JP5064649B2 - 反射防止積層体 - Google Patents
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Description
上記課題を解決するため、本発明による反射防止積層体は、光透過性基材上に、少なくとも屈折率が1.45以下の低屈折率層が設けられてなる反射防止積層体であって、
前記低屈折率層が、電離放射線硬化型樹脂組成物と、外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子とを含んでなり、
前記シリカ微粒子の一部もしくは全部が、電離放射線硬化性基を有するシランカップリング剤により、そのシリカ微粒子表面の少なくとも一部が処理されてなるものである。
本発明において用いられる電離放射線硬化型樹脂組成物は、1分子中に少なくとも1つ以上の水素結合形成基と、3個以上の電離放射線で硬化する官能基(単に「電離放射線硬化性基」と呼ぶことがある)とを有する化合物が含まれることが望ましい。このように、樹脂組成物が、電離放射線で硬化する電離放射線硬化性基と、単独であるいは硬化剤との併用により熱硬化する水素結合形成基とを有することにより、樹脂組成物からなる塗工液を被塗工体の表面に塗布し、乾燥し、電離放射線の照射または電離放射線の照射と加熱とを行った際に、塗膜内に架橋結合等の化学結合が形成され、塗膜を効率よく硬化させることができる。
本願明細書中の「外殻層を有し、内部が多孔質または空洞となっているシリカ微粒子」とは、シリカ微粒子の内部に気体が充填された構造および/または気体を含む多孔質構造を有するものを意味する。気体が屈折率1.0の空気である場合、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の空気の占有率に比例して屈折率が低下する。
本発明による反射防止積層体の低屈折率層は、さらに、電離放射線硬化型樹脂組成物およびシリカ微粒子の何れに対しても相溶性を有するフッ素系および/またはケイ素系化合物を含んでなることが好ましい。このようにフッ素系化合物等を含むことにより、塗膜表面を平坦化することができ、また、反射防止積層体に必要とされる防汚性や耐擦傷性の向上に効果がある、滑り性を付与することができる。なお、「相溶性」とは、フッ素系および/またはケイ素化合物を、電離放射線硬化型樹脂組成物やシリカ微粒子が存在する塗膜中に、上記の添加効果が確認できる程度の量を加えた場合でも、塗膜の白濁やヘイズの上昇などによる透明性の低下が確認できない程度の親和性を有することを意味する。
で示される構造を有することが好ましい。
RanSiX4−n
(式中、Raはパーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、またはパーフルオロアルキルエーテル基を含む炭素数3〜1000の炭化水素基を示し、Xはメトキシ基、エトキシ基、もしくはプロポキシ基等の炭素数1〜3のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、もしくはメトキシエトキシ基等のオキシアルコキシ基、または、クロル基、ブロモ基もしくはヨード基等のハロゲン基等の加水分解性基であり、同一でも異なっていてもよく、nは1〜3の整数を示す。)
で示される構造であってもよい。
AlR3
(式中、残基Rは、同一でも異なってもよく、ハロゲン、炭素数10以下、好ましくは4以下のアルキル、アルコキシ、もしくはアシルオキシ、またはヒドロキシであり、これらの基は全部または一部がキレート配位子により置き換えられていてもよい。)
で表されるアルミニウム化合物および/またはその誘導体が、水酸基との相性が良く、特に好ましく用いられる。なお、上記化合物は、アルミニウム化合物および/またはそこから誘導されるオリゴマーおよび/または錯体、ならびに無機または有機酸のアルミニウム塩の中から選定することができる。
硬化剤を用いる場合には、電離放射線硬化型樹脂組成物を主体とするバインダー成分の合計100重量部に対して、硬化剤を通常は0.05〜30.0重量部の割合で配合する。
上記各成分からなる低屈折率層は、溶剤に上記の各成分を溶解させて低屈折率層形成用組成物を調整し、該組成物を一般的な調製法に従って分散処理することにより塗工液を作製し、該塗工液を基材に塗布乾燥することにより形成できる。
以下、溶剤、低屈折率層形成用組成物の調整方法、および塗膜の形成方法について説明する。
バインダー成分として液状の電離放射線硬化型樹脂組成物を比較的多量に用いる場合には、組成物中のモノマーおよび/またはオリゴマーが、液状媒体としても機能し得るので、溶剤を用いなくても塗工液の状態に調製できる場合がある。従って、本発明において溶剤は必ずしも必要ではない。しかしながら、固形成分を溶解分散し、濃度を調整して、塗工適性に優れた塗工液を調製するために溶剤を使用する場合が多い。
上記の各必須成分および各所望成分を任意の順序で混合して、低屈折率層形成用組成物を調製できる。表面処理シリカ微粒子がコロイド形状であれば、そのまま混合することが可能である。また、粉状であえば、得られた混合物にビーズ等の媒体を投入し、ペイントシェーカーやビーズミル等で適切に分散処理することにより、低屈折率層形成用組成物が得られる。
上記低屈折率層形成用組成物を用いて塗膜を形成するには、電離放射線硬化型樹脂組成物、表面処理シリカ微粒子、フッ素系および/またはケイ素系化合物、および各種添加剤を含有する塗工液を、被塗工体の表面に塗布、乾燥した後、電離放射線の照射および/または加熱により硬化させる。
本発明による反射防止積層体を構成する基材は、板状であってもフィルム状であっても良い。好ましい基材としては、例えば、トリアセテートセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルサルホン、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、トリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、(メタ)アクリロニトリル、環状ポリオレフィン等の各種樹脂で形成したフィルム等を例示することができる。基材の厚さは、通常30〜200μm程度であり、好ましくは50〜200μmである。
次に、本発明の好ましい態様による反射防止積層体を説明する。
以下、各層について詳細に説明する。
ハードコート層は、電離放射線硬化型樹脂組成物を使用して形成する。なお、本明細書において、「ハードコート層」とは、JIS5600−5−4:1999で示される鉛筆硬度試験でH以上の硬度を示すものをいう。
防眩層は、電離放射線硬化型樹脂組成物と、屈折率1.40〜1.60を有する樹脂ビーズとから本質的に構成される。樹脂ビーズを含むことで、ハードコート性に加えて、防眩性能を付与することができる。
本発明による反射防止積層体は、静電気の発生を抑えてゴミの付着を防止したり、液晶ディスプレイなどに組みこまれた際の外部からの静電気障害を防止するために、必要に応じて帯電防止層を形成してもよい。この場合の帯電防止層の性能としては反射防止積層体形成後の表面抵抗が1012Ω/□以下となることが好ましい。しかし、1012Ω/□以上であっても、帯電防止層を設けていないものに比べて、埃付着が抑えられる。
本発明の高屈折率層および中屈折率層は、主に、電離放射線硬化型樹脂と、粒子径が100nm以下の超微粒子の酸化亜鉛(屈折率1.90、以下数値は屈折率を示す)、チタニア(2.3〜2.7)、セリア(1.95)、スズドープ酸化インジウム(1.95)、アンチモンドープ酸化スズ(1.80)、イットリア(1.87)、ジルコニア(2.0)からなる群から選ばれた1種以上の微粒子とから構成される。微粒子は、電離放射線硬化型樹脂バインダーよりも屈折率が高いものが好ましい。屈折率は屈折率層中の微粒子の含有率によって決まる。すなわち、微粒子の含有量が多いほど屈折率が高くなるので、電離放射線硬化型樹脂と微粒子の構成比率を変えることで、屈折率を1.46〜2.00の範囲で自由に制御することができる。
反射防止フィルムは、光透過性を有する基材フィルムの一面側または両面に、直接または他の層を介して、光透過性を有しかつ互いに屈折率が異なる光透過層を一層以上積層した構造を有し、その光透過層のうちの少なくとも一つを本発明による反射防止積層体で形成したものである。基材フィルムおよび光透過層は、反射防止フィルムの材料として使用できる程度の光透過性を有する必要があり、できるだけ透明に近いものが好ましい。
平均粒子径5nm、SiO2濃度20重量%のシリカゾル100gと、純水1900gとの混合物を80℃に加熱し反応母液を作製した。この反応母液のpHは10.5であった。この母液に、SiO2として1.17重量%の珪酸ナトリウム水溶液9000gと、Al2O3として0.83重量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、この混合溶液を80℃に保持した。添加直後、混合溶液のpHは12.5に上昇し、その後、殆ど変化しなかった。添加終了後、混合溶液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20重量%のSiO2・Al2O3核粒子分散液を調製した。
平均粒子径5nm、SiO2濃度20重量%のシリカゾル100gと、純水1900gとの混合物を80℃に加熱し反応母液を作製した。この反応母液のpHは10.5であった。この母液に、SiO2として1.17重量%の珪酸ナトリウム水溶液9000gと、Al2O3として0.83重量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、この混合溶液を80℃に保持した。添加直後、混合溶液のpHは12.5に上昇し、その後、殆ど変化しなかった。添加終了後、混合溶液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20重量%のSiO2・Al2O3核粒子分散液を調製した。
上記で得られたシリカ微粒子IおよびIIの各分散液について、ロータリーエバポレーターを用いてイソプロピルアルコールからメチルイソブチルケトンに溶媒置換を行い、シリカ微粒子20重量%の分散液を得た。このメチルイソブチルケトン分散液100重量%に3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを5重量%添加し、50℃で1時間加熱処理することにより、表面処理された中空シリカ微粒子20重量%のメチルイソブチルケトン分散液IAおよびIIAを得た。
3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを10重量%添加した以外は、上記表面処理Aと同様にして、表面処理された中空シリカ微粒子20重量%のメチルイソブチルケトン分散液IBおよびIIBを得た。
3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを0.9重量%添加した以外は、上記表面処理Aと同様にして、表面処理された中空シリカ微粒子20重量%のメチルイソブチルケトン分散液ICおよびIICを得た。
低屈折率層形成用組成物の調製
下記組成の成分を混合して低屈折率層形成用組成物を調製した。
表面処理中空シリカゾル(中空シリカ微粒子分散液IA) 12.85重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.43重量部
イルガキュア907(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 0.1重量部
F3035(商品名、日本油脂(株)製) 0.4重量部
メチルイソブチルケトン 85.22重量部
ハードコート層形成用組成物の調製
下記の組成の成分を配合してハードコート層形成用組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 5.0質量部
イルガキュア184(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製)0.25質量部
メチルイソブチルケトン 94.75質量部
基材/ハードコート層/低屈折率層フィルムの作製
厚み80μmのトリアセテートセルロース(TAC)フィルム上に,上記組成のハードコート層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後,紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株),光源Hパルプ)を用いて、照射線量100mJ/cm2 で紫外線照射を行い,ハードコート層を硬化させて、膜厚約5μmのハードコート層を有する、基材/ハードコート層フィルムを得た。
実施例1にて用いた低屈折率層形成用組成物を、下記のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、実施例2の積層体を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.43重量部
イルガキュア907(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 0.1重量部
F3035(商品名、日本油脂(株)製) 0.4重量部
メチルイソブチルケトン 85.22重量部
実施例3
実施例1にて用いた低屈折率層形成用組成物を、下記のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、実施例3の積層体を得た。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA) 1.43重量部
イルガキュア907(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 0.1重量部
F3035(商品名、日本油脂(株)製) 0.4重量部
メチルイソブチルケトン 85.22重量部
実施例4
実施例1にて用いた低屈折率層形成用組成物を、下記のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、実施例4の積層体を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.43重量部
イルガキュア907(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 0.1重量部
TSF4460(商品名、GE東芝シリコーン(株)製) 0.12重量部
メチルイソブチルケトン 85.5重量部
実施例5
実施例1にて用いた低屈折率層形成用組成物を、下記のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、実施例5の積層体を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.43重量部
イルガキュア907(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 0.1重量部
F3035(商品名、日本油脂(株)製) 0.4重量部
メチルイソブチルケトン 85.22重量部
実施例6
実施例1にて用いた低屈折率層形成用組成物を、下記のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、実施例6の積層体を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.43重量部
イルガキュア907(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 0.1重量部
F3035(商品名、日本油脂(株)製) 0.4重量部
メチルイソブチルケトン 85.22重量部
実施例7
帯電防止層形成用組成物の調製
下記組成の成分を混合して帯電防止層形成用組成物を調製した。
アンチモンドープ酸化スズ分散液
(固形分45%、ペルトロンC−4456S−7:商品名、日本ペルノックス製)
25重量部
HDDA(KS−HDDA:商品名、日本化薬製 10.5重量部
イルガキュア184(商品名、チバスペシャルティケミカルズ製) 0.84重量部
酢酸ブチル 76.5重量部
シクロヘキサノン 32.8重量部
積層体(基材/帯電防止層/ハードコート層/低屈折率層)の作製
上記組成の帯電防止層形成用組成物をTACフィルム上にバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量約20mJ/cm2で紫外線照射を行い,帯電防止層を硬化させて、膜厚約1μmの帯電防止層を作成した。
(1)埃拭き取り試験
得られた積層体5の上に、ティッシュペーパーの埃をふりかけベンコットで表面を軽く拭いたところ、埃は容易に拭き取れた。
(2)帯電減衰測定
上記で得られた積層体5、および帯電防止層を設けない基材/ハードコート層フィルムの帯電減衰を、オネストメーター(シンド静電気(株)製)を用いて測定した。測定条件を以下に示す。
印加電圧 :+10kV
プローブ位置 :20cm
測定時間 :5分間
結果を以下に示す。帯電防止層の効果が確認された。
中屈折率帯電防止層形成用組成物の調製
下記組成の成分を混合して帯電防止層形成用組成物を調製した。
(固形分35%、EI−3:商品名、大日本塗料製) 14.3重量部
イソプロピルアルコール 85.7重量部
積層体(基材/ハードコート層/帯電防止層/低屈折率層)の作製
厚み100μmのPETフィルム上に、実施例1と同様にしてハードコート層を形成した。次に、上記組成の帯電防止層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量100mJ/cm2 で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて膜厚約80nm、屈折率1.65の帯電防止層を得た。
(1)埃拭き取り試験
得られた積層体5の上に、ティッシュペーパーの埃をふりかけベンコットで表面を軽く拭いたところ、埃は容易に拭き取れた。
得られた塗膜の表面抵抗率(Ω/□)の測定については高抵抗率計(ハイレスタ・UP、三菱化学 (株)製)を用い、印加電圧100Vにて積層体最表面の測定を行った。結果、2.0×109(Ω/□)であった。
防眩層形成用組成物の調製
下記組成の成分を混合して防眩層形成用組成物を調製した。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA) 25重量部
スチレンビーズ(粒径3.5μm) 6重量部
トルエン 50重量部
イルガキュア184(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 2重量部
積層体(基材/防眩層/低屈折率層)の作製
上記組成の防眩層形成用組成物をTACフィルム上にバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後,紫外線照射装置を用いて、照射線量100mJ/cm2 で紫外線照射を行い防眩層を硬化させて、膜厚約4μmの防眩層を有する基材/防眩層フィルムを得た。
中屈折率ハードコート層形成用組成物の調製
下記組成の成分を混合して屈折率1.63の中屈折率ハードコート層形成用組成物を調製した。
KZ7973(商品名、JSR社製) 47重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 5重量部
イルガキュア184(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 1重量部
シクロヘキサノン 12重量部
積層体(基材/中屈折率ハードコート層/低屈折率層)の作製
上記組成の中屈折率ハードコート層形成用組成物をTACフィルム上にバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて、照射線量100mJ/cm2 で塗膜を硬化させて、膜厚約5μmの中屈折率ハードコート層を有する基材/中屈折率ハードコート層フィルムを得た。
防汚層形成用組成物の調製
下記組成の成分を混合して防汚層形成用組成物を調製した。
FC−40(商品名、住友3M(株)製) 93.3重量部
積層体(基材/ハードコート層/低屈折率層/防汚層)の作製
実施例2と同様にして、基材上にハードコート層、低屈折率層を形成した。
その後、上記組成の防汚層形成用組成物をバーコーティングし、70℃で4分間熱硬化させることにより、実施例11の積層体を得た。
高屈折率層形成用組成物の調製
下記の成分を混合して屈折率1.90の高屈折率層形成用組成物を調製した。
Disperbyk163 (商品名、ビックケミー・ジャパン製) 2重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 4重量部
イルガキュア184(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 0.2重量部
メチルイソブチルケトン 37.3重量部
中屈折率層形成用組成物の調製
上記屈折率1.90のチタニア分散液10重量部に対して、ジペンタエリスリトールペンタアクリルペースト(SR399E:商品名、日本化薬社製)を2.5重量部加え、屈折率1.76の中屈折率層形成用組成物を調製した。
実施例1と同様にして作製した基材/ハードコート層フィルム上に、上記組成の中屈折率層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量100mJ/cm2 で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて膜厚約80nmの中屈折率層を得た。
さらに、上記組成の高屈折率層形成用組成物を同条件にて塗工し、膜厚約60nmの高屈折率層を得た。
得られた積層体(基材/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層)上に、実施例2と同様にして低屈折率層を形成し、実施例12の積層体を得た。
高屈折率層形成用組成物の調製
下記の成分を混合して屈折率1.70の高屈折率層形成用組成物を調製した。
ルチル型酸化チタン(商品名:MT−500HDM、テイカ社製) 10重量部
Disperbyk163 (商品名、ビックケミー・ジャパン製) 2重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 7.5重量部
イルガキュア184(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 0.2重量部
メチルイソブチルケトン 37.3重量部
積層体(基材/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層)の作製
実施例1と同様にして作製した基材/ハードコート層フィルム上に、上記組成の高屈折率層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量100mJ/cm2 で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて膜厚約80nmの高屈折率層を得た。
得られた積層体(基材/ハードコート層/高屈折率層)上に、実施例2と同様にして低屈折率層を形成し、実施例13の積層体を得た。
実施例1において低屈折率層形成用組成物を以下のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、比較例1の積層体を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.43重量部
イルガキュア907(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 0.1重量部
F3035(商品名、日本油脂(株)製) 0.4重量部
メチルイソブチルケトン 85.22重量部
比較例2
実施例1において低屈折率層形成用組成物を、以下のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、比較例2の積層体を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.43重量部
イルガキュア907(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 0.1重量部
F3035(商品名、日本油脂(株)製) 0.4重量部
メチルイソブチルケトン 85.22重量部
比較例3
実施例1において低屈折率層形成用組成物を、以下のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、比較例3の積層体を得た。
ポリエチレングリコールジアクリレート(PEGDA) 1.43重量部
イルガキュア907(商品名、チバスペシャリティケミカルズ製) 0.1重量部
F3035(商品名、日本油脂(株)製) 0.4重量部
メチルイソブチルケトン 85.22重量部
比較例4
実施例1において低屈折率層形成用組成物を、以下のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、比較例4の積層体を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.43重量部
イルガキュア907(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) 0.1重量部
メチルイソブチルケトン 85.62重量部
比較例5
実施例1において低屈折率層形成用組成物を、以下のように変更した以外は実施例1と同様にして、ハードコート層、および低屈折率層を形成して、比較例5の積層体を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 2.5重量部
イルガキュア907(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製)0.15重量部
F3035(商品名、日本油脂(株)製) 0.4重量部
メチルイソブチルケトン 88.45重量部
このようにして得られた各積層体について、反射率、耐擦過性、および防汚性の試験評価を行った。
島津製作所(株)製分光光度計(UV−3100PC)を用いて絶対反射率を測定した。なお、低屈折率層の膜厚は、反射率の極小値が波長550nm付近になるように設定した。
得られた反射率曲線から、シミュレーションを用いて低屈折率層の屈折率を求めた。
#0000のスチールウールを用い、荷重200gで20往復した時の傷の有無を目視により確認した。評価基準は以下の通りとした。
○:細かい傷(5本以下)が認められるもの
△:傷は著しくつくが、剥離は認められないもの
×:剥離するもの
(3)防汚性評価試験
サンプル表面に油性インクのマジックで描き、それをベンコットンで拭き取った時の状態を観察した。評価基準は以下の通りとした。
Claims (19)
- 光透過性基材上に、少なくとも屈折率が1.45以下の低屈折率層が設けられてなる反射防止積層体であって、
前記低屈折率層が、1分子中に3個以上の電離放射線硬化性基を有する電離放射線硬化型樹脂組成物と、外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子と、前記電離放射線硬化型樹脂組成物および前記シリカ微粒子の何れに対しても相溶性を有するフッ素系および/またはケイ素系化合物とを含んでなり、
前記シリカ微粒子の一部もしくは全部が、アクリロイル基および/あるいはメタクリロイル基を有するシランカップリング剤により、そのシリカ微粒子表面の少なくとも一部が処理されており、
前記シリカ微粒子は、
シリカ原料からなる反応母液に、珪酸ナトリウム水溶液およびアルミン酸ナトリウム水溶液を個別に、または両者の混合水溶液を添加して、複合酸化物からなるコロイド粒子を調製する第1工程、
前記コロイド粒子から、珪素と酸素以外の元素の少なくとも一部を選択的に除去する第2工程、
一部の元素が除去された前記コロイド粒子に、加水分解性の有機珪素化合物または珪酸液を加えて、複合酸化物ゾルを調製する第3工程、および
前記複合酸化物ゾルを50〜300℃の温度で水熱処理を少なくとも2回以上行う第4工程を経て得られるものであり、
前記シリカ微粒子中のNa2Oの含有量が0.5〜2ppmであり、前記シリカ微粒子中のNH3の含有量が600〜1000ppmである、反射防止積層体。 - 前記シリカ微粒子が、シリカ微粒子に対して1〜50重量%の前記シランカップリング剤により、表面処理されたものである、請求項1に記載の反射防止積層体。
- 前記シリカ微粒子の平均粒子径が、5〜100nmの範囲である、請求項1または2に記載の反射防止積層体。
- 前記シリカ微粒子の平均粒子径が5〜100nmの範囲にある場合に、前記シリカ微粒子の外殻層の厚みが1〜30nmである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記シリカ微粒子が、前記電離放射線硬化型樹脂組成物100重量部に対して、70〜250重量部含まれてなる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記シリカ微粒子が、表面に導入されたシランカップリング剤のアクリロイル基および/あるいはメタクリロイル基を介して、前記電離放射線硬化型樹脂組成物と直接および/または遊離シランカップリング剤のアクリロイル基および/あるいはメタクリロイル基を介して化学反応により共有結合を形成してなる、請求項1〜5のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記フッ素系および/またはケイ素系化合物の少なくとも一部が、前記電離放射線硬化型樹脂組成物と、化学反応により共有結合を形成してなる、請求項1〜6のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記フッ素系化合物が、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキルエーテル基、およびパーフルオロアルケニル基の少なくとも1つを有する化合物、ならびにそれらの化合物の混合物からなる群から選択されるものである、請求項1〜7のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
- 前記フッ素系および/またはケイ素系化合物が、下記一般式、
RanSiX4−n
(式中、Raは、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキルエーテル基を含む炭素数3〜1000の炭化水素基を示し、Xは炭素数1〜3のアルコキシ基、オキシアルコキシ基、ハロゲン基を示し、nは1〜3の整数を示す)
で表される化合物からなる、請求項1〜8のいずれか一項に記載の反射防止積層体。 - 前記フッ素系および/またはケイ素系化合物が、前記電離放射線硬化型樹脂組成物と前記シリカ微粒子との総重量に対して、0.01〜10重量%含まれてなる、請求項1〜10のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記基材と前記低屈折率層との間に、ハードコート層が設けられてなる、請求項1〜11のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記ハードコート層が、防眩性能を有してなる、請求項12に記載の反射防止積層体。
- 前記低屈折率層の基材側と反対の側の面に、防汚層が設けられてなる、請求項1〜13のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記ハードコート層と前記低屈折率層との間に、屈折率が1.46〜2.00の範囲で、かつ膜厚が0.05〜0.15μmの範囲である屈折率層が、少なくとも一層以上設けられてなる、請求項1〜14のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記ハードコート層、前記屈折率層、および前記低屈折率層からなる群から選択される少なくとも一層が、帯電防止性能を有する、請求項15に記載の反射防止積層体。
- 前記基材と前記ハードコート層との間に、帯電防止層が設けられてなる、請求項12〜16いずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記低屈折率層が、その層内および/または表面に、ナノポーラス構造を有してなる、請求項1〜17のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
- 前記低屈折率層の膜厚が、0.05〜0.15μmの範囲である、請求項1〜18のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
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