TWI515271B - Anti-reflection film, anti-reflection film manufacturing method, polarizing plate and image display device - Google Patents

Anti-reflection film, anti-reflection film manufacturing method, polarizing plate and image display device Download PDF

Info

Publication number
TWI515271B
TWI515271B TW101101664A TW101101664A TWI515271B TW I515271 B TWI515271 B TW I515271B TW 101101664 A TW101101664 A TW 101101664A TW 101101664 A TW101101664 A TW 101101664A TW I515271 B TWI515271 B TW I515271B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
meth
cerium oxide
refractive index
mass
parts
Prior art date
Application number
TW101101664A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201229154A (en
Inventor
Mariko Hayashi
Tomoyuki Horio
Yoshihiro Nishimura
Yuya Inomata
Hiroshi Nakamura
Mayu Youki
Original Assignee
Dainippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=46507282&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=TWI515271(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Dainippon Printing Co Ltd filed Critical Dainippon Printing Co Ltd
Publication of TW201229154A publication Critical patent/TW201229154A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI515271B publication Critical patent/TWI515271B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
    • C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/24—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
    • C08J5/249—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs characterised by the additives used in the prepolymer mixture
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • G02B5/305—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks including organic materials, e.g. polymeric layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133502—Antiglare, refractive index matching layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2300/00—Characterised by the use of unspecified polymers
    • C08J2300/20—Polymers characterized by their physical structure
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2333/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2333/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C08J2333/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
    • C08K5/52—Phosphorus bound to oxygen only
    • C08K5/521—Esters of phosphoric acids, e.g. of H3PO4
    • C08K5/523—Esters of phosphoric acids, e.g. of H3PO4 with hydroxyaryl compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L1/00—Compositions of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
    • C08L1/08—Cellulose derivatives
    • C08L1/10—Esters of organic acids, i.e. acylates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
    • C08L2205/02—Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Description

抗反射膜、抗反射膜之製造方法、偏光板及影像顯示裝置
本發明係關於一種抗反射膜、抗反射膜之製造方法、偏光板及影像顯示裝置。
對於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電激發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)等影像顯示裝置中之影像顯示面具有如下要求：使自外部光源照射之光線的反射變少而提高其視認性。針對於此，通常進行有如下操作：於透光性基材上利用形成有抗反射層之抗反射膜，藉此使影像顯示裝置之影像顯示面之反射降低而提高視認性。
作為抗反射膜，先前已知有將折射率低於透光性基材之低折射率層設置於最表面上之結構。
為了提高抗反射膜之抗反射性能，對於此種低折射率層具有如下要求：為低折射率，因設於最表面上，故為了抗損傷等而具有較高之硬度及滑動性，且具有透明性等優異之光學特性。
作為於最表面上形成有低折射率層之抗反射膜，例如於專利文獻1中揭示有一種抗反射膜，其係使用含有中空狀二氧化矽微粒子與丙烯酸酯等黏合樹脂等之塗佈液，且具有內部含有中空狀二氧化矽微粒子之結構之低折射率層。
然而，近年來，影像顯示裝置所要求之顯示品質變得非常高，對於抗反射膜亦要求有更高水平之抗反射性能。
然而，就先前之設置有含有中空狀二氧化矽微粒子之低折射率層的抗反射膜而言，抗反射性能難謂充分，無法充分應對近年來之較高的顯示品質之要求。
又，例如於專利文獻2等中，揭示有於低折射率層之材料中摻合含有氟原子之聚合物或單體之方法。
含有氟原子之聚合物或單體例如係與專利文獻1所揭示之黏合樹脂相比，折射率較低之材料，但就使用有此種化合物之低折射率層而言，無法謀求充分之低折射率化，又，若含有含氟原子之聚合物或單體至使折射率充分降低之程度，則有低折射率層之硬度變得不充分之問題。
又，例如於專利文獻3、4、5中，揭示有於低折射率層中含有含氟聚合物與中空二氧化矽微粒子之抗反射膜。
此種含有含氟聚合物與中空二氧化矽微粒子之低折射率層可謀求折射率之進一步降低。
然而，即便為此種含有含氟聚合物與中空狀二氧化矽微粒子之低折射率層，若含有含氟聚合物至使折射率充分降低之程度，則亦有低折射率層之硬度變得不充分之問題。
因此，需要具有充分之表面硬度，且具備更低折射率之低折射率層，並且具有較高之抗反射性能的抗反射膜。
進而，此種抗反射膜通常為設置於影像顯示裝置之最表面上者，因此亦要求具備優異之滑動性。
專利文獻1：日本特開2003-292831號公報
專利文獻2：日本特開2001-100004號公報
專利文獻3：日本特開2009-288809號公報
專利文獻4：日本特開2010-152311號公報
專利文獻5：日本特開2011-059699號公報
本發明之目的在於：鑒於上述現狀而提供一種具有充分之表面硬度與滑動性，且具備低折射率層之折射率夠低之低折射率層，具有優異之抗反射性能，並且指紋擦拭性或防標記性等防污性能亦優異之抗反射膜；使用該抗反射膜而成之偏光板及影像顯示裝置。
本發明係關於一種抗反射膜，其係於透光性基材上具有硬塗層與低折射率層者，其特徵在於：上述低折射率層含有(甲基)丙烯酸系樹脂、中空狀二氧化矽微粒子、反應性二氧化矽微粒子及兩種防污劑，且上述中空狀二氧化矽微粒子係平均粒徑為40～80 nm，相對於上述(甲基)丙烯酸系樹脂之摻合比(中空狀二氧化矽微粒子之含量/(甲基)丙烯酸系樹脂之含量)為0.9～1.4，上述反應性二氧化矽之含量相對於上述(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，為5～60質量份，且上述防污劑含有由氟系化合物構成之防污劑與由氟-聚矽氧系化合物構成之防污劑。
於本發明之抗反射膜中，上述中空狀二氧化矽微粒子較佳為平均粒徑為45～70 nm。
又，上述反應性二氧化矽微粒子較佳為具有紫外線硬化型官能基，且平均粒徑為1～25 nm。
又，較佳為，於上述中空狀二氧化矽微粒子相對於(甲基)丙烯酸系樹脂之摻合比(中空狀二氧化矽微粒子之含量/(甲基)丙烯酸系樹脂之含量)為0.9～1.1時，反應性二氧化矽微粒子之含量相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，為5～40質量份，且於上述中空狀二氧化矽微粒子相對於(甲基)丙烯酸系樹脂之摻合比為1.1～1.4質量份之情形時，反應性二氧化矽微粒子之含量相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，為40～60質量份。
又，上述(甲基)丙烯酸系樹脂較佳為選自由新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇(甲基)四丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、及經異三聚氰酸EO改質之三(甲基)丙烯酸酯所組成之群中之至少1種單體之聚合物或共聚物。
又，本發明亦為一種抗反射膜之製造方法，係用於製造於透光性基材上具有硬塗層與低折射率層之抗反射膜，其特徵在於：
具有將含有(甲基)丙烯酸系單體、中空狀二氧化矽微粒子、反應性二氧化矽微粒子、兩種防污劑及溶劑的低折射率層用塗佈液塗佈在形成於上述透光性基材上之上述硬塗層上，並使所形成之塗膜乾燥、硬化而形成上述低折射率層的步驟，且上述中空狀二氧化矽微粒子係平均粒徑為40～80 nm，相對於上述(甲基)丙烯酸系單體之摻合比(中空狀二氧化矽微粒子之含量/(甲基)丙烯酸系單體之含量)為0.9～1.4，上述反應性二氧化矽之含量相對於上述(甲基)丙烯酸系單體100質量份，為5～60質量份，上述防污劑含有由氟系化合物構成之防污劑與由氟-聚矽氧系化合物構成之防污劑，並且上述溶劑係含有甲基異丁酮與丙二醇單甲醚之混合溶劑。
於本發明之抗反射膜之製造方法中，上述甲基異丁酮與丙二醇單甲醚之摻合比(甲基異丁酮/丙二醇單甲醚)較佳為95/5～30/70。
又，本發明亦為一種偏光板，其係具備偏光元件而成者，其特徵在於：上述偏光板於偏光元件表面具備上述抗反射膜。
又，本發明亦為一種影像顯示裝置，其特徵在於：於最表面具備上述抗反射膜或上述偏光板。
以下，對本發明進行詳細說明。
本發明係一種抗反射膜，其於透光性基材上具有硬塗層與低折射率層。
本發明者等人對上述構成之抗反射膜進行努力研究，結果發現：將低折射率層設為使用含有(甲基)丙烯酸系單體、中空狀二氧化矽微粒子、反應性二氧化矽微粒子、兩種防污劑及溶劑之低折射率層用塗佈液而形成者，且將上述中空狀二氧化矽微粒子之粒徑及摻合量設為特定之範圍，並且將上述反應性二氧化矽微粒子之摻合量設為特定之範圍，進而組合上述防污劑，即包含特定之化合物之兩種防污劑(例如，利用一種防污劑使指紋附著防止性及擦拭性提高，利用另一種防污劑使防標記性能及標記擦拭性能、滑動性及耐磨性提高，並組合該等防污劑)，藉此獲得與先前相比，耐磨性、耐污染性及滑動性均優異之抗反射膜，從而完成本發明。
以下，對構成本發明之抗反射膜之各層進行詳細說明。
(低折射率層)
所謂上述低折射率層，係指與構成本發明之抗反射膜之透光性基材或硬塗層等與低折射率層以外的構成物折射率相比，具有更低折射率之層。
於本發明之抗反射膜中，上述低折射率層係含有(甲基)丙烯酸系樹脂、中空狀二氧化矽微粒子、反應性二氧化矽微粒子及兩種防污劑者。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂係於上述低折射率層中，作為上述中空狀二氧化矽微粒子或反應性二氧化矽微粒子之黏合劑成分而發揮功能之成分。再者，於本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸」，係指丙烯酸或甲基丙烯酸。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，可列舉(甲基)丙烯酸系單體之聚合物或共聚物，作為上述(甲基)丙烯酸系單體，並無特別限定，但例如可較佳地列舉新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇(甲基)四丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、經異三聚氰酸EO改質之三(甲基)丙烯酸酯等。
又，該等(甲基)丙烯酸酯系單體可為使分子骨架之一部分改質者，亦可使用經環氧乙烷、環氧丙烷、己內酯、異三聚氰酸、烷基、環狀烷基、芳香族、雙酚等改質而成者。
該等(甲基)丙烯酸系單體可單獨使用，亦可併用2種以上。該等(甲基)丙烯酸系單體滿足如下所述之折射率之範圍，並且硬化反應性優異，可提高所獲得之低折射率層之硬度。
使上述(甲基)丙烯酸系單體硬化而成之聚合物或共聚物之折射率較佳為1.47～1.53。實際上無法使折射率成為未達1.47，若超過1.53，則有時無法獲得折射率足夠低之低折射率層。
又，上述(甲基)丙烯酸系單體之重量平均分子量較佳為250～1000。若未達250，則官能基數變少，因此有所獲得之低折射率層之硬度下降之虞。若超過1000，則通常官能基當量(官能基數/分子量)變小，因此有時交聯密度變低而無法獲得充分之硬度之低折射率層。
再者，上述(甲基)丙烯酸系單體之重量平均分子量可藉由利用凝膠滲透層析法(GPC)之聚苯乙烯換算而求出。於GPC流動相之溶劑中，可使用四氫呋喃或氯仿。測定用管柱可組合四氫呋喃用或氯仿用之管柱的市售品管柱而使用。作為上述市售品管柱，例如可列舉Shodex GPC KF-801、GPC-KF800D(均為商品名，昭和電工公司製造)等。於檢測器中，可使用RI(Refractive index，示差折射率)檢測器及UV(Ultraviolet，紫外線)檢測器。使用此種溶劑、管柱、檢測器，並藉由例如Shodex GPC-101(昭和電工公司製造)等GPC系統，可適當測定上述重量平均分子量。
上述中空狀二氧化矽微粒子係保持上述低折射率層之層強度，並且發揮降低其折射率之作用的成分。再者，於本說明書中，所謂「中空狀二氧化矽微粒子」，係於內部填充有氣體之結構及/或包含氣體之多孔質結構體，且表示與二氧化矽微粒子原來之折射率相比，與氣體之佔有率成反比而折射率下降之二氧化矽微粒子。
又，本發明之抗反射膜係上述低折射率層含有上述中空狀二氧化矽微粒子，藉此可於不如先前之低折射率層般使用含有氟原子之聚合物或單體之情況下達成所期望之反射率。又，可使上述低折射率層成為較硬且具備更低折射率者。
於本發明之抗反射膜中，上述中空狀二氧化矽微粒子之平均粒徑為40～80 nm。若未達40 nm，則上述低折射率層之空隙比不充分，無法使折射率充分變低，本發明之抗反射膜之抗反射性能變得不充分。另一方面，若超過80 nm，則於低折射率層之表面上形成凹凸，本發明之抗反射膜之耐磨性變差，且上述中空狀二氧化矽微粒子本身之強度變弱，從而導致低折射率層之膜強度下降。
上述中空狀二氧化矽微粒子之平均粒徑的較佳下限為45 nm，較佳之上限為70 nm。藉由於該範圍內，可於維持低折射率層之強度之情況下達成所期望之反射率。
再者，上述中空狀二氧化矽微粒子之平均粒徑係表示例如藉由利用動態光散射法或截面TEM(Transmission Electron Microscopy，穿透式電子顯微鏡)法之觀察而測得之值。
作為上述中空狀二氧化矽微粒子之具體例，並無特別限定，例如可較佳地列舉使用日本專利特開2001-233611號公報所揭示之技術而製備之中空狀二氧化矽微粒子。中空狀二氧化矽微粒子由於容易製造且其本身之硬度較高，故於與有機系之黏合劑成分混合而形成低折射率層時，低折射率層之強度會提升，且可調整折射率以使其變低。
又，作為上述中空狀二氧化矽微粒子之空隙比，較佳為6.4～80.0%。若上述空隙比未達6.4%，則有時無法使低折射率層之折射率充分變低，本發明之抗反射膜之抗反射性能變得不充分。另一方面，若上述空隙比超過80.0%，則有時上述中空狀二氧化矽微粒子之強度下降，低折射率層總體之強度變得不充分。上述中空狀二氧化矽微粒子之空隙比之更佳之下限為8.5%，更佳之上限為76.4%。藉由具有該範圍之空隙比，可使低折射率層成為充分地低折射率化且具有優異之強度者。
於本發明之抗反射膜中，上述中空狀二氧化矽微粒子相對於上述(甲基)丙烯酸系樹脂之摻合比(中空狀二氧化矽微粒子之含量/(甲基)丙烯酸系樹脂之含量)為0.9～1.4。若上述摻合比未達0.9，則無法使上述低折射率層之折射率充分變低，從而本發明之抗反射膜之抗反射性能變得不充分。若上述摻合比超過1.4，則本發明之抗反射膜之耐磨性下降。上述摻合比之較佳之下限為1.0，較佳上限為1.3。藉由於該範圍內，可於維持低屈祈率層之強度之情況下達成所期望之反射率。
上述反應性二氧化矽微粒子係於表面上具有反應性官能基之二氧化矽微粒子。上述反應性二氧化矽微粒子係發揮使低折射率層之表面硬度變高之作用的成分。
作為上述反應性官能基，並無特別限定，可以能夠與上述(甲基)丙烯酸系樹脂之交聯之方式適當選擇，可較佳地使用紫外線硬化型官能基。
作為上述反應性官能基，具體而言，例如可列舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和鍵及環氧基等。其中，較佳為乙烯性不飽和鍵。
作為此種反應性二氧化矽微粒子，較佳為至少於二氧化矽微粒子之表面之一部分上包覆有有機成分，且於表面上具有藉由該有機成分而導入之反應性官能基者。
此處，所謂有機成分，係指含有碳之成分。又，作為至少於二氧化矽微粒子表面之一部分包覆有有機成分之態樣，例如包括使存在於二氧化矽微粒子之表面之羥基與包含矽烷偶合劑等有機成分之化合物進行反應而於表面之一部分上鍵結有機成分之態樣，或使存在於二氧化矽微粒子表面之羥基與包含具有異氰酸酯基之有機成分的化合物進行反應而於表面之一部分上鍵結有機成分之態樣，除此以外例如亦包括藉由氫鍵等之相互作用而使有機成分附著於存在於二氧化矽微粒子表面之羥基上之態樣等。
作為製備反應性二氧化矽微粒子之方法，並無特別限定，可使用先前公知之方法，上述反應性二氧化矽微粒子係至少於二氧化矽微粒子表面之一部分包覆有有機成分，且於表面具有由該有機成分導入之反應性官能基。
上述反應性二氧化矽微粒子之平均粒徑較佳為1～25 nm。若未達1 nm，則有時無法有助於提高低折射率層之硬度，若超過25 nm，則有低折射率層之透明性下降而導致穿透率變差、霧度上升之虞，且有時成為使低折射率層產生缺陷之原因。上述反應性二氧化矽微粒子之平均粒徑之更佳之下限為5 nm，更佳之上限為20 nm。
再者，於本說明書中，上述反應性二氧化矽微粒子之平均粒徑係指利用動態光散射法測定溶液中之反應性二氧化矽微粒子，並以累積分佈表示粒徑分佈時之50%粒徑(d50、中值粒徑)。該平均粒徑可使用日機裝公司製造之Microtrac粒度分析計進行測定。又，亦可藉由利用截面TEM法之觀察而確認。
再者，於本發明之抗反射膜中，雖上述反應性二氧化矽微粒子較佳為以單粒子形式分散，但例如亦可包含3～20個、較佳為3～10個反應性二氧化矽微粒子藉由無機化學鍵進行鍵結而成之粒子(鏈狀粒子)。藉由含有此種鏈狀粒子，可使上述低折射率層之耐磨性提高。
再者，於全反應性二氧化矽微粒子(單粒子+鏈狀粒子)100質量%中，較佳為以0～80質量%之比例含有上述鏈狀粒子。若超過80質量%，則有時成為使低折射率層產生缺陷之原因，或成為本發明之抗反射膜之耐鋼絲絨性下降的原因。
上述鏈狀粒子之含有比例之更佳之下限為10質量%，更佳之上限為70質量%。
作為上述無機化學鍵，例如可列舉離子鍵、金屬鍵、配位鍵及共價鍵。其中，較佳為即便將上述反應性二氧化矽微粒子添加於極性溶劑中，鍵結之球狀二氧化矽微粒子亦不分散之鍵，具體而言，為金屬鍵、配位鍵及共價鍵，進而較佳為共價鍵。再者，作為極性溶劑，例如可列舉水、以及甲醇、乙醇、異丙醇等低級醇等。
上述反應性二氧化矽微粒子之平均鍵結數可使用SEM照片或TEM照片觀察低折射率層之截面，選擇100個所觀察之凝聚粒子，對各鏈狀粒子中所含有之反應性二氧化矽微粒子進行計數，求出其平均值。又，鏈狀粒子之平均粒徑係指長軸與短軸之平均值。
此種反應性二氧化矽微粒子鍵結而成之鏈狀粒子可利用先前公知之方法而獲得。例如可藉由調節單分散狀態之反應性二氧化矽微粒子之分散液的濃度或pH值，並於100℃以上之高溫下進行水熱處理而獲得。此時，亦可視需要添加黏合劑成分而促進反應性二氧化矽微粒子之鍵結。
又，亦可藉由將所使用之反應性二氧化矽微粒子之分散液透過離子交換樹脂而去除離子。藉由此種離子交換處理，可促進反應性二氧化矽微粒子之鍵結。水熱處理後，亦可再次進行離子交換處理。
於本發明之抗反射膜中，相對於上述(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，含有上述反應性二氧化矽微粒子5～60質量份。若未達5質量份，則無法使低折射率層充分地高硬度化，若超過60質量份，則低折射率層與下述硬塗層之密著性變得不充分。又，未表現出僅添加反應性二氧化矽微粒子之效果，導致製造成本之上升，且亦引起反射率上升。上述反應性二氧化矽微粒子之含量之較佳之下限為10質量份，較佳之上限為50質量份。藉由於該範圍內，可於不損害反射率等之情況下使低折射率層之膜強度提高。
又，可使上述低折射率層之耐磨性進而提高，因此該低折射率層中之反應性二氧化矽微粒子之含量較佳為根據其與上述之中空狀二氧化矽微粒子之含量的關係而適當調整。
具體而言，於上述中空狀二氧化矽微粒子相對於(甲基)丙烯酸系樹脂之摻合比(中空狀二氧化矽微粒子之含量/(甲基)丙烯酸系樹脂之含量)為0.9～1.1時，上述反應性二氧化矽微粒子之含量相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，較佳為5～40質量份。
又，於上述中空狀二氧化矽微粒子相對於(甲基)丙烯酸系樹脂之摻合比為1.1～1.4質量份之情形時，上述反應性二氧化矽微粒子之含量相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，較佳為40～60質量份。
又，上述中空狀二氧化矽微粒子與上述反應性二氧化矽微粒子之總計相對於(甲基)丙烯酸系樹脂之摻合比(中空狀二氧化矽微粒子之含量+反應性二氧化矽微粒子之含量/(甲基)丙烯酸系樹脂之含量)較佳為0.8～2.0，藉由於該範圍內，可於不損害反射率等之情況下使低折射率層之膜強度提高，可獲得抑制凝聚缺陷等缺陷者。
於本發明之抗反射膜中，上述低折射率層含有由氟系化合物構成之防污劑與由氟-聚矽氧系化合物構成之防污劑作為上述防污劑。藉由如上述般使用兩種防污劑，例如藉由含有由上述氟系化合物構成之防污劑，使本發明之抗反射膜成為抗指紋附著性能及指紋擦拭性能優異者。
又，藉由含有由上述氟-聚矽氧系化合物構成之防污劑，使本發明之抗反射膜成為如下者：防標記性能及標記擦拭性能、滑動性及耐磨性優異，進而可抑制使低折射率層產生缺陷之情況，並且使用本發明之防眩性膜時之顯示影像之畫質亦優異者。
作為上述氟系化合物，較佳為反應性氟化合物，特別是具有乙烯性不飽和鍵之含氟單體。具體而言，例如可列舉：氟烯烴類(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-間二氧雜環戊烯等(perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole))。
又，例如亦可列舉：於(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3-五氟丙基酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟丁基)乙基酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟己基)乙基酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟辛基)乙基酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟癸基)乙基酯、α-三氟(甲基)丙烯酸甲酯等於分子中具有氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物；包含於分子中具有至少3個氟原子之碳數1～14之氟烷基、氟環烷基或氟伸烷基，與至少2個(甲基)丙烯醯氧基的含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。
進而亦可列舉：於主鏈上具有氟化伸烷基之氟聚合物、寡聚物，或於主鏈及支鏈上具有氟化伸烷基、氟化烷基之氟化聚合物、寡聚物等。該等之中，特別是於主鏈及支鏈上具有氟化伸烷基、氟化烷基之氟化聚合物由於難以產生自低折射率層之滲出之問題，故尤其適合使用。
作為上述氟系化合物之含量，並無特別限定，但相對於上述中空二氧化矽微粒子與(甲基)丙烯酸系樹脂之總計100質量份，較佳為1.0～10.0質量份。若未達1.0質量份，則有時本發明之抗反射膜之指紋擦拭性變得不充分，若超過10.0質量份，則有時上述低折射率層之滑動性及硬度下降，本發明之抗反射膜之耐磨性變得不充分，且有時防標記性能亦較差。上述氟系化合物之含量之更佳之下限為2.0質量份，更佳之上限為8.0質量份。
作為上述氟-聚矽氧系化合物之含量，並無特別限定，但相對於上述中空二氧化矽微粒子與(甲基)丙烯酸系樹脂之總計100質量份，較佳為0.5～15.0質量份。若未達0.5質量份，則有時上述低折射率層之滑動性及強度變得不充分，本發明之抗反射膜之耐磨性下降，防標記性能及標記擦拭性能下降。另一方面，若上述氟-聚矽氧系化合物之含量超過15.0質量份，則有時上述低折射率層之指紋擦拭性能變得不充分，且有可能導致變白。進而，有時於形成上述低折射率層時所使用之下述低折射率層用塗佈液的塗佈性變差。上述氟-聚矽氧系化合物之含量之更佳之下限為1.0質量份，更佳之上限為10.0質量份。
又，上述低折射率層亦可於不阻礙本發明之效果之範圍內含有除上述氟系化合物、氟-聚矽氧系化合物以外之其他防污劑。
作為上述其他防污劑，例如可列舉聚矽氧系化合物。
作為上述聚矽氧系化合物，例如可列舉：(聚)二甲基矽氧烷、(聚)二乙基矽氧烷、(聚)二苯基矽氧烷、(聚)甲基苯基矽氧烷、經烷基改質之(聚)二甲基矽氧烷、含有偶氮基之(聚)二甲基矽氧烷、二甲基聚矽氧、苯基甲基聚矽氧、經烷基/芳烷基改質之聚矽氧、氟聚矽氧、經聚醚改質之聚矽氧、經脂肪酸酯改質之聚矽氧、甲基氫聚矽氧、含有矽烷醇基之聚矽氧、含有烷氧基之聚矽氧、含有苯酚基之聚矽氧、經甲基丙烯酸改質之聚矽氧、經丙烯酸改質之聚矽氧、經胺基改質之聚矽氧、經羧酸改質之聚矽氧、經甲醇改質之聚矽氧、經環氧基改質之聚矽氧、經巰基改質之聚矽氧、經聚醚改質之聚矽氧等。其中，具有二甲基矽氧烷結構者由於難以產生自低折射率層之滲出之問題，故而尤其適合使用。
於本發明之抗反射膜中，上述低折射率層之折射率較佳為1.40以下。若上述折射率超過1.40，則有時本發明之抗反射膜之抗反射性能變得不充分，無法應對近年來之影像顯示裝置的較高水平之顯示品質。更佳為1.38以下。
上述低折射率層之膜厚(nm)dA較佳為滿足下述式(I)者：
dA=mλ/(4nA)　(I)
(上述式中，nA表示低折射率層之折射率，m表示正奇數，較佳為表示1，λ為波長，較佳為480～580 nm之範圍之值)。
又，於本發明中，就低反射率化之方面而言，低折射率層較佳為滿足下述式(II)者：
120＜nAdA＜145　(II)。
又，上述低折射率層之霧度值較佳為1%以下。若超過1%，則有時本發明之抗反射膜之透光性下降而成為影像顯示裝置之顯示品質下降之原因。更佳為0.5%以下。再者，於本說明書中，所謂霧度值，係依據JIS K7136而求出之值。
上述低折射率層之利用JIS K5400之鉛筆硬度試驗所測得之硬度較佳為2 H以上，更佳為3 H以上。又，於按照JIS K5400之TABER試驗中，試驗前後之試片之摩耗量越少越好。
此種低折射率層可藉由塗佈含有上述之(甲基)丙烯酸系單體、中空狀二氧化矽微粒子、反應性二氧化矽微粒子、防污劑及溶劑之低折射率層用塗佈液，並使所形成之塗膜乾燥、硬化而形成。
作為上述低折射率層用塗佈液所含有之溶劑，並無特別限定，例如可列舉：甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、苄醇、丙二醇單乙醚等醇；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁酮、環己酮、庚酮、二異丁酮、二乙酮等酮；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸丁酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等酯；己烷、環己烷等脂肪族烴；二氯甲烷、氯仿、四氯化碳等鹵化烴；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、正甲基吡咯烷酮等胺；二乙醚、二烷、四氫呋喃等醚；1-甲氧基-2-丙醇等醚醇等。其中，較佳為甲基異丁酮、甲基乙基酮、異丙醇(IPA，isopropyl alcohol)、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、丙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚乙酸酯，最佳為含有甲基異丁酮與丙二醇單乙醚之混合溶劑。
藉由使用含有甲基異丁酮與丙二醇單乙醚之混合溶劑作為上述溶劑，可抑制所形成之低折射率層之色斑或上述中空狀二氧化矽微粒子之凝聚，可獲得具備高品質之低折射率層之抗反射膜。
又，於上述溶劑含有甲基異丁酮與丙二醇單乙醚之情形時，該等之摻合比(甲基異丁酮/丙二醇單甲醚)較佳為95/5～30/70。若未達95/5，則有時於所形成之低折射率層上產生色斑不良。另一方面，若超過30/70，則有時所形成之低折射率層之防污性變差，或產生由刷洗(乾燥速度變快而吸附空氣中之水分之現象)所導致的低折射率層之變白。上述摻合比之更佳之下限為85/15，更佳之上限為40/60。
又，上述低折射率層用塗佈液亦可視需要含有其他成分。
作為上述其他成分，例如可列舉：光聚合起始劑、調平劑、硬化劑、聚合促進劑、黏度調整劑、防眩劑、抗靜電劑、除上述以外之樹脂等。
作為上述光聚合起始劑，可列舉：苯乙酮類(例如商品名Irgacure184，Ciba Specialty Chemicals公司製造之1-羥基-環己基-苯基-酮；商品名Irgacure907，Ciba Specialty Chemicals公司製造之2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉丙烷-1-酮)(2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-on)、二苯甲酮類、9-氧硫　口山口星(thioxanthone)類、安息香、安息香甲醚、芳香族重氮鹽、芳香族鋶鹽、芳香族錪鹽、茂金屬化合物、安息香磺酸酯等。該等亦可單獨使用，亦可併用2種以上。
上述光聚合起始劑之添加量相對於上述(甲基)丙烯酸系單體100質量份，較佳為0.1～10質量份。
上述調平劑(leveling agent)、交聯劑、硬化劑、聚合促進劑、黏度調整劑、防眩劑、抗靜電劑、其他樹脂可使用公知者。
又，較佳為將上述低折射率層用塗佈液之黏度設為可獲得較佳之塗佈性之0.5～5 cps(25℃)、較佳為0.7～3 cps(25℃)的範圍。可實現可見光線之優異之抗反射膜，並且可形成均勻且無塗佈不均之薄膜，且可形成對於被塗佈物之密著性特別優異之低折射率層。
作為上述低折射率層用塗佈液之製備方法，並無特別限定，例如可藉由將上述(甲基)丙烯酸系單體、中空狀二氧化矽微粒子、反應性二氧化矽微粒子、防污劑、及溶劑、視需要添加之光聚合起始劑等成分混合而獲得。於混合時，可使用塗料振盪器或珠磨機等公知之方法。
上述低折射率層用塗佈液可藉由於下述硬塗層上塗佈上述低折射率層用塗佈液，使所形成之塗膜乾燥，並利用電離輻射之照射及/或加熱使塗膜硬化而形成。
作為塗佈上述低折射率層用塗佈液之方法，並無特別限定，例如可列舉：旋轉塗佈法、浸漬法、噴霧法、模塗法、凹版印刷塗佈法、棒式塗佈法、輥式塗佈法、新月形塗佈法(Meniscus coater method)、網版印刷法、液滴塗佈法(bead coater)等各種方法。
(透光性基材)
本發明之抗反射膜具有透光性基材。
上述透光性基材較佳為具備平滑性、耐熱性且機械性強度優異者。作為形成透光性基材之材料之具體例，例如可列舉：聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸二乙酯)、三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、或聚胺基甲酸酯等熱塑性樹脂。較佳為可列舉聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸二乙酯)、三乙酸纖維素。
上述透光性基材較佳為使用上述熱塑性樹脂作為富有柔軟性之膜狀體，但根據要求有硬化性之使用態樣，亦可使用該等熱塑性樹脂之板，或者亦可使用玻璃板之板狀體者。
除此以外，作為上述透光性基材，可列舉具有脂環結構之非晶質烯烴系聚合物(Cyclo-Olefin-Polymer：COP)膜。其係使用降莰烯(norbornene)系聚合物、單環之環狀烯烴系聚合物、環狀共軛二烯系聚合物、乙烯脂環烴系聚合物等之基材，例如可列舉日本ZEON公司製造之ZEONEX或ZEONOR(降莰烯系樹脂)、SUMITOMO BAKELITE公司製造之SUMILITE FS-1700、JSR公司製造之ARTONE(改質降莰烯系樹脂)、三井化學公司製造之APEL(環烯系共聚物)、Ticona公司製造之Topas(環烯系共聚物)、日立化成公司製造之OPTOREZ OZ-1000系列(脂環丙烯酸系樹脂)等。
又，作為代替三乙酸纖維素之基材，旭化成化學公司製造之FV系列(低雙折射率、低彈性模數膜)亦較佳。
作為上述透光性基材之厚度，較佳為10～300 μm，更佳為下限為20 μm、上限為100 μm。於透光性基材為板狀體之情形時，亦可為超過該等厚度之厚度。對於上述透光性基材，於其上形成下述硬塗層等時，為了提高接著性，除電暈放電處理、氧化處理、皂化處理等物理性之處理以外，亦可預先塗佈稱為增黏劑或底塗劑之塗料。
(硬塗層)
本發明之抗反射膜於上述透光性基材與低折射率層之間具有硬塗層。
於本說明書中，所謂上述「硬塗層」，係指於JIS5600-5-4(1999)所規定之鉛筆硬度試驗中顯示「H」以上之硬度者。又，作為上述硬塗層之膜厚(硬化時)，為0.1～100 μm，較佳為1.0～10 μm。
作為上述硬塗層，並無特別限定，例如可列舉藉由含有樹脂與任意成分之硬塗層用組成物而形成者。
作為上述樹脂，可較佳地使用透明性者，具體而言，可列舉：作為藉由紫外線或電子束而硬化之樹脂的電離輻射硬化型樹脂、電離輻射硬化型樹脂與溶劑乾燥型樹脂(只要使於塗佈時為了調整固形份而添加之溶劑乾燥，則成為被膜之樹脂)之混合物、或熱硬化型樹脂等，較佳為可列舉電離輻射硬化型樹脂。
作為上述電離輻射硬化型樹脂之具體例，可列舉具有丙烯酸酯系之官能基者，例如：相對低分子量之聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸系樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂(urethane resin)等多官能化合物之(甲基)丙烯酸酯等單體、寡聚物或預聚物、反應性稀釋劑等。
作為較佳之樹脂，例如可列舉選自由新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇(甲基)四丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、及經異三聚氰酸EO改質之三(甲基)丙烯酸酯所組成之群中之至少1種單體之聚合物或共聚物等，低反射率層中所使用之樹脂亦可用於硬塗層中。
於使用上述電離輻射硬化型樹脂作為紫外線硬化型樹脂之情形時，較佳為使用光聚合起始劑。
作為上述光聚合起始劑，例如可列舉：苯乙酮類、二苯甲酮類、米氏苯甲醯基苯甲酸酯、α-戊基肟酯、一硫化四甲基秋蘭姆、9-氧硫口山口星類等。
又，較佳為混合光敏劑而使用，作為其具體例，例如可列舉：正丁胺、三乙胺、聚-正丁基膦等。
作為混合於上述電離輻射硬化型樹脂中而使用之溶劑乾燥型樹脂，主要可列舉熱塑性樹脂，作為該熱塑性樹脂，並無特別限定，可使用先前公知者。
藉由添加上述溶劑乾燥型樹脂，可有效地防止塗佈面之塗膜缺陷。根據本發明之較佳之態樣，於透光性基材之材料為三乙酸纖維素等纖維素系樹脂之情形時，作為熱塑性樹脂之較佳之具體例，可列舉纖維素系樹脂，例如：硝化纖維素、乙酸纖維素、乙酸丙酸纖維素、乙基羥乙基纖維素等。
作為上述熱硬化性樹脂，例如可列舉：苯酚樹脂、脲樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂、三聚氰胺-脲共縮聚樹脂、矽樹脂、聚矽氧烷樹脂等。
於使用上述熱硬化性樹脂之情形時，可視需要進而添加交聯劑、聚合起始劑等硬化劑、聚合促進劑、溶劑、黏度調整劑等而使用。
上述硬塗層可藉由如下方式形成：將使用上述各材料製備之硬塗層用組成物塗佈於上述透光性基材上而形成塗膜，視需要將所形成之塗膜乾燥，並藉由電離輻射照射或加熱等而使塗膜硬化。再者，上述硬塗層用組成物之製備方法及塗膜之形成方法等可列舉與上述低折射率層相同之方法。
(其他層)
又，本發明之抗反射膜亦可具有防眩層。
所謂上述防眩層，係藉由內包之防眩劑而於其表面上形成有凹凸形狀之層，且係具有使本發明之抗反射膜之表面上的反射降低之功能者。
作為上述防眩層，並無特別限定，例如可列舉藉由含有樹脂與防眩劑之防眩相用組成物而形成者。
於本發明之抗反射膜中，於將作為防眩劑之微粒子之平均粒徑設為R(μm)，將防眩層之凹凸的十處之平均粗糙度設為Rz(μm)，將防眩層之凹凸平均間隔設為Sm(μm)，將凹凸部分之平均傾斜角設為θa之情形時，上述防眩層較佳為同時滿足所有之下述式者：
30≦Sm≦600
0.05≦Rz≦1.60
0.1≦θa≦2.5
0.3≦R≦15。
又，根據本發明之另一較佳之態樣，上述防眩層較佳為於將防眩劑與樹脂之折射率分別設為n1、n2之情形時，滿足△n=[n1-n2]＜0.1，且防眩層內部之霧度值為55%以下。由表面之凹凸引起之霧度值較佳為10%以下，更佳為3%以下。
作為上述防眩層之膜厚(硬化時)，較佳為0.1～100 μm，更佳之下限為0.8 μm，更佳之上限為10 μm。藉由膜厚於該範圍內，可充分發揮作為防眩層之功能。
作為上述防眩劑，可列舉微粒子。作為其形狀，並無特別限定，為圓球狀、橢圓狀等，但可較佳地使用圓球狀者。
於上述防眩劑為微粒子之情形時，可為由無機材料所構成者，亦可為由有機材料所構成者。又，上述微粒子較佳為發揮防眩性者，較佳為透明性者。
作為由上述無機材料構成之微粒子，具體而言，例如可列舉二氧化矽珠粒等。
又，作為由有機材料構成之微粒子，具體而言，例如可列舉：苯乙烯珠粒(折射率1.59)、三聚氰胺珠粒(折射率1.67)、丙烯酸珠粒(折射率1.49)、丙烯酸-苯乙烯珠粒(折射率1.54)、聚碳酸酯珠粒等塑膠珠粒等。
作為上述防眩層中之上述防眩劑之含量，相對於該防眩層中之樹脂100質量份，較佳為2～30質量份，更佳之下限為3質量份，更佳之上限為15質量份。
作為上述防眩層中之樹脂，並無特別限定，例如可列舉：與於上述硬塗層中進行說明之樹脂相同的作為藉由紫外線或電子束而硬化之樹脂的電離輻射硬化型樹脂、電離輻射硬化型樹脂與溶劑乾燥型樹脂之混合物、或熱硬化型樹脂等。
本發明之抗反射膜亦可為於上述透光性基材上，除具備上述防眩層以外，亦視需要具備其他硬塗層、抗靜電層、防污染層、高折射率層、中折射率層等作為任意之層而成者。上述防污染層、高折射率層、中折射率層可藉由如下方式形成：製備添加有通常所使用之防污染劑、高折射率劑、中折射率劑、低折射率劑或樹脂等之組成物，並藉由公知之方法而形成各自之層。
於本發明之抗反射膜中，尤其可較佳地設置抗靜電層。
作為上述抗靜電層，可採用先前公知者，例如可列舉使黏合樹脂含有抗靜電劑而成者。
作為上述黏合樹脂，可使用於上述硬塗層中進行說明之樹脂。
作為上述抗靜電層所含有之抗靜電劑，並無特別限定，例如可使用四級銨鹽、吡啶鎓鹽、一級～三級胺基等陽離子性化合物；磺酸鹼、硫酸酯鹼、磷酸酯鹼、膦酸鹼等陰離子性化合物；胺基酸系、胺基硫酸酯系等兩性化合物；胺基醇系、甘油系、聚乙二醇系等非離子性化合物；錫及鈦之烷氧化物之類的有機金屬化合物；上述有機金屬化合物之乙醯丙酮鹽之類的金屬螯合化合物等。亦可使用使上述所列舉之化合物高分子量化而成之化合物。又，亦可使用具有三級胺基、四級銨基或金屬螯合部且可藉由電離輻射而聚合之單體或寡聚物或具有官能基之偶合劑之類的有機金屬化合物等聚合性化合物作為抗靜電劑。
作為上述抗靜電劑，亦可使用導電性金屬氧化物微粒子。作為上述導電性金屬氧化物微粒子，例如可列舉：ZnO(折射率1.90，以下，括弧內之值均表示折射率)、Sb2O2(1.71)、SnO2(1.997)、CeO2(1.95)、氧化銦錫(簡稱ITO；1.95)、In2O3(2.00)、Al2O3(1.63)、摻銻氧化錫(簡稱ATO；2.0)、摻鋁氧化鋅(簡稱AZO；2.0)等。
作為上述抗靜電劑，亦可列舉導電性聚合物。作為導電性聚合物，並無特別限定，例如可列舉：芳香族共軛系之聚(對苯乙炔)；雜環式共軛系之聚吡咯、聚噻吩；脂肪族共軛系之聚乙炔；含雜原子共軛系之聚苯胺；混合型共軛系之聚(苯乙炔)；作為於分子中具有複數條共軛鏈之共軛系之多鏈型共軛系；作為使上述共軛高分子鏈與飽和高分子接枝或嵌段共聚合而成之高分子的導電性複合體等。
上述抗靜電劑相對於形成抗靜電層之黏合樹脂100質量份，較佳為0.5～200質量份。更佳之上限為150質量份，更佳之下限1質量份。藉由將添加量調整為上述數值範圍，可保持抗反射膜之透明性，並且可賦予抗靜電性能，因此較佳。
上述抗靜電層之厚度較佳為0.01～20 μm，更佳為上限為10 μm，下限為0.05 μm。
此種抗靜電層可藉由使用上述黏合樹脂與抗靜電劑之先前公知之方法而形成。
本發明之抗反射膜之總透光率較佳為90%以上。若未達90%，則有於裝著於顯示器表面上之情形時，損害顏色再現性或視認性之虞。上述總透光率更佳為95%以上，進而較佳為98%以上。
本發明之抗反射膜之霧度較佳為未達1%，更佳為未達0.5%。
上述構成之本發明之抗反射膜可藉由利用上述方法於上述透光性基材上形成硬塗層，並使用上述低折射率層用塗佈液於所形成之該硬塗層上形成低折射率層而製造。
又，此種本發明之抗反射膜之製造方法亦為本發明之一。
即，本發明之抗反射膜之製造方法係用於製造於透光性基材上具有硬塗層與低折射率層之抗反射膜，其特徵在於：具有於形成於上述透光性基材上之上述硬塗層上塗佈含有(甲基)丙烯酸系單體、中空狀二氧化矽微粒子、反應性二氧化矽微粒子、兩種防污劑及溶劑的低折射率層用塗佈液，並使所形成之塗膜乾燥、硬化而形成上述低折射率層的步驟，且上述中空狀二氧化矽微粒子係平均粒徑為40～80 nm，相對於上述(甲基)丙烯酸系單體之摻合比(中空狀二氧化矽微粒子之含量/(甲基)丙烯酸系單體之含量)為0.9～1.4，上述反應性二氧化矽之含量相對於上述(甲基)丙烯酸系單體100質量份，為5～60質量份，上述防污劑含有由氟系化合物構成之防污劑與由氟-聚矽氧系化合物構成之防污劑，且上述溶劑係含有甲基異丁酮與丙二醇單甲醚之混合溶劑。
作為構成上述低折射率層用塗佈液之各材料、其製備方法、以及硬塗層及低折射率層之形成方法，係如於上述低折射率層及硬塗層中所說明般。
本發明之抗反射膜可藉由於偏光元件之表面上，將本發明之抗反射膜設置於與該抗反射膜之存在低折射率層的面相反之面上而製成偏光板。此種偏光板亦為本發明之一。
作為上述偏光元件，並無特別限定，例如可列舉藉由碘等進行染色且經延伸之聚乙烯醇膜、聚乙烯甲醛膜、聚乙烯縮醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。
於上述偏光元件與本發明之抗反射膜之層壓處理中，較佳為對透光性基材(較佳為三乙酸纖維素膜)進行皂化處理。藉由皂化處理，可使接著性變良好，且亦可獲得抗靜電效果。
本發明亦為於最表面上具備上述抗反射膜或上述偏光板而成之影像顯示裝置。上述影像顯示裝置可為LCD等非自發光型影像顯示裝置，亦可為PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT等自發光型影像顯示裝置。
作為上述非自發光型之代表性之例的LCD係具備穿透性顯示體與自背面照射該穿透性顯示體之光源裝置而成者。於本發明之影像顯示裝置為LCD之情形時，係於該穿透性顯示體之表面上形成本發明之抗反射膜或本發明之偏光板而成者。
於本發明為具有上述抗反射膜之液晶顯示裝置之情形時，光源裝置之光源係自光學積層體之下側進行照射。再者，於STN型液晶顯示裝置中，亦可於液晶顯示元件與偏光板之間插入相位差板。於該液晶顯示裝置之各層間，亦可視需要設置接著劑層。
作為上述自發光型影像顯示裝置之PDP係具備表面玻璃基板(於表面上形成電極)、以及與該表面玻璃基板相對向並於中間填充有放電氣體而加以配置之背面玻璃基板(於表面上形成電極及微小之溝，於溝內形成紅、綠、藍之螢光體層)而成者。於本發明之影像顯示裝置為PDP之情形時，亦為於上述表面玻璃基板之表面或其前面板(玻璃基板或膜基板)上具備上述抗反射膜者。
上述自發光型影像顯示裝置亦可為將於施加電壓時發光之硫化鋅、二胺類物質等發光體蒸鍍於玻璃基板上並控制施加於基板上之電壓而進行顯示之ELD裝置；或將電訊號轉換為光而產生人之眼睛可見之影像的CRT等影像顯示裝置。於該情形時，係於如上述之各顯示裝置之最表面或其前面板的表面上具備上述抗反射膜者。
本發明之影像顯示裝置於任一情形時均可用於電視、電腦、文字處理器等顯示器之顯示。特別是可較佳地用於CRT、液晶面板、PDP、ELD、FED等高精細影像用顯示器之表面上。
[發明之效果]
本發明之抗反射膜具有上述構成，因此成為具有充分之表面硬度與滑動性，具備低折射率層之折射率足夠低之低折射率層，具有優異之抗反射性能，且指紋擦拭性或防標記性等防污性能亦優異者。因此，本發明之抗反射膜可較佳地用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電激發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)等。
藉由下述實施例對本發明之內容進行說明，但本發明之內容並不限定於該等實施態樣。只要無特別說明，則「份」及「%」為質量標準。
(實施例1)
於三乙酸纖維素膜(厚度80 μm)之單面上，以潤濕重量30 g/m2(乾燥重量15 g/m2)塗佈下述組成之硬塗層用組成物而形成塗膜。繼而，於50℃下對所形成之塗膜進行30秒之乾燥，並以50 mJ/cm2照射紫外線而形成硬塗層。
(硬塗層用組成物)
丙烯酸胺基甲酸酯
(BS371，荒川化學公司製造，固形份70%)4.0質量份
(UV1700B，日本合成公司製造，固形份70%)12.0質量份
聚合起始劑(Irgacure184；Ciba Specialty Chemicals公司製造)0.6質量份
甲基乙基酮5.6質量份
調平劑(DEFENSA MCF350-5，DIC公司製造，固形份5%)0.2質量份
繼而，於所形成之硬塗層上，以乾燥(25℃×1分鐘-50℃×1分鐘)後之膜厚成為0.1 μm之方式塗佈下述組成之低折射率層用塗佈液。並且，使用紫外線照射裝置(Fusion UV Systems japan公司製造，光源H閥門)，以照射線量192 mJ/m2進行紫外線照射而使其硬化，形成低折射率層，從而獲得抗反射膜。低折射率層之膜厚之調整係以反射率之極小值成為波長550 nm附近之方式進行。
(低折射率層用塗佈液)
新戊四醇三丙烯酸酯(PETA，pentaerythritol triacrylate)100.0質量份
中空狀二氧化矽微粒子(sururia4320，固形份20%，觸媒化學公司製造，平均粒徑60 nm)600.0質量份
反應性二氧化矽微粒子(MIBK-SD，固形份30%，日產化學公司製造，平均粒徑10 nm)133.3質量份
氟系化合物(RS-74，固形份20%，DIC公司製造)60.0質量份
氟-聚矽氧系化合物(TU2225，固形份15%，JSR公司製造)32.8質量份
光聚合起始劑(Irgacure127，Ciba Specialty Chemicals公司製造)7.0質量份
甲基異丁酮6168.6質量份
丙二醇單甲醚2870.8質量份
(實施例2)
使用二新戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)代替低折射率層用塗佈液中之PETA，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(實施例3)
將低折射率層用塗佈液中之中空狀二氧化矽微粒子之摻合量設為500.0質量份，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(實施例4)
將低折射率層用塗佈液中之中空狀二氧化矽微粒子之摻合量設為675.0質量份，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(實施例5)
將低折射率層用塗佈液中之反應性二氧化矽微粒子之摻合量設為33.3質量份，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(實施例6)
將低折射率層用塗佈液中之反應性二氧化矽微粒子之摻合量設為183.3質量份，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(實施例7)
使用平均粒徑為40 nm者作為低折射率層用塗佈液中之中空狀二氧化矽微粒子，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(實施例8)
使用平均粒徑為80 nm者作為低折射率層用塗佈液中之中空狀二氧化矽微粒子，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(比較例1)
使用平均粒徑為30 nm者作為低折射率層用塗佈液中之中空狀二氧化矽微粒子，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(比較例2)
使用平均粒徑為90 nm者作為低折射率層用塗佈液中之中空狀二氧化矽微粒子，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(比較例3)
將低折射率層用塗佈液中之中空狀二氧化矽微粒子之摻合量設為400.0質量份，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(比較例4)
將低折射率層用塗佈液中之反應性二氧化矽微粒子之摻合量設為233.3質量份，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(比較例5)
於低折射率層用塗佈液中不添加反應性二氧化矽微粒子，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(比較例6)
於低折射率層用塗佈液中不添加氟系化合物，並將氟-聚矽氧系化合物之摻合量設為6.0質量份，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(比較例7)
將低折射率層用塗佈液中之氟系化合物之摻合量設為6.0質量份，並不添加氟-聚矽氧系化合物，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(比較例8)
使用氟樹脂(LINC-3A-MI20，共榮社化學公司製造)代替低折射率層用塗佈液中之PETA，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(比較例9)
使用於表面上不具有反應性官能基之二氧化矽微粒子(MEK-ST，日產化學工業公司製造)代替低折射率層用塗佈液中之反應性二氧化矽微粒子，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(比較例10)
將低折射率層用塗佈液中之中空狀二氧化矽微粒子之摻合量設為800.0質量份，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(比較例11)
將低折射率層用塗佈液中之反應性二氧化矽微粒子之摻合量設為9.99質量份，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(參考例1)
使用平均粒徑為40 nm者(MIBK-SDL，日產化學工業公司製造)作為低折射率層用塗佈液中之反應性二氧化矽微粒子，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
(參考例2)
使用正丁醇代替低折射率層用塗佈液中之丙二醇單甲醚，除此以外以與實施例1相同之方式獲得抗反射膜。
對實施例、比較例及參考例中所獲得之抗反射膜進行以下之評價。將結果示於表1。
(反射Y值)
黏貼用以防止所獲得之各抗反射膜之背面反射的黑色膠帶，自低折射率層之面使用島津製作所公司製造之分光反射率測定氣「MPC3100」，於自380至780 nm之波長範圍內測定5°正規反射率，其後將利用換算人眼所感覺到之亮度的軟件(內置MPC3100)所算出之表示視感反射率之值作為反射Y值而求出，並根據下述標準進行評價。
◎：未達1.0%
○：1.0～1.5%
×：超過1.5%
(防污性)
使指紋附著於所獲得之各抗反射膜之表面上後，使用NIPPON PAPER CRECIA製造之Kimwipe(註冊商標)來回擦拭指紋30次，用眼睛觀察並根據下述標準對擦拭性(指紋殘留情況)進行評價。
◎：來回10次以下而完全擦除
○：來回30次以下而完全擦除
×：來回30次以下而未擦除
(耐磨性)
對於所獲得之各抗反射膜之低折射率層的表面，使用＃0000號鋼絲絨，於500 g/cm2及300 g/cm2之各摩擦負載下分別來回摩擦10次，其後，用眼睛觀察有無塗膜之剝離，並根據下述標準對結果進行評價。
◎：於500 g/cm2之摩擦負載下無損傷
○：於500 g/cm2之摩擦負載下有損傷，但於300 g/cm2之摩擦負載下無損傷
×：於300 g/cm2之摩擦負載下有損傷
(凝聚缺陷)
於所獲得之各抗反射膜之未形成低折射率層之側的膜表面上黏貼黑色PET，自形成低折射率層之面，利用三波長燈以目視觀察塗佈面，確認有無中空狀二氧化矽微粒子與反應性二氧化矽微粒子之凝聚，並根據下述標準對結果進行評價。
根據下述標準對結果進行評價。
○：無凝聚缺陷
×：有凝聚缺陷
(外觀，變白)
於所獲得之各抗反射膜之未形成低折射率層之側的膜表面上黏貼黑色PET，自形成低折射率層之面，利用三波長燈以目視觀察塗佈面，並且，根據下述標準對結果進行評價。
根據下述標準對結果進行評價。
○：無變白、色斑，且均勻
×：變白、色斑同時產生，或產生任一者
如表1所示般，實施例之抗反射膜顯示反射Y值、防污性、耐磨性、凝聚缺陷、外觀、變白之任一者之評價均優異之結果。
另一方面，中空狀二氧化矽微粒子之平均粒徑為30 nm之比較例1之抗反射膜係抗反射性能較差者，且中空狀二氧化矽微粒子之平均粒徑為90 nm之比較例2之抗反射膜係耐磨性較差者。
又，中空狀二氧化矽微粒子相對於(甲基)丙烯酸系樹脂之摻合比為0.80之比較例3的抗反射膜，及反應性二氧化矽微粒子相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份為70質量份之比較例4的抗反射膜係抗反射性能較差者。
又，不含有反應性二氧化矽微粒子之比較例5之抗反射膜係耐磨性較差者。
又，不含有作為防污劑之氟系化合物之比較例6之抗反射膜係防污性能較差者，且不含有作為防污劑之氟-聚矽氧系化合物之比較例7之抗反射膜係耐磨性、凝聚缺陷、外觀、變白之評價較差者。
又，使用氟樹脂代替甲基丙烯酸系樹脂之比較例8之抗反射膜係耐磨性較差者。
又，使用有不具有反應性官能基之二氧化矽微粒子之比較例9的抗反射膜係防污性能及耐磨性較差者。
又，中空狀二氧化矽微粒子相對於(甲基)丙烯酸系樹脂之摻合比為1.60之比較例10的抗反射膜係防污性能及耐磨性較差，並且缺陷之評價亦較差者。
又，反應性二氧化矽微粒子之平均粒徑為40 nm之參考例1之抗反射膜係耐磨性較差者，且使用正丁醇作為低折射率層用塗佈液中之溶劑之參考例2的抗反射膜係外觀、變白之評價較差者。
產業上之可利用性
本發明之抗反射膜係具有由上述之構成構成之低折射率層，因此成為具有充分之表面硬度與滑動性，具備低折射率層之折射率足夠低之低折射率層，具有優異之抗反射性能，且指紋擦拭性或防標記性等防污性能亦優異者。因此，本發明之抗反射膜可較佳地用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電激發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)等。

Claims (9)

  1. 一種抗反射膜，係於透光性基材上具有硬塗層與低折射率層，其特徵在於：該低折射率層含有(甲基)丙烯酸樹脂、中空狀二氧化矽微粒子、反應性二氧化矽微粒子及兩種防污劑，其中，該中空狀二氧化矽微粒子之平均粒徑為40~80nm，相對於該(甲基)丙烯酸樹脂之摻合比(中空狀二氧化矽微粒子之含量(質量份)/(甲基)丙烯酸樹脂之含量(質量份))為0.9~1.4，該反應性二氧化矽之含量相對於該(甲基)丙烯酸樹脂100質量份，為5~60質量份，該防污劑含有由氟系化合物構成之防污劑與由氟-聚矽氧系化合物構成之防污劑。
  2. 如申請專利範圍第1項之抗反射膜，其中，中空狀二氧化矽微粒子之平均粒徑為45~70nm。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項之抗反射膜，其中，反應性二氧化矽微粒子具有紫外線硬化型官能基，且平均粒徑為1~25nm。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項之抗反射膜，其中，於中空狀二氧化矽微粒子相對於(甲基)丙烯酸樹脂之摻合比(中空狀二氧化矽微粒子之含量(質量份)/(甲基)丙烯酸樹脂之含量(質量份))為0.9~1.1時，反應性二氧化矽微粒子之含量相對於該(甲基)丙烯酸樹脂100質量份，為5~40質量份， 於該中空狀二氧化矽微粒子相對於(甲基)丙烯酸樹脂之摻合比為1.1~1.4之情形時，該反應性二氧化矽微粒子之含量相對於該(甲基)丙烯酸樹脂100質量份，為40~60質量份。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項之抗反射膜，其中，(甲基)丙烯酸樹脂為選自由新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇(甲基)四丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、及經異三聚氰酸EO改質之三(甲基)丙烯酸酯組成之群中的至少1種單體之聚合物或共聚物。
  6. 一種抗反射膜之製造方法，係用以製造透光性基材上具有硬塗層與低折射率層之抗反射膜，其特徵在於：具有將含有(甲基)丙烯酸單體、中空狀二氧化矽微粒子、反應性二氧化矽微粒子、兩種防污劑及溶劑的低折射率層用塗佈液塗佈在形成於該透光性基材上之該硬塗層上，並使所形成之塗膜乾燥、硬化而形成該低折射率層的步驟，其中，該中空狀二氧化矽微粒子之平均粒徑為40~80nm，相對於該(甲基)丙烯酸單體之摻合比(中空狀二氧化矽微粒子之含量(質量份)/(甲基)丙烯酸單體之含量(質量份))為0.9~1.4，該反應性二氧化矽之含量相對於該(甲基)丙烯酸單體100質量份，為5~60質量份， 該防污劑含有由氟系化合物構成之防污劑與由氟-聚矽氧系化合物構成之防污劑，該溶劑為含有甲基異丁酮與丙二醇單甲醚之混合溶劑。
  7. 如申請專利範圍第6項之抗反射膜之製造方法，其中，甲基異丁酮與丙二醇單甲醚之摻合比(甲基異丁酮(質量份)/丙二醇單甲醚(質量份))為95/5~30/70。
  8. 一種偏光板，係具備偏光元件而成，其特徵在於：該偏光板於偏光元件表面具備申請專利範圍第1項、第2項、第3項、第4項或第5項之抗反射膜。
  9. 一種影像顯示裝置，於最表面具備申請專利範圍第1項、第2項、第3項、第4項或第5項之抗反射膜，或申請專利範圍第8項之偏光板。
TW101101664A 2011-01-14 2012-01-16 Anti-reflection film, anti-reflection film manufacturing method, polarizing plate and image display device TWI515271B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011006379 2011-01-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201229154A TW201229154A (en) 2012-07-16
TWI515271B true TWI515271B (zh) 2016-01-01

Family

ID=46507282

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101101664A TWI515271B (zh) 2011-01-14 2012-01-16 Anti-reflection film, anti-reflection film manufacturing method, polarizing plate and image display device

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9046645B2 (zh)
JP (1) JP6070195B2 (zh)
KR (1) KR101870473B1 (zh)
CN (1) CN103299217B (zh)
TW (1) TWI515271B (zh)
WO (1) WO2012096400A1 (zh)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI730615B (zh) * 2019-03-29 2021-06-11 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司 光學層疊物
TWI730614B (zh) * 2019-03-29 2021-06-11 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司 光學層疊物
TWI730612B (zh) * 2019-03-29 2021-06-11 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司 光學層疊物
TWI739293B (zh) * 2019-03-29 2021-09-11 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司 光學層疊物
TWI740365B (zh) * 2019-03-29 2021-09-21 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司 光學層疊物
US12019256B2 (en) 2019-03-29 2024-06-25 Lg Chem, Ltd. Optical laminate

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2592119B1 (en) * 2010-07-08 2016-04-13 LG Chem, Ltd. Antireflection film and method for manufacturing same
JP6062680B2 (ja) * 2012-08-01 2017-01-18 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 防汚性ハードコートおよび防汚性ハードコート前駆体
JP2014085383A (ja) * 2012-10-19 2014-05-12 Cheil Industries Inc 樹脂膜及び樹脂膜の製造方法
JP2015108733A (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 樹脂膜及び樹脂膜の製造方法
KR102114141B1 (ko) 2013-12-24 2020-05-22 엘지디스플레이 주식회사 하드 코팅 필름 및 이를 이용하는 표시 장치
JP6689564B2 (ja) * 2014-05-30 2020-04-28 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置
CN106336725A (zh) * 2015-07-16 2017-01-18 上海箩箕技术有限公司 油墨、成像模组及其上色方法
JP6723705B2 (ja) * 2015-08-31 2020-07-15 キヤノン株式会社 光学部材および撮像機器
KR102018287B1 (ko) 2015-09-11 2019-09-05 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 디스플레이 장치
WO2017043948A1 (ko) * 2015-09-11 2017-03-16 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 디스플레이 장치
KR102017789B1 (ko) * 2015-12-03 2019-09-03 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
KR102077797B1 (ko) * 2016-02-19 2020-02-14 주식회사 엘지화학 저굴절층 형성용 광경화성 코팅 조성물
WO2017155337A1 (ko) * 2016-03-09 2017-09-14 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
CN109298470B (zh) 2016-03-09 2021-02-02 株式会社Lg化学 抗反射膜
CN107203737A (zh) * 2016-03-17 2017-09-26 台瀚科技股份有限公司 具有光学膜的薄型化指纹辨识装置
KR101965624B1 (ko) 2016-05-04 2019-04-04 (주)삼중 아크릴레이트계 코팅제의 첨가물, 광경화형 코팅 조성물, 및 그 제조방법
CN107632330B (zh) * 2016-07-14 2019-11-01 株式会社Lg化学 防反射膜
KR101977933B1 (ko) * 2016-09-27 2019-08-28 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
KR101977934B1 (ko) * 2016-10-20 2019-08-28 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
KR102040223B1 (ko) * 2017-01-20 2019-11-04 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
TWI764944B (zh) * 2016-10-07 2022-05-21 日商日塗汽車塗料股份有限公司 光學積層構件及光學積層構件之製造方法
JP2018075783A (ja) * 2016-11-10 2018-05-17 東レ株式会社 積層体
KR102361621B1 (ko) * 2017-04-28 2022-02-09 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
KR101991928B1 (ko) * 2017-04-28 2019-06-21 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
US11787970B2 (en) * 2017-12-08 2023-10-17 3M Innovative Properties Company Flexible hardcoat
JP7299631B2 (ja) * 2018-12-26 2023-06-28 東山フイルム株式会社 反射防止フィルムおよびその製造方法
US20220091303A1 (en) * 2019-01-10 2022-03-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Antireflective member, and polarizing plate, image display device and antireflective article each equipped with same
JP7415233B2 (ja) * 2019-03-29 2024-01-17 エルジー・ケム・リミテッド 光学積層体
US20220146732A1 (en) * 2019-03-29 2022-05-12 Lg Chem, Ltd. Optical laminate
TWI828895B (zh) * 2019-03-29 2024-01-11 日商大日本印刷股份有限公司 轉印片及其製造方法、使用該轉印片之成形體之製造方法與成形體、以及使用該成形體之前面板與影像顯示裝置
CN113631365A (zh) * 2019-03-29 2021-11-09 株式会社Lg化学 光学层合体
KR102416810B1 (ko) * 2019-03-29 2022-07-06 주식회사 엘지화학 내적화층
WO2020204333A1 (ko) * 2019-03-29 2020-10-08 주식회사 엘지화학 내적화층
JP2019148805A (ja) * 2019-04-08 2019-09-05 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置
EP4006592A4 (en) * 2019-07-30 2022-10-05 Higashiyama Film Co., Ltd. ANTI-REFLECTIVE FILM
CN115373168A (zh) * 2021-05-20 2022-11-22 赣州市宝明显示科技有限公司 一种带有低反射率导电膜的液晶面板及其制备方法
WO2023158442A1 (en) * 2022-02-21 2023-08-24 Applied Materials, Inc. Anti-reflective multilayer film and method for manufacturing an anti-reflective multilayer film

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0700975B1 (en) 1993-12-28 2001-09-05 Daikin Industries, Ltd. Coating composition and coated article
JP2001100004A (ja) 1999-09-29 2001-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd 防眩性反射防止フィルムおよび画像表示装置
JP2003292831A (ja) 2002-04-02 2003-10-15 Toppan Printing Co Ltd 低屈折率コーティング剤及び反射防止フィルム
DE60333373D1 (de) 2002-08-15 2010-08-26 Fujifilm Corp Antireflexfilm, polarisationsplatte und bildanzeigeeinrichtung
JP2004264327A (ja) 2003-01-22 2004-09-24 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置
JP2005181543A (ja) * 2003-12-17 2005-07-07 Bridgestone Corp 反射防止フィルム
TWI388876B (zh) * 2003-12-26 2013-03-11 Fujifilm Corp 抗反射膜、偏光板，其製造方法，液晶顯示元件，液晶顯示裝置，及影像顯示裝置
US20050208230A1 (en) 2004-03-16 2005-09-22 Fuji Photo Film, Co., Ltd. Antireflection film, production process of the same, polarizing plate and image displaying apparatus
JP4900892B2 (ja) 2004-05-31 2012-03-21 富士フイルム株式会社 光学フィルムの作製方法
US8241740B2 (en) * 2005-03-07 2012-08-14 Fujifilm Corporation Antireflective film, method of manufacturing antireflective film, polarizing plate and image display device using the same
US7505104B2 (en) * 2005-09-16 2009-03-17 Fujifilm Corporation Antiglare antireflective film, polarizing plate and liquid crystal display
CN101479031B (zh) * 2006-06-30 2012-11-14 王子制纸株式会社 单粒子膜蚀刻掩模及其制造方法、使用该单粒子膜蚀刻掩模的微细结构体的制造方法及通过该制造方法得到的微细结构体
JP4338210B2 (ja) * 2006-08-31 2009-10-07 キヤノン株式会社 画像管理装置及び画像管理方法、プログラム
WO2008136346A1 (ja) * 2007-04-26 2008-11-13 Zeon Corporation 表示画面用保護フィルムおよび偏光板
JP5217744B2 (ja) * 2007-08-02 2013-06-19 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法
JP2010152311A (ja) 2008-07-22 2010-07-08 Fujifilm Corp 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP5531509B2 (ja) * 2008-09-05 2014-06-25 大日本印刷株式会社 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP5262609B2 (ja) 2008-11-17 2013-08-14 大日本印刷株式会社 光学シートの製造方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI730615B (zh) * 2019-03-29 2021-06-11 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司 光學層疊物
TWI730614B (zh) * 2019-03-29 2021-06-11 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司 光學層疊物
TWI730612B (zh) * 2019-03-29 2021-06-11 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司 光學層疊物
TWI739293B (zh) * 2019-03-29 2021-09-11 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司 光學層疊物
TWI740365B (zh) * 2019-03-29 2021-09-21 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司 光學層疊物
US12019256B2 (en) 2019-03-29 2024-06-25 Lg Chem, Ltd. Optical laminate

Also Published As

Publication number Publication date
KR20140006876A (ko) 2014-01-16
WO2012096400A1 (ja) 2012-07-19
US9046645B2 (en) 2015-06-02
TW201229154A (en) 2012-07-16
JP6070195B2 (ja) 2017-02-01
JPWO2012096400A1 (ja) 2014-06-09
CN103299217A (zh) 2013-09-11
CN103299217B (zh) 2016-01-20
KR101870473B1 (ko) 2018-06-22
US20130329297A1 (en) 2013-12-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI515271B (zh) Anti-reflection film, anti-reflection film manufacturing method, polarizing plate and image display device
TWI416158B (zh) Optical laminated body and optical laminate
JP5531509B2 (ja) 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
TWI522642B (zh) 光學薄膜、偏光板、顯示面板及顯示器
JP6011527B2 (ja) 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置
KR101418946B1 (ko) 방현성 광학 적층체
JP5359137B2 (ja) 光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置
TWI418463B (zh) An optical laminate, a polarizing plate, and an image display device
US8431219B2 (en) Optical layered body including an antiglare layer containing organic particles and nonspherical silica particles
TWI443365B (zh) 光學薄膜之製造方法，光學薄膜，偏光板及顯示器
TWI448718B (zh) An optical laminate, a polarizing plate, and an image display device
JP4853813B2 (ja) 反射防止積層体
US8715784B2 (en) Method of producing optical layered body, optical layered body, polarizer and image display device
JP4985049B2 (ja) 光学積層体
JP6056144B2 (ja) 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP2007322877A (ja) 光学積層体
JP2010078698A (ja) 防眩性反射防止フィルム及びそれを備える画像表示装置
TWI383894B (zh) 光學層合體
JP5096069B2 (ja) 光学積層体、偏光板、及び、画像表示装置