TWI418463B - An optical laminate, a polarizing plate, and an image display device - Google Patents

An optical laminate, a polarizing plate, and an image display device Download PDF

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TWI418463B
TWI418463B TW096119875A TW96119875A TWI418463B TW I418463 B TWI418463 B TW I418463B TW 096119875 A TW096119875 A TW 096119875A TW 96119875 A TW96119875 A TW 96119875A TW I418463 B TWI418463 B TW I418463B
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Description

光學積層體、偏光板、以及影像顯示裝置
本發明係關於光學積層體、偏光板、以及影像顯示裝置。
像陰極線管顯示裝置(CRT)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、液晶顯示器(LCD)這類的影像顯示裝置係使用玻璃、塑膠等板狀的透明材料。此等透明材料由於靜電所造成的灰塵附著、髒污附著、或者擦傷、刮傷等而有透明性容易損壞的問題。
因此，有人於透明材料上形成硬塗層、或者為了賦予所要的功能(例如，抗靜電性、防污性、抗反射性等)而進一步於硬塗層上形成其他的層(專利文獻1~3)。
例如，專利文獻1提供了一種藉由於硬塗層中添加抗靜電劑來賦予抗靜電性之方法；專利文獻2及3提供了1)於基材與硬塗層之間、或2)硬塗層與低折射率層之間，設有抗靜電層來賦予抗靜電性之方法等。
然而，專利文獻1的方法，通常硬塗層為了達到既定強度必須要作成比其他的層來的厚，又為了發揮抗靜性能而必須高密度地添加抗靜電劑，因而需要大量高價的抗靜電劑，經濟上非常不利。
另一方面，專利文獻2及3的方法，為了賦予抗靜電性能必須有再設置一層之步驟，而容易變成繁雜的製程。又，因為於抗靜電層上積層其他的層，故抗靜電性能實質上會比抗靜電層本身所具有的性能來的惡化。
因此，本發明係希望提供一種以低成本且簡便的方法所獲得之具有抗靜電性能的光學積層體。
專利文獻1：日本專利特開2004－345228號公報專利文獻2：日本專利特開2004－94007號公報專利文獻3：日本專利特開2006－18233號公報
本發明之主要目的係提供一種光學積層體，其可使成為高成本原因之抗靜電性的添加量減少，簡便且低成本、賦予高抗靜電性。
本發明人等有鑑於上述習知技術，重覆努力研究的結果發現藉由採用具有特定層構成之光學積層體，可達成上述目的而完成本發明。
本發明係關於一種光學積層體，係於透光性基材上，至少形成硬塗層以及低折射率層所成者；其特徵在於：1)該低折射率層係形成於最表面；2)該低折射率層係含有抗靜電劑。
該光學積層體中，低折射率層中之抗靜電劑的含量為0.1~50質量%較佳。
該抗靜電劑係實質上無色透明者較佳。
該光學積層體係於1)硬塗層與透光性基材之間、或2)硬塗層與低折射率層之間，設有防眩層較佳。
該光學積層體係作為抗反射用積層體使用較佳。
本發明係一種主動式發光型影像顯示裝置；其特徵在於，於最表面具備該光學積層體。
本發明係一種偏光板，係具備偏光元件而成者；其特徵在於，於該偏光元件的表面具備該光學積層體。
本發明亦為一種非主動式發光型影像顯示裝置；其特徵在於，於最表面具備該光學積層體，或該偏光板。
以下詳細說明本發明。藉由該等特徵，本發明之光學積層體兼具抗靜電性及抗反射性且低成本。
本發明之光學積層體可適用於做為抗反射積層體(包含作為防眩性積層體利用)。又，本發明之光學積層體係利用於穿透型顯示裝置。特別是用於電視、電腦、文書處理機等之顯示器。尤其是可較佳地用於CRT、LCD、PDP、ELD、FED等顯示器的表面。
本發明之光學積層體，係於透光性基材上，至少形成有硬塗層以及低折射率層；其特徵在於：1)該低折射率層係形成於最表面；2)該低折射率層係含有抗靜電劑。
亦即，因不需要設置新的層而可以簡便之製程來獲得。又，因於最表面賦予抗靜電性能而可發揮充分高的抗靜電性。
以下具體說明本發明中使用之基材、組成物。又，本發明中未特別記載時，單體、寡聚物、預聚物等硬化性樹脂前驅物係記載為”樹脂”。
透光性基材
透光性基材較佳係具備平滑性、耐熱性，機械強度優異者。形成透光性基材之材料之具體例可舉出：聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯)、三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚磺、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇縮醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或聚胺基甲酸酯等熱可塑性樹脂，較佳可列舉聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯)、三乙酸纖維素。
上述透光性基材宜將上述熱可塑性樹脂作成富有柔軟性之膜狀體而使用，但因應所要求硬化性之使用態樣，亦可使用該等熱可塑性樹脂之板，或使用玻璃板之板狀體。
此外，作為上述透光性基材，可列舉具有脂環構造之非晶質烯烴聚合物(Cyclo－Olefin－Polymer；COP)膜。此係使用降冰片烯系聚合物、單環之環狀烯烴系聚合物、環狀共軛二烯系聚合物、乙烯脂環式烴系聚合物等之基材，例如日本ZEON(股)製之ZEONEX或ZEONOR(降冰片烯系樹脂)、住友電木(股)製之Sumilight FS－1700、JSR(股)製之ARTON(改質降冰片烯系樹脂)、三井化學(股)製之APEL(環狀烯烴共聚物)、Ticona公司製之Topas(環狀烯烴共聚物)、日立化成(股)製之澳普特雷茲OZ－1000系列(脂環式丙烯酸樹脂)等。
又，作為三乙酸纖維素之替代基材，旭化成化學(股)製之FV系列(低雙折射率、低光彈性係數膜)亦為佳。
透光性基材之厚度以20μm以上、300μm以下為佳，較佳為上限200μm、下限30μm。於透光性基材為板狀體之情形，亦可為超過該等厚度之厚度300μm以上、5000μm以下。於基材上形成硬塗層、抗靜電層等時，為了提升接著性，亦可對基材預先進行電暈放電處理、氧化處理等物理性處理、錨固劑(anchor agent)或稱為底漆之塗料的塗佈。
硬塗層
本發明中之所謂「硬塗層」係指於JIS K5600－5－4(1999)所規定之鉛筆硬度試驗中顯示「H」以上之硬度者。
硬塗層之厚度可視所要的特性適當地設定，通常為0.1~100μm，特別是形成為0.8~20μm較佳。上述厚度係以電子顯微鏡(SEM、TEM、STEM)觀察截面所測定之值。
硬塗層只要具有透明性即可，並無特別限制，但由樹脂所構成較佳。上述樹脂並無特別限定，例如可舉出以下三種：經紫外線或電子束硬化之樹脂的電離放射線硬化樹脂、電離放射線硬化型樹脂與溶劑乾燥型樹脂(僅需將塗佈時用以調整固體成分而添加之溶劑乾燥即可成為被膜之樹脂)之混合物、或熱硬化型樹脂，較佳為電離放射線硬化型樹脂。又，依本發明之較佳態樣，可使用至少含有電離放射線硬化型樹脂與熱硬化型樹脂之樹脂。
上述電離放射線硬化型樹脂，可舉出多官能(甲基)丙烯酸酯。
多官能(甲基)丙烯酸酯可舉出例如：2官能(甲基)丙烯酸酯為三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3－丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4－丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、1,6－己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9－壬烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10－癸烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯單硬脂酸酯、異三聚氰酸乙氧基改質二(甲基)丙烯酸酯(異三聚氰酸EO改質二(甲基)丙烯酸酯)、2官能胺酯丙烯酸酯、2官能聚酯丙烯酸酯等。3官能(甲基)丙烯酸酯可舉出：季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷EO改質三(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸EO改質三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化甘油三(甲基)丙烯酸酯、3官能聚酯丙烯酸酯等。4官能(甲基)丙烯酸酯可舉出：季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等。5官能以上之(甲基)丙烯酸酯可舉出：二季戊四醇羥基五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯。
特別是從作成具有高硬度之光學積層體方面看來，較佳係3官能以上者。3官能以上之(甲基)丙烯酸酯樹脂可使用市售品，具體而言可舉出：日本化藥社製之KAYARAD、KAYAMER系列(例如：DPHA、PET30、GPO303、TMPTA、THE330、TPA330、D310、D330、PM2、PM21、DPCA20、DPCA30、DPCA60、DPCA120)；東亞合成公司製之亞隆尼克斯系列(例如：M305、M309、M310、M315、M320、M327、M350、M360、M402、M408、M450、M7100、M7300K、M8030、M8060、M8100、M8530、M8560、M9050)；新中村化學公司製之NK酯系列(例如：TMPT、A－TMPT、A－TMM－3、A－TMM3L、A－TMMT、A－TMPT－6EO、A－TMPT－3CL、A－GLY－3E、A－GLY－6E、A－GLY－9E、A－GLY－11E、A－GLY－18E、A－GLY－20E、A－9300、AD－TMP－4CL、AD－TMP)；新中村化學公司製之NK耶可諾馬系列(例如：ADP51、ADP33、ADP42、ADP26、ADP15)；第一工業製藥公司製之紐福隆替亞系列(例如：TMPT、TMP3、TMP15、TMP2P、PET3、TEICA)；DIACEL優士比公司製之Ebecryl系列(例如：TMPTA、TMPTAN、160、TMPEOTA、OTA480、53、PETIA、2047、40、140、1140、PETAK、DPHA)；莎瑪公司製之CD501、CD9021、CD9052、SR351、SR351HP、SR351LV、SR368、SR368D、SR415、SR444、SR454、SR454HP、SR492、SR499、SR502、SR9008、SR9012、SR9020、SR9020HP、SR9035、CD9051、SE350、SR9009、SE9011、SR295、SR355、SR399、SR399LV、SR494、SR9041等。
電離放射線硬化型樹脂亦可舉出多官能胺酯(甲基)丙烯酸酯。
多官能胺酯(甲基)丙烯酸酯可使用2官能以上者，較佳可使用4官能以上者。具有胺酯(甲基)丙烯酸酯系官能基者可使用市售品，可舉出例如：日本合成公司製之紫外光系列(例如：UV1700B、UV6300B、UV765B、UV7640B、UV7600B)；根上工業公司製之亞多雷晴系列(例如：亞多雷晴HDP、亞多雷晴UN9000H、亞多雷晴UN3320HA、亞多雷晴UN3320HB、亞多雷晴UN3320HC、亞多雷晴UN3320HS、亞多雷晴UN901M、亞多雷晴UN902MS、亞多雷晴UN903)；新中村化學公司製之UA100H、U4H、U4HA、U6H、U6HA、U15HA、UA32P、U6LPA、U324A、U9HAMI；DIACEL優士比公司製之Ebecryl系列(例如：1290、5129、254、264、265、1259、1264、4866、9260、8210、204、205、6602、220、4450)；荒川化學公司製之賓設特系列(例如：371、577)；三菱RAYON公司製之RQ系列；大日本油墨公司製之優尼迪克系列；日本化藥公司製之DPHA40H；莎瑪公司製之CN9006、CN968等。其中較佳為：UV1700B(日本合成公司製)、DPHA40H(日本化藥公司製)、亞多雷晴HDP(根上工業公司製)、賓設特371(荒川化學公司製)、賓設特577(荒川化學公司製)、U15HA(新中村化學公司製)。電離放射線硬化型樹脂可使用多官能胺酯丙烯基丙烯酸酯，市售品例如日立化成公司製之西他羅伊德7975等。
除了上述化合物外，亦可使用具有不飽和雙鍵之較低分子量之聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇多烯樹脂等作為上述電離放射線硬化型樹脂。
使用電離放射線硬化型樹脂作為紫外線硬化型樹脂時，使用光聚合起始劑較佳。光聚合起始劑之具體例，可舉出苯乙酮、二苯基酮系、米希勒苯甲醯苯甲酸酯、噻噸酮系、苯丙酮系、苄基系、苯偶因(benzoin)系、醯基氧化膦系等。又，宜混合光敏劑使用，其具體例可列舉正丁基胺、三乙基胺、聚正丁基膦等。
光聚合起始劑係使用具有自由基聚合性不飽和基之樹脂系時，較佳係單獨或混合使用苯乙酮、二苯基酮、噻噸酮、苯偶因(benzoin)、苯偶因甲基醚等。又，具有陽離子聚合性官能基之樹脂系的情況、光聚合起始劑較佳係單獨或以混合物形式使用芳香族重氮塩、芳香族鎏塩、芳香族碘鎓塩、金屬芳香類化合物、苯偶因磺酸酯等。
具體而言，可舉出Ciba Specialty Chemicals公司製之依魯加居亞184、依魯加居亞907、依魯加居亞369、依魯加居亞379、依魯加居亞819、依魯加居亞127、依魯加居亞500、依魯加居亞754、依魯加居亞250、依魯加居亞1800、依魯加居亞1870、依魯加居亞OXE01、DAROCUR TPO、DAROCUR1173、日本SiberHegner公司製之SpeedcureMBB、SpeedcurePBZ、SpeedcureITX、SpeedcureCTX、SpeedcureEDB、Esacure ONE、Esacure KIP150、Esacure KTO46、日本化藥公司製之KAYACURE DETX－S、KAYACURE CTX、KAYACURE BMS、KAYACURE DMBI等。光聚合起始劑之添加量相對於電離放射線硬化性組成物100質量份較佳為0.1~10質量份。
混合於電離放射線硬化性樹脂中使用之溶劑乾燥型樹脂，主要可列舉熱可塑性樹脂。上述熱可塑性樹脂可利用一般例示者。藉由添加上述溶劑乾燥型樹脂，可有效防止塗佈面之塗膜缺陷。較佳之熱可塑性樹脂之具體例，例如可列舉苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯系樹脂、乙烯醚系樹脂、含有鹵素之樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、纖維素衍生物、矽酮系樹脂、及橡膠或彈性體等。上述熱可塑性樹脂，通常宜使用非結晶性，且可溶於有機溶劑(特別是可溶解複數之聚合物及硬化性化合物之共通溶劑)之樹脂。特別是以成形性或製膜性、透明性或耐候性高之樹脂，例如苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素衍生物(纖維素酯系等)等為佳。
依本發明之較佳態樣，透光性基材之材料為三乙酸纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂時，熱可塑性樹脂之較佳具體例，可列舉纖維素系樹脂，例如硝酸纖維素、乙酸纖維素、纖維素乙酸丙酸酯(celluloseacetate propionate)、乙基羥基乙基纖維素等。藉由使用纖維素系樹脂，可提高透光性基材與硬塗層之密合性及透明性。
可作為上述樹脂使用之熱硬化性樹脂，可列舉酚醛樹脂、尿素樹脂、苯二甲酸二烯丙酯、三聚氰胺樹脂、鳥糞胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂、三聚氰胺－尿素共縮合樹脂、矽樹脂、聚矽氧烷樹脂等。使用熱硬化性樹脂時，亦可視需要併用交聯劑、聚合起始劑等硬化劑、聚合促進劑、溶劑、黏度調整劑等。
上述硬塗層可藉由使用上述樹脂及視需要之添加劑(例如聚合起始劑、抗靜電劑、防眩劑、防污劑、整平劑等)溶解或分散於溶劑中而成之溶液或分散液作為硬塗層形成用組成物，藉由上述組成物形成塗膜，使上述塗膜硬化而獲得。
上述溶劑，可按照樹脂種類及溶解性選擇使用，只要至少可使固體成分(複數之聚合物及硬化性樹脂前驅物、聚合起始劑、其他添加劑)均勻溶解之溶劑即可。作為此種溶劑，例如可例示：酮系(丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮、環己酮等)、醚系(二噁烷、四氫呋喃等)、脂肪族烴系(己烷等)、脂環式烴系(環己烷等)、芳香族烴系(甲苯、二甲苯等)、鹵化碳系(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯系(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、水、醇系(乙醇、異丙醇、丁醇、環己醇)、溶纖劑系(甲基溶纖劑、乙基溶纖劑等)、溶纖劑乙酸酯系、亞碸系(二甲基亞碸等)、醯胺系(二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等)等，其等之混合溶劑亦可。較佳為甲乙酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲基異丁酮、環己酮、PGME、PGMEA等。
特別是用於上述組成物之溶劑可較佳地使用對所用之透光性基材具有滲透性者(可將基材膨潤或溶解之溶劑)。例如：使用纖維素系樹脂作為透光性基材時，可較佳地使用甲乙酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、環己酮等。
於上述組成物使用溶劑時，溶劑的使用量可適當設定為組成物之固體成分含量為5~80質量份左右。
上述組成物之調製方法只要能均勻地混合各成份即可，可依循眾知方法來實施。例如可使用塗料振盪機、珠磨機、捏和機、混合機等眾知裝置。
塗層之形成方法，可依循眾知方法。例如可使用旋塗法、浸漬法、噴霧法、模具塗佈法、棒塗法、輥塗機法、彎月面(meniscus)塗機法、柔版印刷法、網版印刷法、珠塗法等周知方法。
所得之塗膜的硬化方法可視組成物的內容等適當選擇。例如若為紫外線硬化型時，可藉由於塗膜照射紫外線來硬化。
硬塗層用組成物可使用具有透明性之上述樹脂之原料成分者，可視上述樹脂的種類等適當地設定。
上述硬塗層亦可含有高折射樹脂。高折射樹脂之折射率為1.55以上，尤以1.60以上為佳。硬塗層中所含之高折射樹脂較佳為0.1%以上、99%以下，尤以1%以上、90%以下為佳。將硬塗層高折射率化時，一般可添加高折射率化材料於硬塗層形成材料中。高折射率化材料可使用粒徑數nm~100 nm之金屬氧化物(例如TiO2 、ZrO2 )微粒子並分散之，或此外可適當地添加使用芴系、硫系、溴系、咔唑系等有機高折射率樹脂材料。
上述硬塗層用組成物視需要可含有聚合起始劑、防眩劑等添加劑。
上述聚合起始劑可舉出前述者。
上述防眩劑可使用例如各種微粒子。其形狀可舉出正球狀、橢圓狀等之任一者，較佳為正球狀。又，上述微粒子可舉出無機系或有機系者。上述微粒子係發揮防眩性者，較佳為透明性者。上述微粒子之具體例可舉出無機系為氧化矽珠、有機系為塑膠珠。塑膠珠之具體例可使用苯乙烯珠(折射率1.60)、三聚氰胺珠(折射率1.57)、丙烯酸珠(折射率1..49~1.53)、丙烯酸－苯乙烯珠(折射率1.54)、苯胍－甲醛縮合物(折射率1.68)、三聚氰胺－甲醛縮合物(折射率1.68)、聚碳酸酯珠(折射率1.68)、聚乙烯珠等1種或2種以上。
此情況時，較佳係併用防沉降劑。此係因為藉由添加防沉降劑可抑制樹脂珠的沉澱，使均勻地分散於溶劑內。防沉降劑之具體例可舉出粒徑0.5μm以下，較佳為0.1~0.25μm左右的氧化矽珠。
低折射率層
本發明光學積層體之低折射率層係形成於最表面，且含有抗靜電劑。
低折射率層係當來自外部的光(例如螢光燈、自然光)於光學積層體的表面反射時可發揮降低其反射率效果之層。本發明之低折射率層因具有上述特徵而防止反射性及抗靜電性優異。特別因為於最表面層賦予了抗靜電性能，故表面的抗靜電性能效率良好地發揮，灰塵難以附著。換言之，即使添加少量抗靜電劑亦可防止灰塵附著。
低折射率層之折射率較佳為1.45以下，尤以1.42以下為佳。
低折射率層所含有之抗靜電劑只要具有抗靜電性能即可，不特別限定。可舉出例如：具有4級銨鹽、吡啶鎓鹽、咪唑鎓鹽、第1~3胺基等陽離子性基之陽離子性化合物；具有磺酸鹽、硫酸酯鹽、磷酸酯鹽、膦酸鹽等陰離子性基之陰離子性化合物；胺基酸系、胺基硫酸酯系、硼、磷系等兩性化合物；胺醇系、甘油系、聚乙二醇系等非離子性化合物；像鋅及鈦之醇鹽那樣的有機金屬化合物及像該等之乙烯丙酮塩那樣的金屬螯合化合物等。上述化合物亦可為分子內具有丙烯酸酯系官能基的電離放射線硬化型樹脂。再者，可舉出將上述化合物高分子量化後之化合物。又，像具有3級胺基、4級銨基或金屬螯合部位、且具有經電離放射可聚合之單體或寡聚物、或經電離放射可聚合之官能基之偶合劑那樣的有機金屬化合物等聚合性化合物亦可作為抗靜電劑使用。該等可使用1種或2種以上，或與下述導電性超微粒子併用使用。
本發明可使用導電性超微粒子作為抗靜電劑。導電性超微粒子之具體例可舉出金屬氧化物所構成者。像這樣的金屬氧化物可舉出ZnO(折射率1.90以下，括號內之數值係表示折射率)、CeO2 (1.95)、Sb2 O2 (1.71)、SnO2 (1.997)、氧化銦錫(簡稱ITO，1.95)、In2 O3 (2.00)、Al2 O3 (1.63)、銻掺合氧化錫(簡稱ATO，2.0)、鋁掺合氧化鋅(簡稱AZO，2.0)等。上述微粒子之粒子徑係1微米以下亦即次微米的大小較佳，尤其平均粒徑為0.1nm~0.1μm之微粒子較佳。又，上數平均粒徑係由動態光散射法等所測定之值。
上述抗靜電劑其他亦可舉出碳奈米管、碳奈米角(carbon nanohorn)、芙樂烯之碳材料。上述碳奈米管係具有黑鉛(石墨)片為圓筒狀封閉構造之單層或多層的管狀碳多面體，該黑鉛係以碳6員環構造作為主構造。上述碳奈米管係具有碳奈米管之前端為封閉之圓錐狀形狀者。
再者，可例示如電子傳導性高分子或鋰鹽、有機硼化合物等離子傳導性抗靜電劑。
上述電子傳導性高分子可舉出：脂肪族共軛系之聚乙炔、聚並苯(polyacene)、聚薁(polyazulene)、芳香族共軛系之聚苯撐(polyphenylene)、雜環共軛系之聚吡咯、聚噻吩、聚異硫茚(polyisothianaphthene)、含雜原子共軛系聚苯胺、聚伸噻嗯基乙烯(polythienylene vinylene)、混合型共軛系之聚苯乙烯、分子中具有複數個共軛鏈之共軛系之複鏈型共軛系、該等之導電性聚合物之衍生物、以及導電性複合體(係將該等之共軛高分子鏈接枝或嵌段共聚於飽和高分子之高分子)所構成群中之至少一種。其中，使用聚噻吩、聚苯胺、聚吡咯等有機系抗靜電劑較佳。藉由使用上述有機系抗靜電劑，可於發揮優異抗靜電性能的同時，提高光學積層體的全光線穿透率，並降低霧度值。又，以導電性提高或抗靜電性能提高為目的，亦可添加有機磺酸或氯化鐵等陰離子作為掺雜劑(電子供給劑)。基於此掺雜劑添加效果，尤其聚噻吩透明性、抗靜電劑高故較佳。上述聚噻吩亦可較佳地使用寡噻吩。上述衍生物並無特別限定，可舉出例如聚苯乙炔、聚二乙炔之烷基取代物等。
作為上述離子傳導性抗靜電劑之鋰鹽可舉出：全氟烷基磺酸鋰、雙全氟烷基磺酸亞胺鋰、或過氯酸鋰較佳。更詳而言之，全氟烷基磺酸鋰較佳可舉出：三氟甲基磺酸鋰、五氟乙基磺酸鋰等，雙全氟烷基磺酸亞胺鋰較佳可舉出：雙三氟甲烷磺酸亞胺鋰或雙五氟乙烷磺酸亞胺鋰等。其中，雙三氟甲烷磺酸亞胺鋰或雙五氟乙烷磺酸亞胺鋰特別在環境可靠性優異，故可較佳地使用。
上述有機硼化合物尤以聚醚、聚醛或聚酮與硼之離子鍵結物為佳。
上述抗靜電劑係實質上無色透明較佳。藉由使用此種抗靜電劑可降低低折射率層的霧度值。
低折射率層中之抗靜電劑含量可視抗靜電劑的種類等適當地決定，通常係0.1~50質量%左右，較佳為0.5~30質量%左右，更佳為1~20質量%左右。
藉由設定為此範圍，可更有效地發揮抗靜電性能，同時耐擦傷性亦優異，且可降低霧度值。
本發明之低折射率層除了上述抗靜電劑之外，以例如熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂或電離放射線硬化性化合物(包含有機反應性矽化合物或含氟原子化合物(氟系樹脂如後所述))等樹脂來形成較佳。該等之中較佳為熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂或電離放射線硬化性化合物。尤其使用電離放射線硬化性樹脂及/或電離放射線硬化性化合物為最佳。
電離放射線硬化性化合物可使用含有其之電離放射線硬化性組合物的形式。電離放射線硬化性化合物可使用分子中具有聚合性不飽和鍵結或環氧基之單體、寡聚物及預聚物中之至少一種。此處，電離放射線係指電磁波或帶電粒子線中具有可將分子聚合或交聯之能量量子(energy quantum)，通常係使用紫外線或電子線。
電離放射線硬化性組成物中之預聚物或寡聚物例如：不飽和二羧酸與多元醇的縮合物等不飽和聚酯類；聚酯甲基丙烯酸酯、聚醚甲基丙烯酸酯、聚醇甲基丙烯酸酯、三聚氰胺甲基丙烯酸酯等甲基丙烯酸酯類；聚酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯、胺酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、聚醇丙烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯等丙烯酸酯類，除此之外可舉出陽離子聚合型環氧化合物等。該等可使用1種或2種以上。
電離放射線硬化性組成物中之單體可舉出例如：苯乙烯、α－甲基苯乙烯等苯乙烯系單體；丙烯酸甲酯、丙烯酸－2－乙基己酯、丙烯酸甲氧基乙酯、丙烯酸丁氧基乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸甲氧基丁酯、丙烯酸苯酯等丙烯酸酯類；甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲氧基乙酯、甲基丙烯酸乙氧基甲酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸月桂酯等甲基丙烯酸酯類；丙烯酸－2－(N,N－二乙胺基)乙酯、丙烯酸－2－(N,N－二甲胺基)乙酯、丙烯酸－2－(N,N－二芐胺基)甲酯、丙烯酸－2－(N,N－二乙胺基)丙酯等不飽和取代之取代胺醇酯類；丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、等不飽和羧酸醯胺類；乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1,6－己烷二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯等二丙烯酸酯化合物；二丙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、丙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯等多官能性化合物，及/或分子中具有2個以上硫醇基之聚硫醇化合物(例如：三羥甲基丙烷三硫羥乙酸酯、三羥甲基丙烷三硫羥丙酸酯、季戊四醇四硫羥乙酸酯等)之至少一種。
上述電離放射線硬化型樹脂，可舉出多官能(甲基)丙烯酸酯。
多官能(甲基)丙烯酸酯可舉出例如：2官能(甲基)丙烯酸酯為三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3－丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4－丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、1,6－己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9－壬烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10－癸烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯單硬脂酸酯、異三聚氰酸乙氧基改質二(甲基)丙烯酸酯(異三聚氰酸EO改質二(甲基)丙烯酸酯)、2官能胺酯丙烯酸酯、2官能聚酯丙烯酸酯等。3官能(甲基)丙烯酸酯可舉出：季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷EO改質三(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸EO改質三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化甘油三(甲基)丙烯酸酯、3官能聚酯丙烯酸酯等。4官能(甲基)丙烯酸酯可舉出：季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等。5官能以上之(甲基)丙烯酸酯可舉出：二季戊四醇羥基五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯。
特別是從作成具有高硬度之光學積層體方面看來，較佳係3官能以上者。3官能以上之(甲基)丙烯酸酯樹脂可使用市售品，具體而言可舉出：日本化藥社製之KAYARAD、KAYAMER系列(例如：DPHA、PET30、GPO303、TMPTA、THE330、TPA330、D310、D330、PM2、PM21、DPCA20、DPCA30、DPCA60、DPCA120)；東亞合成公司製之亞隆尼克斯系列(例如：M305、M309、M310、M315、M320、M327、M350、M360、M402、M408、M450、M7100、M7300K、M8030、M8060、M8100、M8530、M8560、M9050)；新中村化學公司製之NK酯系列(例如：TMPT、A－TMPT、A－TMM－3、A－TMM3L、A－TMMT、A－TMPT－6EO、A－TMPT－3CL、A－GLY－3E、A－GLY－6E、A－GLY－9E、A－GLY－11E、A－GLY－18E、A－GLY－20E、A－9300、AD－TMP－4CL、AD－TMP)；新中村化學公司製之NK耶可諾馬系列(例如：ADP51、ADP33、ADP42、ADP26、ADP15)；第一工業製藥公司製之紐福隆替亞系列(例如：TMPT、TMP3、TMP15、TMP2P、PET3、TEICA)；DIACEL優士比公司製之Ebecryl系列(例如：TMPTA、TMPTAN、160、TMPEOTA、OTA480、53、PETIA、2047、40、140、1140、PETAK、DPHA)；莎瑪公司製之CD501、CD9021、CD9052、SR351、SR351HP、SR351LV、SR368、SR368D、SR415、SR444、SR454、SR454HP、SR492、SR499、SR502、SR9008、SR9012、SR9020、SR9020HP、SR9035、CD9051、SE350、SR9009、SE9011、SR295、SR355、SR399、SR399LV、SR494、SR9041等。
電離放射線硬化型樹脂亦可舉出多官能胺酯(甲基)丙烯酸酯。
多官能胺酯(甲基)丙烯酸酯可使用2官能以上者，較佳可使用4官能以上者。具有胺酯(甲基)丙烯酸酯系官能基者可使用市售品，可舉出例如：日本合成公司製之紫外光系列(例如：UV1700B、UV6300B、UV765B、UV7640B、UV7600B)；根上工業公司製之亞多雷晴系列(例如：亞多雷晴HDP、亞多雷晴UN9000H、亞多雷晴UN3320HA、亞多雷晴UN3320HB、亞多雷晴UN3320HC、亞多雷晴UN3320HS、亞多雷晴UN901M、亞多雷晴UN902MS、亞多雷晴UN903)；新中村化學公司製之UA100H、U4H、U4HA、U6H、U6HA、U15HA、UA32P、U6LPA、U324A、U9HAMI；DIACEL優士比公司製之Ebecryl系列(例如：1290、5129、254、264、265、1259、1264、4866、9260、8210、204、205、6602、220、4450)；荒川化學公司製之賓設特系列(例如：371、577)；三菱RAYON公司製之RQ系列；大日本油墨公司製之優尼迪克系列；日本化藥公司製之DPHA40H；莎瑪公司製之CN9006、CN968等。其中較佳為：UV1700B(日本合成公司製)、DPHA40H(日本化藥公司製)、亞多雷晴HDP(根上工業公司製)、賓設特371(荒川化學公司製)、賓設特577(荒川化學公司製)、U15HA(新中村化學公司製)。電離放射線硬化型樹脂可使用多官能胺酯丙烯基丙烯酸酯，市售品例如日立化成公司製之西他羅伊德7975等。
通常，電離放射線硬化性組成物中之單體雖視需要可使用上述化合物1種或混合2種以上，但為了賦予電離放射線硬化性組成物通常之塗佈適合性，上述單體之預聚物或寡聚物係設定為5質量%以上，較佳係上述單體及/或聚硫醇化合物定為95質量%以下。
當低折射率層要求彈性(flexibility)時，較佳係將單體量減少或使用官能基數為1或2之丙烯酸酯單體。又，當對低折射率層要求耐磨耗性、耐熱性、耐溶劑性等時，較佳係使用例如官能基數為3以上之丙烯酸酯單體。此處，官能基為1者可舉出：2－羥基丙烯酸酯、2－丙烯酸己酯、丙烯酸苯氧基乙酯等。官能基數為2者可舉出：乙二醇二丙烯酸酯、1,6－己烷二醇二丙烯酸酯。官能基數為3以上者可舉出：三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯等。
為了調整低折射率層之彈性、表面硬度等物性，亦可視需要添加以電離放射線照射不會硬化之樹脂於電離放射線硬化性組成物。上述樹脂可舉出例如：聚胺酯樹脂、纖維素樹脂、聚乙烯丁醛樹脂、聚酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚氯化乙烯樹脂、聚乙酸乙烯樹脂等熱可塑性樹脂之1種或2種以上。其中由提高彈性之觀點看來，較佳為聚胺酯樹脂、纖維素樹脂、聚乙烯丁醛樹脂等之至少1種。電離放射線硬化性組成物之硬化以紫外線照射來進行時，較佳係添加光聚合起始劑或光聚合促進劑。光聚合起始劑當為具有自由基聚合性不飽和基之樹脂系的形況時，可使用例如苯乙酮、二苯基酮、噻噸酮、苯偶因(benzoin)、苯偶因甲基醚等之單獨或2種以上。又，當為具有陽離子聚合性官能基之樹脂系的情況時，光聚合起始劑可使用芳香族重氮塩、芳香族鎏塩、芳香族碘鎓塩、金屬芳香類化合物、苯偶因磺酸酯等之單獨或2種以上。
具體來說，可舉出Ciba Specialty Chemicals公司製之依魯加居亞184、依魯加居亞907、依魯加居亞369、依魯加居亞379、依魯加居亞819、依魯加居亞127、依魯加居亞500、依魯加居亞754、依魯加居亞250、依魯加居亞1800、依魯加居亞1870、依魯加居亞OXE01、DAROCUR TPO、DAROCUR1173、日本SiberHegner公司製之SpeedcureMBB、SpeedcurePBZ、SpeedcureITX、SpeedcureCTX、SpeedcureEDB、Esacure ONE、Esacure KIP150、Esacure KTO46、日本化藥公司製之KAYACURE DETX－S、KAYACURE CTX、KAYACURE BMS、KAYACURE DMBI等。其中，較佳為依魯加居亞369、依魯加居亞127、依魯加居亞907、Esacure ONE、SpeedcureMBB、SpeedcurePBZ、KAYACURE DETX－S。
光聚合起始劑之添加量，雖可視所用之光聚合起始劑種類適當地設定，但較佳為相對於電離放射線硬化性組成物100質量份0.1~10質量份左右。
電離放射線硬化性組成物可視需要倂用有機矽化合物。例如可使用：以通式Rm Si(RO’)n (其中，R及R’互為相同或不同，表示碳數1~10之烷基。m及n係各表示滿足m＋n＝4關係之整數。)表示之化合物。具體來說，可舉出：四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四異丙氧基矽烷、四正丙氧基矽烷、四正丁氧基矽玩、四第二丁氧基矽烷、四第三丁氧基矽烷、四五乙氧基矽烷、四五異丙氧基矽烷、四五正丙氧基矽烷、四五正丁氧基矽烷、四五第二丁氧基矽烷、四五第三丁氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三丙氧基矽烷、甲基三丁氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二甲基乙氧基矽烷、二甲基甲氧基矽烷、二甲基丙氧基矽烷、二甲基丁氧基矽烷、甲基二甲氧基矽烷、甲基二乙氧基矽烷、己基三甲氧基矽烷等之至少1種。
於此情況時，可視需要倂用矽烷偶合劑。矽烷偶合劑之具體例可舉出γ－(2－胺基乙基)胺基丙基三甲氧基矽烷、γ－(2－胺基乙基)胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、β－(3,4－乙氧基環己基)乙基三甲基矽烷、γ－胺基丙基三乙氧基矽烷、γ－甲基丙烯氧基丙基甲氧基矽烷、N－β－(N－乙烯基芐基胺基乙基)－γ－胺基丙基甲氧基矽烷．鹽酸塩、γ－環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、胺基矽烷、甲基甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、γ－巰基丙基三甲氧基矽烷、γ－氯丙基三甲氧基矽烷、六甲基二矽氮烷(hexamethyldisilazane)、乙烯基三(β－甲氧基乙氧基)矽烷、十八基二甲基[3－(三甲氧基矽烷基)丙基]氯化銨、甲基三氯矽烷、二甲基二氯矽烷等之至少1種。
又，低折射率層可由1)含有氧化矽或氟化鎂之樹脂、2)為低折射率樹脂之氟系樹脂、3)含有氧化矽或氟化鎂之氟系樹脂、4)氧化矽或氟化鎂之薄膜等之任一者所構成。上述氟系樹脂以外之樹脂可使用與構成上述硬塗層用組成物之樹脂相同之樹脂。
上述氟系材料，可使用至少於分子中含有氟原子之聚合性化合物或其聚合物。上述聚合性化合物並無特別限定，但例如較佳為具有電離放射線硬化性基、熱硬化性極性基等之硬化反應性基者。又，亦可為同時具有該等反應性基之化合物。相對於該聚合性化合物，所謂上述聚合物係完全不含上述反應性基等。
具有電離放射線硬化性基之聚合性化合物，可廣泛使用具有伸乙基性不飽和鍵之含有氟之單體。更具體而言，可例示氟烯烴系(例如氟乙烯、雙氟亞乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟－2,2－二甲基－1,3－二氧雜環戊烯等)。具有(甲基)丙烯醯氧基者，例如：(甲基)丙烯酸2,2,2－三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3－五氟丙酯、(甲基)丙烯酸2－(全氟丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸2－(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸2－(全氟辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸2－(全氟癸基)乙酯、α－三氟甲基丙烯酸甲酯、α－三氟甲基丙烯酸乙酯等含氟(甲基)丙烯酸酯化合物；及含氟之多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等；該含氟之多官能(甲基)丙烯酸酯化合物係於分子中具有至少帶三個氟原子之碳數1~14之氟烷基、氟環烷基或氟烯烴基、及至少二個(甲基)丙烯醯氧基者。
熱硬化性極性基，例如較佳為氫氧基、羧基、胺基、環氧基等氫鍵形成基。其等不僅與塗膜之密合性優異，與氧化矽等之無機超微粒子之親和性亦優異。作為具有熱硬化性極性基之聚合性化合物，例如可例示4－氟乙烯－全氟烷基乙烯醚共聚物；全氟乙烯－烴系乙烯醚共聚物；環氧化合物、聚胺基甲酸酯、纖維素、苯酚、聚醯亞胺等各樹脂之氟改質品等。
同時具有電離放射線硬化性基及熱硬化性極性基之聚合性化合物，可例示丙烯酸或甲基丙烯酸之部分及完全氟化烷基、烯基、芳基酯系、完全或部分氟化乙烯醚系、完全或部分氟化乙烯酯系、完全或部分氟化乙烯酮系。
上述矽酮成分並無特別限定，可例示如：(聚)二甲基矽氧烷、(聚)二乙基矽氧烷、(聚)二苯基矽氧烷、(聚)甲基苯基矽氧烷、烷基改質(聚)二甲基矽氧烷、含有偶氮基(聚)二甲基矽氧烷；二甲基矽酮、苯基甲基矽酮、烷基－芳烷基改質矽酮、氟矽酮、聚醚改質矽酮、脂肪酸酯改質矽酮、甲基氫矽酮、含有矽烷醇基之矽酮、含有烷氧基之矽酮、含有酚基之矽酮、甲基丙烯酸改質矽酮、丙烯酸改質矽酮、胺基改質矽酮、羧酸改質矽酮、甲醇改質矽酮、環氧改質矽酮、巰基改質矽酮、氟改質矽酮、聚醚改質矽酮等。其中，以具有二甲基矽氧烷構造者為佳。
上述二甲基矽氧烷構造，更具體而言，可舉出：於末端具有矽烷醇基之聚二甲基矽氧烷、聚甲基苯基矽氧烷、聚甲基乙烯基矽氧烷等之聚烷基、聚烯基、或於聚芳基矽氧烷中添加混合各種交聯劑、例如四乙醯氧基矽烷、四烷氧基矽烷、四乙基甲基酮肟矽烷、四異丙烯基矽烷等四官能矽烷、及烷基或烯基三乙醯氧基矽烷、三酮肟矽烷、三異丙烯基矽烷、三烷氧基矽烷等三官能矽烷等者、視情況預先使其反應者。
進而，由以下化合物構成之非聚合物或聚合物亦可作為氟系樹脂使用。亦即，可使用於分子中至少具有一個異氰酸基之含氟化合物與於分子中至少具有一個胺基、羥基、羧基等與異氰酸基反應之官能基之化合物反應後而得之化合物；含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟ε－己內酯改質多元醇等之含氟多元醇與具有異氰酸基之化合物反應後而得之化合物等。
又，亦可與上述具有氟原子之聚合性化合物及聚合物一同，混合硬塗層用組成物中所記載之各樹脂成分而使用。進而，可適宜使用用以使反應性基等硬化之硬化劑、或是用以提高塗佈性、賦予防污性之各種添加劑、溶劑。
本發明上述抗靜電劑之外，含有「內部具有空隙之微粒子」較佳。藉此可一面保持低折射率層之層強度，一面降低其折射率。於本發明中，所謂「內部具有空隙之微粒子」係指微粒子內部充填有氣體之中空構造體及/或微粒子內部含有氣體之多孔質構造體，且與微粒子沒有空隙的情況相比，具有低折射率之微粒子。此係一般隨著氣體之佔有率增大而其折射率降低。
上述微粒子中，無機系微粒子可舉出於日本特開2001－233611號公報所揭示之氧化矽微粒子。其他，亦可為藉由日本特開平7－133105、日本特開2002－79616號公報、日本特開2006－106714號公報等所記載之製法而得之氧化矽微粒子。具有空隙之氧化矽微粒子，由於製造容易、其本身之硬度高，故與黏結劑混合、形成低折射率層時，可提高其層強度且將折射率調整於1.20~1.45左右之範圍內。另一方面，有機系微粒子可舉出日本特開2002－80503號公報所揭示之中空聚合物微粒子。
本發明於內部及/或表面之至少一部分可形成奈米孔洞構造之微粒子亦包含上述微粒子。塗膜之內部及/或表面之至少一部分可形成奈米孔洞構造之微粒子可舉出：1)充填用之管柱(column)及表面之多孔質部之控釋(controlled－releasing)材料、2)用於固定觸媒之多孔質微粒子、或者3)以植入絕熱材料或低介電材料為目的之中空微粒子。具體來說可例示日本氧化矽工業股份公司製之「Nipsil」(商品名)、日產化學工業(股)製之「膠體氧化矽UP系列」(商品名)等。
「內部具有空隙之微粒子」之平均粒徑係5nm以上、300nm以下，較佳為下限8nm以上、上限100nm以下，更佳為下限10nm以上、上限80nm以下。藉由使上述微粒子之平均粒徑於此範圍內，可對低折射率層賦予優異之透明性。又，上述平均粒徑係藉由動態光散射法等所測定之值。
含有「內部具有空隙之微粒子」時，其含量相對於樹脂100質量份，通常為0.1~500質量份左右、較佳為10~200質量份左右。
低折射率層之形成時，可使用例如含有原料成分之組成物(折射率層形成用組成物)來形成。更具體而言，藉由使用將原料成分(例如上述抗靜電劑、樹脂等)及視需要之添加劑(例如上述「具有間隙之微粒子」、聚合起始劑、防眩劑等)溶解或分散於溶劑而成之溶液或分散液作為低折射率層形成用組成物，形成上述組成物之塗膜並使上述塗膜硬化，可獲得低折射率層。又，聚合起始劑、防眩劑等添加劑可舉出例如上述於硬塗層者。
特別是本發明係與構成低折射率層之成分同時混合上述抗靜電劑。因此，為了賦予抗靜電性能並不需要將個別之抗靜電層製造及積層之步驟。因此，藉由簡易之步驟可製造本發明之光學積層體。又，低折射率層係在光學積層體的最表面，故容易展現抗靜電性能。又，與於硬塗層混合抗靜電劑的情況相比，由於低折射率層的厚度薄故以較少量即可展現抗靜電性能。
溶劑亦可舉出上述於硬塗層者，較佳為甲基異丁酮、IPA、正丁醇、第三丁醇、二乙酮、PGME等。
上述低折射率層用組成物之調製方法只要可將成份均勻地混合即可，可依循眾知之方法來實施。例如，可使用上述於硬塗層形成之眾知之裝置來混合。
塗膜之形成方法可依循眾知之方法。例如可使用上述於硬塗層形成之各種方法
所得之塗膜的硬化方法可視組成物的內容等而適當選擇。例如若為紫外線硬化型時，可藉由於塗膜照射紫外線以使其硬化。
又，作為氟系樹脂例如可列舉如下者。至少含有1種具有上述電離放射線硬化性基之聚合性化合物之含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的單體或單體混合物之聚合物；至少1種上述含氟(甲基)丙烯酸酯化合物及(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2－乙基己酯等於分子中不含氟原子之(甲基)丙烯酸甲酯化合物的共聚物；氟乙烯、偏氟乙烯、三氟乙烯、氯三氟乙烯、3,3,3－三氟丙烯、1,1,2－三氯－3,3,3－三氟丙烯、六氟丙烯等含氟單體之單聚物或共聚物等。於該等共聚物中含有矽酮成分之含矽酮偏氟乙烯共聚物亦可使用。
其他層
作為本發明之基本層構造係於透光性基材上至少形成有硬塗層及低折射率層，該低折射率層係形成於最表面。例如可舉出，鄰接於透光性基材上形成有硬塗層，鄰接於硬塗層形成有低折射率層之3層構造。此情況時，在無損於本發明積層體之透光性等之範圍內，視需要可適當地於1)硬塗層與低折射率層之層間、或2)硬塗層下形成其他層(高折射率層、防眩層、接著劑層、其他硬塗層等)之1層或2層以上。該等層可採用與眾知之抗反射用積層體相同者。
防眩層
防眩層例如可形成於硬塗層與穿透性基材或低折射率層之間。防眩層可由包含樹脂及防眩劑之樹脂組成物形成。
作為上述樹脂，可由於硬塗層之項所說明者中適當選擇後使用。
防眩劑可使用各種微粒子。微粒子之平均粒徑並無限定，但一般以0.01~20μm左右為佳。又，微粒子之形狀可為正球狀、橢圓狀等任一種，較佳為正球狀。又，上述微粒子可列舉無機系或有機系者。又，上述平均粒徑係由動態光散射法等所測定之值。
上述微粒子係可發揮防眩性者，較佳為透明性者。微粒子之具體例可舉出於硬塗層所例示者。
上述微粒子，令其平均粒徑為R(μm)、防眩層凹凸之十點平均粗糙度為Rz(μm)、防眩層之凹凸平均間隔為Sm(μm)、凹凸部之平均傾斜角為θa時，全部滿足下述數學式較佳：30≦Sm≦600 0.05≦Rz≦1.60 0.1≦θa≦2.5 0.3≦R≦20
所謂Sm(μm)係表示該防眩層之凹凸之平均間隔，θa(度)係表示凹凸部之平均傾斜角，Rz(μm)表示十點平均粗糙度，其定義係依照JIS B 0601－1994，亦符合表面粗糙度測定器；SE－3400/小坂研究所(股)製操作說明書(1995.07.20修訂)。
θa係角度單位，以縱橫比率表示傾斜者為△a時，以△a＝tanθa＝(各凹凸之極小部與極大部之差(相當於各凸部之高度)之總和/基準長度)求得。所謂基準長度係相當於測定機SE－3400中之粗糙度曲線的截止值(cut off value)λc、實際上觸針之評價長度。表面粗度測定器之測定條件係依照JIS B0601 1994。
又，依本發明之另一較佳樣態，令上述微粒子與上述樹脂組成物之折射率分別為n1、n2時，以滿足△n＝| n1－n2 |<0.15，且防眩層內部之霧度值(將光學積層體全體的霧度減去凹凸形狀之外部霧度而求出)為55%以下之防眩層為佳。
微粒子之添加量按所使用之微粒子種類、所期望之防眩性等而定，但通常相對於上述樹脂組成物100質量份為2~30質量份、較佳為10~25質量份。
調製防眩層用組成物時可添加防沉降劑。其原因為，藉由添加防沉降劑，可抑制樹脂珠之沉澱，使其均勻分散於溶劑內。防沉降劑之具體例，可使用氧化矽珠等之珠類。珠類之平均粒徑並無限定，但一般而言為0.5μm以下，較佳為0.1~0.25μm。又，上述平均粒徑係由動態光散射法等所測定之值。
防眩層之膜厚(硬化時)一般為0.1~100μm，特別以0.8~10μm之範圍較佳。藉由膜厚於該範圍，可充份發揮作為防眩層之功能。
上述防眩層之膜厚可藉由以下方法測定。以雷射共軛焦點顯微鏡(LeicaTCS－NT：Leica公司製；倍率「300~1000倍」)穿透觀察光學積層體之截面，判斷有無界面，以下述測定基準判斷。具體而言，為了得到無光暈(halation)之鮮明影像，於雷射共軛焦點顯微鏡使用濕式之物鏡，且於光學積層體上放上約2ml之折射率1.518之油，進行觀察並判斷。油之使用係用於使物鏡與光學積層體之間之空氣層消失。
測定程序
1：藉由雷射顯微鏡觀察測定平均膜厚。
2：測定條件如上所述。
3：每1畫面，測定凹凸之最大凸部、最小凹部之距基材之層厚各1點，合計2點，測定5畫面分合計10點，算出平均值。以此作為防眩層之膜厚。此雷射顯微鏡係藉由於各層有折射率差而可進行非破壞截面觀察。又，使用可觀察各層組成之不同之SEM及TEM截面照片觀察，可同樣地觀察5畫面，求得防眩層之膜厚。
高折射率層
高折射率層可形成於例如硬塗層與低折射率層間。因賦予高於硬塗層之折射率，故可得到有效的抗反射效果。高折射率層可由含有樹脂及高折射率化劑之樹脂組成物所形成。上述樹脂或高折射率化劑可由於硬塗層項所說明者中適當地選擇使用。膜厚可視目的於60nm~10μ m變更。上述膜厚係以電子顯微鏡(SEM、TEM、STEM)觀察截面所測定之值。
本發明之光學積層體可適用於抗反射用積層體。
本發明之光學積層體係於偏光元件表面將本發明之光學積層體設置於該光學積層體之低折射率層存在面之反對面，藉此可作為偏光板。如此之偏光板亦為本發明之一。
作為上述偏光元件並無特別限制，例如可使用藉由碘等染色、經拉伸之聚乙烯醇膜、聚乙烯甲縮醛膜、聚乙烯聚甲醛膜、乙烯－乙酸乙酯共聚物系皂化膜等。於上述偏光元件與本發明之光學積層體之層合處理中，於透光性材料(較佳為三乙酸纖維素膜)進行皂化處理較佳。藉由皂化處理，可得到良好接著性及抗靜電效果。
本發明亦為於最表面具備上述光學積層體或上述偏光板之影像顯示裝置。上述影像顯示裝置可為LCD等之非主動式發光型影像顯示裝置，亦可為PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT等之主動式發光型影像顯示裝置。
上述非主動式發光型之代表例之LCD係具備穿透性顯示體及自背面照射上述穿透性顯示體之光源裝置。本發明之影像顯示裝置為LCD時，於該穿透性顯示體之表面形成有本發明之光學積層體或上述偏光板。
本發明為具有上述光學積層體之液晶顯示裝置之情形，光源裝置之光源自光學積層體之下側照射。又，於STN型之液晶顯示裝置，於液晶顯示元件與偏光板之間亦可插入相位差板。於該液晶顯示裝置之各層間可視需要設置接著劑層。
上述主動式發光型影像顯示裝置之PDP，係具備表面玻璃基板(於表面形成電極)及背面玻璃基板(於表面形成電極及微小的溝，於溝內形成紅、綠、藍之螢光體層)，該背面玻璃基板係配置成與該表面玻璃基板相對，並於其等之間封入放電氣體。上述影像顯示裝置為PDP時，係於上述表面玻璃基板之表面或其前面板(玻璃基板或薄膜基板)具備上述光學積層體。
上述主動式發光型影像顯示裝置亦可為於玻璃基板上蒸鍍一施加電壓即發光之硫化鋅、二胺系物質之發光體，控制施加於基板之電壓進行顯示之ELD裝置；或將電氣訊號轉換為光來產生人眼可見之像之CRT等影像顯示裝置。此時，於上述各顯示裝置之最表面或其前面板之表面具備上述光學積層體。
上述影像顯示裝置，無論何種情形，可使用於電視、電腦、文字處理機等顯示器顯示上。特別是可適宜使用於CRT、液晶面板、PDP、ELD、FED等之高精細影像用顯示器之表面。
(發明之效果)
依據本發明可減少成為高成本原因之抗靜電劑之添加量。
依據本發明，因為除了低折射率層之外不需設置抗靜電層，故可省略抗靜電層製造步驟及積層步驟，可以更簡便的步驟製造。又，由於於光學積層體最上層積層有抗靜電層，故亦可有效地獲得抗靜電性。
實施例
以下顯示實施例及比較例，更具體說明本發明之特徵。但本發明之範圍並不限定於實施例。
<製造例1>
硬塗層形成用組成物係分別調製以下所示組成物1~6。
硬塗層組成物1．胺酯丙烯酸酯(UV1700；日本合成公司製)5質量份．聚酯丙烯酸酯(M9050：東亞合成公司)5質量份．聚合起始劑(依魯加居亞184；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.4質量份．甲乙酮10質量份
硬塗層組成物2．二季戊四醇四丙烯酸酯(DPHA；日本化藥製)0.1質量份．抗靜電劑(優尼雷晴UVASH26：新中村化學公司製，4級銨鹽(含反應基))10質量份．聚合起始劑(依魯加居亞184；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.4質量份．甲乙酮10質量份
硬塗層組成物3．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)0.1質量份．聚噻吩(信越聚合物公司製)10質量份(固體成分100%換算)．聚合起始劑(依魯加居亞184；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.4質量份．甲基異丁酮10質量份
硬塗層組成物4．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)0.1質量份．抗靜電劑(DMAA，興人公司製)10質量份．聚合起始劑(依魯加居亞184；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.4質量份．甲基異丁酮10質量份
硬塗層組成物5．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)0.1質量份．抗靜電劑(尼可太保UVAS－201，日本化成公司製)10質量份．聚合起始劑(依魯加居亞184；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.4質量份．甲基異丁酮10質量份
硬塗層組成物6．抗靜電層材料C－4456 S－7(含ATO導電油墨，ATO的平均粒徑300~400nm，固體成分濃度45%日本Pelnox(股)製)11.11質量份．二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)(日本化藥(股)製，折射率1.51)5質量份．光硬化起始劑依魯加居亞184(Ciba Specialty Chemicals公司製)0.4質量份．MIBK(甲基異丁酮)9質量份．環己酮1質量份
<製造例2>
低折射率層形成用組成物係分別調製以下所示組成物1~8及1’。
低折射率層用組成物1．含處理氧化矽溶膠溶液(氧化矽固體成分20質量份%「有空隙的微粒子、溶液；甲基異丁酮」)14.3質量份．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)1.65質量份．抗靜電劑(DMAA、興人公司製，銨系(含反應基))0.3質量份．聚合起始劑(依魯加居亞184；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.1質量份．改質矽酮油(X22164E；信越化學工業公司製)0.15質量份．甲基異丁酮83.5質量份
．低折射率層用組成物2．含處理氧化矽溶膠溶液(氧化矽固體成分20質量份%「有空隙的微粒子、溶液；甲基異丁酮」)14.3質量份．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)1.65質量份．抗靜電劑(Phosmer M、新化學公司製，磷系(含反應基))0.3質量份．聚合起始劑(依魯加居亞369；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.1質量份．改質矽酮油(X22164E；信越化學工業公司製)0.15質量份．甲基異丁酮83.5質量份
低折射率層用組成物3．含處理氧化矽溶膠溶液(氧化矽固體成分20質量份%「有空隙的微粒子、溶液；甲基異丁酮」)14.3質量份．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)1.65質量份．抗靜電劑(HIBORON ASA501M5、Boroninternational公司製，硼離子傳導型)0.3質量份(固體成分)．聚合起始劑(依魯加居亞369；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.1質量份．改質矽酮油(X22164E；信越化學工業公司製)0.15質量份．甲基異丁酮83.5質量份
低折射率層用組成物4．含處理氧化矽溶膠溶液(氧化矽固體成分20質量份%「有空隙的微粒子、溶液；甲基異丁酮」)14.3質量份．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)1.65質量份．抗靜電劑(優尼雷晴UVASH26：新中村化學公司製，4級銨鹽(含反應基))0.3質量份．聚合起始劑(依魯加居亞369；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.1質量份．改質矽酮油(X22164E；信越化學工業公司製)0.15質量份．甲基異丁酮83.5質量份
低折射率層用組成物5．含處理氧化矽溶膠溶液(氧化矽固體成分20質量份%「有空隙的微粒子、溶液；甲基異丁酮」)14.3質量份．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)1.65質量份．抗靜電劑(後摩奇諾魯L18、花王公司製，界面活性劑(非離子)(無反應基))0.3質量份．聚合起始劑(依魯加居亞369；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.1質量份．改質矽酮油(X22164E；信越化學工業公司製)0.15質量份．甲基異丁酮83.5質量份
低折射率層用組成物6．含處理氧化矽溶膠溶液(氧化矽固體成分20質量份%「有空隙的微粒子、溶液；甲基異丁酮」)14.3質量份．聚合起始劑(依魯加居亞369；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.1質量份．改質矽酮油(X22164E；信越化學工業公司製)0.15質量份．抗靜電材料C－4456 S－7(含ATO導電油墨、ATO的平均粒徑300~400nm、固體成分濃度45%日本Pelnox(股)製)0.66質量份．甲基異丁酮80.5質量份．環己酮2.5質量份
低折射率層用組成物7．含處理氧化矽溶膠溶液(氧化矽固體成分20質量份%「有空隙的微粒子、溶液；甲基異丁酮」)14.3質量份．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)1.65質量份．聚合起始劑(依魯加居亞369；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.1質量份．改質矽酮油(X22164E；信越化學工業公司製)0.15質量份．抗靜電材料(桑可諾魯TBX；三光化學工業公司製 鋰離子傳導型)0.3質量份．甲基異丁酮83.5質量份
低折射率層用組成物8．含處理氧化矽溶膠溶液(氧化矽固體成分20質量份%「有空隙的微粒子、溶液；甲基異丁酮」)14.3質量份．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)1.65質量份．聚合起始劑(依魯加居亞369；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.1質量份．改質矽酮油(X22164E；信越化學工業公司製)0.15質量份．抗靜電材料(碳奈米管分散體；SIGMA－ALDRICH公司製 直徑2~8nm、長500~1000nm)0.8質量份．甲基異丁酮83.5質量份
低折射率層用組成物9．含處理氧化矽溶膠溶液(氧化矽固體成分20質量份%「有空隙的微粒子、溶液；甲基異丁酮」)14.3質量份．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)1.65質量份．抗靜電劑(A400－500、三光化學公司製)0.3質量份 鋰離子系．聚合起始劑(依魯加居亞127；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.1質量份．改質矽酮油(X22－4272；信越化學工業公司製)0.15質量份．甲基異丁酮83.5質量份
低折射率層用組成物10．含處理氧化矽溶膠溶液(氧化矽固體成分20質量份%「有空隙的微粒子、溶液；甲基異丁酮」)14.3質量份．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)1.65質量份．吡啶鎓系抗靜電劑(CIL513、日本carlit公司製)0.3質量份．聚合起始劑(依魯加居亞127；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.1質量份．改質矽酮油(X22－4272；信越化學工業公司製)0.15質量份．甲基異丁酮83.5質量份
低折射率層用組成物11．含處理氧化矽溶膠溶液(氧化矽固體成分20質量份%「有空隙的微粒子、溶液；甲基異丁酮」)14.3質量份．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)1.65質量份．咪唑鎓系抗靜電劑0.3質量份．聚合起始劑(依魯加居亞127；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.1質量份．改質矽酮油(X22－164E；信越化學工業公司製)0.15質量份．甲基異丁酮83.5質量份
低折射率層用組成物1’．含處理氧化矽溶膠溶液(氧化矽固體成分20質量份%「有空隙的微粒子、溶液；甲基異丁酮」)14.3質量份．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)1.95質量份．聚合起始劑(依魯加居亞369；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.1質量份．改質矽酮油(X22164E；信越化學工業公司製)0.15質量份．甲基異丁酮83.5質量份
<製造例3>
抗靜電層形成用組成物係分別調製以下所示組成物1~2。
抗靜電層形成用組成物1．二季戊四醇四丙烯酸酯(DPHA；日本化藥製)0.1質量份．抗靜電劑(優尼雷晴UVASH26：新中村化學公司製，4級銨鹽(含反應基))10質量份．聚合起始劑(依魯加居亞184；Ciba Specialty Chemicals公司製)0.4質量份．甲基異丁酮90質量份
抗靜電層形成用組成物2．二季戊四醇四丙烯酸酯(DPHA；日本化藥製)0.1質量份．抗靜電材料C－4456S－7(含ATO導電油墨、ATO的平均粒徑300~400nm、固體成分濃度45%日本Pelnox(股)製)22.22質量份．甲基異丁酮4質量份．環己酮4質量份
實施例1
準備三乙醯纖維素(TAC)膜(富士照相底片製、TF80UL、厚80μm)，於此膜表面以溼潤質量20g/m2 (乾燥質量10g/m2 )塗佈(棒塗法)硬塗層用組成物1，接著於50℃以乾燥將溶劑除去。其後，使用紫外線照射裝置(fusionUV system Japan(股))以照射線量50mJ/cm2 進行紫外線照射來使組成物硬化，形成10μm的硬塗層。
接著，於硬塗層表面以乾燥質量0.1g/m2 塗佈(棒塗法)之低折射率層用組成物1，接著於40℃以乾燥將溶劑除去。其後，使用紫外線照射裝置(fusionUV system Japan(股))以照射線量200mJ/cm2 進行紫外線照射來製造光學積層體。膜厚係以反射率的極小值成為波長550nm附近(膜厚0.10μm)的方式形成。
實施例2
取代低折射率層用組成物1，使用低折射率層用組成物2，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
實施例3
取代低折射率層用組成物1，使用低折射率層用組成物3，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
實施例4
取代低折射率層用組成物1，使用低折射率層用組成物4，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
實施例5
取代低折射率層用組成物1，使用低折射率層用組成物5，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
實施例6
取代低折射率層用組成物1，使用低折射率層用組成物6，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
實施例7
取代低折射率層用組成物1，使用低折射率層用組成物7，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
實施例8
取代低折射率層用組成物1，使用低折射率層用組成物8，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
實施例9
取代低折射率層用組成物1，使用低折射率層用組成物9，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
實施例10
取代低折射率層用組成物1，使用低折射率層用組成物10，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
實施例11
取代低折射率層用組成物1，使用低折射率層用組成物11，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
比較例1
取代硬塗層用組成物1，使用硬塗層用組成物2；取代低折射率層用組成物1，使用低折射率層用組成物1’，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
比較例2
取代低折射率層用組成物1，使用低折射率層用組成物1’，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
比較例3
取代硬塗層用組成物2，使用硬塗層用組成物3，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
比較例4
取代硬塗層用組成物2，使用硬塗層用組成物4，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
比較例5
取代硬塗層用組成物2，使用硬塗層用組成物5，除此之外以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
比較例6
80μm厚的三乙醯纖維素膜(TF80UL、厚80μm、富士照相底片(股)製)作為透明基材使用，於膜上使用塗佈用卷線棒(梅耶棒)塗佈硬塗層用組成物1，於50℃之烘箱中加熱乾燥1分鐘，使溶劑蒸發後，於氮沖洗(purge)下(氧濃度200ppm以下)，以紫外線照射線量成為30mJ的方式進行半硬化狀態(half cure)的照射，以使塗膜硬化，形成膜厚為1μm的抗靜電層。
接著，於此抗靜電層上，使用硬塗層用組成物1與低折射率層組成物1’，以與實施例1相同的方式製造光學積層體。
比較例7
取代硬塗層用組成物2，使用硬塗層用組成物6，除此之外以與比較例1相同的方式製造光學積層體。
為了獲得與實施例同樣等級的抗靜電性能，此比較例7之光學積層體中必須添加微粒子以使抗靜電劑/黏結劑基質成為1/1左右。此係因為各微粒子彼此若沒有接觸的話抗靜電性能便無法展現。此光學積層體雖獲得抗靜電性能，但使用於顯示器時霧度高且不透明而無法使用。
比較例8
使用抗靜電層用組成物2，除此之外以與比較例6相同的方式製造光學積層體。
又，上述各比較例係為了獲得與實施例同樣等級的抗靜電性能而表示了必要的配合例。由下述所示之表1可瞭解到：藉由於低折射率層賦予抗靜電性能可大幅減少必須添加之抗靜電劑的添加量。
評價1灰塵附著性將實施例及比較例所製作之光學積層體其沒有低折射率層的一側的TAC表面以聚酯布20次來回摩擦，將香煙灰靠近於此經摩擦之面，以下述基準評價抗塵埃附著情形。將此示於表1。
評價基準評價○：無灰附著，有抗塵埃附著效果。
評價×：多數的灰附著，無抗塵埃附著效果。
評價2 表面電阻表面電阻值(Ω/□ )係以表面電阻測定器(三菱化學製，製品號碼Hiresta IP MCP－HT260)施加電壓1000V測定。
評價3 霧度霧度值係依照JIS K－7136測定。又，測定機器係使用反射．穿透率計HM－150(村上彩色技術研究所)，評價4 抗靜電劑/黏結劑基質質量比以包含含有抗靜電劑之層的樹脂質量(含抗靜電劑層的質量減去抗靜電劑及溶劑後之質量)作為1時，測定所添加之抗靜電劑的質量配合比例。
藉此可比較實施例、比較例中之抗靜電劑添加量。特別是使用各個相同材料系作為有機系或無機系之抗靜電劑的情況，可比較必須添加的抗靜電劑含量。
藉由本發明，可形成一種光學積層體，其可使成為高成本原因之抗靜電性的添加量減少，簡便且低成本、賦予高抗靜電性。所得之光學積層體較佳係可適用為抗反射積層體，因此，本發明之光學積層體可適用於陰極線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)等。

Claims (8)

  1. 一種光學積層體，係於透光性基材上，至少形成硬塗層以及低折射率層所成者；其特徵在於：1)該低折射率層係形成於最表面；2)該低折射率層係含有抗靜電劑0.5~30質量%，該抗靜電劑於分子中具有反應基；該低折射率層具有：具有空隙之氧化矽粒子、季戊四醇三丙烯酸酯、聚合起始劑、上述抗靜電劑、以及選自熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂與電離放射線硬化性化合物構成之群之至少一種。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學積層體，其中，該抗靜電劑係實質上無色透明者。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之光學積層體，其係於1)硬塗層與透光性基材之間、或者2)硬塗層與低折射率層之間設有防眩層。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之光學積層體，其係作為抗反射用積層體使用。
  5. 如申請專利範圍第3項之光學積層體，其係作為抗反射用積層體使用。
  6. 一種主動式發光型影像顯示裝置；其特徵在於，於最表面具備申請專利範圍第1、2、3、4或5項之光學積層體。
  7. 一種偏光板，係具備偏光元件而成者；其特徵在於，於該偏光元件的表面具備申請專利範圍第1、2、3、4或5項之光學積層體。
  8. 一種非主動式發光型影像顯示裝置；其特徵在於，於最表面具備申請專利範圍第1、2、3、4或5項之光學積層體，或申請專利範圍第7項之偏光板。
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