而成且藉由下述條件所測定之擴散光線反射率(RSCE)為0.12%以下之抗反射膜作為具有全光線反射率(RSCI)為4.0%以上之顯示元件之顯示裝置的抗反射膜；
(擴散光線反射率之測定)
製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之擴散光線反射率(RSCE)進行測定。
本發明之抗反射膜及顯示裝置可抑制顯示裝置表面之反射並且抑制因反射率較高之超高精細顯示元件之反射光所導致之白化，防止損害超高精細顯示元件之影像品質。
又，本發明之顯示裝置之抗反射膜之選擇方法可效率良好地選擇抑制使用有超高精細顯示元件之顯示裝置表面之反射並且抑制白化、且無損超高精細顯示元件之影像品質的抗反射膜。
1‧‧‧顯示元件
2‧‧‧抗反射膜
21‧‧‧透明基材
22‧‧‧硬塗層
23‧‧‧高折射率層
24‧‧‧低折射率層
3‧‧‧觸控板
10‧‧‧顯示裝置
圖1係表示本發明之顯示裝置之一實施例的剖面圖。
圖2係表示本發明之顯示裝置之另一實施例的剖面圖。
[顯示裝置]
本發明之顯示裝置係於全光線反射率(RSCI)為4.0%以上之顯示元件上具有抗反射膜而成，該抗反射膜於透明基材上具有高折射率層及低折射率層，並且該抗反射膜藉由下述條件所測定之擴散光線反射率(RSCE)為0.12%以下。
(擴散光線反射率之測定)
製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之擴散光線反射率(RSCE)進行測定。
圖1及圖2係表示本發明之顯示裝置10之實施形態的剖面圖。圖1及圖2之顯示裝置10均於顯示元件1上配置有在透明基材21上具有硬塗層22、高折射率層23及低折射率層24的抗反射膜2。又，圖2之顯示裝置10於顯示元件1與抗反射膜2之間配置有觸控板3。
再者，如圖1及圖2所示，抗反射膜2以透明基材21側之面朝向液晶顯示元件1側之方式設置於顯示元件1上。又，如圖1及圖2所示，抗反射膜2較佳為用於顯示裝置10之最外表面。
<顯示元件>
作為構成本發明之顯示裝置之顯示元件，可列舉：液晶顯示元件、電漿顯示元件、有機EL顯示元件等。該等顯示元件具有用以驅動顯示元件之經圖案化之透明電極。該透明電極係由ITO等反射率較高之材料形成，又，隨著顯示元件之超高精細化，該透明電極之密度不斷增加，因此顯示元件之反射率亦逐漸升高。於本發明中，作為顯示元件，使用全光線反射率(RSCI)為4.0%以上者。顯示元件之全光線反射率(RSCI)之上限為15.0%左右。
顯示元件之具體構成並無特別限制。例如於液晶顯示元件之情形時，由依序具有下部玻璃基板、下部透明電極、液晶層、上部透明電極、彩色濾光片及上部玻璃基板之基本構成所組成，於超高精細之液晶顯示元件中，該下部透明電極及上部透明電極被高密度地圖案化。
全光線反射率(RSCI)係使用積分球，自所有方向對顯示元件表面照射光，關閉光阱，對包含正反射方向在內之全部反射光進行測定，並由該測定值所算出的反射率。另一方面，下述擴散光線反射率(RSCE)係使用積分球，自所有方向對試樣表面照射光，開放相當於正反射方向之光阱，對自光阱漏出之反射光以外之反射光進行測定，並由該測定值所算出的反射率。關於代表性之RSCE及RSCI之測定裝置，受光器之位置相對於試樣之法線為+8度，受光器之開口角為10度，光阱之位置相對於試樣之法線為-8度，光阱之覆蓋範圍為10度。作為此種受光器，可列舉Konica Minolta股份有限公司製造之商品名CM-2002。顯示元件之RSCI可利用實施例中記載之方法進行測定。
顯示元件較佳為具有像素數為3840×2160像素以上之所謂4K解析度以上之解析度者。4K解析度以上之超高精細顯示元件由於構成顯示元件之透明電極之密度較高，故而反射率升高，容易產生因反射光導致之抗反射膜之白化。又，此種超高精細顯示元件由於每1像素之光量較少，故而容易受到白化之影響。因此，具有4K解析度以上之解析度之顯示元件就容易發揮本發明效果之方面而言較佳。
再者，作為4K解析度以上之顯示元件，可列舉像素數為3840×2160像素者、像素數為4096×2160像素者等。4K解析度以上之顯示元件之畫面尺 寸通常為對角40~85吋左右。
又，即便像素數未達3840×2160像素，像素密度為250ppi以上之顯示元件亦就容易發揮本發明效果之方面而言較佳。
關於在全光線反射率(RSCI)為4.0%以上之顯示元件上設置有通常之超低反射率之抗反射膜時產生白化之原因，考慮如下。
首先，由2層結構或3層結構之多層薄膜所構成之抗反射膜有藉由使低折射率層之折射率降低並且使高折射率層之折射率升高，可降低反射率之傾向。為了使高折射率層之折射率升高，有效的是使高折射率層含有大量高折射粒子。若高折射率粒子於高折射率層中不凝集而分散，保持較小之平均粒徑，則因該粒子引起之光擴散之擴散分佈之尾端不會擴大，故而抑制白化。然而，近年來，為了賦予抗靜電性，存在使用導電性粒子作為高折射率粒子之情況，於該情形時，使導電性粒子凝集而網絡化者容易表現出抗靜電性，故而存在未進行過度分散之情形。又，原本於使用大量高折射率粒子之情形時有變得難以均勻分散，高折射率粒子發生凝集之傾向。並且，凝集粒子之粒徑越增加，因凝集粒子產生之擴散光之擴散分佈之尾端會越寬。另一方面，由於超低反射之抗反射膜之表面反射率Y值較低，故因凝集粒子而擴散之擴散分佈之尾端明顯，白化會被辨識出。尤其是於顯示元件之全光線反射率(RSCI)為4.0%以上且來自顯示元件之反射光增多之情形時，因凝集粒子之光擴散產生之白化問題變得顯著。
<抗反射膜>
構成本發明之顯示裝置之抗反射膜係於透明基材上具有高折射率層及低折射率層而成者。高折射率層及低折射率層具有藉由多層薄膜之光學干 涉功能而賦予抗反射功能之作用。抗反射膜亦可進而設置中折射率層等而賦予基於3層以上之多層薄膜之光學干涉功能而得之抗反射功能，但就費用相對於效果之觀點而言，多層薄膜較佳為高折射率層及低折射率層之2層結構。
又，構成本發明之顯示裝置之抗反射膜係使用藉由下述條件所測定之擴散光線反射率(RSCE)為0.12%以下者。
(擴散光線反射率及全光線反射率之測定)
製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之擴散光線反射率(RSCE)進行測定。
透明黏著劑之折射率係使用與透明基材及黑色板之折射率之折射率差為0.05以內者。再者，該折射率之較佳條件於下述RSCI及Y值之測定中亦同樣。
更詳細而言，抗反射膜之擴散光線反射率(RSCE)、全光線反射率(RSCI)及反射率Y值可利用實施例中記載之方法進行測定。
全光線反射率(RSCI)係由包含正反射方向在內之全部反射光所算出之反射率，相對於此，擴散光線反射率(RSCE)係由除正反射方向之反射光以外之反射光所算出之反射率。抗反射膜之表面大致平滑，且擴散反射光之比例小於正反射光。因此，可認為自全反射光中將正反射光除外之RSCE為適於表示極少成分之擴散反射光的參數。
若於全光線反射率(RSCI)較高之顯示元件上設置RSCE超過0.12%之抗反射膜，則於經顯示元件反射之反射光再次通過抗反射膜時，會被抗反射 膜中之擴散成分擴散，而以白化之形式被辨識出。尤其是超低反射之抗反射膜之表面反射率Y值較低，故而於抗反射膜中受擴散之擴散光線明顯，而辨識出白化。
RSCE較佳為0.11%以下。又，RSCE之下限並無特別限定，為0.05%左右。
抗反射膜較佳為RSCE與藉由下述條件所測定之全光線反射率(RSCI)之比[RSCE/RSCI]為0.32以下，更佳為0.30以下，進而較佳為0.25以下。
(全光線反射率之測定)
製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之全光線反射率(RSCI)進行測定。
抗反射膜之RSCE/RSCI為0.32以下意味著擴散反射光之比例小於正反射光。因此，藉由使RSCE滿足本發明之條件並且將RSCE/RSCI設為0.32以下，可使擴散反射光更不容易變明顯(可更不易辨識出白化)。再者，就不必要以上地增加正反射光之觀點而言，RSCE/RSCI較佳為0.10以上。
又，於本發明中，抗反射膜之RSCE/(RSCI-RSCE)較佳為0.50以下，更佳為0.40以下，進而較佳為0.30以下。
RSCE/(RSCI-RSCE)為0.50以下意味著擴散反射光之比例小於正反射光。因此，藉由使RSCE滿足本發明之條件並且將RSCE/(RSCI-RSCE)設為0.50以下，可使擴散反射光更不容易變明顯(可更不易辨識出白化)。再者，就不必要以上地增加正反射光之觀點而言，RSCE/(RSCI-RSCE)較佳為0.10以上。
於本發明中，抗反射膜之RSCI之值並無特別限制，就不必要 以上地增加正反射光之觀點而言，RSCI較佳為0.80%以下，更佳為0.75%以下，進而較佳為0.70%以下。
抗反射膜較佳為超低反射率者，具體而言，較佳為反射率Y值為0.50%以下者，更佳為0.45%以下者。再者，所謂抗反射膜之反射率Y值，係指CIE1931標準表色系統之Y值，可藉由以下之方法進行測定。
(抗反射膜之反射率Y值之測定)
製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之反射率Y值進行測定。
抗反射膜較佳為全光線穿透率(JIS K7361-1：1997)為90%以上，更佳為92%以上。又，本發明之抗反射膜較佳為霧度(JIS K7136：2000)為1.0%以下，更佳為0.5%以下，進而較佳為0.3%以下。
測定全光線穿透率及霧度時之光入射面為透明基材側。
抗反射膜之表面(低折射率層側之表面)之算術平均粗糙度Ra(JIS B0601：1994)較佳為10nm以下，更佳為1~8nm。又，抗反射膜之表面(低折射率層側之表面)之十點平均粗糙度Rz(JIS B0601：1994)較佳為160nm以下，更佳為50~155nm。
若Ra、Rz為上述範圍，則具有平滑性，提高耐擦傷性。
(透明基材)
抗反射膜之透明基材只要為通常用作抗反射膜之基材且透明者，則並無特別限定，就材料成本、生產性等觀點而言，較佳為可根據用途適當選擇塑膠膜、塑膠片等。
作為塑膠膜或塑膠片，可列舉由各種合成樹脂構成者。作為合成樹脂，可較佳地列舉：三乙醯纖維素樹脂(TAC)、二乙醯纖維素、乙酸丁酸纖維素、賽璐凡(cellophane)等纖維素樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯樹脂(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯樹脂、聚萘二甲酸乙二酯-間苯二甲酸酯共聚樹脂、聚酯系熱塑性彈性體等聚酯樹脂；低密度聚乙烯樹脂(包含線性低密度聚乙烯樹脂)、中密度聚乙烯樹脂、高密度聚乙烯樹脂、乙烯-α烯烴共聚物、聚丙烯樹脂、聚甲基戊烯樹脂、聚丁烯樹脂、乙烯-丙烯共聚物、丙烯-丁烯共聚物、烯烴系熱塑性彈性體、或者該等混合物等聚烯烴樹脂；聚(甲基)丙烯酸甲酯樹脂、聚(甲基)丙烯酸乙酯樹脂、聚(甲基)丙烯酸丁酯樹脂等丙烯酸樹脂；以尼龍6或尼龍66等為代表之聚醯胺樹脂；聚苯乙烯樹脂；聚碳酸酯樹脂；聚芳酯樹脂；或聚醯亞胺樹脂等。
作為透明基材，可自上述塑膠膜、塑膠片中選擇並單獨使用，或選擇2種以上而以混合物之形式使用，就柔軟性、強韌性、透明性等觀點而言，更佳為纖維素樹脂、聚酯樹脂，進而較佳為三乙醯纖維素樹脂(TAC)、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂。
關於透明基材之厚度，並無特別限制，可根據用途適當選擇，通常為5~130μm，若考慮到耐久性或操作性等，則較佳為10~100μm。
(硬塗層)
為了提高抗反射膜之耐擦傷性，於透明基材與高折射率層之間較佳為具有硬塗層。此處，硬塗係指由JIS K5600-5-4：1999所規定之鉛筆硬度試驗中顯示出「H」以上之硬度者。
硬塗層較佳為含有熱硬化性樹脂組成物或游離輻射硬化性樹脂組成物 等硬化性樹脂組成物之硬化物，就使耐擦傷性更良好之觀點而言，更佳為含有游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。
熱硬化性樹脂組成物為至少含有熱硬化性樹脂之組成物，且為藉由加熱而硬化之樹脂組成物。
作為熱硬化性樹脂，可列舉：丙烯酸樹脂、胺酯樹脂(urethane resin)、酚樹脂、脲三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚矽氧樹脂等。於熱硬化性樹脂組成物中，視需要於該等硬化性樹脂中添加硬化劑。
游離輻射硬化性樹脂組成物為含有具有游離輻射硬化性官能基之化合物(以下亦稱為「游離輻射硬化性化合物」)的組成物。作為游離輻射硬化性官能基，可列舉：(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和鍵結基、及環氧基、氧雜環丁基等(oxetanyl group)。作為游離輻射硬化性化合物，較佳為具有乙烯性不飽和鍵結基之化合物，更佳為具有2個以上乙烯性不飽和鍵結基之化合物，其中，進而較佳為具有2個以上乙烯性不飽和鍵結基之多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物。作為多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物，可使用單體及低聚物中之任一者。
再者，所謂游離輻射，意指電磁波或帶電粒子束中具有可使分子聚合或交聯之能量子者，通常可使用紫外線(UV)或電子束(EB)，此外，亦可使用X射線、γ射線等電磁波、α射線、離子束等帶電粒子束。
於多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物中，作為二官能(甲基)丙烯酸酯系單體，可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A四乙氧基二丙烯酸酯、雙酚A四丙氧基二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯等。
作為三官能以上之(甲基)丙烯酸酯系單體，例如可列舉：三羥甲基丙烷 三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸改質三(甲基)丙烯酸酯等。
又，上述(甲基)丙烯酸酯系單體可為對分子骨架之一部分加以改質而成者，亦可使用經環氧乙烷、環氧丙烷、己內酯、異三聚氰酸、烷基、環狀烷基、芳香族、雙酚等改質而成者。
又，作為多官能性(甲基)丙烯酸酯系低聚物，可列舉：(甲基)丙烯酸胺酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸酯系聚合物等。
(甲基)丙烯酸胺酯例如可藉由多元醇及有機二異氰酸酯與羥基(甲基)丙烯酸酯之反應而獲得。
又，較佳之環氧(甲基)丙烯酸酯為使三官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與(甲基)丙烯酸進行反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯，使二官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與多元酸及(甲基)丙烯酸進行反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯，及使二官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與酚類及(甲基)丙烯酸進行反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯。
上述游離輻射硬化性化合物可單獨使用1種或組合2種以上使用。
於游離輻射硬化性化合物為紫外線硬化性化合物之情形時，游離輻射硬化性組成物較佳為含有光聚合起始劑或光聚合促進劑等添加劑。
作為光聚合起始劑，可列舉選自苯乙酮、二苯甲酮、α-羥基烷基苯酮、 米其勒酮、安息香、苯偶醯二甲基縮酮、苯甲醯基苯甲酸酯、α-醯基肟酯、9-氧硫類等中之1種以上。該等光聚合起始劑較佳為熔點為100℃以上。藉由將光聚合起始劑之熔點設為100℃以上，可防止殘留之光聚合起始劑因透明導電膜形成時或結晶化步驟之熱而昇華從而損害透明導電膜之低電阻化。於下述高折射率層及低折射率層使用光聚合起始劑時亦同樣。
又，光聚合促進劑係可減輕硬化時因空氣引起之聚合抑制從而加快硬化速度者，例如可列舉選自對二甲胺基苯甲酸異戊酯、對二甲胺基苯甲酸乙酯等中之1種以上。
硬塗層之厚度較佳為處於0.1~100μm之範圍內，更佳為0.8~20μm之範圍。若硬塗層之厚度在上述範圍內，則可獲得充分之硬塗性能，受到來自外部之衝擊時不會產生龜裂等，變得不易破裂。
硬塗層、以及下述高折射率層及低折射率層之厚度例如可使用掃描式電子顯微鏡(SEM)、穿透式電子顯微鏡(TEM)或掃描穿透式電子顯微鏡(STEM)對剖面進行拍攝，並自所拍攝之剖面之影像中測定20處部位之厚度，由20處部位之值之平均值算出。於所要測定之膜厚為μm等級之情形時，較佳為使用SEM，於為nm等級之情形時，較佳為使用TEM或STEM。於SEM之情形時，較佳為將加速電壓設為1~10kV，將倍率設為1000~7000倍，於TEM或STEM之情形時，較佳為將加速電壓設為10~30kV，將倍率設為5萬~30萬倍。
硬塗層之折射率小於下述高折射率層之折射率，較佳為1.45~1.70之範圍內，更佳為1.45~1.60之範圍內。若硬塗層之折射率在此種範圍內，則於高折射率層之折射率之控制上不產生困難性。又，就抑制干涉 條紋之觀點而言，較佳為縮小硬塗層之折射率與透明基材之折射率之差。
硬塗層、以及下述高折射率層及低折射率層之折射率例如可根據由反射光度計所測得之反射光譜與由使用菲涅耳係數之多層薄膜之光學模型所算出之反射光譜之擬合而算出。
硬塗層可藉由如下方式形成：利用上述硬化性樹脂組成物、視需要調配之紫外線吸收劑或調平劑等添加劑及稀釋溶劑而製備硬塗層形成用塗佈液，並利用先前公知之塗佈方法，將該塗佈液塗佈於透明基材上並加以乾燥、視需要照射游離輻射使之硬化。
(高折射率層)
高折射率層例如可由含有硬化性樹脂組成物及高折射率粒子之高折射率層塗佈液所形成。
高折射率層就使抗反射膜超反射率化之觀點而言，較佳為使折射率提高，但為了提高折射率，必需大量高折射率粒子，因高折射粒子之凝集或網絡化而導致白化。因此，折射率較佳為設為1.55~1.85，更佳為設為1.56~1.70。
又，高折射率層之厚度較佳為200nm以下，更佳為50~180nm。再者，於高折射率層由下述2層構成所組成之情形時，較佳為2層之合計厚度滿足上述值。
又，高折射率層亦可由滿足上述折射率之範圍之複數層所形成，但就費用相對於效果之觀點而言，較佳為2層以下。
作為高折射率粒子，可列舉：五氧化二銻(1.79)、氧化鋅(1.90)、氧化鈦(2.3~2.7)、氧化鈰(1.95)、摻錫之氧化銦(1.95~2.00)、 摻銻之氧化錫(1.75~1.85)、氧化釔(1.87)及氧化鋯(2.10)等。再者，上述括號內表示各粒子之材料之折射率。
於該等高折射率粒子之中，就以少量之添加便達成上述較佳折射率之觀點而言，較佳為折射率超過2.0者。又，五氧化二銻、摻錫之氧化銦(ITO)、摻銻之氧化錫(ATO)等具有導電性之高折射率粒子具有電漿振動數處於近紅外區之自由電子，存在因該自由電子之電漿振動而使可見光區域之光亦有一部分被吸收或反射，產生著色之問題之情況。因此，高折射率粒子較佳為非導電性粒子。
根據以上之內容，於上述例示之高折射率粒子之中，較佳為氧化鈦及氧化鋯，進而就耐光性等耐久穩定性較高之觀點而言，最佳為氧化鋯。再者，於欲對抗反射膜賦予抗靜電性之情形時，較佳為將高折射率層如下所述設為2層構成，並在一層中含有導電性之高折射率粒子。
高折射率粒子之一次粒子之平均粒徑較佳為5~200nm，更佳為5~100nm，進而較佳為10~80nm。
高折射率粒子及下述低折射率粒子之一次粒子之平均粒徑可藉由以下之(1)~(3)之作業而算出。
(1)對粒子其本身、或將粒子之分散液塗佈於透明基材上並乾燥而得者拍攝SEM、TEM或STEM之表面圖像。
(2)自表面圖像中抽取任意10個粒子，測定各粒子之長徑及短徑，根據長徑及短徑之平均算出各粒子之粒徑。再者，長徑係設為畫面上最長之徑，短徑係劃出與構成長徑之線段之中點正交之線段，設為該正交之線段與粒子相交的2點間距離。
(3)於相同試樣之其他畫面之拍攝中進行5次同樣之作業，將由合計50個粒子之粒徑之數平均所獲得之值設為平均粒徑。
再者，於算出粒子之平均粒徑時，在算出之平均粒徑為μm等級之情形時，較佳為使用SEM，在算出之平均粒徑為nm等級之情形時，較佳為使用TEM或STEM。於SEM之情形時，較佳為將加速電壓設為1~10kV，將倍率設為1000~7000倍，於TEM或STEM之情形時，較佳為將加速電壓設為10~30kV，將倍率設為5萬~30萬倍。
高折射率粒子之含量就高折射率化與抑制白化之平衡性之觀點而言，相對於硬化性樹脂組成物100質量份，較佳為30~300質量份，更佳為30~100質量份，進而較佳為35~75質量份。
為了抑制高折射粒子之過度凝集，高折射率層較佳為進行分散穩定化。作為分散穩定化之手段，例如可列舉對成為基質之高折射粒子添加表面電荷量低於該粒子之其他高折射率粒子之手段。根據該手段，成為基質之高折射率粒子適度地彙集於該其他高折射率粒子之周圍，可抑制成為基質之高折射粒子過度凝集。又，作為另一分散穩定化之手段，可列舉使用經表面處理之粒子作為高折射率粒子，或於高折射率層塗佈液中添加分散劑之手段。
作為形成高折射率層之硬化性樹脂組成物，可使用與硬塗層中例示之硬化性樹脂組成物相同者，較佳為游離輻射硬化性樹脂組成物。
又，為了在不使高折射率粒子之添加量過量之情況下獲得上述折射率，較佳為使用折射率較高之硬化性樹脂組成物。硬化性樹脂組成物之折射率較佳為1.54~1.70左右。
又，高折射率層亦可設為位於硬塗層側之高折射率層(A)與位於低折射率層側之高折射率層(B)之2層構成。又，此時，較佳為使高折射率層(B)之折射率高於高折射率層(A)之折射率。藉由將高折射率層設為該構成，可增大與低折射率層之折射率差，可使反射率降低，並且可縮小高折射率層與硬塗層之折射率差，從而可抑制干涉條紋之產生。
於將高折射率層設為2層構成之情形時，較佳為高折射率層(A)之折射率為1.55~1.7、高折射率層(B)之折射率為1.6~1.85。
進而，於上述2層構成中，較佳為使高折射率層(A)及高折射率層(B)中之一層含有導電性之高折射率粒子，另一層含有非導電性之高折射率粒子，並且設為[含有導電性高折射率粒子之層之厚度<含有非導電性高折射率粒子之層之厚度]。藉由設為該構成，可抑制有可能成為著色原因之導電性高折射率粒子之添加量並且賦予抗靜電性。又，導電性高折射率粒子就藉由於層內網絡化，而以較少之添加量便可賦予抗靜電性，進而可抑制著色及白化之方面而言較佳。
高折射率層可藉由如下方式形成：利用高折射率粒子、硬化性樹脂組成物、視需要調配之紫外線吸收劑或調平劑等添加劑及稀釋溶劑製備高折射率層形成用塗佈液，並藉由先前公知之塗佈方法將該塗佈液塗佈於硬塗層上並加以乾燥、視需要照射游離輻射使之硬化。
(低折射率層)
低折射率層係設置於高折射率層上之層。
為了將抗反射膜設為超低反射率，低折射率層較佳為折射率為1.26~1.36，更佳為1.28~1.34，進而較佳為1.30~1.32。
越減小低折射率層之折射率，則即便不那麼增加高折射率層之折射率，亦可越降低抗反射膜之折射率。另一方面，若將低折射率層之折射率過度降低，則有低折射率層之強度下降之傾向。因此，藉由將低折射率層之折射率設為上述範圍，可保持低折射率層之強度並且抑制高折射率層之高折射率粒子之添加量，從而抑制白化，就該方面而言較佳。
又，低折射率層之厚度較佳為80~120nm，更佳為85~110nm，進而較佳為90~105nm。
作為形成低折射率層之方法，可大致分為濕式法與乾式法。作為濕式法，可列舉：使用金屬烷氧化物等並藉由溶膠凝膠法而形成之方法、塗佈氟樹脂之類之低折射率之樹脂而形成之方法、塗佈樹脂組成物中含有低折射率粒子之低折射率層形成用塗佈液而形成之方法。作為乾式法，可列舉：自下述低折射率粒子中選擇具有所需折射率之粒子，藉由物理氣相成長法或化學氣相成長法而形成之方法。
濕式法於生產效率之方面較為優異，於本發明中，在濕式法中，較佳為藉由樹脂組成物中含有低折射率粒子之低折射率層形成用塗佈液而形成。
為了降低其折射率，即旨在提高抗反射特性，低折射率粒子可被較佳地使用，二氧化矽(silica)或氟化鎂等無機系或者有機系中之任一者均可無限制地加以使用，就進一步提高抗反射特性並且確保良好之表面硬度之觀點而言，可較佳地使用其本身具有空隙之結構之粒子。
包含其本身具有空隙之結構之粒子於內部具有微細之空隙，例如填充有折射率1.0之空氣等氣體，故而成為其本身之折射率較低 者。作為此種具有空隙之粒子，可列舉無機系或有機系之多孔質粒子、中空粒子等，例如可列舉多孔質二氧化矽、中空二氧化矽粒子、或使用有丙烯酸樹脂等之多孔質聚合物粒子或中空聚合物粒子。作為無機系粒子，作為較佳之一例可列舉使用日本特開2001-233611號公報中揭示之技術而製備之具有空隙之二氧化矽粒子，作為有機系粒子，作為較佳之一例可列舉使用日本特開2002-80503號公報中揭示之技術而製備之中空聚合物粒子等。關於如上所述具有空隙之二氧化矽、或多孔質二氧化矽，其等之折射率位於1.18~1.44之範圍內，折射率低於折射率為1.45左右之通常之二氧化矽粒子，故而就實現低折射率層之低折射率化之觀點而言較佳。
中空狀二氧化矽粒子係具有保持低折射率層之塗膜強度並且降低其折射率之功能的粒子。本發明中使用之中空狀二氧化矽粒子係於內部具有空腔之結構之二氧化矽粒子。與二氧化矽粒子原本之折射率(折射率n=1.45左右)相比，中空狀二氧化矽粒子係折射率與內部之空腔佔有率成反比而降低之二氧化矽粒子。因此，中空狀二氧化矽粒子之粒子整體之折射率成為1.18~1.44。
作為中空狀二氧化矽粒子，並無特別限定，例如為具有外殼且其內部成為多孔質或空腔之粒子，可列舉使用日本特開平6-330606、日本特開平7-013137、日本特開平7-133105、日本特開2001-233611號公報中揭示之技術而製備之二氧化矽粒子。
低折射率粒子之一次粒子之平均粒徑較佳為5~200nm，更佳為5~100nm，進而較佳為10~80nm。若一次粒子之平均粒徑在上述範圍內，則無損低折射率層之透明性而獲得良好之粒子之分散狀態。尤其是 使用中空狀粒子作為低折射率粒子且該中空狀粒子之平均粒徑為70~80nm者可保持使強度充足之外殼之厚度並且提高空隙率而降低折射率，並且與用以降低反射率之理想之低折射率層之厚度(約100nm)之間之平衡性亦優異，就該方面而言較佳。
本發明中使用之低折射率粒子較佳為經表面處理者。作為低折射率粒子之表面處理，更佳為使用矽烷偶合劑之表面處理，其中較佳為使用具有(甲基)丙烯醯基之矽烷偶合劑進行之表面處理。藉由對低折射率粒子實施表面處理，而提高與下述黏合劑樹脂之親和性，粒子之分散變得均勻，不易產生粒子彼此之凝集，因此，抑制因由凝集引起之大粒子化而導致之低折射率層之透明化之降低、或低折射率層形成用組成物之塗佈性、該組成物之塗膜強度之降低。
又，於矽烷偶合劑具有(甲基)丙烯醯基之情形時，由於該矽烷偶合劑具有游離輻射硬化性，故而容易與下述黏合劑樹脂發生反應，因此於低折射率層形成用組成物之塗膜中，低折射率粒子被良好地固定於黏合劑樹脂。即，低折射率粒子於黏合劑樹脂中具有作為交聯劑之功能。藉此，可獲得該塗膜整體之緊固效果，在保留黏合劑樹脂原本具有之柔軟性之狀態下對低折射率層賦予優異之表面硬度。因此，藉由使低折射率層利用其本身之柔軟性發生變形，從而具有對外部衝擊之吸收力、或恢復力，因此抑制損傷之產生，成為耐擦傷性優異之具有較高表面硬度者。
作為於低折射率粒子之表面處理中可較佳使用之矽烷偶合劑，可例示：3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯 醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等。
低折射率層中之低折射率粒子之含量相對於低折射率層之樹脂100質量份，較佳為10~250質量份，更佳為50~200質量份，進而較佳為100~180質量份。若低折射率粒子之含量在上述範圍內，則可獲得良好之抗反射特性與表面硬度。
又，低折射率層所含之全部低折射率粒子中，中空粒子及/或多孔質粒子所占之比例較佳為70質量%以上，更佳為80質量%以上，進而較佳為80~95質量%。
作為低折射率層形成用塗佈液中所含之樹脂組成物，首先可列舉硬化性樹脂組成物。作為硬化性樹脂組成物，可使用與硬塗層中例示之硬化性樹脂組成物相同者，較佳為游離輻射硬化性樹脂組成物。
又，作為樹脂組成物，亦可較佳地使用其本身顯示出低折射率性之含氟聚合物。含氟聚合物係至少分子中含有氟原子之聚合性化合物之聚合物，就可賦予防污性及潤滑性之方面而言較佳。含氟聚合物較佳為分子中具有反應性基而發揮作為硬化性樹脂組成物之功能者，更佳為具有游離輻射硬化性反應性基而發揮作為游離輻射硬化性樹脂組成物之功能者。
作為含氟聚合物，為了不僅排斥低折射率層表面之污垢而且賦予所排斥之污垢之擦拭性，較佳為含有氟以及矽者，例如可較佳地列舉使共聚物中含有聚矽氧成分之含聚矽氧之偏二氟乙烯共聚物。作為該情形時之聚矽氧成分，可列舉：(聚)二甲基矽氧烷、(聚)二乙基矽氧烷、(聚)二苯基矽氧烷、(聚)甲基苯基矽氧烷、烷基改質(聚)二甲基矽氧烷、含偶氮基之(聚) 二甲基矽氧烷、或二甲基聚矽氧、苯基甲基聚矽氧、烷基．芳烷基改質之聚矽氧、氟聚矽氧、聚醚改質之聚矽氧、脂肪酸酯改質之聚矽氧、甲基氫聚矽氧、含矽烷醇基之聚矽氧、含烷氧基之聚矽氧、含酚基之聚矽氧、甲基丙烯醯基改質之聚矽氧、丙烯醯基改質之聚矽氧、胺基改質之聚矽氧、羧酸改質之聚矽氧、甲醇改質之聚矽氧、環氧改質之聚矽氧、巰基改質之聚矽氧、氟改質之聚矽氧等。其中，較佳為具有二甲基矽氧烷結構者。
低折射率層例如可藉由如下方式形成：利用低折射率粒子、樹脂組成物、視需要調配之紫外線吸收劑或調平劑等添加劑及稀釋溶劑而製備低折射率層形成用塗佈液，並藉由先前公知之塗佈方法將該塗佈液塗佈於高折射率層上並加以乾燥、視需要照射游離輻射使之硬化。
<觸控板>
觸控板視需要配置於顯示元件與抗反射膜之間。
作為觸控板，可列舉：靜電電容式觸控板、電阻膜式觸控板、光學式觸控板、超音波式觸控板及電磁感應式觸控板等。
電阻膜式觸控板係將以使具有導電膜之上下一對透明基板之導電膜彼此相對向之方式介隔間隔件配置而成之構成作為基本構成，並於該基本構成連接電路而成者。
靜電電容式觸控板可列舉表面型及投影型等，大多使用投影型。投影型靜電電容式觸控板係於將X軸電極及與該X軸電極正交之Y軸電極介隔絕緣體配置而成之基本構成連接電路而成者。若更具體地說明該基本構成，可列舉：(1)於1片透明基板上之各個面分別形成X軸電極及Y軸電極之態樣；(2)於透明基板上依序形成X軸電極、絕緣體層、Y軸電極之 態樣；(3)於透明基板上形成X軸電極，於另一透明基板上形成Y軸電極，並經由接著劑層等進行積層之態樣等。又，可列舉於該等基本態樣進而積層另一透明基板之態樣。
<其他構件>
於顯示元件與抗反射膜之間亦可視需要具有偏光膜、相位差膜等其他構件。
[抗反射膜]
本發明之抗反射膜係於透明基材上具有高折射率層及低折射率層者，且藉由下述條件所測定之擴散光線反射率(RSCE)為0.12%以下，並且該抗反射膜係用於全光線反射率(RSCI)為4.0%以上之顯示元件。
(擴散光線反射率之測定)
製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之擴散光線反射率(RSCE)進行測定。
本發明之抗反射膜之實施形態與上述本發明之顯示裝置中之抗反射膜之實施形態相同。
[顯示裝置之抗反射膜之選擇方法]
本發明之顯示裝置之抗反射膜之選擇方法選擇於透明基材上具有高折射率層及低折射率層而成且藉由下述條件所測定之擴散光線反射率(RSCE)為0.12%以下之抗反射膜作為具有全光線反射率(RSCI)為4.0%以上之顯示元件之顯示裝置的抗反射膜。
(擴散光線反射率之測定)
製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之擴散光線反射率(RSCE)進行測定。
應用本發明之抗反射膜之選擇方法之顯示裝置亦可於顯示元件與抗反射膜之間具有觸控板。
本發明之抗反射膜之選擇方法中之顯示元件、觸控板及抗反射膜之實施形態與上述本發明之顯示裝置中之顯示元件、觸控板及抗反射膜之實施形態相同。
本發明之顯示裝置之抗反射膜之選擇方法可效率良好地選擇抑制使用有反射率較高之超高精細顯示元件之顯示裝置之白化並且無損超高精細顯示元件之影像品質之抗反射膜，就該方面而言較為有用。
[實施例]
其次，藉由實施例，更詳細地說明本發明，但本發明不受該例之任何限定。
1.物性及評價
對於實施例及比較例中獲得之抗反射膜進行以下之測定及評價。將結果示於表1。
1-1.抗反射膜之RSCE及RSCI
製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由厚度25μm之透明黏著劑層(Panac公司製造，商品名：Panaclean PD-S1，折射率1.49)貼合有黑色板(Kuraray公司製造，商品名：Comoglas DFA2CG 502K(黑)系，全光線穿透率0%，厚度2mm，折射率1.49)之試樣。使用積分 球分光光度計(Konica Minolta股份有限公司製造，商品名：CM-2002)，自該試樣之低折射率層側之面測定該試樣之擴散光線反射率(RSCE)及全光線反射率(RSCI)。再者，積分球分光光度計之光源為D65，受光器之位置相對於試樣之法線為+8度，受光器之開口角為10度，光阱之位置相對於試樣之法線為-8度，光阱之覆蓋範圍為10度。
1-2.抗反射膜之反射率Y值
製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由厚度25μm之透明黏著劑層(Panac公司製造，商品名：Panaclean PD-S1，折射率1.49)貼合有黑色板(Kuraray公司製造，商品名：Comoglas DFA2CG 502K(黑)系，全光線穿透率0%，厚度2mm，折射率1.49)之試樣。使用分光光度計(島津製作所股份有限公司製造，商品名：UV-2450)，依據JIS Z8722：1982，測定該試樣之低折射率層側之面之反射率Y值。再者，視野角為2度，光源為D65，測定波長係以0.5nm間隔位於380~780nm內。又，反射率Y值係於將相對於試樣之低折射率層側之表面垂直入射之光之入射角設為0度並以入射角5度使光入射至試樣時，藉由該入射光之正反射光而獲得之值。
1-3.液晶顯示裝置之白化之確認
於液晶顯示元件上，以使抗反射膜之透明基材側之面朝向液晶顯示元件側之方式設置抗反射膜，製作模擬液晶顯示裝置。於該模擬液晶顯示裝置之表面(低折射率層)之中心附近，自該模擬液晶顯示裝置之垂直方向，於暗室下照射LED燈，自相同方向，利用目視觀察液晶顯示裝置之離開LED燈之照射點之部位之白化程度。讓20名人員進行該觀察，將白化完全不令 人在意者設為1分、將白化稍微令人在意但並無問題者設為2分、將白化令人在意而成為問題之等級者設為3分，令各人員進行評價。將20名人員之評價之平均分為1.1分以下者設為「AA」、將超過1.1分且為1.5分以下者設為「A」、將超過1.5分且為2.0分以下者設為「B」、將超過2.0分且為2.5分以下者設為「C」、將超過2.5分且為3.0分以下者設為「D」。
再者，液晶顯示元件係準備顯示元件A[全光線反射率(RSCI)：7.8%、像素數：3840×2160像素、尺寸：對角55吋]、顯示元件B[全光線反射率(RSCI)：6.7%、像素數：1920×1080像素、尺寸：對角40吋]這兩者，製作使用各液晶顯示元件之模擬液晶顯示裝置，進行上述測定。
再者，顯示元件之全光線反射率(RSCI)係使用積分球分光光度計(Konica Minolta股份有限公司製造，商品名：CM-2002)進行測定。再者，積分球分光光度計之光源為D65，受光器之位置相對於顯示元件之法線為+8度，受光器之開口角為10度，光阱之位置相對於顯示元件之法線為-8度，光阱之覆蓋範圍為10度。
1.抗反射膜之製作
[實施例1]
於厚度80μm之三乙醯纖維素膜(折射率1.49)上，塗佈下述配方之硬塗層形成用塗佈液，並進行乾燥及照射紫外線，形成厚度10μm、折射率1.52、鉛筆硬度2H之硬塗層。繼而，於硬塗層上塗佈下述配方之高折射率層形成用塗佈液，並進行乾燥及照射紫外線，形成厚度130nm、折射率1.60之高折射率層。繼而，於高折射率層上塗佈下述配方之低折射率層形成用塗佈液，並進行乾燥及照射紫外線，形成厚度100nm、折射率1.30之 低折射率層，從而獲得抗反射膜。
<硬塗層形成用塗佈液之製備>
添加光聚合起始劑(BASF公司製造，Irgacure 127，2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基丙醯基)苄基]苯基}-2-甲基丙烷-1-酮)1.6質量份、稀釋溶劑(甲基異丁基酮/環己酮=8/2)58.3質量份，進行攪拌直至無溶解殘餘。向其中添加光硬化樹脂(荒川化學公司製造，Beamset 577)40質量份並攪拌，進行攪拌直至無溶解殘餘。最後添加調平劑(大日精化工業公司製造，Seikabeam 10-28(MB))0.1質量份並攪拌，從而製備硬塗層形成用塗佈液。
<高折射率層形成用塗佈液之製備>
添加光聚合起始劑(BASF公司製造，Irgacure 127)0.1質量份、稀釋溶劑(甲基異丁基酮/環己酮/甲基乙基酮=4/2/4)92.6質量份，進行攪拌直至無溶解殘餘。向其中添加光硬化樹脂(荒川化學公司製造，Beamset 577)3質量份，進行攪拌直至無溶解殘餘。在進而分別添加易滑粒子(SIK NanoTek公司製造，SIRMIBK-H84，固體成分30質量%，平均一次粒徑30nm)0.04質量份、氧化鋯(Sumitomo Osaka Cement公司製造，MZ-230X，固體成分32.5質量%，平均一次粒徑15~50nm)4.1質量份、調平劑(大日精化工業公司製造，Seikabeam 10-28(MB))0.03質量份後立即添加分散劑(BYK-Chemie Japan公司製造，Disperbyk 163)0.13質量份，使用塗料製造機攪拌10小時進行分散，從而製備高折射率層形成用塗佈液。
<低折射率層形成用塗佈液之製備>
添加光聚合起始劑(BASF公司製造，Irgacure 127)0.2質量份、稀釋溶劑(MIBK/AN=7/3)91.1質量%(使最終塗佈液之固體成分成為3質量%之 量)，進行攪拌直至無溶解殘餘。在向其中分別添加光硬化樹脂(日本化藥公司製造，KAYARAD-PET-30)1.2質量%、中空二氧化矽粒子(固體成分20質量%，平均一次粒徑60nm)7.4質量%、調平劑(大日精化工業公司製造，Seikabeam 10-28(MB))0.05質量%後立即添加分散劑(信越化學公司製造，KBM-5103)0.05質量份，使用塗料製造機攪拌10小時進行分散，從而製備低折射率層形成用塗佈液。
[實施例2]
將實施例1之高折射率層形成用塗佈液之光硬化性樹脂變更為2.3質量份，將氧化鋯變更為4.8質量份(變更後之折射率為1.60)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
[實施例3]
將實施例1之高折射率層形成用塗佈液之光硬化性樹脂變更為1.7質量份，將氧化鋯變更為5.4質量份，進而將低折射率層形成用塗佈液之光硬化性樹脂變更為0.8質量份，將中空二氧化矽粒子變更為7.8質量份(變更後之高折射率層之折射率為1.63，低折射率層之折射率為1.29)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
[實施例4]
將實施例3之氧化鋯變更為五氧化二銻(變更後之折射率為1.58)，除此以外，以與實施例3相同之方式獲得抗反射膜。
[比較例1]
將實施例4之高折射率層形成用塗佈液之光硬化性樹脂變更為0.5質量份，將五氧化二銻變更為6.6質量份，進而將低折射率層形成用塗佈液之光 硬化性樹脂變更為0.2質量份，將中空二氧化矽粒子變更為7.5質量份，並且添加含氟聚合物(JSR公司製造之商品名Opstar JN35，固體成分20質量%)0.9質量份(變更後之高折射率層之折射率為1.63，低折射率層之折射率為1.300)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
[比較例2]
將比較例1之低折射率層形成用塗佈液之光硬化性樹脂變更為1.0質量份，將中空二氧化矽粒子變更為7.6質量份，將含氟聚合物變更為0.0質量份(變更後之折射率為1.295)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
[比較例3]
將高折射率層設為2層構成，於硬塗層側之高折射率層(A)之形成時使用實施例4之高折射率層形成用塗佈液，並將厚度設為50nm，於低折射率層側之高折射率層(B)之形成時使用實施例3之高折射率層形成用塗佈液，並將厚度設為100nm，除此以外，以與比較例2相同之方式獲得抗反射膜。
根據表1之結果明確可知，實施例1~4之顯示裝置使用RSCE之值得到抑制之抗反射膜，故而可抑制於RSCI為4.0%以上之顯示元件中辨識出白化。
[產業上之可利用性]
本發明之抗反射膜及顯示裝置可抑制顯示裝置表面之反射並且抑制因反射率較高之超高精細顯示元件之反射光所導致之白化，防止損害超高精細顯示元件之影像品質，就該方面而言較為有用。
又，根據本發明之顯示裝置之抗反射膜之選擇方法，可效率良好地選擇抑制使用有超高精細顯示元件之顯示裝置之表面之反射並且抑制白化、且無損超高精細顯示元件之影像品質之抗反射膜，就該方面而言較為有用。

Claims (18)

  1. 一種抗反射膜，其係於透明基材上具有高折射率層及低折射率層者，且藉由下述條件所測定之擴散光線反射率(RSCE)為0.12%以下，並且該抗反射膜用於全光線反射率(RSCI)為4.0%以上之顯示元件；(擴散光線反射率之測定)製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之擴散光線反射率(RSCE)進行測定。
  2. 如申請專利範圍第1項之抗反射膜，其最表面為含有低折射率粒子之低折射率層。
  3. 如申請專利範圍第1項之抗反射膜，其中，該高折射率層相對於硬化性樹脂組成物100質量份，含有30~100質量份之高折射率粒子。
  4. 如申請專利範圍第1項之抗反射膜，其中，該高折射率層含有硬化性樹脂組成物與選自氧化鈦、氧化鋯之高折射率粒子。
  5. 一種顯示裝置，其係於全光線反射率(RSCI)為4.0%以上之顯示元件上具有抗反射膜而成，該抗反射膜於透明基材上具有高折射率層及低折射率層，並且該抗反射膜藉由下述條件所測定之擴散光線反射率(RSCE)為0.12%以下；(擴散光線反射率之測定)製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之擴散光線反射率(RSCE)進行測定。
  6. 如申請專利範圍第5項之顯示裝置，其中，該抗反射膜之最表面為含有低折射率粒子之低折射率層。
  7. 如申請專利範圍第5項之顯示裝置，其中，該高折射率層相對於硬化性樹脂組成物100質量份，含有30~100質量份之高折射率粒子。
  8. 如申請專利範圍第5項之顯示裝置，其中，該高折射率層含有硬化性樹脂組成物與選自氧化鈦、氧化鋯之高折射率粒子。
  9. 如申請專利範圍第5項之顯示裝置，其中，該抗反射膜之該擴散光線反射率(RSCE)與藉由下述條件所測定之全光線反射率(RSCI)之比[RSCE/RSCI]為0.32以下；(全光線反射率之測定)製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之全光線反射率(RSCI)進行測定。
  10. 如申請專利範圍第5至9項中任一項之顯示裝置，其中，該抗反射膜藉由下述條件所測定之反射率Y值為0.5%以下；(抗反射膜之反射率Y值之測定)製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之反射率Y值進行測定。
  11. 如申請專利範圍第5、6或9項中任一項之顯示裝置，其中，該高折射率層係含有高折射率粒子而成。
  12. 如申請專利範圍第5、7至9項中任一項之顯示裝置，其中，該低折射 率層係含有低折射率粒子而成。
  13. 如申請專利範圍第5至9項中任一項之顯示裝置，其中，該顯示元件之像素數為3840×2160像素以上。
  14. 如申請專利範圍第5至9項中任一項之顯示裝置，其中，於該顯示元件上具有觸控板，且於該觸控板上具有該抗反射膜。
  15. 一種顯示裝置之抗反射膜之選擇方法，其選擇於透明基材上具有高折射率層及低折射率層而成且藉由下述條件所測定之擴散光線反射率(RSCE)為0.12%以下之抗反射膜作為具有全光線反射率(RSCI)為4.0%以上之顯示元件之顯示裝置的抗反射膜；(擴散光線反射率之測定)製作於抗反射膜之透明基材之與高折射率層側為相反側之面經由透明黏著劑貼合有黑色板之試樣，對該試樣之低折射率層側之面之擴散光線反射率(RSCE)進行測定。
  16. 如申請專利範圍第15項之顯示裝置之抗反射膜之選擇方法，其中，該抗反射膜之最表面為含有低折射率粒子之低折射率層。
  17. 如申請專利範圍第15項之顯示裝置之抗反射膜之選擇方法，其中，該高折射率層相對於硬化性樹脂組成物100質量份，含有30~100質量份之高折射率粒子。
  18. 如申請專利範圍第15項之顯示裝置之抗反射膜之選擇方法，其中，該高折射率層含有硬化性樹脂組成物與選自氧化鈦、氧化鋯之高折射率粒子。
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