JP4452311B2 - 反射防止膜形成用組成物、及び画像表示装置 - Google Patents
反射防止膜形成用組成物、及び画像表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4452311B2 JP4452311B2 JP2008200743A JP2008200743A JP4452311B2 JP 4452311 B2 JP4452311 B2 JP 4452311B2 JP 2008200743 A JP2008200743 A JP 2008200743A JP 2008200743 A JP2008200743 A JP 2008200743A JP 4452311 B2 JP4452311 B2 JP 4452311B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acrylate
- meth
- composition
- antireflection film
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 35
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 35
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 31
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 16
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 9
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 7
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 6
- STFXXRRQKFUYEU-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C STFXXRRQKFUYEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OWQCUVRSJUABCB-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C OWQCUVRSJUABCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 claims description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- -1 siloxane structure Chemical group 0.000 description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 5
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 5
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 5
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 3
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical class CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXVXVOLXMVYIT-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 2-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1N(C)C ARXVXVOLXMVYIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVWMNAWLNRRPOL-UHFFFAOYSA-N 3-phenylbutan-2-one Chemical compound CC(=O)C(C)C1=CC=CC=C1 CVWMNAWLNRRPOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000032544 Cicatrix Diseases 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000005811 Viola adunca Nutrition 0.000 description 1
- 240000009038 Viola odorata Species 0.000 description 1
- 235000013487 Viola odorata Nutrition 0.000 description 1
- 235000002254 Viola papilionacea Nutrition 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- SKUOMLBGESIVAP-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone;2-methoxyethanol Chemical compound COCCO.O=C1CCCCC1 SKUOMLBGESIVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- WCHFOOKTKZYYAE-UHFFFAOYSA-N ethoxyperoxyethane Chemical class CCOOOCC WCHFOOKTKZYYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000000985 reflectance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 231100000241 scar Toxicity 0.000 description 1
- 230000037387 scars Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D175/04—Polyurethanes
- C09D175/14—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
- C09D175/16—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
- G02B1/116—Multilayers including electrically conducting layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
その代表的な使用例は、プラズマディスプレイパネル(PDP)や液晶表示装置(LCD)のような画像表示装置の最表面の外光の反射を防止する際に用いられる反射防止膜である。
このような用途に適用される反射防止膜には、高い耐擦傷性、防汚性等が要求される。
また、特許文献2では、グラフト共重合体における主鎖、側鎖にシロキサン構造、フッ素原子を多く含むため、被膜形成用組成物に相分離や塗布時にはじきが発生し易い、また、反射率が高いという問題がある。
不飽和二重結合及び分岐炭素鎖を有する感光性モノマーは滑り性付与成分であり、これに多官能感光性モノマーを併用することにより、耐擦傷性及び耐薬品性に優れた反射防止膜を形成することができる。
上記多官能感光性モノマーは、(メタ)アクリレート系モノマーが好適に用いられる。
上記多官能感光性モノマーの好適な例としては、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、イソシアヌール酸EO変性(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが挙げられる。
また、ウレタン(メタ)アクリレートを使用してもよい。
アルキル基(アルキル鎖)を有する多官能感光性モノマーの好適な例としては、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのEO変性(メタ)ジアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンEO変性(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレートが挙げられる。
または、アルキル基(アルキル鎖)を有する多官能のウレタン(メタ)アクリレートを使用してもよい。
上記好適な多官能感光性モノマーの含有量とすることにより、3次元網目構造を形成しやすく、硬化後の膜強度が高くなる。これにより、耐擦傷性、耐薬品性を長期にわたり維持することができる。また、未反応の多官能感光性モノマーがブリードアウトすることを防止し、滑り性を発現させることができる。
本発明において、「不飽和二重結合を有する」とは、エチレン性不飽和基を少なくとも1つ有することを意味する。「分岐炭素鎖を有する」とは、炭素鎖が分岐した構造を有することを意味する。
炭素数の合計を4以上24以下とすることにより、モノマーの分子量が高くなるため、モノマー成分の揮発を抑制できる。これにより、組成割合のバランスを維持することができ、滑り性などの硬化後の特性を十分に発現できる。
また、適度な長さのアルキル基を有することにより、Tgが高くなり、これにより常温時において塗膜が硬くなり、膨潤しにくくなるため、耐擦傷性、耐薬品性低下を抑制できる。Tgが低いと硬化しても常温で固体を維持することができず、表面にベタベタ感(表面タック性が強い)が発現し、耐擦傷性、耐薬品性が低下する。よって、Tgは高い方がよい。さらに、適度な長さのアルキル基を有することにより、多官能成分との相溶解性低下を抑制して、ブリードアウトを防止することができる。
また、分岐炭素鎖を有することにより、表面張力が低下し、塗布時のレベリング性(平滑性)が増す。また、硬化後の塗膜表面の滑り性も発現する。さらに、塗膜表面が疎水性になるために耐水性が向上する。
R1とR2の炭素数の合計は6以上18以下であることがより好ましい。
上記不飽和二重結合及び分岐炭素鎖を有する感光性モノマーの含有量は、反射防止膜形成用組成物中、固形分換算で好ましくは5〜40重量%であり、より好ましくは10〜20重量%である。
上記好適な感光性モノマーの含有量とすることにより、耐擦傷性、耐薬品性を維持したまま、滑り性、耐水性を付与できる。また、屈折率を多官能モノマーより低くできるため、反射率低下が期待できるとともに、表面張力を低下させ、レベリング性(表面平滑性)にも優れる。さらに、単官能成分の増加を抑制して物理特性を維持できるとともに、多官能成分との相溶性を維持でき、ブリードアウトを防止することができる。
上記光重合開始剤の好適な例としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、2-ヒドロキシ-22メチルフェニルプロパノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキサイド、2-メチル-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノ-1-プロパノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタン-1-オン、ミヒラーズケトン、N,N-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、2-クロロチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン等が挙げられる。
上記有機溶剤の好適な例としては、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、2-ブトキシエタノール、1-メトキシ-2-プロパノール、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;2-メトキシエチルアセタート、2-エトキシエチルアセタート、2-ブトキシエチルアセタート等のエーテルエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類;等が挙げられる。
上記反射防止膜形成用組成物は、さらに、低屈折率フィラーを含むことが好ましい。
低屈折率フィラーは、粒径が5〜100nmの微粒子であることが好ましく、屈折率が好ましくは1.48以下、より好ましくは1.45以下である。
低屈折率フィラーの好適な例としては、フッ化マグネシム、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、フッ化アルミニウム、酸化ケイ素(中空状も含む)の各微粒子が挙げられる。
上記反射防止膜形成用組成物を、基材に塗布した後、光重合により硬化させて、反射防止膜を得る。なお、上記反射防止膜形成用組成物は、ハードコート(以下、HCともいう)層用樹脂組成物としても利用することができる。
本発明の画像表示装置は、上記反射防止膜形成用組成物を硬化して得られる反射防止膜を備える。その好適な例としては、プラズマディスプレイパネル(PDP)や液晶表示装置(LCD)のような画像表示装置が挙げられ、これら最表面の外光の反射を防止する際に反射防止膜が用いられる。
変性アルコール分散20%ATO(触媒化成工業(株)社製)750部にDPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)(アルドリッチ(株)社製)100部を混合し、IPAを200部、PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル)を200部加えた。そこへ光重合開始剤(製品名Irg.907、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)社製)を5部加え、感光性組成物を得た。
上記HC剤を易接着付きPET(東洋紡績(株)社製、商品名:A4300)上に乾燥後の膜厚が1μmとなるようにマイクログラビアにより塗布した。その後、積算光量200mJ/cm2となるように紫外線を照射し、光重合反応をさせることにより、ハードコート層付きフィルムを得た。
(比較例3、実施例2)
表1に示す配合量により、以下の成分(A)及び成分(D)を混合し、固形分濃度が3重量%となるように溶剤(C)を加えた。次いで、光重合開始剤(B)を添加して反射防止膜形成用組成物を得た。
(実施例3)
表1に示す配合量により、以下の成分(E)に成分(A)及び成分(D)を混合し、固形分濃度が3重量%となるように溶剤(C)を加えた。次いで、光重合開始剤(B)を添加して反射防止膜形成用組成物を得た。
(A):DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)(アルドリッチ(株)社製)
(B):光重合開始剤: 2-メチル-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノ-1-プロパノン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)社製)
(C):有機溶剤:PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル)(和光純薬工業(株)社製)
(D):イソステアリルアクリレート(大阪有機化学工業(株)社製)
(E):スルーリア22SW01−AS(MIBK分散中空シリカ:20%)(触媒化成工業(株)社製)
表1に示す配合量により、成分(A)に固形分濃度が3重量%になるように溶剤(C)を加えた。次いで、光重合開始剤(B)を添加して反射防止膜形成用組成物を得た。
(比較例2)
表1に示す配合により、成分(E)に成分(A)を混合し、固形分濃度が3重量%となるように溶剤(C)を加えた。次いで、光重合開始剤(B)を添加して反射防止膜形成用組成物を得た。
上述の各反射防止膜形成用組成物をバーコーター(No.8)を用いて上記ハードコート層付きフィルムに塗布し、80℃の乾燥炉中に1分間乾燥後、窒素下雰囲気で300mJ/cm2の紫外線を照射し、硬化被膜(100〜120nm)を有する比較例3、実施例2及び比較例1のフィルムを得た。
(反射率スペクトルの測定)
比較例3、実施例2、比較例1で得られた硬化被膜の裏面を#400のサンドペーパーで荒らした後、艶消しの黒色塗料を塗布し、その後、反射率を反射率測定器((株)島津製作所製、装置名:UV−3150)により、視感平均反射率を測定した。
硬化皮膜をスチールウール(日本スチールウール(株)社製、商品名:ボンスター#0000)により200g/cm2で10回擦り、艶消しの塗料を塗布し、傷の有無を目視にて観察し、以下の基準により評価した。
○:傷がほとんど観察されない
△:傷がやや観察される
×:傷が多数観察される
硬化皮膜を艶消しの黒色塗料を塗布し、指紋を付着させてから、5分後にベンコット(旭化成(株)社製)で指紋を拭き取った時の表面状態を観察し、以下の基準により評価した。
◎:簡単に拭き取れる。
○:しっかり擦れば拭き取れる。
△:一部が拭き取れずに残る。
×:ほとんど拭き取れずに残る。
キャップが付いているマーキングペン(例えば、寺西化学工業(株)社製)の先を硬化皮膜表面を90°の角度であてて文字を書く程度の強さで擦り、摩擦音あるいは摩擦抵抗の強さを感応的に以下の基準により評価した。
○:摩擦音及び抵抗感がない。
△:摩擦音または抵抗感を感じる。
×:摩擦音または抵抗感を強く感じる。
硬化皮膜の裏面を艶消しの黒色塗料を塗布し、外観特性(ハジキ、塗工ムラ)を3波長管の蛍光灯の下で目視により以下の基準により評価した。
○:著しいハジキ、塗布ムラなし。
△:ハジキ、塗布ムラが一部ある。
×:ハジキ、塗布ムラが多い。
硬化皮膜の裏面を艶消しの黒色塗料を塗布し、次いで表面に1%NaOH水溶液をスポイトで取り0.1ml滴下し、室温で30分放置後、ウエスで薬品を拭き取り、滴下部分の変色(変色ない場合は青紫の色相である)有無を3波長管の蛍光灯の下で観察し、以下の基準により評価した。
○:変色なしまたは変色小(色相が青紫から薄い青紫に変化する程度)
△:変色小(色相が青紫から赤紫に変化する程度)
×:変色大または膜の溶出(色相が青紫から赤に変化程度または完全に溶解する場合)
Claims (5)
- (メタ)アクリレート系モノマーである多官能感光性モノマーと、イソラウリルアクリレート、イソミリスチルアクリレート、イソセチルアクリレート、イソステアリルアクリレート及びイソステアリルメタクリレートからなる群より選択される一以上である不飽和二重結合及び分岐炭素鎖を有する感光性モノマーと、光重合開始剤と、有機溶剤と、を含む反射防止膜形成用組成物であって、
前記不飽和二重結合及び分岐炭素鎖を有する感光性モノマーの含有量は、該反射防止膜形成用組成物中、固形物換算で(17.7×100)/123.55重量%〜20重量%である、反射防止膜形成用組成物。 - 前記(メタ)アクリレート系モノマーは、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、イソシアヌール酸EO変性(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのEO変性(メタ)ジアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンEO変性(メタ)アクリレート、及びジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレートからなる群より選択される一以上である、請求項1に記載の反射防止膜形成用組成物。
- 前記多官能感光性モノマーの含有量は、該反射防止膜形成用組成物中、固形物換算で5重量%〜10000/123.55重量%である、請求項1又は2に記載の反射防止膜形成用組成物。
- さらに、低屈折率フィラーを含む、請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止膜形成用組成物。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止膜形成用組成物を硬化して得られる反射防止膜を備えた、画像表示装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008200743A JP4452311B2 (ja) | 2007-08-30 | 2008-08-04 | 反射防止膜形成用組成物、及び画像表示装置 |
TW097132078A TWI462936B (zh) | 2007-08-30 | 2008-08-22 | 形成抗反射膜用組成物及影像顯示裝置 |
CN2008101467491A CN101377553B (zh) | 2007-08-30 | 2008-08-29 | 防反射膜形成用组合物以及图像显示装置 |
KR1020080084962A KR20090023258A (ko) | 2007-08-30 | 2008-08-29 | 반사 방지막 형성용 조성물, 및 화상표시장치 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007224847 | 2007-08-30 | ||
JP2008200743A JP4452311B2 (ja) | 2007-08-30 | 2008-08-04 | 反射防止膜形成用組成物、及び画像表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009075567A JP2009075567A (ja) | 2009-04-09 |
JP4452311B2 true JP4452311B2 (ja) | 2010-04-21 |
Family
ID=40421183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008200743A Active JP4452311B2 (ja) | 2007-08-30 | 2008-08-04 | 反射防止膜形成用組成物、及び画像表示装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4452311B2 (ja) |
KR (1) | KR20090023258A (ja) |
CN (1) | CN101377553B (ja) |
TW (1) | TWI462936B (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103183614A (zh) * | 2013-02-28 | 2013-07-03 | 大连大学 | 丙烯酸格尔伯特醇酯及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4066870B2 (ja) * | 2003-04-10 | 2008-03-26 | Jsr株式会社 | 液状硬化性組成物、硬化膜及び帯電防止用積層体 |
CN1849355A (zh) * | 2003-10-24 | 2006-10-18 | 日本化药株式会社 | 感光性树脂组合物及具有其固化膜的薄膜 |
US7709551B2 (en) * | 2005-06-02 | 2010-05-04 | Lg Chem, Ltd. | Coating composition for film with low refractive index and film prepared therefrom |
KR100793597B1 (ko) * | 2005-06-02 | 2008-01-10 | 주식회사 엘지화학 | 광경화형 막 형성용 코팅 조성물 및 이로부터 제조된 막 |
JP5224667B2 (ja) * | 2005-09-29 | 2013-07-03 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
-
2008
- 2008-08-04 JP JP2008200743A patent/JP4452311B2/ja active Active
- 2008-08-22 TW TW097132078A patent/TWI462936B/zh active
- 2008-08-29 CN CN2008101467491A patent/CN101377553B/zh active Active
- 2008-08-29 KR KR1020080084962A patent/KR20090023258A/ko active Search and Examination
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090023258A (ko) | 2009-03-04 |
CN101377553B (zh) | 2010-06-02 |
TW200925167A (en) | 2009-06-16 |
JP2009075567A (ja) | 2009-04-09 |
TWI462936B (zh) | 2014-12-01 |
CN101377553A (zh) | 2009-03-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6080154B2 (ja) | 耐指紋性ハードコート塗料及びそれを塗布した部材・物品 | |
KR102118904B1 (ko) | 반사방지용 코팅조성물 및 이를 이용한 광학 필름 | |
TWI541301B (zh) | 含氟高分支聚合物之包覆用硬化性組成物 | |
TWI355405B (en) | Uv-curable antireflective coating composition, ant | |
JP5206464B2 (ja) | パーフルオロポリエーテル基、ウレタン基及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物 | |
TWI684632B (zh) | 抗反射膜、具此抗反射膜之偏光板、及含此抗反射膜及/或含具此抗反射膜之偏光板的影像顯示裝置 | |
JP4590705B2 (ja) | 反射防止積層体 | |
WO2012086552A1 (ja) | 吸水性樹脂組成物およびこれを用いた積層体 | |
JP2008056789A (ja) | 防汚性ハードコート用組成物 | |
JP2006306950A (ja) | 感光性樹脂組成物及びその硬化皮膜を有するフィルム | |
JP2010196014A (ja) | 反射防止フィルム、及び紫外線硬化性樹脂材料組成物塗液 | |
JP6147130B2 (ja) | 耐指紋性を有する硬化被膜を形成可能な光硬化性組成物、その被膜およびその被覆基材 | |
JP5142075B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型樹脂、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物およびこれらを用いて得られるハードコート層を有する物品 | |
JP2003306619A (ja) | ハードコート剤用感光性樹脂組成物及びその硬化皮膜を有するフィルム | |
JP2007011323A (ja) | 反射防止膜、該反射防止膜を有する反射防止性光透過窓材、及び該反射防止性光透過窓材を有するディスプレイ用フィルタ | |
JP5674403B2 (ja) | 耐指紋性向上剤、これを用いた活性エネルギー線硬化型ハードコート剤、これらを用いて得られる硬化膜および硬化膜を有する物品 | |
JP4452311B2 (ja) | 反射防止膜形成用組成物、及び画像表示装置 | |
JP2007245622A (ja) | ハードコート層用組成物及び積層体 | |
JP2007314594A (ja) | ハードコート層形成用組成物及び積層体 | |
CN102152560A (zh) | 防反射用层合体及其制备方法、以及固化性组合物 | |
JP7354087B2 (ja) | 反射防止ハードコートフィルム | |
JP2006232864A (ja) | 硬化性樹脂組成物及びそれからなる硬化膜 | |
WO2023223784A1 (ja) | 光学フィルム及びこれを用いた画像表示装置 | |
JP6288509B2 (ja) | 防汚コーティング剤及び物品 | |
JP4301052B2 (ja) | 紫外線硬化性樹脂組成物、その硬化物及び積層体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090710 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090722 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090924 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100112 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4452311 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140205 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |