JP2016071369A - 反射防止フィルム、表示装置及び表示装置の反射防止フィルムの選択方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】超高精細の表示素子を用いた場合において、表示装置表面の反射を抑制し、超高精細の表示素子の画像品質が損なわれることを防止しつつ、白化を抑制し得る反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である、全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子用の反射防止フィルム。
（拡散光線反射率及び全光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
【選択図】なし
【解決手段】透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である、全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子用の反射防止フィルム。
（拡散光線反射率及び全光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
【選択図】なし
Description
本発明は、反射防止フィルム、表示装置及び表示装置の反射防止フィルムの選択方法に関する。
近年、地上デジタル放送への移行等に伴い、超高精細の画像表示が可能な表示装置の開発が進んでいる。このような超高精細の表示装置の画像品質を損なわないために、表示装置の表面には外光の映り込みを防止する性能が求められる。
外光の映り込みを防止する手段としては、主に、表面を凹凸にして正反射光を低減するアンチグレア処理と、多層薄膜の干渉作用により反射率を低減する反射防止処理が挙げられる。近年では、映像の高級感を出しやすい反射防止処理が主流となっている。
外光の映り込みを防止する手段としては、主に、表面を凹凸にして正反射光を低減するアンチグレア処理と、多層薄膜の干渉作用により反射率を低減する反射防止処理が挙げられる。近年では、映像の高級感を出しやすい反射防止処理が主流となっている。
多層薄膜は薄膜を重ねれば重ねるほど反射率を低減できるが、費用対効果の観点から、コーティングによる２層ないしは３層構造のものが多い。このような反射防止フィルムとしては、例えば特許文献１のものが挙げられる。
また、近年、２層ないしは３層構造の反射防止フィルムでも、超高精細の表示装置の画像品質を損なわないために、反射率０．５％以下の超低反射率品が求められている。
しかし、超低反射率の反射防止フィルムは、汎用的に行われている裏面を黒化処理した際の反射防止評価では良好な視認性を示すものの、超高精細の表示装置に組み込んだ場合に白化を生じる場合があった。該白化は、光学フィルムの分野で汎用的な評価であるヘイズでは検知できなかった。言い換えると、該白化は、白さのレベルとしては低く、通常の使用環境では人間が認識しにくい程度の白さである。しかし、超高精細の表示装置に超低反射率の反射防止フィルムを組み込んだ際に、注意深く観察することによって白さが認識される場合があった。
しかし、超低反射率の反射防止フィルムは、汎用的に行われている裏面を黒化処理した際の反射防止評価では良好な視認性を示すものの、超高精細の表示装置に組み込んだ場合に白化を生じる場合があった。該白化は、光学フィルムの分野で汎用的な評価であるヘイズでは検知できなかった。言い換えると、該白化は、白さのレベルとしては低く、通常の使用環境では人間が認識しにくい程度の白さである。しかし、超高精細の表示装置に超低反射率の反射防止フィルムを組み込んだ際に、注意深く観察することによって白さが認識される場合があった。
本発明は、超高精細の表示素子を用いた場合において、表示装置表面の反射を抑制しつつ、白化を抑制し、超高精細の表示素子の画像品質が損なわれることを防止し得る反射防止フィルム、及び表示装置を提供することを目的とする。また、本発明は、超高精細の表示素子を用いた表示装置の表面の反射を抑制しつつ、白化を抑制し、超高精細の表示素子の画像品質が損なわれることがない反射防止フィルムを効率よく選択する反射防止フィルムの選択方法を提供することを目的とする。
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究し、まず、近年の超高精細化された表示装置は、（１）表示素子を構成する透明電極の密度を増加しており、表示素子の反射率が増加していること、（２）超低反射率化された反射防止フィルムは、ヘイズでは検知できない光拡散が生じていること、（３）反射防止フィルムが超低反射である場合、拡散による白化が目立ちやすいという知見を得た。
そして、本発明者らはさらに鋭意研究した結果、表示素子の反射率の増加により、表示装置に入射した外光のうち反射光となって視認者側に戻る割合が増加し、増加した反射光が、光拡散を生じる反射防止フィルムを再通過することにより、光拡散の程度が大きくなり、白化の問題が生じることを見出し、上記課題を解決するに至った。
そして、本発明者らはさらに鋭意研究した結果、表示素子の反射率の増加により、表示装置に入射した外光のうち反射光となって視認者側に戻る割合が増加し、増加した反射光が、光拡散を生じる反射防止フィルムを再通過することにより、光拡散の程度が大きくなり、白化の問題が生じることを見出し、上記課題を解決するに至った。
上記課題を解決するために、本発明は、以下の［１］〜［９］の反射防止フィルム、表示装置及び表示装置の反射防止フィルムの選択方法を提供する。
［１］透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である、全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子用の反射防止フィルム。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
［２］全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子上に反射防止フィルムを有してなり、該反射防止フィルムは透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有し、かつ該反射防止フィルムは下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である表示装置。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
［３］前記反射防止フィルムは、前記拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）と、下記の条件により測定される全光線反射率（ＲＳＣＩ）との比［ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ］が０．３２以下である上記［２］に記載の表示装置。
（全光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
［４］前記反射防止フィルムは下記の条件により測定される反射率Ｙ値が０．５％以下である上記［２］又は［３］に記載の表示装置。
（反射防止フィルムの反射率Ｙ値の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の反射率Ｙ値を測定する。
［５］前記高屈折率層が高屈折率粒子を含有してなる上記［２］〜［４］の何れかに記載の表示装置。
［６］前記低屈折率層が低屈折率粒子を含有してなる上記［２］〜［５］の何れかに記載の表示装置。
［７］前記表示素子の画素数が３８４０×２１６０ピクセル以上である上記［２］〜［６］の何れかに記載の表示装置。
［８］前記表示素子上にタッチパネルを有し、該タッチパネル上に前記反射防止フィルムを有する上記［２］〜［７］の何れかに記載の表示装置。
［９］全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子を有する表示装置の反射防止フィルムとして、透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有してなり、下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である反射防止フィルムを選択する、表示装置の反射防止フィルムの選択方法。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
［１］透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である、全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子用の反射防止フィルム。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
［２］全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子上に反射防止フィルムを有してなり、該反射防止フィルムは透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有し、かつ該反射防止フィルムは下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である表示装置。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
［３］前記反射防止フィルムは、前記拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）と、下記の条件により測定される全光線反射率（ＲＳＣＩ）との比［ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ］が０．３２以下である上記［２］に記載の表示装置。
（全光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
［４］前記反射防止フィルムは下記の条件により測定される反射率Ｙ値が０．５％以下である上記［２］又は［３］に記載の表示装置。
（反射防止フィルムの反射率Ｙ値の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の反射率Ｙ値を測定する。
［５］前記高屈折率層が高屈折率粒子を含有してなる上記［２］〜［４］の何れかに記載の表示装置。
［６］前記低屈折率層が低屈折率粒子を含有してなる上記［２］〜［５］の何れかに記載の表示装置。
［７］前記表示素子の画素数が３８４０×２１６０ピクセル以上である上記［２］〜［６］の何れかに記載の表示装置。
［８］前記表示素子上にタッチパネルを有し、該タッチパネル上に前記反射防止フィルムを有する上記［２］〜［７］の何れかに記載の表示装置。
［９］全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子を有する表示装置の反射防止フィルムとして、透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有してなり、下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である反射防止フィルムを選択する、表示装置の反射防止フィルムの選択方法。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
本発明の反射防止フィルム及び表示装置は、表示装置表面の反射を抑制しつつ、反射率が高い超高精細の表示素子の反射光に起因する白化を抑制し、超高精細の表示素子の画像品質が損なわれることを防止できる。
また、本発明の表示装置の反射防止フィルムの選択方法は、超高精細の表示素子を用いた表示装置の表面の反射を抑制しつつ、白化を抑制し、超高精細の表示素子の画像品質が損なわれることがない反射防止フィルムを効率よく選択することができる。
また、本発明の表示装置の反射防止フィルムの選択方法は、超高精細の表示素子を用いた表示装置の表面の反射を抑制しつつ、白化を抑制し、超高精細の表示素子の画像品質が損なわれることがない反射防止フィルムを効率よく選択することができる。
［表示装置］
本発明の表示装置は、全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子上に反射防止フィルムを有してなり、該反射防止フィルムは透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有し、かつ該反射防止フィルムは下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下であるものである。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
本発明の表示装置は、全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子上に反射防止フィルムを有してなり、該反射防止フィルムは透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有し、かつ該反射防止フィルムは下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下であるものである。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
図１及び図２は、本発明の表示装置１０の実施の形態を示す断面図である。図１及び図２の表示装置１０は、何れも表示素子１上に、透明基材２１上にハードコート層２２、高屈折率層２３及び低屈折率層２４を有する反射防止フィルム２が配置されている。また、図２の表示装置１０は、表示素子１と反射防止フィルム２との間にタッチパネル３が配置されている。
なお、図１及び図２に示すように、反射防止フィルム２は、透明基材２１側の面が液晶表示素子１側を向くようにして表示素子１上に設置する。また、図１及び図２に示すように、反射防止フィルム２は、表示装置１０の最表面で用いることが好ましい。
なお、図１及び図２に示すように、反射防止フィルム２は、透明基材２１側の面が液晶表示素子１側を向くようにして表示素子１上に設置する。また、図１及び図２に示すように、反射防止フィルム２は、表示装置１０の最表面で用いることが好ましい。
＜表示素子＞
本発明の表示装置を構成する表示素子としては、液晶表示素子、プラズマ表示素子、有機ＥＬ表示素子等が挙げられる。これらの表示素子は、表示素子を駆動するためのパターニングされた透明電極を有している。該透明電極は、ＩＴＯ等の反射率の高い材料から形成されており、また、表示素子の超高精細化に伴って該透明電極の密度が増加していることから、表示素子の反射率も高くなってきている。本発明では、表示素子として、全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上のものを用いる。表示素子の全光線反射率（ＲＳＣＩ）の上限は１５．０％程度である。
表示素子の具体的な構成は特に制限されない。例えば液晶表示素子の場合、下部ガラス基板、下部透明電極、液晶層、上部透明電極、カラーフィルター及び上部ガラス基板を順に有する基本構成からなり、超高精細の液晶表示素子では、該下部透明電極及び上部透明電極が高密度にパターニングされている。
本発明の表示装置を構成する表示素子としては、液晶表示素子、プラズマ表示素子、有機ＥＬ表示素子等が挙げられる。これらの表示素子は、表示素子を駆動するためのパターニングされた透明電極を有している。該透明電極は、ＩＴＯ等の反射率の高い材料から形成されており、また、表示素子の超高精細化に伴って該透明電極の密度が増加していることから、表示素子の反射率も高くなってきている。本発明では、表示素子として、全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上のものを用いる。表示素子の全光線反射率（ＲＳＣＩ）の上限は１５．０％程度である。
表示素子の具体的な構成は特に制限されない。例えば液晶表示素子の場合、下部ガラス基板、下部透明電極、液晶層、上部透明電極、カラーフィルター及び上部ガラス基板を順に有する基本構成からなり、超高精細の液晶表示素子では、該下部透明電極及び上部透明電極が高密度にパターニングされている。
全光線反射率（ＲＳＣＩ）は、積分球を用いて表示素子表面にあらゆる方向から光を与え、ライトトラップを閉じて正反射方向を含む全ての反射光を測定し、該測定値から算出される反射率である。一方、後述する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）は、積分球を用いてサンプル表面にあらゆる方向から光を与え、正反射方向に相当するライトトラップを開放して、ライトトラップから抜ける反射光以外の反射光を測定し、該測定値から算出される反射率である。代表的なＲＳＣＥ及びＲＳＣＩの測定装置は、受光器の位置はサンプルの法線に対して＋８度であり、受光器の開口角は１０度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して−８度であり、ライトトラップのカバー範囲は１０度である。このような受光器としては、コニカミノルタ株式会社製の商品名ＣＭ−２００２が挙げられる。表示素子のＲＳＣＩは実施例に記載の方法で測定することができる。
表示素子は、画素数が３８４０×２１６０ピクセル以上のいわゆる４Ｋ解像度以上の解像度を有するものが好ましい。４Ｋ解像度以上の超高精細の表示素子は、表示素子を構成する透明電極の密度が高いために反射率が高くなり、反射光を原因とする反射防止フィルムの白化が生じやすい。また、このような超高精細の表示素子は、１ピクセルあたりの光量が少ないことから、白化による影響を受けやすい。このため、４Ｋ解像度以上の解像度を有する表示素子は、本発明の効果を発揮しやすい点で好適である。
なお、４Ｋ解像度以上の表示素子としては、画素数が３８４０×２１６０ピクセルのもの、画素数が４０９６×２１６０ピクセルのもの等が挙げられる。４Ｋ解像度以上の表示素子の画面サイズは、通常、対角４０〜８５インチ程度である。
また、画素数が３８４０×２１６０ピクセル未満であっても、画素密度が２５０ｐｐｉ以上の表示素子は、本発明の効果を発揮しやすい点で好適である。
なお、４Ｋ解像度以上の表示素子としては、画素数が３８４０×２１６０ピクセルのもの、画素数が４０９６×２１６０ピクセルのもの等が挙げられる。４Ｋ解像度以上の表示素子の画面サイズは、通常、対角４０〜８５インチ程度である。
また、画素数が３８４０×２１６０ピクセル未満であっても、画素密度が２５０ｐｐｉ以上の表示素子は、本発明の効果を発揮しやすい点で好適である。
全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子上に、通常の超低反射率の反射防止フィルムを設置した際に白化を生じる理由は以下のように考えられる。
まず、２層構造ないしは３層構造の多層薄膜からなる反射防止フィルムは、低屈折率層の屈折率を低くしつつ、高屈折率層の屈折率を高くすることにより、反射率を低下できる傾向にある。高屈折率層の屈折率を高くするためには、高屈折率層に高屈折粒子を多量に含有させることが有効である。高屈折率粒子は、高屈折率層中で凝集せずに分散し、小さい平均粒子径を保持していれば、該粒子による光拡散は拡散分布の裾が広がらないため白化が抑制される。しかし、近年は帯電防止性を付与するために、高屈折率粒子として導電性粒子を用いることがあり、その場合、導電性粒子を凝集させてネットワーク化した方が帯電防止性を発現させやすいため、過度な分散を行わない場合がある。また、そもそも高屈折率粒子を多量に用いた場合、均一な分散は難しくなり、高屈折率粒子は凝集する傾向がある。そして、凝集粒子の粒子径が増加すれば増加する程、凝集粒子による拡散光は拡散分布の裾が広がる。その一方、超低反射の反射防止フィルムの表面反射率Ｙ値は低いため、凝集粒子により拡散された拡散分布の裾が目立ち、白化が認識されることになる。特に、表示素子の全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上で表示素子からの反射光が多くなる場合に、凝集粒子の光拡散による白化の問題が顕著となる。
まず、２層構造ないしは３層構造の多層薄膜からなる反射防止フィルムは、低屈折率層の屈折率を低くしつつ、高屈折率層の屈折率を高くすることにより、反射率を低下できる傾向にある。高屈折率層の屈折率を高くするためには、高屈折率層に高屈折粒子を多量に含有させることが有効である。高屈折率粒子は、高屈折率層中で凝集せずに分散し、小さい平均粒子径を保持していれば、該粒子による光拡散は拡散分布の裾が広がらないため白化が抑制される。しかし、近年は帯電防止性を付与するために、高屈折率粒子として導電性粒子を用いることがあり、その場合、導電性粒子を凝集させてネットワーク化した方が帯電防止性を発現させやすいため、過度な分散を行わない場合がある。また、そもそも高屈折率粒子を多量に用いた場合、均一な分散は難しくなり、高屈折率粒子は凝集する傾向がある。そして、凝集粒子の粒子径が増加すれば増加する程、凝集粒子による拡散光は拡散分布の裾が広がる。その一方、超低反射の反射防止フィルムの表面反射率Ｙ値は低いため、凝集粒子により拡散された拡散分布の裾が目立ち、白化が認識されることになる。特に、表示素子の全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上で表示素子からの反射光が多くなる場合に、凝集粒子の光拡散による白化の問題が顕著となる。
＜反射防止フィルム＞
本発明の表示装置を構成する反射防止フィルムは、透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有してなるものである。高屈折率層及び低屈折率層は、多層薄膜の光学干渉機能により反射防止機能を付与する役割を有する。反射防止フィルムは、さらに中屈折率層を設ける等して３層以上の多層薄膜の光学干渉機能による反射防止機能を付与してもよいが、費用対効果の観点で、多層薄膜は高屈折率層及び低屈折率層の２層構造であることが好ましい。
本発明の表示装置を構成する反射防止フィルムは、透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有してなるものである。高屈折率層及び低屈折率層は、多層薄膜の光学干渉機能により反射防止機能を付与する役割を有する。反射防止フィルムは、さらに中屈折率層を設ける等して３層以上の多層薄膜の光学干渉機能による反射防止機能を付与してもよいが、費用対効果の観点で、多層薄膜は高屈折率層及び低屈折率層の２層構造であることが好ましい。
また、本発明の表示装置を構成する反射防止フィルムは、下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下であるものを用いる。
（拡散光線反射率及び全光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
透明粘着剤の屈折率は、透明基材及び黒色板の屈折率との屈折率差が０．０５以内のものを用いる。なお、該屈折率の好適な条件は、後述するＲＳＣＩ及びＹ値の測定においても同様である。
反射防止フィルムの拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）、全光線反射率（ＲＳＣＩ）及び反射率Ｙ値は、より詳しくは実施例に記載の方法で測定できる。
（拡散光線反射率及び全光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
透明粘着剤の屈折率は、透明基材及び黒色板の屈折率との屈折率差が０．０５以内のものを用いる。なお、該屈折率の好適な条件は、後述するＲＳＣＩ及びＹ値の測定においても同様である。
反射防止フィルムの拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）、全光線反射率（ＲＳＣＩ）及び反射率Ｙ値は、より詳しくは実施例に記載の方法で測定できる。
全光線反射率（ＲＳＣＩ）が正反射方向を含む全ての反射光から算出される反射率であるのに対して、拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）は、正反射方向の反射光を除外した反射光から算出される反射率である。反射防止フィルムは表面が略平滑であり、正反射光に比べて拡散反射光の割合は小さい。このため、全反射光から正反射光を除いたＲＳＣＥは、ごく少ない成分である拡散反射光を表すのに適したパラメータであると言える。
全光線反射率（ＲＳＣＩ）の高い表示素子上にＲＳＣＥが０．１２％を超える反射防止フィルムを設置すると、表示素子で反射した反射光が反射防止フィルムを再通過する際に、反射防止フィルム中の拡散成分により拡散され、白化として認識されてしまう。特に、超低反射の反射防止フィルムの表面反射率Ｙ値は低いため、反射防止フィルム中で拡散された拡散光が目立ち、白化が認識されることになる。
ＲＳＣＥは０．１１％以下であることが好ましい。また、ＲＳＣＥの下限は特に限定されないが、０．０５％程度である。
全光線反射率（ＲＳＣＩ）の高い表示素子上にＲＳＣＥが０．１２％を超える反射防止フィルムを設置すると、表示素子で反射した反射光が反射防止フィルムを再通過する際に、反射防止フィルム中の拡散成分により拡散され、白化として認識されてしまう。特に、超低反射の反射防止フィルムの表面反射率Ｙ値は低いため、反射防止フィルム中で拡散された拡散光が目立ち、白化が認識されることになる。
ＲＳＣＥは０．１１％以下であることが好ましい。また、ＲＳＣＥの下限は特に限定されないが、０．０５％程度である。
反射防止フィルムは、ＲＳＣＥと、下記条件により測定される全光線反射率（ＲＳＣＩ）との比［ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ］が０．３２以下であることが好ましく、０．３０以下であることがより好ましく、０．２５以下であることがさらに好ましい。
（全光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
反射防止フィルムのＲＳＣＥ／ＲＳＣＩが０．３２以下であることは、正反射光よりも拡散反射光の割合が少ないことを意味する。このため、ＲＳＣＥが本発明の条件を満たしつつ、ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩを０．３２以下とすることにより、拡散反射光をより目立ちにくくすることができる（白化をより認識しにくくできる）。なお、正反射光を必要以上に増やさない観点から、ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩは０．１０以上であることが好ましい。
（全光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
反射防止フィルムのＲＳＣＥ／ＲＳＣＩが０．３２以下であることは、正反射光よりも拡散反射光の割合が少ないことを意味する。このため、ＲＳＣＥが本発明の条件を満たしつつ、ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩを０．３２以下とすることにより、拡散反射光をより目立ちにくくすることができる（白化をより認識しにくくできる）。なお、正反射光を必要以上に増やさない観点から、ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩは０．１０以上であることが好ましい。
また、本発明では、反射防止フィルムのＲＳＣＥ／（ＲＳＣＩ−ＲＳＣＥ）が０．５０以下であることが好ましく、０．４０以下であることがより好ましく、０．３０以下であることがさらに好ましい。
ＲＳＣＥ／（ＲＳＣＩ−ＲＳＣＥ）が０．５０以下であることは、正反射光よりも拡散反射光の割合が少ないことを意味する。このため、ＲＳＣＥが本発明の条件を満たしつつ、ＲＳＣＥ／（ＲＳＣＩ−ＲＳＣＥ）を０．５０以下とすることにより、拡散反射光をより目立ちにくくすることができる（白化をより認識しにくくできる）。なお、正反射光を必要以上に増やさない観点から、ＲＳＣＥ／（ＲＳＣＩ−ＲＳＣＥ）は０．１０以上であることが好ましい。
ＲＳＣＥ／（ＲＳＣＩ−ＲＳＣＥ）が０．５０以下であることは、正反射光よりも拡散反射光の割合が少ないことを意味する。このため、ＲＳＣＥが本発明の条件を満たしつつ、ＲＳＣＥ／（ＲＳＣＩ−ＲＳＣＥ）を０．５０以下とすることにより、拡散反射光をより目立ちにくくすることができる（白化をより認識しにくくできる）。なお、正反射光を必要以上に増やさない観点から、ＲＳＣＥ／（ＲＳＣＩ−ＲＳＣＥ）は０．１０以上であることが好ましい。
本発明において反射防止フィルムのＲＳＣＩの値は特に制限されないが、正反射光を必要以上に増やさない観点から、ＲＳＣＩは、０．８０％以下であることが好ましく、０．７５％以下であることがより好ましく、０．７０％以下であることがさらに好ましい。
反射防止フィルムは超低反射率のものが好ましく、具体的には反射率Ｙ値が０．５０％以下のものが好ましく、０．４５％以下のものがより好ましい。なお、反射防止フィルムの反射率Ｙ値とは、ＣＩＥ１９３１標準表色系のＹ値のことを言い、以下の方法により測定することができる。
（反射防止フィルムの反射率Ｙ値の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の反射率Ｙ値を測定する。
（反射防止フィルムの反射率Ｙ値の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の反射率Ｙ値を測定する。
反射防止フィルムは、全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７）が９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましい。また、本発明の反射防止フィルムは、ヘイズ（ＪＩＳＫ７１３６：２０００）が１．０％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、０．３％以下であることがさらに好ましい。
全光線透過率及びヘイズを測定する際の光入射面は透明基材側である。
全光線透過率及びヘイズを測定する際の光入射面は透明基材側である。
反射防止フィルムの表面（低屈折率層側の表面）の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４）は、１０ｎｍ以下であることが好ましく、１〜８ｎｍであることがより好ましい。また、反射防止フィルムの表面（低屈折率層側の表面）の十点平均粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４）は、１６０ｎｍ以下であることが好ましく、５０〜１５５ｎｍであることがより好ましい。
Ｒａ、Ｒｚが上記範囲であれば、平滑性を有し、耐擦傷性が向上する。
Ｒａ、Ｒｚが上記範囲であれば、平滑性を有し、耐擦傷性が向上する。
（透明基材）
反射防止フィルムの透明基材は、一般的に反射防止フィルムの基材として用いられる透明なものであれば特に限定されないが、材料コスト、生産性等の観点から、好ましくはプラスチックフィルム、プラスチックシート等を、用途に応じて適宜選択することができる。
反射防止フィルムの透明基材は、一般的に反射防止フィルムの基材として用いられる透明なものであれば特に限定されないが、材料コスト、生産性等の観点から、好ましくはプラスチックフィルム、プラスチックシート等を、用途に応じて適宜選択することができる。
プラスチックフィルム又はプラスチックシートとしては、各種の合成樹脂からなるものが挙げられる。合成樹脂としては、トリアセチルセルロース樹脂（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、セロファン等のセルロース樹脂；ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリエステル系熱可塑性エラストマー等のポリエステル樹脂；低密度ポリエチレン樹脂（線状低密度ポリエチレン樹脂を含む）、中密度ポリエチレン樹脂、高密度ポリエチレン樹脂、エチレンαオレフィン共重合体、ポリプロピレン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリブテン樹脂、エチレン−プロピレン共重合体、プロピレン−ブテン共重合体、オレフィン系熱可塑性エラストマーあるいは、これらの混合物等のポリオレフィン樹脂；ポリ（メタ）アクリル酸メチル樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エチル樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル樹脂等のアクリル樹脂；ナイロン６又はナイロン６６などで代表されるポリアミド樹脂；ポリスチレン樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリアリレート樹脂；又はポリイミド樹脂等が好ましく挙げられる。
透明基材としては、上記したプラスチックフィルム、プラスチックシートの中から単独で、又は２種以上を選んで混合物として用いることができるが、柔軟性、強靭性、透明性などの観点から、セルロース樹脂、ポリエステル樹脂がより好ましく、さらに好ましくはトリアセチルセルロース樹脂（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート樹脂である。
透明基材の厚みについては、特に制限はないが、用途に応じて適宜選択されるが、通常５〜１３０μｍであり、耐久性やハンドリング性等を考慮すると、１０〜１００μｍが好ましい。
透明基材の厚みについては、特に制限はないが、用途に応じて適宜選択されるが、通常５〜１３０μｍであり、耐久性やハンドリング性等を考慮すると、１０〜１００μｍが好ましい。
（ハードコート層）
透明基材と高屈折率層との間には、反射防止フィルムの耐擦傷性を向上させる目的で、ハードコート層を有することが好ましい。ここで、ハードコートとは、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。
ハードコート層は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、耐擦傷性をより良くする観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましい。
透明基材と高屈折率層との間には、反射防止フィルムの耐擦傷性を向上させる目的で、ハードコート層を有することが好ましい。ここで、ハードコートとは、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。
ハードコート層は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、耐擦傷性をより良くする観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましい。
熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
多官能性（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
また、多官能性（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。これら光重合開始剤は、融点が１００℃以上であることが好ましい。光重合開始剤の融点を１００℃以上とすることにより、残留した光重合開始剤が透明導電膜形成時や結晶化工程の熱により昇華し、透明導電膜の低抵抗化が損なわれることを防止することができる。後述する高屈折率層及び低屈折率層で光重合開始剤を用いる際も同様である。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。これら光重合開始剤は、融点が１００℃以上であることが好ましい。光重合開始剤の融点を１００℃以上とすることにより、残留した光重合開始剤が透明導電膜形成時や結晶化工程の熱により昇華し、透明導電膜の低抵抗化が損なわれることを防止することができる。後述する高屈折率層及び低屈折率層で光重合開始剤を用いる際も同様である。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
ハードコート層の厚みは、０．１〜１００μｍの範囲にあることが好ましく、０．８〜２０μｍの範囲がより好ましい。ハードコート層の厚みが上記範囲内にあれば、充分なハードコート性能が得られ、外部からの衝撃に対してクラック等の発生もなく割れにくくなる。
ハードコート層、並びに、後述する高屈折率層及び低屈折率層の厚みは、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。測定する膜厚がμｍオーダーの場合、ＳＥＭを用いることが好ましく、ｎｍオーダーの場合、ＴＥＭ又はＳＴＥＭを用いることが好ましい。ＳＥＭの場合、加速電圧は１〜１０ｋＶ、倍率は１０００〜７０００倍とすることが好ましく、ＴＥＭ又はＳＴＥＭの場合、加速電圧は１０〜３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。
ハードコート層、並びに、後述する高屈折率層及び低屈折率層の厚みは、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。測定する膜厚がμｍオーダーの場合、ＳＥＭを用いることが好ましく、ｎｍオーダーの場合、ＴＥＭ又はＳＴＥＭを用いることが好ましい。ＳＥＭの場合、加速電圧は１〜１０ｋＶ、倍率は１０００〜７０００倍とすることが好ましく、ＴＥＭ又はＳＴＥＭの場合、加速電圧は１０〜３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。
ハードコート層の屈折率は、後述する高屈折率層の屈折率より小さく、１．４５〜１．７０の範囲内であることが好ましく、より好ましくは１．４５〜１．６０の範囲内である。ハードコート層の屈折率がこのような範囲にあれば、高屈折率層の屈折率の制御に困難性が生じない。また、干渉縞を抑制する観点からは、ハードコート層の屈折率と透明基材の屈折率との差を小さくすることが好ましい。
ハードコート層、並びに、後述する高屈折率層及び低屈折率層の屈折率は、例えば、反射光度計により測定した反射スペクトルと、フレネル係数を用いた多層薄膜の光学モデルから算出した反射スペクトルとのフィッティングにより算出することができる。
ハードコート層、並びに、後述する高屈折率層及び低屈折率層の屈折率は、例えば、反射光度計により測定した反射スペクトルと、フレネル係数を用いた多層薄膜の光学モデルから算出した反射スペクトルとのフィッティングにより算出することができる。
ハードコート層は、上述した硬化性樹脂組成物、必要に応じて配合する紫外線吸収剤やレベリング剤等の添加剤及び希釈溶剤によってハードコート層形成用塗布液を調製し、当該塗布液を透明基材上に従来公知の塗布方法によって塗布、乾燥、必要に応じて電離放射線を照射して硬化することにより形成することができる。
（高屈折率層）
高屈折率層は、例えば、硬化性樹脂組成物及び高屈折率粒子を含む高屈折率層塗布液から形成することができる。
高屈折率層は、反射防止フィルムを超反射率化する観点からは屈折率を高くすることが好ましいが、屈折率を高くするには多量の高屈折率粒子が必要となり、高屈折粒子の凝集やネットワーク化により、白化の原因となる。このため、屈折率は１．５５〜１．８５とすることが好ましく、１．５６〜１．７０とすることがより好ましい。
また、高屈折率層の厚みは、２００ｎｍ以下であることが好ましく、５０〜１８０ｎｍであることがより好ましい。なお、高屈折率層が後述する２層構成からなる場合、２層の合計厚みが前記値を満たすことが好ましい。
また、高屈折率層は、上記屈折率の範囲を満たす複数の層から形成してもよいが、費用対効果の観点から、２層以下が好ましい。
高屈折率層は、例えば、硬化性樹脂組成物及び高屈折率粒子を含む高屈折率層塗布液から形成することができる。
高屈折率層は、反射防止フィルムを超反射率化する観点からは屈折率を高くすることが好ましいが、屈折率を高くするには多量の高屈折率粒子が必要となり、高屈折粒子の凝集やネットワーク化により、白化の原因となる。このため、屈折率は１．５５〜１．８５とすることが好ましく、１．５６〜１．７０とすることがより好ましい。
また、高屈折率層の厚みは、２００ｎｍ以下であることが好ましく、５０〜１８０ｎｍであることがより好ましい。なお、高屈折率層が後述する２層構成からなる場合、２層の合計厚みが前記値を満たすことが好ましい。
また、高屈折率層は、上記屈折率の範囲を満たす複数の層から形成してもよいが、費用対効果の観点から、２層以下が好ましい。
高屈折率粒子としては、五酸化アンチモン（１．７９）、酸化亜鉛（１．９０）、酸化チタン（２．３〜２．７）、酸化セリウム（１．９５）、スズドープ酸化インジウム（１．９５〜２．００）、アンチモンドープ酸化スズ（１．７５〜１．８５）、酸化イットリウム（１．８７）及び酸化ジルコニウム（２．１０）等が挙げられる。なお、上記かっこ内は、各粒子の材料の屈折率を示す。
これら高屈折率粒子の中では、少量の添加で上記の好適な屈折率を達成する観点から、屈折率が２．０を超えるものが好ましい。また、五酸化アンチモン、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）等の導電性を有する高屈折率粒子は、プラズマ振動数が近赤外域にある自由電子を有し、該自由電子のプラズマ振動を原因として、可視光域の光も一部吸収ないしは反射され、着色の問題を生じる場合がある。このため、高屈折率粒子は非導電性のものが好ましい。
以上のことから、上記に例示した高屈折率粒子の中では、酸化チタン及び酸化ジルコニウムが好適であり、さらに耐光性等の耐久安定性が高いという観点から、酸化ジルコニウムが最適である。なお、反射防止フィルムに帯電防止性を付与したい場合は、高屈折率層を後述のように２層構成として、一方の層に導電性の高屈折率粒子を含有させることが好ましい。
これら高屈折率粒子の中では、少量の添加で上記の好適な屈折率を達成する観点から、屈折率が２．０を超えるものが好ましい。また、五酸化アンチモン、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）等の導電性を有する高屈折率粒子は、プラズマ振動数が近赤外域にある自由電子を有し、該自由電子のプラズマ振動を原因として、可視光域の光も一部吸収ないしは反射され、着色の問題を生じる場合がある。このため、高屈折率粒子は非導電性のものが好ましい。
以上のことから、上記に例示した高屈折率粒子の中では、酸化チタン及び酸化ジルコニウムが好適であり、さらに耐光性等の耐久安定性が高いという観点から、酸化ジルコニウムが最適である。なお、反射防止フィルムに帯電防止性を付与したい場合は、高屈折率層を後述のように２層構成として、一方の層に導電性の高屈折率粒子を含有させることが好ましい。
高屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径は、５〜２００ｎｍが好ましく、５〜１００ｎｍがより好ましく、１０〜８０ｎｍがさらに好ましい。
高屈折率粒子及び後述する低屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径は、以下の（１）〜（３）の作業により算出できる。
（１）粒子そのもの、または粒子の分散液を透明基材上に塗布乾燥させたものについて、ＳＥＭ、ＴＥＭまたはＳＴＥＭの表面像を撮像する。
（２）表面像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の長径及び短径を測定し、長径及び短径の平均から個々の粒子の粒子径を算出する。なお、長径は、画面上において最も長い径とし、短径は、長径を構成する線分の中点に直交する線分を引き、該直交する線分が粒子と交わる２点間の距離をいうものとする。
（３）同じサンプルの別画面の撮像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子の粒子径の数平均から得られる値を平均粒子径とした。
なお、粒子の平均粒子径を算出する際において、算出する平均粒子径がμｍオーダーの場合、ＳＥＭを用いることが好ましく、算出する平均粒子径がｎｍオーダーの場合、ＴＥＭ又はＳＴＥＭを用いることが好ましい。ＳＥＭの場合、加速電圧は１〜１０ｋＶ、倍率は１０００〜７０００倍とすることが好ましく、ＴＥＭ又はＳＴＥＭの場合、加速電圧は１０〜３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。
高屈折率粒子及び後述する低屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径は、以下の（１）〜（３）の作業により算出できる。
（１）粒子そのもの、または粒子の分散液を透明基材上に塗布乾燥させたものについて、ＳＥＭ、ＴＥＭまたはＳＴＥＭの表面像を撮像する。
（２）表面像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の長径及び短径を測定し、長径及び短径の平均から個々の粒子の粒子径を算出する。なお、長径は、画面上において最も長い径とし、短径は、長径を構成する線分の中点に直交する線分を引き、該直交する線分が粒子と交わる２点間の距離をいうものとする。
（３）同じサンプルの別画面の撮像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子の粒子径の数平均から得られる値を平均粒子径とした。
なお、粒子の平均粒子径を算出する際において、算出する平均粒子径がμｍオーダーの場合、ＳＥＭを用いることが好ましく、算出する平均粒子径がｎｍオーダーの場合、ＴＥＭ又はＳＴＥＭを用いることが好ましい。ＳＥＭの場合、加速電圧は１〜１０ｋＶ、倍率は１０００〜７０００倍とすることが好ましく、ＴＥＭ又はＳＴＥＭの場合、加速電圧は１０〜３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。
高屈折率粒子の含有量は、高屈折率化と白化抑制のバランスの観点から、硬化性樹脂組成物１００質量部に対して、３０〜３００質量部であることが好ましく、３０〜１００質量部であることがより好ましく、３５〜７５質量部であることがさらに好ましい。
高屈折率層は、高屈折粒子の過度な凝集を抑制するために、分散安定化することが好ましい。分散安定化の手段としては、例えば、ベースとなる高屈折粒子に対して、該粒子よりも表面電荷量が少ない別の高屈折率粒子を添加する手段が挙げられる。該手段によれば、該別の高屈折率粒子の周りにベースとなる高屈折率粒子が適度に集まり、ベースとなる高屈折粒子が過度に凝集することを抑制できる。また、別の分散安定化の手段として、高屈折率粒子として表面処理されたものを用いたり、高屈折率層塗布液中に分散剤を添加する手段が挙げられる。
高屈折率層を形成する硬化性樹脂組成物としては、ハードコート層で例示したものと同様のものを用いることができ、電離放射線硬化性樹脂組成物が好適である。
また、高屈折率粒子の添加量を過度にすることなく上述した屈折率を得るために、屈折率の高い硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。硬化性樹脂組成物の屈折率は１．５４〜１．７０程度が好ましい。
また、高屈折率粒子の添加量を過度にすることなく上述した屈折率を得るために、屈折率の高い硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。硬化性樹脂組成物の屈折率は１．５４〜１．７０程度が好ましい。
また、高屈折率層は、ハードコート層側に位置する高屈折率層（Ａ）と、低屈折率層側に位置する高屈折率層（Ｂ）との２層構成としてもよい。また、その際、高屈折率層（Ａ）の屈折率よりも高屈折率層（Ｂ）の屈折率の方を高くすることが好ましい。高屈折率層を該構成とすることにより、低屈折率層との屈折率差を大きくでき、反射率を低くできるとともに、高屈折率層とハードコート層との屈折率差を小さくでき、干渉縞の発生を抑制できる。
高屈折率層を２層構成とする場合、高屈折率層（Ａ）の屈折率が１．５５〜１．７、高屈折率層（Ｂ）の屈折率が１．６〜１．８５であることが好ましい。
さらに、上記２層構成において、高屈折率層（Ａ）及び高屈折率層（Ｂ）の一方に導電性の高屈折率粒子を含有させ、他方に非導電性の高屈折率粒子を含有させ、かつ、［導電性高屈折率粒子を含有する層の厚み＜非導電性高屈折率粒子を含有する層の厚み］とすることが好ましい。当該構成とすることにより、着色の原因となり得る導電性高屈折率粒子の添加量を抑えつつ帯電防止性を付与することができる。また、導電性高屈折率粒子は、層内でネットワーク化させることにより、少ない添加量で帯電防止性を付与し、ひいては着色及び白化を抑制し得る点で好ましい。
高屈折率層を２層構成とする場合、高屈折率層（Ａ）の屈折率が１．５５〜１．７、高屈折率層（Ｂ）の屈折率が１．６〜１．８５であることが好ましい。
さらに、上記２層構成において、高屈折率層（Ａ）及び高屈折率層（Ｂ）の一方に導電性の高屈折率粒子を含有させ、他方に非導電性の高屈折率粒子を含有させ、かつ、［導電性高屈折率粒子を含有する層の厚み＜非導電性高屈折率粒子を含有する層の厚み］とすることが好ましい。当該構成とすることにより、着色の原因となり得る導電性高屈折率粒子の添加量を抑えつつ帯電防止性を付与することができる。また、導電性高屈折率粒子は、層内でネットワーク化させることにより、少ない添加量で帯電防止性を付与し、ひいては着色及び白化を抑制し得る点で好ましい。
高屈折率層は、高屈折率粒子、硬化性樹脂組成物、必要に応じて配合する紫外線吸収剤やレベリング剤等の添加剤及び希釈溶剤によって高屈折率層形成用塗布液を調製し、当該塗布液をハードコート層上に従来公知の塗布方法によって塗布、乾燥、必要に応じて電離放射線を照射して硬化することにより形成することができる。
（低屈折率層）
低屈折率層は、高屈折率層上に設けられる層である。
低屈折率層は、反射防止フィルムを超低反射率とするために、屈折率が１.２６〜１．３６であることが好ましく、１．２８〜１．３４であることがより好ましく、１．３０〜１．３２であることがさらに好ましい。
低屈折率層の屈折率を低くすれば低くするほど、高屈折率層の屈折率をそれほど高くしなくても反射防止フィルムの屈折率を低くすることができる。その一方、低屈折率層の屈折率を低くし過ぎると、低屈折率層の強度が低下する傾向にある。このため、低屈折率層の屈折率を上記範囲とすることにより、低屈折率層の強度を保ちつつ、高屈折率層の高屈折率粒子の添加量を抑えることができ、白化の抑制につながる点で好適である。
また、低屈折率層の厚みは、８０〜１２０ｎｍであることが好ましく、８５〜１１０ｎｍであることがより好ましく、９０〜１０５ｎｍであることがさらに好ましい。
低屈折率層は、高屈折率層上に設けられる層である。
低屈折率層は、反射防止フィルムを超低反射率とするために、屈折率が１.２６〜１．３６であることが好ましく、１．２８〜１．３４であることがより好ましく、１．３０〜１．３２であることがさらに好ましい。
低屈折率層の屈折率を低くすれば低くするほど、高屈折率層の屈折率をそれほど高くしなくても反射防止フィルムの屈折率を低くすることができる。その一方、低屈折率層の屈折率を低くし過ぎると、低屈折率層の強度が低下する傾向にある。このため、低屈折率層の屈折率を上記範囲とすることにより、低屈折率層の強度を保ちつつ、高屈折率層の高屈折率粒子の添加量を抑えることができ、白化の抑制につながる点で好適である。
また、低屈折率層の厚みは、８０〜１２０ｎｍであることが好ましく、８５〜１１０ｎｍであることがより好ましく、９０〜１０５ｎｍであることがさらに好ましい。
低屈折率層を形成する手法としては、ウェット法とドライ法とに大別できる。ウェット法としては、金属アルコキシド等を用いてゾルゲル法により形成する手法、フッ素樹脂のような低屈折率の樹脂を塗工して形成する手法、樹脂組成物に低屈折率粒子を含有させた低屈折率層形成用塗布液を塗工して形成する手法が挙げられる。ドライ法としては、後述する低屈折率粒子の中から所望の屈折率を有する粒子を選び、物理気相成長法又は化学気相成長法により形成する手法が挙げられる。
ウェット法は生産効率の点で優れており、本発明においては、ウェット法の中でも、樹脂組成物に低屈折率粒子を含有させた低屈折率層形成用塗布液により形成することが好ましい。
ウェット法は生産効率の点で優れており、本発明においては、ウェット法の中でも、樹脂組成物に低屈折率粒子を含有させた低屈折率層形成用塗布液により形成することが好ましい。
低屈折率粒子は、その屈折率を低下させるため、すなわち反射防止特性を向上させる目的で、好ましく用いられ、シリカやフッ化マグネシウムなどの無機系、又は有機系のいずれであっても制限なく用いることができるが、反射防止特性をより向上させ、かつ良好な表面硬度を確保する観点から、それ自身が空隙を有する構造の粒子が好ましく用いられる。
それ自身が空隙を有する構造をもつ粒子は、微細な空隙を内部に有しており、例えば、屈折率１．０の空気などの気体が充填されているので、それ自身の屈折率が低いものとなっている。このような空隙を有する粒子としては、無機系、又は有機系の多孔質粒子、中空粒子などが挙げられ、例えば、多孔質シリカ、中空シリカ粒子、又はアクリル樹脂などが用いられた多孔質ポリマー粒子や中空ポリマー粒子が挙げられる。無機系の粒子としては、特開２００１−２３３６１１号公報で開示される技術を用いて調製した空隙を有するシリカ粒子が、有機系の粒子としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示される技術を用いて調製した中空ポリマー粒子などが好ましい一例として挙げられる。上記のような空隙を有するシリカ、又は多孔質シリカは、それらの屈折率が１．１８〜１．４４の範囲にあり、屈折率が１．４５程度である一般的なシリカ粒子よりも屈折率が低いため、低屈折率層の低屈折率化を図る観点から好ましい。
中空状シリカ粒子は、低屈折率層の塗膜強度を保持しつつ、その屈折率を下げる機能を有する粒子である。本発明で用いる中空状シリカ粒子は、内部に空洞を有する構造のシリカ粒子である。中空状シリカ粒子は、シリカ粒子本来の屈折率（屈折率ｎ＝１．４５程度）に比べて、内部の空洞の占有率に反比例して屈折率が低下するシリカ粒子である。このため、中空状シリカ粒子の粒子全体としての屈折率は１．１８〜１．４４となる。
中空状シリカ粒子としては、特に限定されず、例えば、外殻を有し、その内部が多孔質または空洞になっている粒子であり、特開平６−３３０６０６、特開平７−０１３１３７、特開平７−１３３１０５、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ粒子が挙げられる。
低屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径は、５〜２００ｎｍが好ましく、５〜１００ｎｍがより好ましく、１０〜８０ｎｍがさらに好ましい。一次粒子の平均粒子径が上記範囲内にあれば、低屈折率層の透明性を損なうことがなく、良好な粒子の分散状態が得られる。特に、低屈折率粒子として中空状粒子を用い、該中空状粒子の平均粒子径が７０〜８０ｎｍのものは、強度不足とならない外殻の厚みを保持しつつ空隙率を上げて屈折率を低下させることができ、かつ反射率を低くするための理想的な低屈折率層の厚み（約１００ｎｍ）とのバランスにも優れる点で好適である。
本発明で用いられる低屈折率粒子は、表面処理されたものが好ましい。低屈折率粒子の表面処理としては、シランカップリング剤を用いた表面処理がより好ましく、この中で、（メタ）アクリロイル基を有するシランカップリング剤を用いた表面処理を行うことが好ましい。低屈折率粒子に表面処理を施すことにより、後述するバインダー樹脂との親和性が向上し、粒子の分散が均一となり、粒子同士の凝集が生じにくくなるので、凝集由来の大粒子化による低屈折率層の透明化の低下や、低屈折率層形成用組成物の塗布性、該組成物の塗膜強度の低下が抑制される。
また、シランカップリング剤が（メタ）アクリロイル基を有した場合、該シランカップリング剤は電離放射線硬化性を有するため、後述するバインダー樹脂と容易に反応するので、低屈折率層形成用組成物の塗膜中において、低屈折率粒子がバインダー樹脂に良好に固定される。すなわち、低屈折率粒子がバインダー樹脂中で架橋剤としての機能を有することになる。これにより、該塗膜全体の引き締め効果が得られ、バインダー樹脂が本来有する柔軟性を残したまま、低屈折率層に優れた表面硬度を付与することが可能となる。従って、低屈折率層がそれ自体の柔軟性をいかして変形することにより、外部衝撃に対する吸収力や、復元力を有するため、傷の発生が抑制されて、耐擦傷性に優れた高い表面硬度を有するものとなる。
低屈折率粒子の表面処理において好ましく用いられるシランカップリング剤としては、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等を例示することができる。
低屈折率層における低屈折率粒子の含有量は、低屈折率層の樹脂１００質量部に対して１０〜２５０質量部が好ましく、５０〜２００質量部がより好ましく、１００〜１８０質量部がさらに好ましい。低屈折率粒子の含有量が上記範囲内にあれば、良好な反射防止特性と表面硬度とが得られる。
また、低屈折率層に含まれる全低屈折率粒子に占める中空粒子及び／又は多孔質粒子の割合は、７０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、８０〜９５質量％がさらに好ましい。
また、低屈折率層に含まれる全低屈折率粒子に占める中空粒子及び／又は多孔質粒子の割合は、７０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、８０〜９５質量％がさらに好ましい。
低屈折率層形成用塗布液に含まれる樹脂組成物としては、まず硬化性樹脂組成物が挙げられる。硬化性樹脂組成物としては、ハードコート層で例示したものと同様のものを用いることができ、電離放射線硬化性樹脂組成物が好適である。
また、樹脂組成物として、それ自体が低屈折率性を示す含フッ素ポリマーも好ましく用いられる。含フッ素ポリマーは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物の重合体であり、防汚性及び滑り性を付与できる点で好適である。含フッ素ポリマーは、分子中に反応性基を有して硬化性樹脂組成物として機能するものが好ましく、電離放射線硬化性反応性基を有して電離放射線硬化性樹脂組成物として機能するものがより好ましい。
また、樹脂組成物として、それ自体が低屈折率性を示す含フッ素ポリマーも好ましく用いられる。含フッ素ポリマーは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物の重合体であり、防汚性及び滑り性を付与できる点で好適である。含フッ素ポリマーは、分子中に反応性基を有して硬化性樹脂組成物として機能するものが好ましく、電離放射線硬化性反応性基を有して電離放射線硬化性樹脂組成物として機能するものがより好ましい。
含フッ素ポリマーとしては、低屈折率層表面の汚れをはじくだけではなく、はじいた汚れの拭取り性を付与するために、フッ素とともにケイ素を含むものが好ましく、例えば、共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体が好ましく挙げられる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が挙げられる。なかでも、ジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
低屈折率層は、例えば、低屈折率粒子、樹脂組成物、必要に応じて配合する紫外線吸収剤やレベリング剤等の添加剤及び希釈溶剤によって低屈折率層形成用塗布液を調製し、当該塗布液を高屈折率層上に従来公知の塗布方法によって塗布、乾燥、必要に応じて電離放射線を照射して硬化することにより形成することができる。
＜タッチパネル＞
タッチパネルは、必要に応じて表示素子と反射防止フィルムとの間に配置される。
タッチパネルとしては、静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。
タッチパネルは、必要に応じて表示素子と反射防止フィルムとの間に配置される。
タッチパネルとしては、静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。
抵抗膜式タッチパネルは、導電膜を有する上下一対の透明基板の導電膜同士が対向するようにスペーサーを介して配置されてなる構成を基本構成として、該基本構成に回路が接続されてなるものである。
静電容量式タッチパネルは、表面型及び投影型等が挙げられ、投影型が多く用いられている。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、該Ｘ軸電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成に、回路が接続されてなるものである。該基本構成をより具体的に説明すると、（１）１枚の透明基板上の別々の面にＸ軸電極及びＹ軸電極を形成する態様、（２）透明基板上にＸ軸電極、絶縁体層、Ｙ軸電極をこの順で形成する態様、（３）透明基板上にＸ軸電極を形成し、別の透明基板上にＹ軸電極を形成し、接着剤層等を介して積層する態様等が挙げられる。また、これら基本態様に、さらに別の透明基板を積層する態様が挙げられる。
静電容量式タッチパネルは、表面型及び投影型等が挙げられ、投影型が多く用いられている。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、該Ｘ軸電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成に、回路が接続されてなるものである。該基本構成をより具体的に説明すると、（１）１枚の透明基板上の別々の面にＸ軸電極及びＹ軸電極を形成する態様、（２）透明基板上にＸ軸電極、絶縁体層、Ｙ軸電極をこの順で形成する態様、（３）透明基板上にＸ軸電極を形成し、別の透明基板上にＹ軸電極を形成し、接着剤層等を介して積層する態様等が挙げられる。また、これら基本態様に、さらに別の透明基板を積層する態様が挙げられる。
＜その他の部材＞
表示素子と反射防止フィルムとの間には、必要に応じて偏光フィルム、位相差フィルム等のその他の部材を有していてもよい。
表示素子と反射防止フィルムとの間には、必要に応じて偏光フィルム、位相差フィルム等のその他の部材を有していてもよい。
［反射防止フィルム］
本発明の反射防止フィルムは、透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である、全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子に用いられるものである。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
本発明の反射防止フィルムは、透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である、全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子に用いられるものである。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
本発明の反射防止フィルムの実施の形態は、上述した本発明の表示装置における反射防止フィルムの実施の形態と同様である。
［表示装置の反射防止フィルムの選択方法］
本発明の表示装置の反射防止フィルムの選択方法は、全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子を有する表示装置の反射防止フィルムとして、透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有してなり、下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である反射防止フィルムを選択するものである。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
本発明の表示装置の反射防止フィルムの選択方法は、全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子を有する表示装置の反射防止フィルムとして、透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有してなり、下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である反射防止フィルムを選択するものである。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
本発明の反射防止フィルムの選択方法を適用する表示装置は、表示素子と反射防止フィルムとの間にタッチパネルを有していてもよい。
本発明の反射防止フィルムの選択方法における表示素子、タッチパネル及び反射防止フィルムの実施の形態は、上述した本発明の表示装置における表示素子、タッチパネル及び反射防止フィルムの実施の形態と同様である。
本発明の表示装置の反射防止フィルムの選択方法は、反射率が高い超高精細の表示素子を用いた表示装置の白化を抑制しつつ、超高精細の表示素子の画像品質が損なわれることがない反射防止フィルムを効率よく選択することができる点で有用である。
本発明の反射防止フィルムの選択方法における表示素子、タッチパネル及び反射防止フィルムの実施の形態は、上述した本発明の表示装置における表示素子、タッチパネル及び反射防止フィルムの実施の形態と同様である。
本発明の表示装置の反射防止フィルムの選択方法は、反射率が高い超高精細の表示素子を用いた表示装置の白化を抑制しつつ、超高精細の表示素子の画像品質が損なわれることがない反射防止フィルムを効率よく選択することができる点で有用である。
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、この例によって何ら限定されるものではない。
１．物性及び評価
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルムについて、以下の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。
１−１．反射防止フィルムのＲＳＣＥ及びＲＳＣＩ
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、厚み２５μｍの透明粘着剤層（パナック社製、商品名：パナクリーンPD-S1、屈折率１．４９）を介して黒色板（クラレ社製、商品名：コモグラス DFA2CG 502K(黒)系、全光線透過率０％、厚み２ｍｍ、屈折率１．４９）を貼り合わせたサンプルを作製した。積分球分光光度計（コニカミノルタ株式会社製、商品名：ＣＭ-２００２）を用い、該サンプルの低屈折率層側の面から、該サンプルの拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）及び全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定した。なお、積分球分光光度計の光源はＤ６５、受光器の位置はサンプルの法線に対して＋８度であり、受光器の開口角は１０度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して−８度であり、ライトトラップのカバー範囲は１０度であった。
１−２．反射防止フィルムの反射率Ｙ値
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、厚み２５μｍの透明粘着剤層（パナック社製、商品名：パナクリーンPD-S1、屈折率１．４９）を介して黒色板（クラレ社製、商品名：コモグラス DFA2CG 502K(黒)系、全光線透過率０％、厚み２ｍｍ、屈折率１．４９）を貼り合わせたサンプルを作製した。分光光度計（島津製作所株式会社製、商品名：ＵＶ−２４５０）を用い、ＪＩＳ Ｚ８７２２：１９８２に準拠し、該サンプルの低屈折率層側の面の反射率Ｙ値を測定した。なお、視野角は２度、光源はＤ６５、測定波長は３８０〜７８０ｎｍを０．５ｎｍ間隔とした。また、反射率Ｙ値は、サンプルの低屈折率層側の表面に対して垂直に入射する光の入射角を０度として、入射角５度でサンプルに光を入射させた際に、該入射光の正反射光により得られる値とした。
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルムについて、以下の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。
１−１．反射防止フィルムのＲＳＣＥ及びＲＳＣＩ
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、厚み２５μｍの透明粘着剤層（パナック社製、商品名：パナクリーンPD-S1、屈折率１．４９）を介して黒色板（クラレ社製、商品名：コモグラス DFA2CG 502K(黒)系、全光線透過率０％、厚み２ｍｍ、屈折率１．４９）を貼り合わせたサンプルを作製した。積分球分光光度計（コニカミノルタ株式会社製、商品名：ＣＭ-２００２）を用い、該サンプルの低屈折率層側の面から、該サンプルの拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）及び全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定した。なお、積分球分光光度計の光源はＤ６５、受光器の位置はサンプルの法線に対して＋８度であり、受光器の開口角は１０度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して−８度であり、ライトトラップのカバー範囲は１０度であった。
１−２．反射防止フィルムの反射率Ｙ値
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、厚み２５μｍの透明粘着剤層（パナック社製、商品名：パナクリーンPD-S1、屈折率１．４９）を介して黒色板（クラレ社製、商品名：コモグラス DFA2CG 502K(黒)系、全光線透過率０％、厚み２ｍｍ、屈折率１．４９）を貼り合わせたサンプルを作製した。分光光度計（島津製作所株式会社製、商品名：ＵＶ−２４５０）を用い、ＪＩＳ Ｚ８７２２：１９８２に準拠し、該サンプルの低屈折率層側の面の反射率Ｙ値を測定した。なお、視野角は２度、光源はＤ６５、測定波長は３８０〜７８０ｎｍを０．５ｎｍ間隔とした。また、反射率Ｙ値は、サンプルの低屈折率層側の表面に対して垂直に入射する光の入射角を０度として、入射角５度でサンプルに光を入射させた際に、該入射光の正反射光により得られる値とした。
１−３．液晶表示装置の白化の確認
液晶表示素子上に、反射防止フィルムの透明基材側の面が液晶表示素子側を向くようにして、反射防止フィルムを設置し、模擬液晶表示装置を作製した。該模擬液晶表示装置の表面（低屈折率層）の中心付近に、該模擬液晶表示装置の垂直方向から、暗室下でＬＥＤライトを照射し、同方向から、液晶表示装置のＬＥＤライトの照射ポイントから離れた箇所の白化の程度を目視で観察した。該観察を２０人が行い、白化が全く気にならないものを１点、わずかに白化が気になるが問題ないものを２点、白化が気になり問題あるレベルのものを３点として、各人が評価した。２０人の評価の平均点が１．１点以下のものを「ＡＡ」、１．１点超１．５点以下のものを「Ａ」、１．５点超２．０点以下のものを「Ｂ」、２．０点超２．５点以下のものを「Ｃ」、２．５点超３．０点以下のものを「Ｄ」とした。
なお、液晶表示素子は、表示素子Ａ［全光線反射率（ＲＳＣＩ）：７．８％、画素数：３８４０×２１６０ピクセル、サイズ：対角５５インチ］、表示素子Ｂ［全光線反射率（ＲＳＣＩ）：６．７％、画素数：１９２０×１０８０ピクセル、サイズ：対角４０インチ］の２つを準備し、それぞれの液晶表示素子を用いた模擬液晶表示装置を作製し、上記測定を行った。
なお、表示素子の全光線反射率（ＲＳＣＩ）は、積分球分光光度計（コニカミノルタ株式会社製、商品名：ＣＭ-２００２）を用いて測定した。なお、積分球分光光度計の光源はＤ６５、受光器の位置は表示素子の法線に対して＋８度であり、受光器の開口角は１０度であり、ライトトラップの位置は表示素子の法線に対して−８度であり、ライトトラップのカバー範囲は１０度であった。
液晶表示素子上に、反射防止フィルムの透明基材側の面が液晶表示素子側を向くようにして、反射防止フィルムを設置し、模擬液晶表示装置を作製した。該模擬液晶表示装置の表面（低屈折率層）の中心付近に、該模擬液晶表示装置の垂直方向から、暗室下でＬＥＤライトを照射し、同方向から、液晶表示装置のＬＥＤライトの照射ポイントから離れた箇所の白化の程度を目視で観察した。該観察を２０人が行い、白化が全く気にならないものを１点、わずかに白化が気になるが問題ないものを２点、白化が気になり問題あるレベルのものを３点として、各人が評価した。２０人の評価の平均点が１．１点以下のものを「ＡＡ」、１．１点超１．５点以下のものを「Ａ」、１．５点超２．０点以下のものを「Ｂ」、２．０点超２．５点以下のものを「Ｃ」、２．５点超３．０点以下のものを「Ｄ」とした。
なお、液晶表示素子は、表示素子Ａ［全光線反射率（ＲＳＣＩ）：７．８％、画素数：３８４０×２１６０ピクセル、サイズ：対角５５インチ］、表示素子Ｂ［全光線反射率（ＲＳＣＩ）：６．７％、画素数：１９２０×１０８０ピクセル、サイズ：対角４０インチ］の２つを準備し、それぞれの液晶表示素子を用いた模擬液晶表示装置を作製し、上記測定を行った。
なお、表示素子の全光線反射率（ＲＳＣＩ）は、積分球分光光度計（コニカミノルタ株式会社製、商品名：ＣＭ-２００２）を用いて測定した。なお、積分球分光光度計の光源はＤ６５、受光器の位置は表示素子の法線に対して＋８度であり、受光器の開口角は１０度であり、ライトトラップの位置は表示素子の法線に対して−８度であり、ライトトラップのカバー範囲は１０度であった。
１．反射防止フィルムの作製
［実施例１］
厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）上に、下記処方のハードコート層形成用塗布液を塗布、乾燥及び紫外線照射し、厚み１０μｍ、屈折率１．５２、鉛筆硬度２Ｈのハードコート層を形成した。次いで、ハードコート層上に、下記処方の高屈折率層形成用塗布液を塗布、乾燥及び紫外線照射し、厚み１３０ｎｍ、屈折率１．６０の高屈折率層を形成した。次いで、高屈折率層上に、下記処方の低屈折率層形成用塗布液を塗布、乾燥及び紫外線照射し、厚み１００ｎｍ、屈折率１．３０の低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
［実施例１］
厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）上に、下記処方のハードコート層形成用塗布液を塗布、乾燥及び紫外線照射し、厚み１０μｍ、屈折率１．５２、鉛筆硬度２Ｈのハードコート層を形成した。次いで、ハードコート層上に、下記処方の高屈折率層形成用塗布液を塗布、乾燥及び紫外線照射し、厚み１３０ｎｍ、屈折率１．６０の高屈折率層を形成した。次いで、高屈折率層上に、下記処方の低屈折率層形成用塗布液を塗布、乾燥及び紫外線照射し、厚み１００ｎｍ、屈折率１．３０の低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
＜ハードコート層形成用塗布液の調製＞
光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１２７、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン）を１．６質量部、希釈溶剤（メチルイソブチルケトン／シクロヘキサノン＝８／２）を５８．３質量部入れ、溶け残りがなくなるまで撹拌した。ここに光硬化樹脂（荒川化学社製、ビームセット５７７）を４０質量部入れ撹拌し、溶け残りがなくなるまで撹拌した。最後にレベリング剤（大日精化工業社製、セイカビーム１０−２８（ＭＢ））を０．１質量部入れ撹拌し、ハードコート層形成用塗布液を調製した。
光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１２７、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン）を１．６質量部、希釈溶剤（メチルイソブチルケトン／シクロヘキサノン＝８／２）を５８．３質量部入れ、溶け残りがなくなるまで撹拌した。ここに光硬化樹脂（荒川化学社製、ビームセット５７７）を４０質量部入れ撹拌し、溶け残りがなくなるまで撹拌した。最後にレベリング剤（大日精化工業社製、セイカビーム１０−２８（ＭＢ））を０．１質量部入れ撹拌し、ハードコート層形成用塗布液を調製した。
＜高屈折率層形成用塗布液の調製＞
光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１２７）０．１質量部、希釈溶剤（メチルイソブチルケトン／シクロヘキサノン／メチルエチルケトン=４／２／４）を９２．６質量部入れ、溶け残りがなくなるまで撹拌した。ここに光硬化樹脂（荒川化学社製、ビームセット５７７）を３質量部入れ、溶け残りがなくなるまで撹拌した。さらに易滑粒子（ＳＩＫナノテック社製、ＳＩＲＭＩＢＫ−Ｈ８４、固形分３０質量％、平均一次粒子径３０ｎｍ）を０．０４質量部、酸化ジルコニウム（住友大阪セメント社製、ＭＺ−２３０Ｘ、固形分３２．５質量％、平均一次粒子径１５〜５０ｎｍ）を４．１質量部、レベリング剤（大日精化工業社製、セイカビーム１０−２８（ＭＢ））０．０３質量部をそれぞれ入れた直後に、分散剤（ビックケミー ジャパン社製、ディスパービック１６３）を０．１３質量部添加し、ペイントメーカーを用いて１０時間撹拌を行い分散し、高屈折率層形成用塗布液を調製した。
光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１２７）０．１質量部、希釈溶剤（メチルイソブチルケトン／シクロヘキサノン／メチルエチルケトン=４／２／４）を９２．６質量部入れ、溶け残りがなくなるまで撹拌した。ここに光硬化樹脂（荒川化学社製、ビームセット５７７）を３質量部入れ、溶け残りがなくなるまで撹拌した。さらに易滑粒子（ＳＩＫナノテック社製、ＳＩＲＭＩＢＫ−Ｈ８４、固形分３０質量％、平均一次粒子径３０ｎｍ）を０．０４質量部、酸化ジルコニウム（住友大阪セメント社製、ＭＺ−２３０Ｘ、固形分３２．５質量％、平均一次粒子径１５〜５０ｎｍ）を４．１質量部、レベリング剤（大日精化工業社製、セイカビーム１０−２８（ＭＢ））０．０３質量部をそれぞれ入れた直後に、分散剤（ビックケミー ジャパン社製、ディスパービック１６３）を０．１３質量部添加し、ペイントメーカーを用いて１０時間撹拌を行い分散し、高屈折率層形成用塗布液を調製した。
＜低屈折率層形成用塗布液の調製＞
光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１２７）０．２質量部、希釈溶剤（ＭＩＢＫ/ＡＮ=７/３）を９１．１質量％入れ（最終塗工液の固形分が３質量％となる量）、溶け残りがなくなるまで撹拌した。ここに光硬化樹脂（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）１．２質量％、中空シリカ粒子（固形分２０質量％、平均一次粒子径６０ｎｍ）７．４質量％、レベリング剤（大日精化工業社製、セイカビーム１０−２８（ＭＢ））０．０５質量％をそれぞれ入れた直後に、分散剤（信越化学社製、ＫＢＭ−５１０３）を０．０５質量部添加し、ペイントメーカーを用いて１０時間撹拌を行い分散し、低屈折率層形成用塗布液を調製した。
光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１２７）０．２質量部、希釈溶剤（ＭＩＢＫ/ＡＮ=７/３）を９１．１質量％入れ（最終塗工液の固形分が３質量％となる量）、溶け残りがなくなるまで撹拌した。ここに光硬化樹脂（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）１．２質量％、中空シリカ粒子（固形分２０質量％、平均一次粒子径６０ｎｍ）７．４質量％、レベリング剤（大日精化工業社製、セイカビーム１０−２８（ＭＢ））０．０５質量％をそれぞれ入れた直後に、分散剤（信越化学社製、ＫＢＭ−５１０３）を０．０５質量部添加し、ペイントメーカーを用いて１０時間撹拌を行い分散し、低屈折率層形成用塗布液を調製した。
［実施例２］
実施例１の高屈折率層形成用塗布液の光硬化性樹脂を２．３質量部、酸化ジルコニウムを４．８質量部に変更した（変更後の屈折率は１．６０）以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
実施例１の高屈折率層形成用塗布液の光硬化性樹脂を２．３質量部、酸化ジルコニウムを４．８質量部に変更した（変更後の屈折率は１．６０）以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
［実施例３］
実施例１の高屈折率層形成用塗布液の光硬化性樹脂を１．７質量部、酸化ジルコニウムを５．４質量部に変更し、さらに低屈折率層形成用塗布液の光硬化性樹脂を０．８質量部、中空シリカ粒子を７．８質量部に変更した（変更後の高屈折率層の屈折率は１．６３、低屈折率層の屈折率は１．２９）以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
実施例１の高屈折率層形成用塗布液の光硬化性樹脂を１．７質量部、酸化ジルコニウムを５．４質量部に変更し、さらに低屈折率層形成用塗布液の光硬化性樹脂を０．８質量部、中空シリカ粒子を７．８質量部に変更した（変更後の高屈折率層の屈折率は１．６３、低屈折率層の屈折率は１．２９）以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
［実施例４］
実施例３の酸化ジルコニウムを五酸化アンチモンに変更した（変更後の屈折率は１．５８）以外は、実施例３と同様にして反射防止フィルムを得た。
実施例３の酸化ジルコニウムを五酸化アンチモンに変更した（変更後の屈折率は１．５８）以外は、実施例３と同様にして反射防止フィルムを得た。
［比較例１］
実施例４の高屈折率層形成用塗布液の光硬化性樹脂を０．５質量部、五酸化アンチモンを６．６質量部に変更し、さらに低屈折率層形成用塗布液の光硬化性樹脂を０．２質量部、中空シリカ粒子を７．５質量部に変更するとともに、含フッ素ポリマー（ＪＳＲ社製の商品名オプスターＪＮ３５、固形分２０質量％）を０．９質量部添加した（変更後の高屈折率層の屈折率は１．６３、低屈折率層の屈折率は１．３００）以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
実施例４の高屈折率層形成用塗布液の光硬化性樹脂を０．５質量部、五酸化アンチモンを６．６質量部に変更し、さらに低屈折率層形成用塗布液の光硬化性樹脂を０．２質量部、中空シリカ粒子を７．５質量部に変更するとともに、含フッ素ポリマー（ＪＳＲ社製の商品名オプスターＪＮ３５、固形分２０質量％）を０．９質量部添加した（変更後の高屈折率層の屈折率は１．６３、低屈折率層の屈折率は１．３００）以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
［比較例２］
比較例１の低屈折率層形成用塗布液の光硬化性樹脂を１．０質量部、中空シリカ粒子を７．６質量部、含フッ素ポリマーを０．０質量部に変更した（変更後の屈折率は１．２９５）以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
比較例１の低屈折率層形成用塗布液の光硬化性樹脂を１．０質量部、中空シリカ粒子を７．６質量部、含フッ素ポリマーを０．０質量部に変更した（変更後の屈折率は１．２９５）以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
［比較例３］
高屈折率層を２層構成とし、ハードコート層側の高屈折率層（Ａ）の形成に実施例４の高屈折率層形成用塗布液を用いて厚みを５０ｎｍとして、低屈折率層側の高屈折率層（Ｂ）の形成に実施例３の高屈折率層形成用塗布液を用いて厚みを１００ｎｍとした以外は、比較例２と同様にして反射防止フィルムを得た。
高屈折率層を２層構成とし、ハードコート層側の高屈折率層（Ａ）の形成に実施例４の高屈折率層形成用塗布液を用いて厚みを５０ｎｍとして、低屈折率層側の高屈折率層（Ｂ）の形成に実施例３の高屈折率層形成用塗布液を用いて厚みを１００ｎｍとした以外は、比較例２と同様にして反射防止フィルムを得た。
表１の結果から明らかなように、実施例１〜４の表示装置は、ＲＳＣＥの値が抑えられた反射防止フィルムを用いていることから、ＲＳＣＩが４．０％以上である表示素子において白化が認識されることを抑制できるものであった。
本発明の反射防止フィルム及び表示装置は、表示装置表面の反射を抑制しつつ、反射率が高い超高精細の表示素子の反射光に起因する白化を抑制し、超高精細の表示素子の画像品質が損なわれることを防止できる点で有用である。
また、本発明の表示装置の反射防止フィルムの選択方法によれば、超高精細の表示素子を用いた表示装置の表面の反射を抑制しつつ、白化を抑制し、超高精細の表示素子の画像品質が損なわれることがない反射防止フィルムを効率よく選択することができる点で有用である。
また、本発明の表示装置の反射防止フィルムの選択方法によれば、超高精細の表示素子を用いた表示装置の表面の反射を抑制しつつ、白化を抑制し、超高精細の表示素子の画像品質が損なわれることがない反射防止フィルムを効率よく選択することができる点で有用である。
１：表示素子
２：反射防止フィルム
２１：透明基材
２２：ハードコート層
２３：高屈折率層
２４：低屈折率層
３：タッチパネル
１０：表示装置
２：反射防止フィルム
２１：透明基材
２２：ハードコート層
２３：高屈折率層
２４：低屈折率層
３：タッチパネル
１０：表示装置
Claims (9)
- 透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である、全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子用の反射防止フィルム。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。 - 全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子上に反射防止フィルムを有してなり、該反射防止フィルムは透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有し、かつ該反射防止フィルムは下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である表示装置。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。 - 前記反射防止フィルムは、前記拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）と、下記の条件により測定される全光線反射率（ＲＳＣＩ）との比［ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ］が０．３２以下である請求項２に記載の表示装置。
（全光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。 - 前記反射防止フィルムは下記の条件により測定される反射率Ｙ値が０．５％以下である請求項２又は３に記載の表示装置。
（反射防止フィルムの反射率Ｙ値の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の反射率Ｙ値を測定する。 - 前記高屈折率層が高屈折率粒子を含有してなる請求項２〜４の何れか１項に記載の表示装置。
- 前記低屈折率層が低屈折率粒子を含有してなる請求項２〜５の何れか１項に記載の表示装置。
- 前記表示素子の画素数が３８４０×２１６０ピクセル以上である請求項２〜６の何れか１項に記載の表示装置。
- 前記表示素子上にタッチパネルを有し、該タッチパネル上に前記反射防止フィルムを有する請求項２〜７の何れか１項に記載の表示装置。
- 全光線反射率（ＲＳＣＩ）が４．０％以上の表示素子を有する表示装置の反射防止フィルムとして、透明基材上に高屈折率層及び低屈折率層を有してなり、下記の条件により測定される拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）が０．１２％以下である反射防止フィルムを選択する、表示装置の反射防止フィルムの選択方法。
（拡散光線反射率の測定）
反射防止フィルムの透明基材の高屈折率層側とは反対側の面に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、該サンプルの低屈折率層側の面の拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）を測定する。
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