TWI416158B - Optical laminated body and optical laminate - Google Patents

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Description

光學積層體及光學積層體之製造方法
本發明係關於一種新穎之光學積層體。
於陰極射線管顯示裝置(CRT)、電漿顯示器(PDP)、有機或無機之電致發光顯示器(ELD)、場致發射顯示器(FED)或液晶顯示器(LCD)等影像顯示裝置中，要求防止因外光的反射或像的映射所造成之對比度降低、辨識性降低。因此，為了利用光散射原理或光學干涉原理減低像之映射或反射率，一般而言係於影像顯示裝置之最外表面設置抗反射積層體。
上述抗反射積層體係於透明材料上形成硬塗層、或於硬塗層上為了賦予所期望之功能(例如抗靜電性、防污性、抗反射性等)而進一步形成其他層。
但是，於透明基材上形成硬塗層等時，會產生透明基材表面之反射光與硬塗層表面之反射光干涉，因膜厚的不均而出現稱為干涉條紋之不均圖樣，外觀受損之問題。
為了解決此問題，於光學上有將硬塗層等之厚度極端地增厚至數μm以上之方法、或減薄至100nm左右之方法。然而，前者除了會產生龜裂，尚因耗費成本等理由而欠缺實用性。後者則有無法確保充份的表面硬度之問題。
〔專利文獻1〕日本特開2005－107005
因此，本發明之主要目的係提供一種光學積層體，可一面有效地抑制乃至於防止干涉條紋之出現，一面可發揮高的表面硬度。
本發明者鑒於先前技術之問題，經努力研究後，結果發現藉由採用特定之層構造可達成上述目的，終完成本發明。
即，本發明之光學積層體，係於透光性基材上至少形成有(1)鄰接於上述基材之硬塗層A及(2)硬塗層B者，其特徵在於：上述基材與硬塗層A之界面實質上不存在。
上述硬塗層B宜係由包含具有6個以上官能基之(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物之組成物B所形成者。
上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物宜係重量平均分子量1000~50000。
上述硬塗層A宜由包含重量平均分子量200以上且具有3個以上官能基之化合物A的組成物A所形成者。
上述化合物A宜係(甲基)丙烯酸酯類化合物及(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物中之至少一種。
上述組成物A宜包含對上述基材具有浸透性或溶解性之溶劑。
上述光學積層體宜實質上不存在干涉條紋。
上述硬塗層A及上述硬塗層B之鉛筆硬度宜為4H以上。
上述硬塗層A之維氏硬度宜係450N/mm以上，硬塗層B之維氏硬度宜係550N/mm以上。
上述光學積層體宜係於1)硬塗層A與硬塗層B之間、2)硬塗層B之上或3)硬塗層A之下形成抗靜電層、防眩層、低折射率層、防污層或其等之二種以上之層者。
上述光學積層體宜係作為抗反射用積層體而使用者。
進而，本發明之光學積層體之製造方法，係具有於透光性基材上塗佈組成物A，形成硬塗層A之步驟(1)及於上述硬塗層A上塗佈組成物B，形成硬塗層B之步驟(2)者；其特徵在於：上述組成物A係包含重量平均分子量200以上且具有3個以上官能基之化合物A及對上述透光性基材具有浸透性或溶解性之溶劑；上述組成物B係包含具有6個以上官能基之(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物。
本發明之光學積層體，藉由形成至少特定二個之硬塗層，可實現基材與硬塗層A之界面實質上不存在之狀態。藉此，可抑制乃至於防止產生干涉條紋，且可發揮高的表面硬度。又，本發明之積層體，藉由上述構成亦可有效地抑制加工時之翹曲。
依本發明之光學積層體，可適合作為硬塗積層體，較佳為抗反射積層體(包含利用作為防眩性積層體)。又，依本發明之光學積層體，可利用於穿透式顯示裝置。特別是使用於電視機、電腦、文字處理機等之顯示器顯示上。尤其可適用於CRT、液晶面板等顯示器的表面。
本發明之光學積層體，係於透光性基材上至少形成有(1)鄰接於上述基材之硬塗層A及(2)硬塗層B者，其特徵在於：上述基材與硬塗層A之界面實質上不存在。
又，於本說明書中，有將丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯合稱為(甲基)丙烯酸酯之情形。
以下，說明本發明之光學積層體之各層。又，於本發明中，如未特別記載，將單體、低聚物、預聚物等硬化性樹脂前驅物總稱為“樹脂”。
透光性基材
透光性基材宜具備平滑性、耐熱性，機械強度優異者。形成透光性基材之材料之具體例，可列舉：聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯)、三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、乙酸丁酯纖維素、聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇縮醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或聚胺基甲酸酯等熱可塑性樹脂，較佳可列舉聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯)、三乙酸纖維素。特佳可列舉三乙酸纖維素。
該等材料亦可使用市售品。例如作為聚酯樹脂，以東洋紡公司製之製品名「A－4100」、「A－4300」等為佳。又，作為三乙酸纖維素，以富士底片公司製之製品名「TF80UL」、「FT TDY80UL」等為佳。
上述透光性基材宜將上述熱可塑性樹脂作成富有柔軟性之膜狀體而使用，但依照要求硬化性之使用形態，亦可使用該等熱可塑性樹脂之板，或使用玻璃板之板狀體。
此外，作為上述透光性基材，可列舉具有脂環構造之非晶質烯烴聚合物(Cyclo－Olefin－Polymer；COP)膜。此係使用降冰片烯類聚合物、單環之環狀烯烴類聚合物、環狀共軛二烯類聚合物、乙烯脂環式烴類聚合物等之基材，例如日本ZEON(股份公司)製之ZEONEX或ZEONOR(降冰片烯類樹脂)、住友電木(股份公司)製之Sumilight FS－1700、JSR(股份公司)製之ARTON(改質降冰片烯類樹脂)、三井化學(股份公司)製之APEL(環狀烯烴共聚物)、Ticona公司製之Topas(環狀烯烴共聚物)、日立化成(股份公司)製之澳普特雷茲OZ－1000系列(脂環式丙烯酸樹脂)等。
又，作為三乙酸纖維素之替代基材，旭化成化學(股份公司)製之FV系列(低雙折射率、低光彈性率膜)亦為較佳者。
透光性基材之厚度以20μm以上、300μm以下為佳，較佳為30μm以上、200μm以下。於透光性基材為板狀體之情形，亦可超越該等厚度為厚度300μm以上、5000μm以下。於基材上形成硬塗層、抗靜電層等時，為了提升接著性，亦可對基材預先進行電暈放電處理、氧化處理等物理性處理、錨固劑或稱為底漆之塗料的塗佈。
硬塗層
本發明中之所謂「硬塗層」係指於JIS5600－5－4(1999)所規定之鉛筆硬度試驗中顯示「H」以上之硬度者。
於本發明中，至少形成有(1)鄰接於基材之硬塗層A及(2)作為最表面層之硬塗層B。藉由硬塗層A可抑制乃至於防止干涉條紋之產生。又，硬塗層A亦可有效地抑制積層體之翹曲。藉由硬塗層B可確保既定之硬度。由此，藉由成為具有二層硬塗層之層構造，可一舉解決干涉條紋之問題及表面硬度之問題。
各硬塗層之厚度可依照所期望特性等而適當設定，但通常宜形成0.1~100μm，特別是0.8~20μm。
各硬塗層只要具有透明性即可，無特別限制。例如可使用藉由紫外線或電子束所硬化之樹脂(電離放射線硬化型樹脂)、溶劑乾燥型樹脂、熱硬化型樹脂等之一種或二種以上。此等樹脂本身可使用周知或市售者。於本發明中宜使用電離放射線硬化型樹脂。作為電離放射線硬化型樹脂，可列舉例如聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、螺縮醛(spiroacetal)樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇多烯樹脂等。該等可使用一種或二種以上。
形成各硬塗層時，例如可使用含有原料成分之組成物(硬塗層形成用組成物)而形成。更具體而言，可使用將原料成分及視需要之添加劑溶解或分散於溶劑中而成之溶液或分散液作為硬塗層形成用組成物，藉由上述組成物形成塗膜，使上述塗膜硬化，藉此可分別得到各硬塗層。
上述組成物之調製方法只要能均勻地混合各成分即可，可按照周知之方法實施。例如，可使用塗料振盪機、珠磨機、捏和機、攪拌機等周知裝置混合。
塗膜之形成方式只要按照周知方法即可。例如可使用旋塗法、浸漬法、噴霧法、模具塗佈法、棒塗(bar coat)法、輥塗機法、彎月面(meniscus)塗機法、柔版印刷法、網版印刷法、液滴塗佈法等各種方法。
所獲得塗膜之硬化方法，只要依照上述組成物之內容等適當選擇即可。例如若為紫外線硬化型，只要藉由對塗膜照射紫外線，使其硬化即可。
用於形成各硬塗層A或硬塗層B之組成物A或組成物B，只要使用成為具有透明性之上述樹脂之原料成分者即可，可按照上述樹脂的種類等適當設定。例如可列舉：(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N－乙烯基吡喀烷酮等單官能單體；(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己烷二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6－己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三聚異氰酸改質二(或三)丙烯酸酯等多官能性單體等一種或二種以上。
於本發明中，其中可適合使用(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己烷二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6－己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙烯酸酯類化合物之至少一種。即，可適合使用丙烯酸酯化合物及/或甲基丙烯酸酯化合物中之至少一種。
於組成物A或組成物B中，可視需要使用溶劑。作為溶劑可按照所使用之原料成分的種類等，由周知溶劑中適當選擇。例如可列舉：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇、甲基乙二醇、甲基乙二醇乙酸酯、甲基溶纖素、乙基溶纖素、丁基溶纖素等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、二丙酮醇等酮類；甲酸甲酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乳酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；硝基甲烷、N－甲基吡咯烷酮、N,N－二甲基甲醯胺等含氮化合物；二異丙基醚、四氫呋喃、二噁烷、二氧戊烷等醚類；二氯甲烷、氯仿、三氯乙烷、四氯乙烷等鹵化烴；二甲基亞碸、碳酸丙烯酯等其他；或其等二種以上之混合物。作為較佳溶劑可列舉乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲基乙基酮等至少一種。
特別是，作為用於組成物A之溶劑，可適宜使用對所使用之透光性基材具有浸透性之溶劑。例如，使用纖維素類樹脂作為透光性基材時，可適宜使用甲基乙基酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯等。
於組成物A或組成物B中使用溶劑時，溶劑之使用量可適當設定成各組成物之固體成分含量成為5~80質量%程度。
(硬塗層A)特別是，用於形成硬塗層A之組成物A，宜使用包含重量平均分子量200以上且具有3個以上官能基之化合物(化合物A)之組成物(混合物)作為原料成分。藉由使用此種化合物A，可有效地抑制產生干涉條紋。
上述重量平均分子量一般可為200以上，較佳為250以上，更佳為300以上，最佳為350以上。上述重量平均分子量之上限並無限定，但通常可為四萬左右。又，上述官能基之數，一般為3個以上，但較佳為超過3個，更佳為4個以上，最佳為5個以上。上述官能基之數之上限並無限定，但通常可為15個左右。
上述化合物A只要係具有上述重量平均分子量及官能基數者即可，但如上所述，可適宜使用(甲基)丙烯酸酯類化合物及(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物中之至少一種。例如，宜使用具有上述重量平均分子量及官能基數之聚酯(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等至少一種。
該等可使用周知或市售者。組成物A中之化合物A之含有比例(固體成分)並無限定，但通常宜為50~100質量%(特別是90~100質量%)。作為化合物A以外的成分，除了聚合起始劑或後述之添加劑外，亦可含有重量平均分子量未滿200之化合物等。
(硬塗層B)特別是，用於形成硬塗層B之組成物B，宜使用包含具有6個以上(較佳為6個以上、15個以下)官能基之(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物之組成物(混合物)作為原料成分。上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物特別可適宜使用重量平均分子量1000~50000(較佳為1500~40000)之(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物之至少一種。
又，於本發明中，除了上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物外，亦可進一步併用具有3個以上、6個以下官能基之(甲基)丙烯酸酯類化合物(但不包含上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物)。作為上述(甲基)丙烯酸酯類化合物，例如可適宜使用二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等至少一種。
組成物B中之上述(甲基)丙烯酸酯類化合物及上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物之合計含有比例(固體成分)並無限定，但通常宜為10~100質量%(特別是20~100質量%)。作為該等化合物以外的成分，除了後述之添加劑外，亦可含有具有未滿3個官能基之化合物等。
又，上述(甲基)丙烯酸酯類化合物及上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物之比例並無限定，但通常於上述(甲基)丙烯酸酯類化合物及上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物之合計100質量%中，上述(甲基)丙烯酸酯類化合物宜為0~90質量%(特別是5~90質量%)，上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物宜為10~100質量%(特別是10~95質量%)。
其他成分
於本發明中，於組成物A或組成物B中亦可視需要含有聚合起始劑、抗靜電劑、防眩劑等添加劑。
作為聚合起始劑，例如可適用乙醯苯類、二苯基酮類、米希勒苯醯苯甲酸酯、α－澱粉肟酯(amyloxim ester)、四甲基秋蘭姆單硫化物、噻噸酮類等。又，視需要添加光增感劑、光聚合促進劑。作為上述光增感劑、光聚合促進劑，只要是周知者即可，例如可列舉二苯羥乙酮、二苯羥乙酮甲醚、二苯羥乙酮乙醚、二苯羥乙酮異丙醚、α－甲基二苯羥乙酮、α－苯基二苯羥乙酮等之二苯羥乙酮類化合物；蒽醌、甲基蒽醌等之蒽醌類化合物；苯偶醯；二乙醯基；苯乙酮、二苯基酮等之苯基酮化合物；二苯基二硫化物、四甲基秋蘭姆硫化物等之硫化物化合物；α－氯甲基萘；蒽及六氯丁二烯、五氯丁二烯等之鹵化烴；噻噸酮、正丁基胺、三乙基胺、三－正丁基膦等。
具體而言，對於乙醯苯類光聚合起始劑，宜使用二苯基酮或噻噸酮光增感劑。
作為抗靜電劑，例如可列舉：四級銨鹽、吡啶鎓鹽、具有第一至第三胺基等陽離子性基之各種陽離子性化合物；磺酸鹽、硫酸酯鹽、磷酸酯鹽、膦酸鹽等具有陰離子性基之陰離子性化合物；胺基酸類、胺基硫酸酯類等兩性化合物；胺基醇類、丙三醇類、聚乙二醇類等之非離子性化合物；錫及鈦之醇鹽等之有機金屬化合物及其等之乙醯丙酮鹽等之金屬螯合物等；進而，可列舉將上述化合物高分子量化之化合物。又，具有三級胺基、四級銨基或金屬螯合部且藉由電離放射線可聚合之單體或低聚物、或者具有官能基之偶合劑等之有機金屬化合物等之聚合性化合物亦可作為抗靜電劑使用。
又，作為抗靜電劑可列舉導電性微粒子。作為導電性微粒子之具體例可列舉由金屬氧化物構成者。作為該金屬氧化物可列舉ZnO(折射率1.90；以下括弧內之數值表示折射率)、CeO2 (1.95)、Sb2 O2 (1.71)、SnO2 (1.997)、多簡稱為ITO之氧化銦錫(1.95)、In2 O3 (2.00)、Al2 O3 (1.63)、摻雜銻之氧化錫(簡稱為ATO；2.0)、摻雜鋁之氧化鋅(簡稱為AZO；2.0)等。上述微粒子之平均粒徑宜為5μm以下，較佳為1μm以下。
又，作為抗靜電劑可列舉導電性聚合物。其材料並無特別限定，例如可列舉擇自下述群中至少一種，即：脂肪族共軛類之聚乙炔、多并苯、聚薁(polyazulene)、芳香族共軛類之聚苯撐、雜環式共軛類之聚吡喀、聚噻吩、聚異硫茚、含雜原子共軛類之聚苯胺、聚伸噻吩基乙烯、混合型共軛類之聚(苯撐乙烯)、於分子中具有複數之共軛鏈之共軛類的複鏈型共軛類、其等之導電性聚合物之衍生物及將該等之共軛高分子鏈接枝或嵌段共聚於飽和高分子之高分子的導電性複合體。其中，以使用聚噻吩、聚苯胺、聚吡喀等有機類抗靜電劑為較佳。藉由使用上述有機類抗靜電劑可發揮優異之抗靜電性能，同時亦可提高光學積層體之全光線穿透率且降低霧值(haze value)。又，為了提升導電性及抗靜電性能，亦可添加有機磺酸或氯化鐵等陰離子作為摻雜劑(電子供應劑)。除了摻雜劑添加效果外，特別是聚噻吩其透明性、抗靜電性高，為佳。作為上述聚噻吩，亦可適合使用寡噻吩。作為上述衍生物並無特別限定，例如可列舉聚苯基乙炔、聚二乙炔之烷基取代體等。
作為防眩劑可使用例如各種微粒子。其形狀只要是正球狀、橢圓狀等即可，較佳為正球狀。又，上述微粒子可列舉無機類或有機類者。上述微粒子係可發揮防眩性者，較佳為透明性者。作為上述微粒子之具體例可列舉：若為有機類為塑膠珠、若為無機類為氧化矽珠。作為塑膠珠之具體例可列舉：聚苯乙烯珠(折射率1.60)、三聚氰胺珠(折射率1.57)、丙烯酸珠(折射率1.49~1.535)、丙烯酸－苯乙烯珠(折射率1.54~1.58)、苯并鳥糞胺－甲醛縮合物珠(折射率1.66)、苯并鳥糞胺－三聚氰胺－甲醛縮合物珠(折射率1.52~1.66)、三聚氰胺－甲醛縮合物珠(折射率1.66)、聚碳酸酯珠、聚乙烯珠等。上述塑膠珠宜於其表面具有疏水性基，例如可列舉苯乙烯珠。作為氧化矽珠可列舉球狀氧化矽、無定形氧化矽等。其他，亦可使用有機－無機複合之氧化矽－丙烯酸複合化合物珠(折射率1.52)等。其等亦可併用二種以上。
此時，宜併用防沈降劑。其原因為，藉由添加防沈降劑，可抑制樹脂珠之沈澱，使其均勻分散於溶劑內。作為防沈降劑之具體例，可列舉粒徑0.5μm以下，較佳為0.1~0.25μm左右之氧化矽珠。
其他層
作為本發明之基本層構造，只要於透光性基材上至少形成有硬塗層A及硬塗層B即可。例如可列舉鄰接於透光性基材上形成硬塗層A，鄰接於硬塗層A形成硬塗層B之三層構造。此時，於無損本發明積層體之透光性等之範圍內，可視需要於1)硬塗層A與硬塗層B之層間、2)硬塗層B之上或3)硬塗層A之下適當形成一層或二層以上之其他層(抗靜電層、防眩層、低折射率層、防污層、接著劑層、其他的硬塗層等)。該等層亦可採用與周知之抗反射用積層體相同者。
(抗靜電層)抗靜電層可藉由包含抗靜電劑及樹脂之組成物而形成。此時，亦可使用溶劑。作為抗靜電層及溶劑可使用於上述硬塗層之項所說明者。抗靜電層之厚度並無限定，但宜為30nm~1μm。
作為上述樹脂，例如可使用熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂或電離放射線硬化性化合物(包含有機反應性矽化合物)。其中，以熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂或電離放射線硬化性化合物為佳。特別是以使用電離放射線硬化性樹脂或電離放射線硬化性化合物為最佳。
電離放射線硬化性化合物可作為包含其之電離放射線硬化性組成物使用。作為電離放射線硬化性化合物可使用於分子中具有聚合性不飽和鍵或環氧基之單體、低聚物及預聚物中之至少一種。於此，所謂電離放射線係指電磁波或帶電粒子束中具有能使得分子聚合或交聯之能量量子者，通常使用紫外線或電子束。
作為電離放射線硬化性組成物中之預聚物或低聚物，例如可列舉：不飽和二羧酸與多元醇之縮合物等之不飽和聚酯類；聚酯甲基丙烯酸酯、聚醚甲基丙烯酸酯、多元醇甲基丙烯酸酯、三聚氰胺甲基丙烯酸酯等之甲基丙烯酸酯類；聚酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯、丙烯酸胺基甲酸酯、聚醚丙烯酸酯、多元醇丙烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯等之丙烯酸酯類；及陽離子聚合型環氧化合物等。其等可使用一種或二種以上。
作為電離放射線硬化性組成物中之單體，例如可列舉：苯乙烯、α－甲基苯乙烯等之苯乙烯類單體；丙烯酸甲酯、丙烯酸－2－乙基己酯、丙烯酸甲氧基乙酯、丙烯酸丁氧基乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸甲氧基丁酯、丙烯酸苯酯等之丙烯酸酯類；甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲氧基乙酯、甲基丙烯酸乙氧基甲酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸十二烷酯等之甲基丙烯酯類；丙烯酸－2－(N,N－二乙基胺基)乙酯、丙烯酸－2－(N,N－二甲基胺基)乙酯、丙烯酸－2－(N,N－二苄基胺基)甲酯、丙烯酸－2－(N,N－二乙基胺基)丙酯等之不飽和取代之取代胺醇酯類；丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺等之不飽和羧酸胺類；乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、季戊二醇二丙烯酸酯、1,6－己烷二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯等之二丙烯酸酯化合物；二丙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯等之多官能性化合物、及/或於分子中具有二個以上硫醇基之聚硫醇化合物(例如三羥甲基丙烷三硫代乙醇酸酯、三羥甲基丙烷三硫代丙醇酸酯、季戊四醇四硫代乙醇酸酯等)之至少一種。
一般而言，作為電離放射線硬化性組成物中之單體，係視需要混合一種或二種以上之上述化合物而使用，但為了對電離放射線硬化性組成物賦予通常之塗佈適性，宜使上述單體之預聚物或低聚物為5質量%以上，上述單體及/或聚硫醇化合物為95質量%以下。
對抗靜電層要求可撓性時，宜減少單體量或使用官能基數為1或2之丙烯酸酯單體。又，對抗靜電層要求耐磨損性、耐熱性、耐溶劑性等時，宜使用例如官能基數為3個以上之丙烯酸酯單體。於此，官能基數為1者可列舉丙烯酸2－羥酯、丙烯酸2－己酯、丙烯酸苯氧基乙酯等。官能基數為2者可列舉乙二醇二丙烯酸酯、1,6－己烷二醇二丙烯酸酯。官能基數為3者可列舉三羥甲基丙烷丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯等。
為了調整抗靜電層之可撓性、表面硬度等物性，亦可視需要於電離放射線硬化性組成物中添加受電離放射線照射不會硬化之樹脂。作為上述樹脂，例如可列舉聚胺基甲酸酯樹脂、纖維素樹脂、聚乙烯丁醛樹脂、聚酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚乙酸乙酯等之熱可塑性樹脂之一種或二種以上。其中，由提升可撓性之點，以聚胺基甲酸酯樹脂、纖維素樹脂、聚乙烯丁醛樹脂等之至少一種為佳。電離放射線硬化性組成物之硬化藉由照射紫外線而進行時，可添加光聚合起始劑或光聚合促進劑。於具有自由基聚合性不飽和基之樹脂類之情形，作為光聚合起始劑可例如使用乙醯苯類、二苯基酮類、噻噸酮類、二苯羥乙酮、二苯羥乙酮甲醚等單獨或二種以上。又，於具有陽離子聚合性官能基之樹脂類之情形，作為光聚合起始劑可例如使用芳香族重氮鎓鹽、芳香族鎏鹽、芳香族碘鎓鹽、間賽綸化合物、二苯羥乙酮磺酸酯等單獨或二種以上。光聚合起始劑之添加量可依照所使用之光聚合起始劑的種類等而適當設定，但宜相對於電離放射線硬化性組成物100質量份為0.1~10質量份。
於電離放射線硬化性組成物中可視需要併用反應性之有機矽化合物。例如可使用以通式RmSi(OR’)n(其中，R及R’係表示相互相同或不同之碳數1~10之烷基；m及n係表示分別滿足m＋n＝4之關係之整數)表示之化合物。
具體而言可列舉：四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四異丙氧基矽烷、四正丙氧基矽烷、四正丁氧基矽烷、四第二丁氧基矽烷、四第三丁氧基矽烷、四五乙氧基矽烷、四五異丙氧基矽烷、四五正丙氧基矽烷、四五正丁氧基矽烷、四五第二丁氧基矽烷、四五第三丁氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三丙氧基矽烷、甲基三丁氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二甲基乙氧基矽烷、二甲基甲氧基矽烷、二甲基丙氧基矽烷、二甲基丁氧基矽烷、甲基二甲氧基矽烷、甲基二乙氧基矽烷、己基三甲氧基矽烷等之至少一種。
此時，作為可併用於電離放射線硬化性組成物中之有機矽化合物，可視需要併用矽烷偶合劑。具體而言，作為矽烷偶合劑可列舉：γ－(2－胺基乙基)胺基丙基三甲氧基矽烷、γ－(2－胺基乙基)胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、β－(3,4－環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、γ－胺基丙基三乙氧基矽烷、γ－甲基丙烯醯氧基丙基甲氧基矽烷、N－β－(N－乙烯基苄基胺基乙基)－γ－胺基丙基甲氧基矽烷鹽酸鹽、γ－縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、胺基矽烷、甲基甲氧基矽烷、乙烯基三乙烯氧基矽烷、γ－巰基丙基三甲氧基矽烷、γ－氯丙基三甲氧基矽烷、六甲基二矽氮烷、乙烯基三(β－甲氧基乙氧基)矽烷、十八基二甲基〔3－(三甲氧基矽烷基)丙基〕氯化銨、甲基三氯矽烷、二甲基二氯矽烷等至少一種。
(防眩層)防眩層例如可形成於穿透性基材與硬塗層或低折射率層(後述)之間。防眩層可由包含樹脂及防眩劑之樹脂組成物形成。
作為上述樹脂，可由於硬塗層之項所說明者中適當選擇後使用。
防眩劑可使用各種微粒子。微粒子之平均粒徑並無限定，但一般以0.01~20μm為佳。又，微粒子之形狀可為正球狀、橢圓狀等任一種，較佳為正球狀。又，上述微粒子可列舉無機類或有機類者。
上述微粒子係可發揮防眩性者，較佳為透明性者。作為微粒子之具體例可列舉：若為無機類為氧化矽珠、若為有機類為塑膠珠。作為塑膠珠之具體例可列舉：聚苯乙烯珠(折射率1.60)、三聚氰胺珠(折射率1.57)、丙烯酸珠(折射率1.49~1.535)、丙烯酸－苯乙烯珠(折射率1.54~1.58)、苯并鳥糞胺－甲醛縮合物珠(折射率1.66)、苯并鳥糞胺．三聚氰胺－甲醛縮合物珠(折射率1.52~1.66)、三聚氰胺－甲醛縮合物珠(折射率1.66)、聚碳酸酯珠、聚乙烯珠等。上述塑膠珠宜於其表面具有疏水性基，例如可列舉苯乙烯珠。作為氧化矽珠可列舉球狀氧化矽、無定形氧化矽等。其他，亦可使用有機－無機複合之氧化矽－丙烯酸複合化合物珠(折射率1.52)等。其等亦可併用二種以上。
上述微粒子，令其平均粒徑為R(μm)、防眩層凹凸之十點平均粗糙度為Rz(μm)、防眩層之凹凸平均間隔為Sm(μm)、凹凸部之平均傾斜角為β a時，宜滿足下述所有數學式：30≦Sm≦600 0.05≦Rz≦1.60 0.1≦θ a≦2.5 0.3≦R≦15
所謂Sm(μm)係表示該防眩層之凹凸之平均間隔，θ a(度)係表示凹凸部之平均傾斜角，Rz(μm)表示十點平均粗糙度，其定義係符合表面粗糙度測定器；SE－3400/小坂研究所(股份公司)製操作說明書(1995.07.20改訂)。
θ a係角度單位，以縱橫比率表示傾斜者為△a時，以△a＝tan θ a＝(各凹凸之極小部與極大部之差(相當於各凸部之高度)之總和/基準長度)求得。所謂基準長度係於測定機SE－3400中之粗糙度曲線之截止值λ c、實際上觸針之評價長度。
又，依本發明之另一較佳樣態，令上述微粒子與上述樹脂組成物之折射率分別為n1、n2時，以滿足△n＝|n1－n2|<0.1，且防眩層內部之霧值為55%以下之防眩層為佳。
微粒子之添加量按所使用之微粒子種類、所期望之防眩性等而定，但通常相對於上述樹脂組成物100質量份為2~30質量份、較佳為10~25質量份。
調製防眩層用組成物時可添加防沈降劑。其原因為，藉由添加防沈降劑，可抑制樹脂珠之沈澱，使其均勻分散於溶劑內。作為防沈降劑之具體例，可使用氧化矽珠等之珠類。
珠類之平均粒徑並無限定，但一般而言為0.5μm以下，較佳為0.1~0.25μm。
防眩層之膜厚(硬化時)一般為0.1~100μm，特別宜為0.8~10μm之範圍。藉由使得膜厚於該範圍，可充份發揮作為防眩層之功能。
(低折射率層)低折射率層係具有於來自外部之光(例如螢光燈、自然光等)於光學積層體表面反射之際，減低其反射率之功能之層。
低折射率層例如形成於防眩層之表面時，其折射率比防眩層低。依本發明之較佳形態，防眩層之折射率為1.5以上，低折射率層之折射率未滿1.5，較佳為以1.45以下構成。
低折射率層亦可藉由1)含有氧化矽或氟化鎂之材料、2)為低折射率樹脂之氟類材料、3)含有氧化矽或氟化鎂之氟類材料、4)氧化矽或氟化鎂之薄膜等中任一種構成。
所謂上述氟類材料係至少於分子中含有氟原子之聚合性化合物或其聚合物。聚合性化合物並無特別限定，但例如宜係具有受電離放射線而硬化之官能基(電離放射線硬化性基)或受熱而硬化之極性基(熱硬化極性基)等之硬化反應性之基者。又，亦可為同時具有該等反應性之基之化合物。
具有含氟原子之電離放射線硬化性基之聚合性化合物，可廣泛使用具有乙烯性不飽和鍵之含氟單體。更具體而言，可例示氟烯烴類(例如氟乙烯、雙氟亞乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟－2,2－二甲基－1,3－二氧雜環戊烯等)。作為具有(甲基)丙烯醯氧基者，例如：(甲基)丙烯酸2,2,2－三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3－五氟丙酯、(甲基)丙烯酸2－(全氟丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸2－(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸2－(全氟辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸2－(全氟癸基)乙酯、α－三氟甲基丙烯酸甲酯、α－三氟甲基丙烯酸乙酯等於分子中具有氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物；含氟之多官能(甲基)丙烯酸酯化合物[係於分子中具有至少帶三個氟原子之碳數1~14之氟烷基、氟環烷基或氟烯烴基、及至少二個(甲基)丙烯醯氧基]。
作為含有氟原子之具熱硬化性極性基之聚合性化合物，例如可例示4－氟乙烯－全氟烷基乙烯醚共聚物；全氟乙烯－烴類乙烯醚共聚物；環氧基、聚胺基甲酸酯、纖維素、苯酚、聚醯亞胺等各樹脂之氟改質品等。作為上述熱硬化性極性基，例如可適當列舉羥基、羧基、胺基、環氧基等氫鍵形成基。其等不僅與塗膜之密合性優良，與氧化矽等之無機超微粒子之親和性亦優良。
同時具有電離放射線硬化性基及熱硬化性極性基之聚合性化合物(氟類樹脂)，可例示丙烯酸或甲基丙烯酸之部分及完全氟化烷基、烯基、芳基酯類、完全或部分氟化乙烯醚類、完全或部分氟化乙烯酯類、完全或部分氟化乙烯酮類。
作為含有氟原子之上述聚合性化合物之聚合體，例如可列舉：至少含有一種具有上述電離放射線硬化性基之聚合性化合物之含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的單體或單體混合物之聚合體；至少一種含氟(甲基)丙烯酸酯化合物及(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2－乙基己酯等於分子中不含氟原子之(甲基)丙烯酸甲酯化合物的共聚物；氟乙烯、偏氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯、3,3,3－三氟丙烯、1,1,2－三氯－3,3,3－三氟丙烯、六氟丙烯等含氟單體之單獨聚合物或共聚物等。
又，於該等共聚物中含有矽酮成分之含矽酮偏氟乙烯共聚物亦可作為上述聚合性化合物之聚合體使用。此時矽酮成分可例示：(聚)二甲基矽氧烷、(聚)二乙基矽氧烷、(聚)二苯基矽氧烷、(聚)甲基苯基矽氧烷、烷基改質(聚)二甲基矽氧烷、含有偶氮基(聚)二甲基矽氧烷；二甲基矽酮、苯基甲基矽酮、烷基－芳烷基改質矽酮、氟矽酮、聚醚改質矽酮、脂肪酸酯改質矽酮、甲基氫矽酮、含有矽烷醇基之矽酮、含有烷氧基之矽酮、含有酚基之矽酮、甲基丙烯酸改質矽酮、丙烯酸改質矽酮、胺基改質矽酮、羧酸改質矽酮、甲醇改質矽酮、環氧改質矽酮、巰基改質矽酮、氟改質矽酮、聚醚改質矽酮等。其中，以具有二甲基矽氧烷構造者為佳。
除了上述外，進而亦可使用下述者作為氟類材料：於分子中至少具有一個異氰酸基之含氟化合物與於分子中至少具有一個胺基、羥基、羧基等與異氰酸基反應之官能基之化合物反應後而得之化合物；含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟ε－己內酯改質多元醇等之含氟多元醇與具有異氰酸基之化合物反應後而得之化合物等。
形成低折射率層時，例如可使用含有原料成分之組成物(折射率層形成用組成物)而形成。更具體而言，可使用將原料成分(樹脂等)及視需要之添加劑(例如後述之「具有空隙之微粒子」、聚合起始劑、抗靜電劑、防眩劑等)溶解或分散於溶劑中而成之溶液或分散液作為低折射率層形成用組成物，藉由上述組成物形成塗膜，使上述塗膜硬化，藉此可得到低折射率層。又，聚合起始劑、防眩劑等添加劑例如可列舉於上述硬塗層已敘述者。
溶劑亦列舉於上述硬塗層已敘述者，較佳為甲基異丁基酮、環己酮、異丙醇(IPA)、正丁醇、第三丁醇、二乙基酮、PGME等。
上述組成物之調製方法只要能均勻地混合成分即可，可按照周知之方法實施。例如，可使用於上述形成硬塗層已敘述之周知裝置混合。
塗膜之形成方式只要按照周知方法即可。例如可使用於上述形成硬塗層已敘述之各種方法。
所獲得塗膜之硬化方法，只要依照組成物之內容等適當選擇即可。例如若為紫外線硬化型，只要藉由對塗膜照射紫外線，使其硬化即可。
於上述低折射率層中，宜利用「具有空隙之微粒子」作為低折射率劑。「具有空隙之微粒子」可一面保持防眩層之層強度，一面使其折射率下降。於本發明中，所謂「具有空隙之微粒子」係指形成多孔質構造體(於微粒子內部充填有氣體之構造及/或含有氣體)，且相較於微粒子原本之折射率，折射率會與微粒子中之氣體的占有率成反比而下降之微粒子。又，於本發明中，依照微粒子的形態、結構、凝集狀態、被膜內部中之微粒子之分散狀態，亦包含於內部及/或表面之至少一部分可形成奈米孔洞構造之微粒子。使用此微粒子之低折射率層，可將折射率調節為1.30~1.45。
具有空隙之無機類微粒子，例如可列舉藉由日本特開2001－233611號公報所記載之方法而調製之氧化矽微粒子。亦可為藉由日本特開平7－133105、日本特開2002－79616號公報、日本特開2006－106714號公報等所記載之製法而得之氧化矽微粒子。具有空隙之氧化矽微粒子，由於製造容易、其本身之硬度高，故與黏結劑混合、形成低折射率層時，可提高層強度且將折射率調製於1.20~1.45之範圍內。特別是，作為具有空隙之有機類微粒子之具體例，可列舉使用於日本特開2002－80503號公報所揭示之技術而調製之中空聚合物微粒子。
作為於被膜內部及/或表面之至少一部分可形成奈米孔洞構造之微粒子，除了上述之氧化矽微粒子外，可列舉：以增大比表面積為目的而製造、使各種化學物質吸附於充填用之塔柱及表面之多孔質部之儲放材、用於固定觸媒之多孔質微粒子或以組入絕熱材或低介電材為目的之中空微粒子之分散體或凝集體。其具體例有：從作為市售品之日本氧化矽工業股份公司製之商品名Nipsil或Nipgel之多孔質氧化矽微粒子之集合體、日產化學工業(股份公司)製之具有氧化矽微粒子連結成鏈狀之構造之膠體氧化矽UP系列(商品名)中擇出之落於本發明之較佳粒子徑之範圍內者。
「具有空隙之微粒子」之平均粒徑係5nm以上、300nm以下，較佳為下限8nm以上、上限100nm以下，更佳為下限10nm以上、上限80nm以下。藉由使微粒子之平均粒徑於此範圍內，可對防眩層賦予優良之透明性。又，上述平均粒徑係藉由動態光散射法等方法所測定之值。「具有空隙之微粒子」於上述低折射率層中，相對於基質樹脂100質量份，一般為0.1~500質量份、較佳為10~200質量份。
於形成低折射率層時，宜使上述低折射率層形成用組成物之黏度成為能得到良好塗佈性之0.5~5cps(25℃)、較佳0.7~3cps(25℃)之範圍。可實現對可見光優異之抗反射膜，且可形成均勻、無塗佈不均之薄膜，且可形成對基材之密合性特別優異之低折射率層。
樹脂之硬化方法可與上述防眩層之項所說明者相同。為了硬化處理而利用加熱方法時，宜於氟類樹脂組成物中添加藉由加熱產生例如自由基使聚合性化合物之聚合開始之熱聚合起始劑。
低折射率層之膜厚(nm)dA 宜滿足下述式(I)：dA ＝mλ/(4nA ) (I)(上述式中，nA 表示低折射率層之折射率；m表示正的奇數，較佳為1；λ為波長，較佳為480~580nm之範圍之值)。
又，於本發明中，由低反射率化之點，低折射率層宜滿足下述數學式(II)：120<nA dA <145 (II)
(防污層)防污層係具有可使髒污(指紋、水性或油性之油墨類、鉛筆等)不易附著於光學積層體之最表面，或即使附著亦容易拭去之功能之層。依本發明之較佳形態，亦可為了防止低折射率層之最表面髒污而設置防污層，特別是宜在形成有低折射率層之透光性基材之一面及相反側皆設置防污層。藉由形成防污層，可圖謀光學積層體(抗反射用積層體)之防污性及耐擦傷性之進一步改善。即使無低折射率層，亦可為了防止最表面之髒污而設置防污層。
一般而言，防污層可藉由含有防污層用劑及樹脂之組成物而形成。作為防污層用劑之具體例，可列舉：對於分子中具有氟原子之電離放射線硬化型樹脂組成物之相溶性低、不易添加於低折射率層中之氟類化合物及/或矽類化合物、對於分子中具有氟原子之電離放射線硬化型樹脂組成物及微粒子具有相溶性之氟類化合物及/或矽類化合物。其等可使用周知或市售者。
防污層可例如形成於硬塗層B上。特別是防污層宜形成於最表面。亦可例如藉由對硬塗層B本身賦予防污性能而取代防污層。
光學積層體中之界面等
本發明之光學積層體實質上不存在界面。於此，所謂「界面(實質上)不存在」係指包含1)二層之面相重疊但實質上不存在界面、及2)由折射率來看，判斷於兩者之面不存在界面之情形。作為「界面(實質上)不存在」之具體基準，例如如下所述。即，於藉由光學積層體之干涉條紋觀察(於樣品背面貼黑色膠帶、以三波長螢光燈由上方目視觀察)來目視干涉條紋時，若以雷射顯微鏡觀察截面可確認界面。將此認定為「界面存在」，於干涉條紋觀察中未以目視確認到干涉條紋或極弱時，於雷射顯微鏡觀察中成為未看到界面或僅看到極薄之狀態。將此認定為「界面實質上不存在」。
雷射顯微鏡讀取來自於各界面之反射光，可非破壞性的進行截面觀察。因此，對於由具有折射率差之材料所形成之多層物進行截面觀察，無法確認存在界面或極弱時，可判斷為界面實質上不存在。由此可判斷於基材與硬塗層之間不存在界面。
又，本發明之光學積層體宜界面實質上不存在。宜至少不能目視到干涉條紋。
於本發明之光學積層體中，硬塗層A及B皆可達成特定硬度。此時，硬塗層A宜為鉛筆硬度4H以上。硬塗層A之維氏硬度宜係450N/mm以上。又，硬塗層B宜為鉛筆硬度4H以上。硬塗層B之維氏硬度宜係550N/mm以上
〔實施例〕
以下舉出實施例及比較例，更具體地說明本發明之特徵。但，本發明之範圍不限定於實施例。
〈製造例1〉
分別調製下述組成A~組成G作為硬塗層形成用組成物。
組成A ．聚酯丙烯酸酯(東亞合成公司製；M9050、3官能、分子量418)：10質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE184)：0.4質量份．甲基乙基酮(以下稱為「MEK」)：10質量份
組成B ．聚酯丙烯酸酯(東亞合成公司製；M9050、3官能、分子量418)：5質量份．丙烯酸胺基甲酸酯(日本化藥公司製；DPHA40H、10官能、分子量約7000)：5質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE184)：0.4質量份．MEK：10質量份
組成C ．聚乙二醇二丙烯酸酯(東亞合成公司製；M240、2官能、分子量302)：2質量份．丙烯酸胺基甲酸酯(日本化藥公司製；DPHA40H、10官能、分子量約7000)：6質量份．丙烯酸胺基甲酸酯(荒川化學公司製；BS371、10官能以上、分子量約四萬)：2質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE184)：0.4質量份．MEK：10質量份
組成D ．聚乙二醇二丙烯酸酯(東亞合成公司製；M240、2官能、分子量302)：10質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE184)：0.4質量份．MEK：10質量份
組成E ．丙烯酸胺基甲酸酯(日本合成公司製；紫光UV3520－TL、2官能、分子量14000)：10質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE184)：0.4質量份．MEK：10質量份
組成F ．丙烯酸胺基甲酸酯(日本合成公司製；紫光UV1700B、10官能、分子量2000)：10質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE184)：0.4質量份．MEK：10質量份
組成G ．聚酯丙烯酸酯(東亞合成公司製；M9050、3官能、分子量418)：10質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE184)：0.4質量份．甲苯：10質量份
組成H ．二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥公司製；DPHA、6官能、分子量524)：2.5質量份．丙烯酸胺基甲酸酯(日本合成公司製；紫光UV1700B、10官能、分子量2000)：2.5質量份．丙烯酸胺基甲酸酯(荒川化學公司製；BS371、10官能以上、分子量約四萬)：2.5質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE127)：0.4質量份．MEK：10質量份
組成I ．二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥公司製；DPHA、6官能、分子量524)：2質量份．丙烯酸胺基甲酸酯(日本合成公司製；紫光UV1700B、10官能、分子量2000)：2質量份．丙烯酸胺基甲酸酯(荒川化學公司製；BS371、10官能以上、分子量約四萬)：3質量份．經表面處理之膠體氧化矽：3質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE184)：0.4質量份．MEK：10質量份
〈製造例2〉
分別調製下述組成a~組成e及組成a’作為硬塗層形成用組成物。
組成a ．二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥公司製；DPHA、6官能、分子量547)：5質量份．丙烯酸胺基甲酸酯(荒川化學公司製；BS371、10官能以上、分子量約四萬)：5質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE184)：0.4質量份．MEK：10質量份
組成b ．季戊四醇三丙烯酸酯(日本化藥公司製；PET30、3官能、分子量298)：5質量份．丙烯酸胺基甲酸酯(根上工業公司製；HDP、10官能、分子量4500)：5質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE184)：0.4質量份．MEK：10質量份
組成c ．丙烯酸胺基甲酸酯(日本合成公司製；紫光UV1700B、10官能、分子量2000)：10質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE184)：0.4質量份
組成d ．三聚異氰酸EO改質二丙烯酸酯(東亞合成公司製；M215、2官能、分子量369)：10質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE184)：0.4質量份
組成e ．二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥公司製；DPHA、6官能、分子量547)：10質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE184)：0.4質量份
組成a' ．二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥公司製；DPHA、6官能、分子量547)：5質量份．丙烯酸胺基甲酸酯(荒川化學公司製；BS371、10官能以上、分子量約四萬)：5質量份．防污劑(日本化藥公司製UT3971)：0.5質量份．聚合起始劑(Ciba Specialty製；IRGACURE184)：0.4質量份．MEK：10質量份
〈實施例1〉
於三乙酸纖維素膜(厚度80μm)之單面以濕潤重量26g/m2 (乾燥重量13g/m2 )塗佈組成A之樹脂配合物作為下層硬塗層A形成用組成物。於70℃乾燥60秒，照射紫外線50mJ/cm2 ，形成底層用之硬塗層A。
進而，於硬塗層A上以濕潤重量26g/m2 (乾燥重量13g/m2 )塗佈組成a之樹脂添加物作為上層硬塗層B形成用組成物。於70℃乾燥60秒，照射紫外線200mJ/cm2 ，藉此形成硬塗層B，得到所需之光學積層體。
〈實施例2~11〉
除了於形成硬塗層時，下層之硬塗層A形成用組成物及上層之硬塗層B形成用組成物分別以表1所示之樹脂配合物之組合及塗佈量形成各層外，與實施例1相同進行，分別得到實施例2~11之光學積層體。
〈比較例1~6〉
除了於形成硬塗層時，下層之硬塗層A形成用組成物及上層之硬塗層B形成用組成物分別以表2所示之樹脂配合物之組合及塗佈量形成各層外，與實施例1相同進行，得到比較例1~6之光學積層體。
〈試驗例1〉
關於各實施例及比較例所得到之光學積層體，根據以下評價基準進行評價。其結果顯示於表1及表2。
(1)有無干涉條紋試驗於光學積層體之硬塗層之相反面貼上用以防止背面反射之黑色膠帶，由硬塗層之面以目視觀察光學積層體，以下述評價基準進行評價。
評價基準 評價○：無干涉條紋產生評價×：有干涉條紋產生
(2)鉛筆硬度試驗鉛筆刮痕試驗之硬度係將製作之硬塗膜(上述光學積層體(以下相同))以溫度25℃、相對濕度60%之條件調濕2小時後，使用JIS－8－6006所規定之試驗用鉛筆(硬度4H)，依照JIS－K－5400所規定之鉛筆硬度評價方法以4.9N負重實施。
評價基準 評價○：無刮傷/測定次數＝4/5、5/5評價×：無刮傷/測定次數＝0/5、1/5、2/5、3/5
(3)翹曲試驗將製作之硬塗膜切成橫×縱＝10cm×10cm之尺寸，於溫度20℃、相對濕度60%環境下，測定靜置於平板上時之四角之浮起，其平均值為翹曲高度。
評價基進 評價○：25mm以下評價×：比26mm大(成為筒狀之不能測定之情形亦為×)
(4)龜裂試驗將製作之硬塗膜切成10cm×5cm之尺寸，捲繞於直徑16mm之圓筒狀的金屬管上，於捲繞後將膜回復原來狀態，以目視確認有無龜裂。
評價基進 評價○：無龜裂評價×：有龜裂
由表1及表2之結果可知，於本發明中可得到硬度、耐龜裂性等優良、亦無干涉條紋之積層體。
藉由本發明可得到一面有效地抑制乃至於防止干涉條紋之出現，一面可發揮高的表面硬度之光學積層體。本發明之光學積層體，可適用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、場致發射顯示器(FED)等。
圖1係顯示以本發明之實施例所製成之光學積層體之層構造(截面)。

Claims (2)

  1. 一種光學積層體，係於透光性基材上至少形成有(1)鄰接於該基材之硬塗層A及(2)硬塗層B者；該基材與硬塗層A之界面實質上不存在；該硬塗層A係使用組成物A所形成，該組成物A包含重量平均分子量200以上4萬以下且具有3個以上15個以下官能基之(甲基)丙烯酸酯類化合物及(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物之至少一種，及選自由甲基乙基酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯所組成之群中至少一種的對透光性基材具有浸透性之溶劑；該硬塗層B係使用包含重量平均分子量1000~50000且具有6個以上15個以下官能基之(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物之組成物B所形成。
  2. 一種光學積層體之製造方法，係具有：於透光性基材上塗佈組成物A，形成硬塗層A之步驟(1)及於該硬塗層A上塗佈組成物B，形成硬塗層B之步驟(2)者；該組成物A係包含重量平均分子量200以上4萬以下且具有3個以上15以下官能基之(甲基)丙烯酸酯類化合物及(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物之至少一種，及選自由甲基乙基酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯所組成之群中至少一種的對透光性基材具有浸透性之溶劑；該組成物B係包含重量平均分子量1000~50000且具有6個以上15個以下官能基之(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類化合物。
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Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8313827B2 (en) * 2008-02-01 2012-11-20 Toray Industries, Inc. Laminated film and molding and reflector
JP4820838B2 (ja) * 2008-03-28 2011-11-24 株式会社有沢製作所 感光性樹脂組成物及び該樹脂組成物を用いたハードコートフィルム並びに反射防止フィルム
JP5476843B2 (ja) * 2009-08-04 2014-04-23 大日本印刷株式会社 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
WO2012008444A1 (ja) * 2010-07-12 2012-01-19 大日本印刷株式会社 帯電防止層用硬化性樹脂組成物、光学フィルム、偏光板及びディスプレイパネル
KR101649015B1 (ko) * 2010-08-02 2016-08-17 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 적층체, 편광판 및 화상 표시 장치
US9296177B2 (en) * 2010-08-27 2016-03-29 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical layered body, polarizer, and image display device
WO2012026371A1 (ja) * 2010-08-27 2012-03-01 ソニー株式会社 配向フィルムおよびその製造方法、位相差フィルムおよびその製造方法、ならびに表示装置
JP2012093723A (ja) * 2010-09-30 2012-05-17 Fujifilm Corp 光学フィルム、偏光板、画像表示装置、及び光学フィルムの製造方法
CN103135148B (zh) * 2011-08-03 2016-01-13 富士胶片株式会社 带涂层的膜的制造方法
JP5785138B2 (ja) * 2011-08-03 2015-09-24 富士フイルム株式会社 塗膜付きフィルムの製造方法
US20130052363A1 (en) * 2011-08-24 2013-02-28 Satoshi KUNIYASU Method for manufacturing film with multilayer
JP5813597B2 (ja) * 2011-08-24 2015-11-17 富士フイルム株式会社 多層膜付きフィルムの製造方法
KR101597477B1 (ko) * 2011-10-26 2016-02-24 후구비카가구코오교우가부시끼가이샤 투명 수지 기판
JP5304939B1 (ja) 2012-05-31 2013-10-02 大日本印刷株式会社 光学積層体、偏光板、偏光板の製造方法、画像表示装置、画像表示装置の製造方法及び画像表示装置の視認性改善方法
KR101470466B1 (ko) 2012-08-23 2014-12-08 주식회사 엘지화학 적층 하드코팅 필름
KR101415838B1 (ko) 2012-08-23 2014-07-09 주식회사 엘지화학 하드코팅 조성물
KR101470464B1 (ko) 2012-08-23 2014-12-08 주식회사 엘지화학 하드코팅 필름
KR101470463B1 (ko) 2012-08-23 2014-12-08 주식회사 엘지화학 하드코팅 필름
KR101436616B1 (ko) 2012-08-23 2014-09-03 주식회사 엘지화학 하드코팅 필름
KR101415840B1 (ko) 2012-08-23 2014-07-09 주식회사 엘지화학 하드코팅 필름
KR101415839B1 (ko) 2012-08-23 2014-07-09 주식회사 엘지화학 하드코팅 필름
JP6326801B2 (ja) * 2013-12-12 2018-05-23 大日本印刷株式会社 積層体
CN107000400B (zh) * 2014-12-16 2018-11-23 东丽株式会社 叠层体
WO2017014198A1 (ja) * 2015-07-17 2017-01-26 大日本印刷株式会社 光学部材用積層体、及び、画像表示装置
KR102065717B1 (ko) * 2016-12-26 2020-01-13 주식회사 엘지화학 편광자 보호 필름, 이를 포함하는 편광판, 상기 편광판을 포함하는 액정 디스플레이 장치, 및 편광자 보호 필름용 코팅 조성물
US10935700B2 (en) * 2017-01-06 2021-03-02 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical film and image display device
JP2019206178A (ja) * 2018-05-25 2019-12-05 三菱ケミカル株式会社 積層体、偏光子保護フィルム及び偏光板
TWI667303B (zh) * 2018-08-02 2019-08-01 明基材料股份有限公司 硬塗層光學膜、具有此硬塗層光學膜的偏光板、及含此硬塗層光學膜及/或偏光板的影像顯示裝置
TWI684632B (zh) * 2018-08-02 2020-02-11 明基材料股份有限公司 抗反射膜、具此抗反射膜之偏光板、及含此抗反射膜及/或含具此抗反射膜之偏光板的影像顯示裝置
CN109401173B (zh) * 2018-11-05 2020-06-16 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种高性能真空增透膜及其制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000338308A (ja) * 1999-05-31 2000-12-08 Toray Ind Inc 反射防止フィルム
TWI225159B (en) * 2001-09-25 2004-12-11 Fuji Photo Film Co Ltd Hard coat film, substrate having the hard coat film laminated thereon and display device provided with same
TWI235256B (en) * 2003-04-07 2005-07-01 Nippon Oil Corp Method for producing an optical device; elliptical and circular polarizers comprising the optical device; and liquid crystal device
TWI236552B (en) * 2003-04-07 2005-07-21 Nippon Oil Corp Method for producing an optical device; elliptical and circular polarizers comprising the optical device; and liquid crystal device
WO2005095098A1 (ja) * 2004-03-31 2005-10-13 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 薄膜積層体

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4174344B2 (ja) * 2002-03-15 2008-10-29 日東電工株式会社 反射防止フィルム、その製造方法、光学素子および画像表示装置
EP1487202B1 (en) * 2003-06-10 2008-12-10 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Projection screen and projection system
JP2008229538A (ja) * 2007-03-22 2008-10-02 Toppan Printing Co Ltd コーティングフィルムの製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000338308A (ja) * 1999-05-31 2000-12-08 Toray Ind Inc 反射防止フィルム
TWI225159B (en) * 2001-09-25 2004-12-11 Fuji Photo Film Co Ltd Hard coat film, substrate having the hard coat film laminated thereon and display device provided with same
TWI235256B (en) * 2003-04-07 2005-07-01 Nippon Oil Corp Method for producing an optical device; elliptical and circular polarizers comprising the optical device; and liquid crystal device
TWI236552B (en) * 2003-04-07 2005-07-21 Nippon Oil Corp Method for producing an optical device; elliptical and circular polarizers comprising the optical device; and liquid crystal device
WO2005095098A1 (ja) * 2004-03-31 2005-10-13 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 薄膜積層体

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