JP4913129B2 - 低屈折率膜形成用コーティング組成物及びこれから製造された膜 - Google Patents
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Description
a)多孔性の有機/無機ハイブリッドナノ粒子;
b)不飽和性官能基を有する光硬化性化合物及び光開始剤または光増感剤;または有機シロキサン系熱硬化性化合物;及び
c)溶媒;を含むことを特徴とする低屈折率膜形成用コーティング組成物を提供する。
<化学式1>
SiR1 1R2 3
<化学式2>
SiR3 4
R1は非加水分解性作用基であって、水素、フッ素、アリール、ビニル、アリル、または無置換もしくはフッ素で置換された直鎖もしくは分岐鎖状の炭素数1乃至4のアルキルであり、望ましくは無置換もしくはフッ素で置換された直鎖もしくは分岐鎖状の炭素数1乃至4のアルキルであり、
R2及びR3はそれぞれ独立にアセトキシ、ヒドロキシ、または直鎖もしくは分岐鎖状の炭素数1乃至4のアルコキシである。
光硬化性膜形成用コーティング組成物の製造
実施例1
メチルトリメトキシシラン(MTMS)34g、テトラエトキシシラン(TEOS)52g、及びエタノール(EtOH)161gを混合した後、常温で撹拌した。前記混合液に蒸留水66gで希釈させた10重量%のテトラプロピルアンモニウムヒドロキシド水溶液(TPAOH)102gを加えて十分混合した後、80℃に温度を上昇させ、この温度において20時間反応させながら透明なシリケート溶液を製造した。前記シリケート溶液を常温に冷やした後、0℃のice-bathで温度を低め、65重量%の硝酸水溶液(HNO3)6.4gを加えて30分間撹拌して収得した溶液をエーテル溶媒で希釈させた。
前記実施例1から、蒸留水84gで希釈させた10重量%のテトラプロピルアンモニウムヒドロキシド水溶液81gを使用し、70℃において反応させ、65重量%の硝酸水溶液5.1gを使用したことを除いては前記実施例1と同一な方法にて施して、多孔性有機/無機ハイブリッドナノ粒子が分散されたコロイド212gを製造した。ナノ粒子が分散された溶液は完全透明であって、前記ナノ粒子のみを使用して乾燥した膜の屈折率は1.263であった。
前記実施例1から、蒸留水48gで希釈させた10重量%のテトラプロピルアンモニウムヒドロキシド水溶液122gを使用し、90℃で12時間水熱反応させ、65重量%の硝酸水溶液7.6gを使用したことを除いては前記実施例1と同一な方法にて施して、多孔性有機/無機ハイブリッドナノ粒子が分散されたコロイド212gを製造した。ナノ粒子が分散された溶液は完全透明であって、前記ナノ粒子のみを使用して乾燥した膜の屈折率は1.234であった。
前記実施例1から、メチルトリメトキシシラン45g、テトラエトキシシラン35g、及び蒸留水77gで希釈させた10重量%のテトラプロピルアンモニウムヒドロキシド水溶液81gを使用し、60℃において反応させ、65重量%の硝酸水溶液3.6gを使用したことを除いては前記実施例1と同一な方法で施し、多孔性有機/無機ハイブリッドナノ粒子が分散されたコロイド215gを製造した。ナノ粒子が分散された溶液は完全透明であって、前記ナノ粒子のみを使用して乾燥した膜の屈折率は1.274であった。
前記実施例1から、メチルトリメトキシシラン27g、テトラエトキシシラン63g、及び蒸留水70.5gで希釈させた10重量%のテトラプロピルアンモニウムヒドロキシド水溶液102gを使用したことを除いては前記実施例1と同一な方法で施し、多孔性有機/無機ハイブリッドナノ粒子が分散されたコロイド209gを製造した。ナノ粒子が分散された溶液は完全透明であって、前記ナノ粒子のみを使用して乾燥した膜の屈折率は1.288であった。
テトラエトキシシラン(TEOS)104g及びエタノール(EtOH)184gを混合した後、常温で撹拌した。前記混合液に蒸留水98gで希釈させた25重量%のテトラプロピルアンモニウムヒドロキシド水溶液(TPAOH)61gを加えて十分混合した後、80℃に温度を上昇させ、この温度において30時間反応させながら透明なシリケート溶液を製造した。前記シリケート溶液を常温に冷やした後、0℃のice-bathで温度を低め、65重量%の硝酸水溶液(HNO3)9.5gを加えて30分間撹拌して収得した溶液を水とエタノール溶媒で希釈させた。
前記実施例2から、15重量%のペンタエリスリトールテトラアクリレート(pentaerythritoltetraacrylate, PETA)の代わりにペンタエリスリトールテトラアクリレートとペルフルオロヘキサンジオールジアクリレート(1H, 1H, 6H, 6H-perfluoro-1,6-hexanedioldiacrylate)が7:3の重量比で混合された混合物を使用したことを除いては前記実施例2と同一な方法にて施して、低屈折率膜形成用コーティング組成物を製造した。
前記実施例1から、蒸留水119gで希釈させた10重量%のテトラプロピルアンモニウムヒドロキシド水溶液64gを使用し、60℃において反応させ、65重量%の硝酸水溶液15.9gを使用したことを除いては前記実施例1と同一な方法にて施して、15重量%のハイブリッドシロキサン樹脂が分散された溶液2.0g及び15重量%のペンタエリスリトールテトラアクリレートが溶解されているプロピレングリコールメチルエーテルアセテート溶液4.7gを混合した後、2,2−ジメトキシ−2−フェニル−アセトフェノン140mgを添加したことを除いては前記実施例1と同一に施して、光硬化性膜形成用コーティング組成物を製造した。
前記実施例7から、比較例1から製造した15重量%のハイブリッドシロキサン樹脂が分散された溶液5.3gを使用したことを除いては前記実施例7と同一に施して、光硬化性膜形成用コーティング組成物を製造した。
15重量%のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが溶解されているプロピレングリコールメチルエーテルアセテート溶液5.0gに2,2−ジメトキシ−2−フェニル−アセトフェノン150mgを添加して光硬化性膜形成用コーティング組成物を製造した。
ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペルフルオロヘキサンジオールジアクリレートが7:3の重量比で混合された混合物が溶解されている 15重量%のプロピレングリコールメチルエーテルアセテート溶液5.0gに2,2−ジメトキシ−2−フェニル−アセトフェノン150mgを添加して光硬化性膜形成用コーティング組成物を製造した。
実施例8
メチルトリメトキシシラン(MTMS)34g、テトラエトキシシラン(TEOS)52g、及びエタノール(EtOH)161gを混合した後、常温で撹拌した。前記混合液に蒸留水66gで希釈させた10重量%のテトラプロピルアンモニウムヒドロキシド水溶液(TPAOH)102gを加えて十分混合した後、80℃に温度を上昇させ、この温度において20時間反応させながら透明なシリケート溶液を製造した。前記シリケート溶液を常温に冷やした後、0℃のice-bathで温度を低め、65重量%の硝酸水溶液(HNO3)6.4gを加えて30分間撹拌して収得した溶液をエーテル溶媒で希釈させた。
前記実施例8から、メチルトリメトキシシラン27g、テトラエトキシシラン63g、及び蒸留水70.5gで希釈させた10重量%のテトラプロピルアンモニウムヒドロキシド水溶液102gを使用し、60℃で反応させ、65重量%の硝酸水溶液5.1gを使用したことを除いては前記実施例8と同一な方法で施し、多孔性有機/無機ハイブリッドナノ粒子が分散されたコロイド209gを製造した。ナノ粒子が分散された溶液は完全透明であって、前記ナノ粒子のみを使用して乾燥した膜の屈折率は1.288であった。
テトラエトキシシラン(TEOS)104g及びエタノール(EtOH)184gを混合した後、常温で撹拌した。前記混合液に蒸留水98gで希釈させた25重量%のテトラプロピルアンモニウムヒドロキシド水溶液(TPAOH)61gを加えて十分混合した後、80℃に温度を上昇させ、この温度において30時間反応させながら透明なシリケート溶液を製造した。前記シリケート溶液を常温に冷やした後、0℃のice-bathで温度を低め、65重量%の硝酸水溶液(HNO3)9.5gを加えて30分間撹拌して収得した溶液を水とエタノール溶媒で希釈させた。
メチルトリエトキシシラン45g、テトラエトキシシラン52g、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテート147gを混合した後、常温で撹拌した。前記混合液に65重量%の硝酸水溶液485mgが溶解されている蒸留水水溶液160gを加えて十分混合した後、60℃に温度を上昇させ、この温度において20時間反応させながら透明な有機シロキサン溶液を製造した。前記有機シロキサン溶液を常温に冷やした後、回転濃縮機(rotary evaporator)を用いてプロピレングリコールメチルエーテルアセテートで溶媒置換して20重量%の有機シロキサンコーティング液159gを製造した。
メチルトリメトキシシラン34g、テトラエトキシシラン52g、及びエタノール161gを混合した後、常温で撹拌した。前記混合液に蒸留水66gで希釈させた10重量%のテトラプロピルアンモニウムヒドロキシド水溶液102gを加えて十分混合した後、80℃に温度を上昇させ、この温度において20時間反応させながら透明なシリケート溶液を製造した。前記シリケート溶液を常温に冷やした後、0℃のice-bathで温度を低め、65重量%の硝酸水溶液(HNO3)4.5gを加えて30分間撹拌して収得した溶液をエーテル溶媒で希釈させた。前記希釈された溶液を回転濃縮機(rotary evaporator)を用いてプロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)で溶媒置換した後、シリケートコーティング液212gを製造した。
前記比較例5から製造した有機シロキサンコーティング液3gと前記比較例6から製造したシリケートコーティング液2.7gを混合して最終コーティング組成物を製造した。
トリデカフルオロテトラヒドロオクチルトリエトキシシラン((tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydro-octyl)triethoxysilane)26g、メチルトリエトキシシラン9g、テトラエトキシシラン42g、及びエタノール97gを混合した後、常温で撹拌した。前記混合液に蒸留水99gで希釈させた65重量%の硝酸水溶液(HNO3)0.3gを加えて十分混合した後、60℃に温度を上昇させ、この温度において20時間反応させながら透明なシリケート溶液を製造した。前記シリケート溶液を回転濃縮機(rotary evaporator)を用いてプロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)で溶媒置換した後、15重量%の有機シロキサンコーティング液233gを製造した。
前記のように製造した実施例1乃至7及び比較例1乃至4から製造したコーティング組成物を用いて屈折率、機械的強度、及び最低反射率を下記のように測定し、その結果を下記表1に示した。
ロ)機械的強度:前記実施例1乃至7及び比較例1乃至4から製造したコーティング組成物を使用して膜に対してナノインデンターを用いて強度を測定した。
ハ)最低反射率(低屈折率膜の低反射特性):前記実施例1乃至7及び比較例1乃至4から製造したコーティング組成物をTACフィルム上にワイヤーバーを用いてコーティングした後、前記の方法にて硬化させた後、反射防止フィルムを製造し、分光反射率測定器を用いて可視光線における最低反射率を測定して2.5%超過は不十分、1.5乃至2.5%は優秀、1.5%未満は非常に優秀と示した。
また、前記のように製造した実施例8乃至10及び比較例5乃至8から製造したコーティング組成物を用いて屈折率、膜強度、及び最低反射率を下記のように測定し、その結果を下記表2に示した。
ロ)最低反射率:前記のように製造した実施例8乃至10及び比較例5乃至8から製造したコーティング組成物をTACフィルム上にワイヤーバーを用いてコーティングした後、100℃で1時間硬化させた後、反射防止フィルムを製造し、分光反射率測定器を用いて可視光線における最低反射率を測定して2.5%超過は不十分、1.5乃至2.5%は優秀、1.5%未満は非常に優秀と示した。
Claims (16)
- 低屈折率膜形成用コーティング組成物において、
a)5乃至30nmの平均粒径及び最大0.65のC/Si比を有する、多孔性の有機/無機ハイブリッドナノ粒子;
b)不飽和性官能基を有する光硬化性化合物及び光開始剤または光増感剤;あるいは有機シロキサン系熱硬化性化合物;及び
c)溶媒;
を含み、
前記a)の多孔性有機/無機ハイブリッドナノ粒子が、i)シラン化合物、ii)構造制御剤、iii)水、及びiv)溶媒の混合物の加水分解及び縮合によって調製され、平均粒径が5乃至30nmである多孔性ナノ粒子に形成させた後、前記平均粒径が5乃至30nmである多孔性ナノ粒子から構造制御剤を除去して製造されることを特徴とする低屈折率膜形成用コーティング組成物。 - 前記a)の多孔性有機/無機ハイブリッドナノ粒子が膜形成用コーティング組成物の全固形粉に対して少なくとも60重量%で含まれることを特徴とする請求項1に記載の低屈折率膜形成用コーティング組成物。
- 前記i)のシラン化合物が下記化学式1または化学式2:
<化学式1>
SiR1 1R2 3
<化学式2>
SiR3 4
(式中、R1は非加水分解性作用基であって、水素、フッ素、アリール、ビニル、アリル、または無置換のもしくはフッ素で置換された直鎖もしくは分岐鎖状の炭素数1乃至4のアルキルであり、R2及びR3はそれぞれ独立にアセトキシ、ヒドロキシ、または直鎖もしくは分岐鎖状の炭素数1乃至4のアルコキシである。)
で表されるシラン化合物であることを特徴とする請求項1に記載の低屈折率膜形成用コーティング組成物。 - 前記構造制御剤がテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアルキルアンモニウムヒドロキシド、及びテトラブチルアンモニウムヒドロキシドからなるアルキルアンモニウムヒドロキシドから1種以上選ばれることを特徴とする請求項1に記載の低屈折率膜形成用コーティング組成物。
- 前記構造制御剤がシラン化合物1モルに対して0.05乃至0.25モルで使用されることを特徴とする請求項1に記載の低屈折率膜形成用コーティング組成物。
- 前記加水分解及び縮合反応温度が30乃至100℃であり、または使用した反応溶媒の沸点より5乃至70℃以上の温度を保持するように加圧した条件を特徴とする請求項1に記載の低屈折率膜形成用コーティング組成物。
- 前記構造制御剤がイオン交換樹脂法、限外ろ過法、または水による洗滌法によって除去されることを特徴とする請求項1に記載の低屈折率膜形成用コーティング組成物。
- 前記b)の不飽和性官能基を有する光硬化性化合物が、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレン基の数が2乃至14であるポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、プロピレン基の数が2乃至14であるプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、またはジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートの多価アルコールをα,β−不飽和カルボン酸とエステル化して得られる化合物、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルアクリル酸付加物のグリシジル基を含有する化合物に(メタ)アクリル酸を付加して得られる化合物、ビスフェノールAジグリシジルエーテルアクリル酸付加物のグリシジル基を含有する化合物に(メタ)アクリル酸を付加して得られる化合物、β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートフタル酸エステルのトルエンジイソシアネート付加物のエチレン性不飽和結合もしくは水酸化基を有する化合物と多価カルボン酸とのエステル化によって得られるエステル化合物またはポリイソシアネート付加物、β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートのトルエンジイソシアネート付加物の水酸化基もしくはエチレン性不飽和結合を有する化合物と多価カルボン酸とのエステル化合物もしくはポリイソシアネート付加物、及びメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、及び2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートの(メタ)アクリル酸アルキルエステルからなる群から1種以上選ばれることを特徴とする請求項1に記載の低屈折率膜形成用コーティング組成物。
- 前記b)の光開始剤がアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミッヒラー(Michler)ベンゾイルベンゾエート、α−アミルオキシムエステル、またはチオキサントン類であり、光増感剤がn−ブチルアミン、トリエチルアミン、またはトリ−n−ブチルホスフィンであることを特徴とする請求項1に記載の低屈折率膜形成用コーティング組成物。
- 前記b)の前記有機シロキサン系熱硬化性化合物が酸または塩基の触媒下においてオルガノシラン化合物を加水分解及び縮合反応させて製造されることを特徴とする請求項1に記載の低屈折率膜形成用コーティング組成物。
- 前記オルガノシラン化合物がテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリフェノキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、n−プロピルトリフェノキシシラン、i−プロピルトリメトキシシラン、i−プロピルトリエトキシシラン、i−プロピルトリフェノキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、5,6−エポキシヘキシルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、及びトリデカフルオロテトラヒドロオクチルトリエトキシシランからなる群から1種以上選ばれることを特徴とする請求項10に記載の低屈折率膜形成用コーティング組成物。
- 前記b)の有機シロキサン系熱硬化性化合物がフルオロシランと一般シランの共重合体であることを特徴とする請求項1に記載の低屈折率膜形成用コーティング組成物。
- 請求項1に記載の低屈折率膜形成用コーティング組成物を基材に塗布した後、硬化させて製造されることを特徴とする低屈折率膜の製造方法。
- 請求項13に記載の方法で製造されることを特徴とする膜。
- 前記膜は低反射膜であることを特徴とする請求項14に記載の膜。
- 前記膜はワードプロセッサー、コンピューター、テレビ、またはプラズマディスプレーパネル、液晶表示装置に使用される偏光板の表面、サングラスレンズ、度付き眼鏡レンズ、カメラ用ファインダーレンズ、計器のカバー、自動車のガラス、電車のガラス、光輝度向上膜、または光導波路膜で使用されることを特徴とする請求項14に記載の膜。
Applications Claiming Priority (5)
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KR101470467B1 (ko) * | 2013-03-15 | 2014-12-08 | 주식회사 엘지화학 | 코팅 조성물 |
FR3024457B1 (fr) * | 2014-07-30 | 2018-01-12 | Essilor International | Composition de vernis anti-abrasion pour substrat en polyacrylate thermoplastique |
KR102316018B1 (ko) * | 2018-11-23 | 2021-10-22 | 주식회사 엘지화학 | 광학 적층체 |
CN117922138A (zh) * | 2024-03-21 | 2024-04-26 | 安徽国风新材料股份有限公司 | 一种多层结构光学聚酯薄膜及其制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003052003A1 (fr) * | 2001-12-14 | 2003-06-26 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Composition de revetement permettant de former des couches minces a faible indice de refraction |
JP2004314468A (ja) * | 2003-04-17 | 2004-11-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 硬化被膜が形成された透明基材及びそのための硬化性組成物 |
JP2005099778A (ja) * | 2003-08-28 | 2005-04-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止積層体 |
JP2006111782A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Matsushita Electric Works Ltd | コーティング材組成物及び塗装品 |
JP2006209050A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-08-10 | Jsr Corp | 反射防止膜 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3761189B2 (ja) * | 1993-11-04 | 2006-03-29 | 触媒化成工業株式会社 | 複合酸化物ゾル、その製造方法および基材 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003052003A1 (fr) * | 2001-12-14 | 2003-06-26 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Composition de revetement permettant de former des couches minces a faible indice de refraction |
JP2004314468A (ja) * | 2003-04-17 | 2004-11-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 硬化被膜が形成された透明基材及びそのための硬化性組成物 |
JP2005099778A (ja) * | 2003-08-28 | 2005-04-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止積層体 |
JP2006111782A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Matsushita Electric Works Ltd | コーティング材組成物及び塗装品 |
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