KR20090006131A

KR20090006131A - 광학 적층체

Info

Publication number: KR20090006131A
Application number: KR1020087026438A
Authority: KR
Inventors: 도모유끼 호리오; 겐지 우에노
Original assignee: 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
Priority date: 2006-03-31
Filing date: 2007-03-30
Publication date: 2009-01-14
Also published as: WO2007116831A1; US20090176077A1; CN101410729A; TW200736654A; KR101344132B1; CN101410729B; TWI416158B

Abstract

간섭 무늬의 발현을 효과적으로 억제 내지는 방지하면서 높은 표면 경도를 발휘할 수 있는 광학 적층체를 제공한다. 광 투과성 기재 상에 적어도 (1) 상기 기재에 인접하는 하드 코트층 A 및 (2) 하드 코트층 B가 형성되어 이루어지는 적층체이며, 상기 기재와 하드 코트층 A의 계면이 실질적으로 존재하지 않는 것을 특징으로 하는 광학 적층체이다.

광학 적층체, 광 투과성 기재, 하드 코트층, 열가소성 기재, 대전 방지제

Description

광학 적층체 {OPTICAL LAMINATED BODY}

본 발명은 신규한 광학 적층체에 관한 것이다.

음극선관 표시 장치(CRT), 플라즈마 디스플레이(PDP), 유기 또는 무기의 일렉트로 루미네센스 디스플레이(ELD), 필드 에미션 디스플레이(FED) 또는 액정 디스플레이(LCD)와 같은 화상 표시 장치에 있어서, 외광의 반사 또는 상의 반영(reflection image)에 의한 콘트라스트의 저하, 시인성의 저하를 방지하는 것이 요구된다. 이로 인해, 광의 산란 원리 또는 광학 간섭의 원리를 사용하여 상의 반영 또는 반사율을 저감시킬 목적으로 화상 표시 장치의 최표면에 반사 방지 적층체가 설치되는 것이 일반적이다.

상기 반사 방지 적층체에서는 투명 재료 상에 하드 코트를 형성하거나, 혹은 하드 코트 상에 원하는 기능(예를 들어, 대전 방지성, 방오성, 반사 방지성 등)을 부여하기 위해 또 다른 층을 형성시키는 것이 행해져 왔다.

그러나, 투명 기재(基材) 상에 하드 코트 등을 형성시킨 경우, 투명 기재 표면의 반사광과 하드 코트 표면의 반사광이 간섭하여, 막 두께의 불균일에 기인하여 간섭 무늬로 불리는 불균일 모양이 되어 나타나, 외관이 손상된다는 문제점이 발생한다.

이 문제를 해결하기 위해서는, 광학적으로는 하드 코트층 등의 두께를 수㎛ 이상으로 극단적으로 두껍게 하는 방법, 혹은 100 ㎚ 정도까지 얇게 하는 방법이 있다. 그러나, 전자에서는 균열이 발생하는 것 외에, 비용이 드는 등의 이유로 실용성이 결여된다. 후자에서는 충분한 표면 경도를 확보할 수 없게 된다는 문제가 있다.

특허 문헌 1 : 일본 특허 출원 공개 제2005-107005호

따라서, 본 발명의 주목적은 간섭 무늬의 발현을 효과적으로 억제 내지는 방지하면서 높은 표면 경도를 발휘할 수 있는 광학 적층체를 제공하는 것에 있다.

본 발명자는 종래 기술의 문제점을 감안하여 예의 연구를 거듭한 결과, 특정한 층 구성을 채용함으로써 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

즉, 본 발명은 광 투과성 기재 상에, 적어도 (1) 상기 기재가 인접하는 하드 코트층 A 및 (2) 하드 코트층 B가 형성되어 이루어지는 적층체이며, 상기 기재와 하드 코트층 A의 계면이 실질적으로 존재하지 않는 것을 특징으로 하는 광학 적층체이다.

상기 하드 코트층 B는 6 이상의 관능기를 갖는 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 조성물 B를 사용하여 형성되어 이루어지는 것이 바람직하다.

상기 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물은 중량 평균 분자량 1000 내지 50000인 것이 바람직하다.

상기 하드 코트층 A는 중량 평균 분자량 200 이상이고, 또한 3 이상의 관능 기를 갖는 화합물 A를 포함하는 조성물 A를 사용하여 형성되어 이루어지는 것이 바람직하다.

상기 화합물 A는 (메타)아크릴레이트계 화합물 및 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물의 적어도 1종인 것이 바람직하다.

상기 조성물 A는 상기 기재에 대해 침투성 또는 용해성을 갖는 용제를 포함하는 것이 바람직하다.

상기 광학 적층체는 간섭 무늬가 실질적으로 존재하지 않는 것이 바람직하다.

상기 하드 코트층 A 및 상기 하드 코트층 B의 연필 경도가 4H 이상인 것이 바람직하다.

상기 하드 코트층 A의 비커스 경도는 450 N/㎜ 이상이고, 하드 코트층 B의 비커스 경도는 550 N/㎜ 이상인 것이 바람직하다.

상기 광학 적층체는, 1) 하드 코트층 A와 하드 코트층 B 사이, 2) 하드 코트층 B 위 또는 3) 하드 코트층 A 아래에 대전 방지층, 방현층, 저굴절률층, 방오층 또는 이들의 2종 이상의 층을 형성하여 이루어지는 것이 바람직하다.

상기 광학 적층체는 반사 방지용 적층체로서 사용되는 것이 바람직하다.

본 발명은 또한, 광 투과성 기재 상에 조성물 A를 도포하여 하드 코트층 A를 형성하는 공정(1) 및 상기 하드 코트층 A 상에 조성물 B를 도포하여 하드 코트층 B를 형성하는 공정(2)을 갖는 광학 적층체의 제조 방법이며, 상기 조성물 A는 중량 평균 분자량 200 이상이고, 또한 3 이상의 관능기를 갖는 화합물 A 및 상기 광 투 과성 기재에 대해 침투성 또는 용해성을 갖는 용제를 포함하고, 상기 조성물 B는 6 이상의 관능기를 갖는 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 적층체의 제조 방법이기도 하다.

본 발명의 광학 적층체는 적어도 특정한 2개의 하드 코트층의 형성에 의해, 기재와 하드 코트층 A의 계면이 실질적으로 존재하지 않는 상태를 실현할 수 있다. 이에 의해, 간섭 무늬의 발생을 억제 내지는 방지할 수 있는 동시에, 높은 표면 경도를 발휘할 수 있다. 또한, 본 발명의 적층체는 상기 구성에 의해, 가공 시에 있어서의 컬도 효과적으로 억제할 수 있다.

본 발명에 의한 광학 적층체는 하드 코트 적층체로서, 바람직하게는 반사 방지 적층체(방현성 적층체로서의 이용을 포함함)로서 적절하게 사용할 수 있다. 또한, 본 발명에 의한 광학 적층체는 투과형 표시 장치에 이용된다. 특히, 텔레비전, 컴퓨터, 워드프로세서 등의 디스플레이 표시에 사용된다. 특히, CRT, 액정 패널 등의 디스플레이의 표면에 바람직하게 사용된다.

도1은 본 발명의 실시예에서 작성된 광학 적층체의 층 구성(단면)을 도시하는 도면이다.

본 발명의 광학 적층체는 광 투과성 기재 상에, 적어도 (1) 상기 기재가 인접하는 하드 코트층 A 및 (2) 하드 코트층 B가 형성되어 이루어지는 적층체이며, 상기 기재와 하드 코트층 A의 계면이 실질적으로 존재하지 않는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 명세서에서는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트를 총칭하여 (메타)아크릴레이트라고 하는 경우가 있다.

이하, 본 발명의 광학 적층체의 각 층에 대해 설명한다. 또한, 본 발명에서는 모노머, 올리고머, 프리폴리머 등의 경화성 수지 전구체를, 특별한 기재가 없는 한, 총칭하여 "수지"라고 표기한다.

광 투과성 기재

광 투과성 기재는 평활성, 내열성을 구비하고, 기계적 강도가 우수한 것이 바람직하다. 광 투과성 기재를 형성하는 재료의 구체예로서는, 폴리에스테르(폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트), 셀룰로오스트리아세테이트, 셀룰로오스디아세테이트, 셀룰로오스아세테이트부틸레이트, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리비닐아세탈, 폴리에테르케톤, 폴리메타크릴산메틸, 폴리카보네이트, 또는 폴리우레탄 등의 열가소성 수지를 들 수 있고, 바람직하게는 폴리에스테르(폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트), 셀룰로오스트리아세테이트를 들 수 있다. 특히 바람직하게는, 셀룰로오스트리아세테이트를 들 수 있다.

이들의 재료는 시판품을 사용할 수도 있다. 예를 들어, 폴리에스테르 수지로서는, 도요보사제의 제품명 「A-4100」, 「A-4300」 등이 바람직하다. 또한, 셀룰로오스트리아세테이트로서는, 후지 사진 필름사제의 제품명 「TF80UL」, 「FT TDY80UL」 등이 바람직하다.

상기 광 투과성 기재는 상기 열가소성 수지를 유연성이 풍부한 필름 형상체로서 사용하는 것이 바람직하나, 경화성이 요구되는 사용 형태에 따라서 이들 열가소성 수지의 판을 사용하는 것도 가능하고, 또는 유리판의 판 형상체의 것을 사용해도 된다.

그 밖에, 상기 광 투과성 기재로서는, 지환 구조를 가진 비정질 올레핀폴리머(Cyclo-Olefin-Polymer : COP) 필름을 들 수 있다. 이는, 노르보르넨계 중합체, 단환의 환상 올레핀계 중합체, 환상 공역 디엔계 중합체, 비닐 지환식 탄화수소계 중합체 등이 사용되는 기재이고, 예를 들어 니혼 제온(주)제의 제오넥스나 제오노아(노르보르넨계 수지), 스미토모 베이크라이트(주)제의 스미라이트 FS-1700, JSR(주)제의 아튼(변성 노르보르넨계 수지), 미츠이 화학(주)제의 아펠(환상 올레핀 공중합체), 티코나(Ticona)사제의 토파스(Topas)(환상 올레핀 공중합체), 히타치 카세이(주)제의 옵트렛츠 OZ-1000 시리즈(지환식 아크릴 수지) 등을 들 수 있다.

또한, 셀룰로오스트리아세트의 대체 기재로서 아사히 카세이 케미컬(주)제의 FV 시리즈(저복굴절률, 저광탄성률 필름)도 바람직하다.

광 투과성 기재의 두께는 20 ㎛ 이상 300 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하이다. 광 투과성 기재가 판 형상체인 경우에는 이들의 두께를 초과하는 두께 300 ㎛ 이상 500 ㎛ 이하라도 좋다. 기재는 그 위에 하드 코트층, 대전 방지층 등을 형성할 때에, 접착성 향상을 위해, 코로나 방전 처리, 산화 처리 등의 물리적인 처리 외에, 앵커제 혹은 프라이머라고 불리는 도료의 도포를 미리 행해도 된다.

하드 코트층

본 발명에 있어서의 「하드 코트층」이라 함은, JIS 5600-5-4(1999)에서 규정되는 연필 경도 시험에서 「H」 이상의 경도를 나타내는 것을 말한다.

본 발명에서는 적어도 (1) 기재에 인접하는 하드 코트층 A 및 (2) 최표면층으로서의 하드 코트층 B가 형성되어 이루어진다. 하드 코트층 A에 의해 간섭 무늬의 발생을 억제 내지는 방지할 수 있다. 또한, 하드 코트층 A는 적층체의 컬도 효과적으로 억제할 수 있다. 하드 코트층 B에 의해 소정의 경도를 확보할 수 있다. 이와 같이, 2층의 하드 코트층을 갖는 층 구조로 함으로써, 간섭 무늬의 문제와 표면 경도의 문제를 한번에 해소하는 것이 가능해진다.

각 하드 코트층의 두께는 원하는 특성 등에 따라서 적절하게 설정할 수 있으나, 통상은 0.1 내지 100 ㎛, 특히 0.8 내지 20 ㎛가 되도록 형성하는 것이 바람직하다.

각 하드 코드층은 투명성을 갖는 한 제한되지 않는다. 예를 들어, 자외선 또는 전자선에 의해 경화되는 수지(전리 방사선 경화형 수지), 용제 건조형 수지, 열경화형 수지 등의 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다. 이들의 수지 자체는 공지 또는 시판되는 것을 사용할 수 있다. 본 발명에서는 전리 방사선 경화형 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 전리 방사선 경화형 수지로서는, 예를 들어 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 스피로 아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지 등을 들 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상으로 사용할 수 있다.

각 하드 코트층의 형성에 있어서는, 예를 들어 원료 성분을 포함하는 조성물(하드 코트층 형성용 조성물)을 사용하여 형성할 수 있다. 더욱 구체적으로는, 원료 성분 및 필요에 따라서 첨가제를 용제에 용해 또는 분산하여 이루어지는 용액 또는 분산액을 하드 코트층 형성용 조성물로서 사용하고, 상기 조성물에 의한 도막을 형성하고 상기 도막을 경화시킴으로써, 각 하드 코트층을 각각 얻을 수 있다.

상기 조성물의 제조 방법은 각 성분을 균일하게 혼합할 수 있으면 되고, 공지의 방법을 따라서 실시하면 된다. 예를 들어, 페인트 셰이커, 비즈 밀, 니더, 믹서 등의 공지의 장치를 사용하여 혼합할 수 있다.

도막의 형성 방법은 공지의 방법을 따르면 된다. 예를 들어, 스핀 코트법, 침지법, 스프레이법, 다이 코트법, 바 코트법, 롤 코터법, 메니스커스 코터법, 플렉소 인쇄법, 스크린 인쇄법, 피드 코터법 등의 각종 방법을 사용할 수 있다.

이렇게 하여 얻어진 도막의 경화 방법은 상기 조성물의 내용 등에 따라서 적절하게 선택하면 된다. 예를 들어, 자외선 경화형이면, 도막에 자외선을 조사함으로써 경화시키면 된다.

각 하드 코트층 A 또는 하드 코트층 B의 형성에 사용하는 조성물 A 또는 조성물 B로서는, 투명성을 갖는 상기 수지의 원료 성분이 되는 것을 사용하면 되고, 상기 수지의 종류 등에 따라서 적절하게 설정할 수 있다. 예를 들어, 에틸(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 스틸렌, 메틸스틸렌, N-비닐피롤리돈 등의 단관능 모노머 ; 우레탄(메타)아크릴레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 폴리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 헥산디올(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 이소시아눌산변성디(또는 트리)아크릴레이트 등의 다관능성 모노머 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다.

본 발명에서는 이들 중에서도 에틸(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 폴리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 헥산디올(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴레이트계 화합물의 적어도 1종을 적절하게 사용할 수 있다. 즉, 아크릴레이트 화합물 및/또는 메타크릴레이트 화합물의 적어도 1종을 적절하게 사용할 수 있다.

조성물 A 또는 조성물 B에 있어서는, 필요에 따라서 용제를 사용할 수 있다. 용제로서는, 사용하는 원료 성분의 종류 등에 따라서 공지의 용제 중에서 적절하게 선택할 수 있다.

예를 들어, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부탄올, 이소부틸알코올, 메틸글리콜, 메틸글리콜아세테이트, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 알코올류 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 디아세톤알코올 등의 케톤류 ; 포름산메틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 락트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류 ; 니트로메탄, N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드 등의 질소 함유 화합물 ; 디이소프로필에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 디옥소란 등의 에테르류 ; 염화메틸렌, 클로로포름, 트리클로로에탄, 테트라크롤에탄 등의 할로겐화 탄화수소 ; 디메틸설폭시드, 탄산프로필렌 등의 그 밖의 것 ; 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 더욱 바람직한 용제로서는, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 메틸에틸케톤 등의 적어도 1종을 들 수 있다.

특히, 조성물 A에 사용하는 용제로서는, 사용하는 광 투과성 기재에 대해 침투성을 갖는 것을 적절하게 사용할 수 있다. 예를 들어, 광 투과성 기재로서 셀룰로오스계 수지를 사용하는 경우에는 메틸에틸케톤, 아세트산메틸, 아세트산에틸 등을 적절하게 사용할 수 있다.

조성물 A 또는 조성물 B에서 용제를 사용하는 경우, 용제의 사용량은 각 조성물의 고형분 함유량이 5 내지 80 질량％ 정도가 되도록 적절하게 설정하면 된다.

(하드 코트층 A)

특히, 하드 코트층 A를 형성하기 위한 조성물 A로서는, 원료 성분으로서, 중량 평균 분자량 200 이상이고, 또한 3 이상의 관능기를 갖는 화합물(화합물 A)을 포함하는 조성물(혼합물)을 사용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 화합물 A를 사용함으로써 간섭 무늬의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.

상기 중량 평균 분자량은, 통상은 200 이상으로 하면 되지만, 바람직하게는 250 이상, 더욱 바람직하게는 300 이상, 가장 바람직하게는 350 이상으로 한다. 상기 중량 평균 분자량의 상한은 한정적인 것은 아니지만, 통상은 4만 정도로 하면 된다. 또한, 상기한 관능기의 수는 일반적으로는 3 이상이지만, 바람직하게는 3을 초과하는 수로 하고, 더욱 바람직하게는 4 이상, 가장 바람직하게는 5 이상으로 한다. 상기한 관능기의 수의 상한은 한정적인 것은 아니지만, 통상은 15 정도로 하면 된다.

상기 화합물 A는 상기한 중량 평균 분자량 및 관능기 수를 갖는 것이면 되지만, 상술한 바와 같이, (메타)아크릴레이트계 화합물 및 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물의 적어도 1종을 적절하게 사용할 수 있다. 예를 들어, 상기한 중량 평균 분자량 및 관능기 수를 갖는 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 적어도 1종을 바람직하게 사용할 수 있다.

이들은 공지 또는 시판의 것을 사용할 수 있다. 조성물 A 중에 있어서의 화합물 A의 함유 비율(고형분)은 한정적인 것은 아니지만, 통상은 50 내지 100 질량％(특히 90 내지 100 질량％)로 하면 된다. 화합물 A 이외의 성분으로서, 중합 개시제 혹은 후기의 첨가제 외에, 중량 평균 분자량 200 미만의 화합물 등이 포함되어 있어도 된다.

(하드 코트층 B)

특히, 하드 코트층 B를 형성하기 위한 조성물 B로서는, 원료 성분으로서, 6 이상 바람직하게는 6 이상 15 이하)의 관능기를 갖는 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 조성물(혼합물)을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물로서는, 특히 중량 평균 분자량 1000 내지 50000(바람직하게는 1500 내지 40000)의 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물의 적어도 1종을 적절하게 사용할 수 있다.

또한, 본 발명에서는 상기 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물에 추가하여, 또한 3 이상 6 이하의 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트계 화합물[단, 상기 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물을 제외함]을 병용할 수도 있다. 상기 (메타)아크릴레이트계 화합물로서는, 예를 들어 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트 등의 적어도 1종을 적절하게 사용할 수 있다.

조성물 B 중에 있어서의 상기 (메타)아크릴레이트계 화합물 및 상기 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물의 합계의 함유 비율(고형분)은 한정되지 않지만, 통상은 10 내지 100 질량％(특히 20 내지 100 질량％)로 하면 된다. 이들 화합물 이외의 성분으로서, 후기의 첨가제 외에, 3 미만의 관능기를 갖는 화합물 등이 포함되어 있어도 된다.

또한, 상기 (메타)아크릴레이트계 화합물과 상기 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물의 비율은 한정적인 것은 아니지만, 통상은 상기 (메타)아크릴레이트계 화합물과 상기 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물의 합계 100 질량％ 중, 상기 (메타)아크릴레이트계 화합물을 0 내지 90 질량％(특히 5 내지 90 질량％)로 하고, 상기 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물을 100 내지 10 질량％(특히 10 내지 95 질량％)로 하는 것이 바람직하다.

그 밖의 성분

본 발명에서는, 조성물 A 또는 조성물 B에는 필요에 따라서 중합 개시제, 대전 방지제, 방현제 등의 첨가제가 포함되어 있어도 된다.

중합 개시제로서는, 예를 들어 아세토페논류, 벤조페논류, 미히라벤조일벤조에이트, α-아밀옥심에스테르, 테트라메틸메우람모노설파이드, 티옥산톤류 등을 적용할 수 있다. 또한, 필요에 따라서 광증감제, 광중합 촉진제를 첨가한다. 상기 광증감제, 광중합 촉진제로서는, 공지의 것이면 좋고, 예를 들어 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, α-메틸벤조인, α-페닐벤조인 등의 벤조인계 화합물 ; 안트라퀴논, 메틸안트라퀴논 등의 안트라퀴논계 화합물 ; 벤질 ; 디아세틸 ; 아세토페논, 벤조페논 등의 페닐케톤 화합물 ; 디페닐디설파이드, 테트라메틸티우람설파이드 등의 설파이드 화합물 ; α-크롤메틸나프탈린 ; 안트라센 및 헥사클로로부타디엔, 펜타클로로부타디엔 등의 할로겐화탄화수소, 티옥산톤, n-부틸아민, 트리에틸아민, 트리-n-부틸포스핀 등을 들 수 있다.

구체적으로는, 아세토페논계 광중합 개시제에 대해, 벤조페논 또는 티옥산톤 광증감제를 사용하는 것이 바람직하다.

대전 방지제로서는, 예를 들어 제4급 암모늄염, 피리듐염, 제1 내지 제3 아미노기 등의 양이온성기를 갖는 각종 양이온성 화합물, 술폰산염기, 황산에스테르염기, 인산에스테르염기, 포스폰산염기 등의 음이온성기를 갖는 음이온성 화합물, 아미노산계, 아미노황산에스테르계 등의 양성 화합물, 아미노알코올계, 글리세린계, 폴리에틸렌글리콜계 등의 비이온성 화합물, 주석 및 티탄의 알콕시드와 같은 유기 금속 화합물 및 이들 아세틸아세토네이트염과 같은 금속 킬레이트 화합물 등을 들 수 있고, 또한 상기에 열기한 화합물을 고분자량화한 화합물을 들 수 있다. 또한, 제3급 아미노기, 제4급 암모늄기, 또는 금속 킬레이트부를 갖고, 또한 전리 방사선에 의해 중합 가능한 모노머 또는 올리고머, 혹은 관능기를 갖는 커플링제와 같은 유기 금속 화합물 등의 중합성 화합물도 또한 대전 방지제로서 사용할 수 있다.

또한, 대전 방지제로서, 도전성 미립자를 들 수 있다. 도전성 미립자의 구체예로서는, 금속 산화물로 이루어지는 것을 들 수 있다. 그와 같은 금속 산화물로서는, ZnO(굴절률 1.90 이하, 괄호 내의 수치는 굴절률을 나타냄), CeO₂(1.95), Sb₂O₂(1.71), SnO₂(1.997), ITO로 줄여서 불리는 경우가 많은 산화인듐 주석(1.95), In₂O₃(2.00), Al₂O₃(1.63), 안티몬 도프 산화주석(약칭 ; ATO, 2.0), 알루미늄 도프 산화아연(약칭 ; AZO, 2.0) 등을 들 수 있다. 상기 미립자의 평균 입경은 5 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 1 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다.

또한, 대전 방지제로서, 도전성 폴리머를 들 수 있다. 그 재료로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 지방족 공액계의 폴리아세틸렌, 폴리아센, 폴리아즈렌, 방향족 공액계의 폴리페닐렌, 복소환식 공액계의 폴리피롤, 폴리티오펜, 폴리이소티아나프텐, 헤테로 원자 함유 공액계의 폴리아닐린, 폴리티에닐렌비닐렌, 혼합형 공액계의 폴리(페닐렌비닐렌), 분자 중에 복수의 공액 사슬을 갖는 공액계인 복사슬형 공액계, 이들 도전성 폴리머의 유도체 및 이들 공역 고분자 사슬을 포화 고분자에 그래프트 또는 블록 공중합한 고분자인 도전성 복합체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤 등의 유기계 대전 방지제를 사용하는 것이 더욱 바람직하다. 상기 유기계 대전 방지제를 사용함으로써, 우수한 대전 방지 성능을 발휘하는 동시에, 광학 적층체의 전체 광선 투과율을 높이는 동시에 헤이즈값을 내리는 것도 가능해진다. 또한, 도전성 향상이나, 대전 방지 성능 향상을 목적으로 하여, 유기 술폰산이나 염화철 등의 음이온을 도판트(전자 공여제)로서 첨가할 수도 있다. 도판트 첨가 효과도 근거로 하여, 특히 폴리티오펜은 투명성, 대전 방지성이 높아, 바람직하다. 상기 폴리티오펜으로서는, 올리고티오펜도 적절하게 사용할 수 있다. 상기 유도체로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 폴리페닐아세틸렌, 폴리디아세틸렌의 알킬기 치환체 등을 들 수 있다.

방현제로서는, 예를 들어 각종 미립자를 사용할 수 있다. 그 형상은 진구 형상, 타원 형상 등의 어느 것이라도 좋고, 바람직하게는 진구 형상의 것을 들 수 있다. 또한, 상기 미립자는 무기계 또는 유기계의 것을 들 수 있다. 상기 미립자는 방현성을 발휘하는 것이고, 바람직하게는 투명성의 것이 좋다. 상기 미립자의 구체예로서는, 유기계이면 플라스틱 비즈, 무기계이면 실리카 비즈를 들 수 있다. 플라스틱 비즈의 구체예로서는, 폴리스틸렌 비즈(굴절률 1.60), 멜라민 비즈(굴절률 1.57), 아크릴 비즈(굴절률 1.49 내지 1.535), 아크릴-스틸렌 비즈(굴절률 1.54 내지 1.58), 벤조구아나민ㆍ포름알데히드 축합물 비즈(굴절률 1.66), 벤조구아나민ㆍ멜라민ㆍ포름알데히드 축합물 비즈(굴절률 1.52 내지 1.66), 멜라민ㆍ포름알데히드 축합물 비즈(굴절률 1.66), 폴리카보네이트 비즈, 폴리에틸렌 비즈 등을 들 수 있다. 상기 플라스틱 비즈는 그 표면에 소수성기를 갖는 것이 바람직하고, 예를 들어 스틸렌 비즈를 들 수 있다. 실리카 비즈로서는, 구형상 실리카, 부정형 실리카 등을 들 수 있다. 그 밖에, 유기ㆍ무기 복합의 실리카ㆍ아크릴 복합 화합물 비즈(굴절률 1.52) 등도 사용된다. 이들은 2종 이상을 병용해도 된다.

이 경우, 침강 방지제를 병용하는 것이 바람직하다. 침강 방지제를 첨가함으로써, 수지 비즈의 침전을 억제하여 용매 내에 균일하게 분산시킬 수 있기 때문이다. 침강 방지제의 구체예로서는, 입경이 0.5 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.1 내지 0.25 ㎛ 정도인 실리카 비즈를 들 수 있다.

그 밖의 층

본 발명의 기본층 구성으로서, 광 투과성 기재 상에 적어도 하드 코트층 A 및 하드 코트층 B가 형성되어 있으면 된다. 예를 들어, 광 투과성 기재 상에 인접하여 하드 코트층 A가 형성되고, 하드 코트층 A에 인접하여 하드 코트층 B가 형성되어 이루어지는 3층 구조를 들 수 있다. 이 경우, 본 발명 적층체의 광 투과성 등을 손상하지 않는 범위 내에서, 필요에 따라서 1) 하드 코트층 A와 하드 코트층 B의 층 사이, 2) 하드 코트층 B 위 또는 3) 하드 코트층 A 아래에 다른 층(대전 방지층, 방현층, 저굴절률층, 방오층, 접착제층, 다른 하드 코트층 등)의 1층 또는 2층 이상을 적절하게 형성할 수 있다. 이들의 층은 공지의 반사 방지용 적층체와 동일한 것을 채용할 수도 있다.

(대전 방지층)

대전 방지층은 대전 방지제 및 수지를 포함하는 조성물에 의해 형성할 수 있다. 이 경우, 용제를 사용할 수도 있다. 대전 방지제 및 용제로서는, 상술한 하드 코트층의 항에서 설명한 것을 사용할 수 있다. 대전 방지층의 두께는 한정되지 않지만, 30 ㎚ 내지 1 ㎛ 정도로 하는 것이 바람직하다.

상기 수지로서는, 예를 들어 열가소성 수지, 열경화성 수지 또는 전리 방사선 경화성 수지 혹은 전리 방사선 경화성 화합물(유기 반응성 규소 화합물을 포함함)을 사용할 수 있다. 이들 중, 열경화성 수지 또는 전리 방사선 경화성 수지 혹은 전리 방사선 경화성 화합물이 바람직하다. 특히, 전리 방사선 경화성 수지 및/또는 전리 방사선 경화성 화합물을 사용하는 것이 가장 바람직하다.

전리 방사선 경화성 화합물은 이것을 포함하는 전리 방사선 경화성 조성물로서 사용할 수 있다. 전리 방사선 경화성 화합물로서는, 분자 중에 중합성 불포화결합 또는 에폭시기를 갖는 모노머, 올리고머 및 프리폴리머의 적어도 1종을 사용할 수 있다. 여기서, 전리 방사선이라 함은, 전자파 또는 하전 입자선 중 분자를 중합 또는 가교할 수 있는 에너지 양자를 갖는 것을 가리키고, 통상은 자외선 또는 전자선을 사용한다.

전리 방사선 경화성 조성물 중의 프리폴리머 또는 올리고머로서는, 예를 들어 불포화디카르복실산과 다가 알코올의 축합물 등의 불포화폴리에스테르류 ; 폴리에스테르메타크릴레이트, 폴리에테르메타크릴레이트, 폴리올메타크릴레이트, 멜라민메타크릴레이트 등의 메타크릴레이트류 ; 폴리에스테르아크릴레이트, 엑폭시아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 폴리올아크릴레이트, 멜라민아크릴레이트 등의 아크릴레이트류 외에, 양이온 중합형 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상으로 사용할 수 있다.

전리 방사선 경화성 조성물 중의 모노머로서는, 예를 들어 스틸렌, α-메틸스틸렌 등의 스틸렌계 모노머 ; 아크릴산메틸, 아크릴산-2-에틸헥실, 아크릴산메톡시에틸, 아크릴산부톡시에틸, 아크릴산부틸, 아크릴산메톡시부틸, 아크릴산페닐 등의 아크릴산에스테르류 ; 메타크릴산메틸, 메타크릴산에틸, 메타크릴산프로필, 메타크릴산메톡시에틸, 메타크릴산메톡시메틸, 메타크릴산페닐, 메타크릴산라우릴 등의 메타크릴산에스테르류 ; 아크릴산-2-(N,N-디에틸아미노)에틸, 아크릴산-2-(N,N-디메틸아미노)에틸, 아크릴산-2-(N,N-디벤질아미노)메틸, 아크릴산-2-(N,N-디에틸아미노)프로필 등의 불포화치환의 치환 아미노알코올에스테르류 ; 아크릴아미드, 메타크릴아미드 등의 불포화카르복실산아미드류 ; 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트 등의 디아크릴레이트 화합물 ; 디프로필렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트 등의 다관능성 화합물 및/또는 분자 중에 2개 이상의 티올기를 갖는 폴리티올 화합물(예를 들어, 트리메틸올프로판트리티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리티오프로필레이트, 펜타에리스리톨테트라티오글리콜레이트 등)의 적어도 1종을 들 수 있다.

통상, 전리 방사선 경화성 조성물 중의 모노머로서는, 상기 화합물을 필요에 따라서 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용하지만, 전리 방사선 경화성 조성물에 통상의 도포 적성을 부여하기 위해 상기 모노머의 프리폴리머 또는 올리고머를 5 질량％ 이상으로 하고, 상기 모노머 및/또는 폴리티올 화합물을 95 질량％ 이하로 하는 것이 바람직하다.

대전 방지층에 유연성이 요구되는 경우에는, 모노머량을 줄이거나, 혹은 관능기의 수가 1 또는 2인 아크릴레이트 모노머를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 대전 방지층에 내마모성, 내열성, 내용제성 등이 요구되는 경우에는, 예를 들어 관능기의 수가 3개 이상인 아크릴레이트 모노머를 사용하는 것이 바람직하다. 여기서, 관능기 수가 1인 것으로서, 2-히드록시아크릴레이트, 2-헥실아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트 등을 들 수 있다. 관능기 수가 2인 것으로서, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트를 들 수 있다. 관능기 수가 3 이상인 것으로서, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 등을 들 수 있다.

대전 방지층의 유연성, 표면 경도 등의 물성을 조정하기 위해, 필요에 따라서 전리 방사선 조사에 의해 경화되지 않은 수지를 전리 방사선 경화성 조성물에 첨가할 수도 있다. 상기 수지로서, 예를 들어 폴리우레탄 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리비닐부티랄 수지, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리아세트산비닐 등의 열가소성 수지의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다. 이 중에서도, 폴리우레탄 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리비닐부티랄 수지 등의 적어도 1종이 유연성 향상의 점에서 바람직하다. 전리 방사선 경화성 조성물의 경화가 자외선 조사에 의해 행해질 때에는 광중합 개시제 또는 광중합 촉진제를 첨가하면 된다. 광중합 개시제로서, 라디칼 중합성 불포화기를 갖는 수지계의 경우에는, 예를 들어 아세토페논류, 벤조페논류, 티옥산톤류, 벤조인, 벤조인메틸에테르 등의 단독 또는 2종 이상을 사용할 수 있다. 또한, 양이온 중합성 관능기를 갖는 수지계의 경우에는 광중합 개시제로서, 예를 들어 방향족 디아조늄염, 방향족 술포늄염, 방향족 요오도늄염, 메타세론 화합물, 벤조인술폰산에스테르 등의 단독 또는 2종 이상을 사용할 수 있다. 광중합 개시제의 첨가량은, 사용하는 광중합 개시제의 종류 등에 따라서 적절하게 설정하면 되지만, 전리 방사선 경화성 조성물 100 질량부에 대해 0.1 내지 10 질량부 정도로 하면 된다.

전리 방사선 경화성 조성물에는 필요에 따라서 반응성의 유기 규소 화합물을 병용할 수 있다. 예를 들어, 일반식 RmSi(OR')n(단, R 및 R'는 서로 동일 또는 상이하고, 탄소수 1 내지 10의 알킬기를 나타내고, m 및 n은 각각 m ＋ n ＝ 4의 관계를 만족시키는 정수를 나타냄)으로 나타내는 화합물을 사용할 수 있다.

구체적으로는, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라-iso-프로폭시실란, 테트라-n-프로폭시실란, 테트라-n-부톡시실란, 테트라-sec-부톡시실란, 테트라-tert-부톡시실란, 테트라펜타에톡시실란, 테트라펜타-iso-프로폭시실란, 테트라펜타-n-프로폭시실란, 테트라펜타-n-부톡시실란, 테트라펜타-sec-부톡시실란, 테트라펜타-tert-부톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리프로폭시실란, 메틸트리부톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디메틸에톡시실란, 디메틸메톡시실란, 디메틸프로폭시실란, 디메틸부톡시실란, 메틸디메톡시실란, 메틸디에톡시실란, 헥실트리메톡시실란 등의 적어도 1종을 들 수 있다.

이 경우, 전리 방사선 경화성 조성물에 병용할 수 있는 유기 규소 화합물로서, 실란 커플링제를 필요에 따라서 병용할 수 있다. 실란 커플링제로서는, 구체적으로는 γ-(2-아미노에틸)아미노프로필트리메톡시실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필메틸디메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-메타크릴록시프로필메톡시실란, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-γ-아미노프로필메톡시실란ㆍ염산염, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, 아미노실란, 메틸메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, γ-클로로프로필트리메톡시실란, 헥사메틸디실라잔, 비닐트리스(β-메톡시에톡시)실란, 옥타데실디메틸[3-(트리메톡시실릴)프로필]암모늄클로라이드, 메틸트리클로로실란, 디메틸디클로로실란 등의 적어도 1종을 들 수 있다.

(방현층)

방현층은, 예를 들어 투과성 기재와 하드 코트층 또는 저굴절률층(후기)과의 사이에 형성되면 좋다. 방현층은 수지 및 방현제를 포함하는 수지 조성물로 형성되면 좋다.

상기 수지로서는, 하드 코트층의 항에서 설명한 것으로부터 적절하게 선택하여 사용할 수 있다.

방현제로서는, 각종 미립자를 사용할 수 있다. 미립자의 평균 입경은 한정적인 것은 아니지만, 일반적으로는 0.01 내지 20 ㎛ 정도로 하면 된다. 또한, 미립자의 형상은 진구 형상, 타원 형상 등의 어느 것이라도 좋고, 바람직하게는 진구 형상의 것을 들 수 있다. 또한, 상기 미립자는 무기계 또는 유기계의 것을 들 수 있다.

상기 미립자는 방현성을 발휘하는 것으로, 바람직하게는 투명성의 것이 좋다. 미립자의 구체예로서는, 무기계이면 실리카 비즈, 유기계이면 플라스틱 비즈를 들 수 있다.

플라스틱 비즈의 구체예로서는, 폴리스틸렌 비즈(굴절률 1.60), 멜라민 비즈(굴절률 1.57), 아크릴 비즈(굴절률 1.49 내지 1.535), 아크릴-스티렌 비즈(굴절률 1.54 내지 1.58), 벤조구아나민-포름알데히드 축합물 비즈(굴절률 1.66), 벤조구아나민ㆍ멜라민ㆍ포름알데히드 축합물 비즈(굴절률 1.52 내지 1.66), 멜라민ㆍ포름알데히드 축합물 비즈(굴절률 1.66), 폴리카보네이트 비즈, 폴리에틸렌 비즈 등을 들 수 있다. 상기 플라스틱 비즈는 그 표면에 소수성기를 갖는 것이 바람직하고, 예를 들어, 스틸렌 비즈를 들 수 있다. 실리카 비즈로서는, 구형상 실리카, 부정형 실리카 등을 들 수 있다. 그 밖에, 유기ㆍ무기 복합의 실리카ㆍ아크릴 복합 화합물 비즈(굴절률 1.52) 등도 사용된다. 이들은, 2종 이상을 병용해도 된다.

상기 미립자는 그 평균 입경을 R(㎛)로 하고, 방현층 요철의 10점 평균 조도를 Rz(㎛)로 하고, 방현층의 요철 평균 간격을 Sm(㎛)으로 하고, 요철부의 평균 경사각을 βa로 한 경우에, 하기 수식 :

를 모두 만족시키는 것이 바람직하다.

Sm(㎛)이라 함은, 이 방현층의 요철의 평균 간격을 나타내고, θa(도)는 요철부의 평균 경사각을 나타내는 것이고, (Rz)는 10점 평균 조도를 나타내는 것이고, 그 정의는 표면 조도 측정기 : SE-3400/(주) 고사카 연구소제 취급 설명서(1995. 07. 20 개정)에 해당하는 것이다.

θa는 각도 단위이고, 경사를 종횡 비율로 나타낸 것이 Δa인 경우,

Δa ＝ tanθa ＝ [각 요철의 극소부와 극대부의 차(각 볼록부의 높이에 상당)의 총합/기준 길이]에 의해 구해진다. 기준 길이라 함은, 측정기 SE-3400에서 조도 곡선의 컷오프값 λc, 실제로 침을 접촉하는 평가 길이에 해당한다.

또한, 본 발명의 다른 바람직한 실시 형태에 따르면, 상기 미립자와 상기 수지 조성물의 굴절률을 각각 n1, n2로 한 경우에, Δn ＝ │n1 － n2│ < 0.1을 만족시키고, 또한 방현층 내부의 헤이즈값이 55 ％ 이하인 방현층이 바람직하다.

미립자의 첨가량은 사용하는 미립자의 종류, 원하는 방현성 등에 의하지만, 상기 수지 조성물 100 질량부에 대해, 통상은 2 내지 30 질량부, 바람직하게는 10 내지 25 질량부 정도로 하면 된다.

방현층용 조성물을 제조할 때에 침강 방지제를 첨가해도 좋다. 침강 방지제를 첨가함으로써, 수지 비즈의 침전을 억제하여 용매 내에 균일하게 분산시킬 수 있기 때문이다. 침강 방지제의 구체예로서는, 실리카 비즈 등의 비즈류를 사용할 수 있다.

비즈류의 평균 입경은 한정되지 않지만, 일반적으로는 0.5 ㎛ 이하로 하고, 바람직하게는 0.1 내지 0.25 ㎛로 한다.

방현층의 막 두께(경화 시)는, 일반적으로는 0.1 내지 100 ㎛ 정도, 특히 0.8 내지 10 ㎛의 범위로 하는 것이 바람직하다. 막 두께가 이 범위에 있음으로써, 방현층으로서의 기능을 충분히 발휘할 수 있다.

(저굴절률층)

저굴절률층은 외부로부터의 광(예를 들어, 형광등, 자연광 등)이 광학 적층체의 표면에서 반사될 때, 그 반사율을 낮게 한다는 역할을 다하는 층이다.

저굴절률층은, 예를 들어 방현층의 표면에 형성된 경우, 그 굴절률이 방현층보다 낮은 것이다. 본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 방현층의 굴절률이 1.5 이상이고, 저굴절률층의 굴절률이 1.5 미만이고, 바람직하게는 1.45 이하로 구성되어 이루어지는 것이 바람직하다.

저굴절률층은, 1) 실리카 또는 불화마그네슘을 함유하는 재료, 2) 저굴절률 수지인 불소계 재료, 3) 실리카 또는 불화마그네슘을 함유하는 불소계 재료, 4) 실리카 또는 불화마그네슘의 박막 등의 어느 것으로 구성되어도 좋다.

상기 불소계 재료로서는, 적어도 분자 중에 불소 원자를 포함하는 중합성 화합물 또는 그 중합체이다. 중합성 화합물로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 전리 방사선으로 경화하는 관능기(전리 방사선 경화성기)나 열로 경화하는 극성기(열경화 극성기) 등의 경화 반응성의 기를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 이들 반응성의 기를 동시에 함께 갖는 화합물이라도 좋다.

불소 원자를 함유하는 전리 방사선 경화성기를 갖는 중합성 화합물로서는, 에틸렌성 불포화결합을 갖는 불소 함유 모노머를 널리 사용할 수 있다. 더욱 구체적으로는, 플루오로올레핀류(예를 들어, 플루오로에틸렌, 비닐리덴플루올라이드, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로부타디엔, 퍼플루오로-2, 2-디메틸-1,3-디옥솔 등)를 예시할 수 있다. (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 것으로서, 2,2,2-트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로부틸)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로헥실)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로데실)에틸(메타)아크릴레이트, α-트리플루오로메타크릴산메틸, α-트리플루오로메타크릴산에틸과 같은, 분자 중에 불소 원자를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 ; 분자 중에 불소 원자를 적어도 3개 갖는 탄소수 1 내지 14의 플루오로알킬기, 플루오로시클로알킬기 또는 플루오로알킬렌기와, 적어도 2개의 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 불소 함유 다관능 (메타)아크릴산에스테르 화합물 등도 있다.

불소 원자를 함유하는 열경화성 극성기를 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들어 4-플루오로에틸렌-퍼플루오로알킬비닐에테르 공중합체 ; 플루오로에틸렌-탄화수소계 비닐에테르 공중합체 ; 에폭시, 폴리우레탄, 셀룰로오스, 페놀, 폴리이미드 등의 각 수지의 불소 변성품 등을 예시할 수 있다. 상기 열경화성 극성기로서는, 예를 들어 수산기, 카르복실기, 아미노기, 에폭시기 등의 수소 결합 형성기를 바람직하게 들 수 있다. 이들은 도막과의 밀착성뿐만 아니라, 실리카 등의 무기 초미립자와의 친화성도 우수하다.

전리 방사선 경화성기와 열경화성 극성기를 함께 갖는 중합성 화합물(불소계 수지)로서는, 아크릴 또는 메타크릴산의 부분 및 완전 불소화알킬, 알케닐, 아릴에스테르류, 완전 또는 부분 불소화비닐에테르류, 완전 또는 부분 불소화비닐에스테르류, 완전 또는 부분 불소화비닐케톤류 등을 예시할 수 있다.

불소 원자를 함유하는 상기 중합성 화합물의 중합체로서는, 예를 들어 상기 전리 방사선 경화성기를 갖는 중합성 화합물의 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 적어도 1종류 포함하는 모노머 또는 모노머 혼합물의 중합체 ; 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물의 적어도 1종류와, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트와 같이 분자 중에 불소 원자를 포함하지 않은 (메타)아크릴레이트 화합물과의 공중합체 ; 플루오로에틸렌, 불화비닐리덴, 트리플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌, 3,3,3-트리플루오로프로필렌, 1,1,2-트리클로로-3,3,3-트리플루오로프로필렌, 헥사플루오로프로필렌과 같은 불소 함유 모노머의 단독 중합체 또는 공중합체 등을 들 수 있다.

또한, 이들 공중합체에 실리콘 성분을 함유시킨 실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체도 상기 중합성 화합물의 중합체로서 사용할 수 있다. 이 경우의 실리콘 성분으로서는, (폴리)디메틸실록산, (폴리)디에틸실록산, (폴리)디페닐실록산, (폴리)메틸페닐실록산, 알킬 변성 (폴리)디메틸실록산, 아조기 함유 (폴리)디메틸실록산이나 디메틸 실리콘, 페닐메틸 실리콘, 알킬ㆍ아랄킬 변성 실리콘, 플루오로 실리콘, 폴리에테르 변성 실리콘, 지방산 에스테르 변성 실리콘, 메틸 수소 실리콘, 실라놀기 함유 실리콘, 알콕시기 함유 실리콘, 페놀기 함유 실리콘, 메타크릴 변성 실리콘, 아크릴 변성 실리콘, 아미노 변성 실리콘, 카르복실산 변성 실리콘, 카르비놀 변성 실리콘, 에폭시 변성 실리콘, 메르캅토 변성 실리콘, 불소 변성 실리콘, 폴리에테르 변성 실리콘 등을 예시할 수 있다. 그 중에서도 디메틸실록산 구조를 갖는 것이 바람직하다.

상기한 것 외에, 또한, 분자 중에 적어도 1개의 이소시아네이트기를 갖는 불소 함유 화합물과, 아미노기, 히드록실기, 카르복실기 등의 이소시아네이트기와 반응하는 관능기를 분자 중에 적어도 1개 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 화합물 ; 불소 함유 폴리에테르폴리올, 불소 함유 알킬폴리올, 불소 함유 폴리에스테르폴리올, 불소 함유 ε-카프롤락톤 변성 폴리올 등의 불소 함유 폴리올과, 이소시아네이트기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 화합물 등도 불소계 재료로서 사용할 수 있다.

저굴절률층의 형성에 있어서는, 예를 들어 원료 성분을 포함하는 조성물(굴절률층 형성용 조성물)을 사용하여 형성할 수 있다. 더욱 구체적으로는, 원료 성분(수지 등) 및 필요에 따라서 첨가제(예를 들어, 후술하는 「공극을 갖는 미립자」, 중합 개시제, 대전 방지제, 방현제 등)를 용제에 용해 또는 분산하여 이루어지는 용액 또는 분산액을, 저굴절률층 형성용 조성물로서 사용하고, 상기 조성물에 의한 도막을 형성하여 상기 도막을 경화시킴으로써 저굴절률층을 얻을 수 있다. 또한, 중합 개시제, 방현제 등의 첨가제는, 예를 들어 하드 코트층에서 상술한 것을 들 수 있다.

용제도 하드 코트층에서 상술한 것을 들 수 있고, 바람직하게는 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 이소프로필 알코올(IPA), n-부탄올, t-부탄올, 디에틸케톤, PGME 등이다.

상기 조성물의 제조 방법은, 성분을 균일하게 혼합할 수 있으면 되고, 공지의 방법을 따라서 실시하면 된다. 예를 들어, 하드 코트층의 형성에서 상술한 공지의 장치를 사용하여 혼합할 수 있다.

도막의 형성 방법은 공지의 방법을 따르면 된다. 예를 들어, 하드 코트층의 형성에서 상술한 각종 방법을 사용할 수 있다.

이렇게 하여 얻어진 도막의 경화 방법은 조성물의 내용 등에 따라서 적절하게 선택하면 된다. 예를 들어, 자외선 경화형이면, 도막에 자외선을 조사함으로써 경화시키면 된다.

상기 저굴절률층에 있어서는, 저굴절률제로서, 「공극을 갖는 미립자」를 이용하는 것이 바람직하다. 「공극을 갖는 미립자」는 방현층의 층 강도를 유지하면서 그 굴절률을 내릴 수 있다. 본 발명에 있어서, 「공극을 갖는 미립자」라 함은, 미립자의 내부에 기체가 충전된 구조 및/또는 기체를 포함하는 다공질 구조체를 형성하여, 미립자 본래의 굴절률에 비해 미립자 중의 기체의 점유율에 반비례하여 굴절률이 저하되는 미립자를 의미한다. 또한, 본 발명에 있어서는, 미립자의 형태, 구조, 응집 상태, 피막 내부에서의 미립자의 분산 상태에 의해, 내부 및/또는 표면의 적어도 일부에 나노 다공성 구조의 형성이 가능한 미립자도 포함된다. 이 미립자를 사용한 저굴절률층은 굴절률을 1.30 내지 1.45로 조절하는 것이 가능하다.

공극을 갖는 무기계의 미립자로서는, 예를 들어 일본 특허 출원 공개 제2001-233611호 공보에 기재된 방법에 의해 제조된 실리카 미립자를 들 수 있다. 일본 특허 출원 공개 평7-133105호 공보, 일본 특허 출원 공개 제2002-79616호 공보, 일본 특허 출원 공개 제2006-106714호 공보 등에 기재된 제법에 의해 얻어지는 실리카 미립자이면 된다. 공극을 갖는 실리카 미립자는 제조가 용이하고 그 자체의 경도가 높기 때문에, 바인더와 혼합하여 저굴절률층을 형성하였을 때, 그 층 강도가 향상되고, 또한 굴절률을 1.20 내지 1.45 정도의 범위 내로 제조하는 것을 가능하게 한다. 특히, 공극을 갖는 유기계의 미립자의 구체예로서는, 일본 특허 출원 공개 제2002-80503호 공보에 개시되어 있는 기술을 사용하여 제조한 중공 폴리머 미립자를 바람직하게 들 수 있다.

피막의 내부 및/또는 표면의 적어도 일부에 나노 다공성 구조의 형성이 가능한 미립자로서는 앞의 실리카 미립자에 추가하여, 비표면적을 크게 하는 것을 목적으로 하여 제조되고, 충전용 칼럼 및 표면의 다공질부에 각종 화학 물질을 흡착시키는 제방재, 촉매 고정용으로 사용되는 다공질 미립자 또는 단열재나 저유전재에 조립하는 것을 목적으로 하는 중공 미립자의 분산체나 응집체를 들 수 있다. 그와 같은 구체예로서는, 시판품으로서 일본 실리카 공업 주식회사제의 상품명 Nipsil이나 Nipgel 중으로부터 다공질 실리카 미립자의 집합체, 닛산 화학 공업(주)제의 실리카 미립자가 사슬 형상으로 연결된 구조를 갖는 콜로이달 실리카 UP 시리즈(상품명)로부터, 본 발명의 바람직한 입자 직경의 범위 내의 것을 이용하는 것이 가능하다.

「공극을 갖는 미립자」의 평균 입자 직경은 5 ㎚ 이상 300 ㎚ 이하이고, 바람직하게는 하한이 8 ㎚ 이상이고 상한이 100 ㎚ 이하이고, 더욱 바람직하게는 하한이 10 ㎚ 이상이고 상한이 80 ㎚ 이하이다. 미립자의 평균 입자 직경이 이 범위 내에 있음으로써, 방현층에 우수한 투명성을 부여하는 것이 가능해진다. 또한, 상기 평균 입자 직경은 동적 광 산란법 등의 방법에 의해 측정한 값이다. 「공극을 갖는 미립자」는 상기 저굴절률층 중에 수지 100 질량부에 대해, 통상 0.1 내지 500 질량부 정도, 바람직하게는 10 내지 200 질량부 정도로 하는 것이 바람직하다.

저굴절률층의 형성에 있어서는, 상기 저굴절률층 형성용 조성물의 점도를 바람직한 도포성이 얻어지는 0.5 내지 5 cps(25 ℃), 바람직하게는 0.7 내지 3 cps(25 ℃)의 범위의 것으로 하는 것이 바람직하다. 가시광선의 우수한 반사 방지막을 실현할 수 있고, 균일하고 도포 불균일이 없는 박막을 형성할 수 있고, 또한 기재에 대한 밀착성이 특히 우수한 저굴절률층을 형성할 수 있다.

수지의 경화 수단은 방현층의 항에서 설명한 것과 동일해도 좋다. 경화 처리를 위해 가열 수단이 이용되는 경우에는, 가열에 의해, 예를 들어 라디칼을 발생하여 중합성 화합물의 중합을 개시시키는 열중합 개시제가 불소계 수지 조성물에 첨가되는 것이 바람직하다.

저굴절률층의 막 두께(㎚)(d_A)는, 하기 수학식 I :

(상기 식 중,

n_A는 저굴절률층의 굴절률을 나타내고,

m은 양의 홀수를 나타내고, 바람직하게는 1을 나타내고,

λ는 파장이며, 바람직하게는 480 내지 580 ㎚의 범위의 값임)

을 만족시키는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명에 있어서는, 저굴절률층은 하기 수학식 II :

를 만족시키는 것이 저반사율화의 점에서 바람직하다.

(방오층)

방오층은 광학 적층체의 최표면에 오염(지문, 수성 또는 유성의 잉크류, 연필 등)이 부착되기 어렵고, 또는 부착된 경우라도 용이하게 닦아낼 수 있는 역할을 담당하는 층이다. 본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 저굴절률층의 최표면의 오염 방지를 목적으로 하여 방오층을 형성해도 되고, 특히 저굴절률층이 형성된 광 투과성 기재의 한쪽 면과 반대의 양측에 방오층이 설치되는 것이 바람직하다. 방오층의 형성에 의해, 광학 적층체(반사 방지용 적층체)에 대해 방오성과 내마찰 손상성의 한층 개선을 도모하는 것이 가능해진다. 저굴절률층이 없는 경우라도, 최표면의 오염 방지를 목적으로 하여 방오층을 설치해도 좋다.

방오층은, 일반적으로는 방오층용제 및 수지를 포함하는 조성물에 의해 형성 할 수 있다. 방오층용제의 구체예로서는, 분자 중에 불소 원자를 갖는 전리 방사선 경화형 수지 조성물로의 상용성이 낮고, 저굴절률층 중에 첨가하는 것이 곤란해지는 불소계 화합물 및/또는 규소계 화합물, 분자 중에 불소 원자를 갖는 전리 방사선 경화형 수지 조성물 및 미립자에 대해 상용성을 갖는 불소계 화합물 및/또는 규소계 화합물을 들 수 있다. 이들은 공지 또는 시판의 것을 사용할 수 있다.

방오층은, 예를 들어 하드 코트층 B 상에 형성할 수 있다. 특히, 방오층이 최표면이 되도록 형성하는 것이 바람직하다. 방오층은, 예를 들어 하드 코트층 자체에 방오 성능을 부여함으로써 대체할 수도 있다.

광학 적층체에 있어서의 계면 등

본 발명의 광학 적층체는 계면이 실질적으로 존재하지 않는다. 여기서, 「계면이 (실질적으로) 존재하지 않는다」라고 함은, 1) 두개의 층면이 겹쳐져 있으나, 실제로 계면이 존재하지 않는 것 및 2) 굴절률로부터 볼 때 양자의 면에 계면이 존재하고 있지 않다고 판단되는 경우도 포함하는 것을 말한다. 「계면이 (실질적으로) 존재하지 않는다」의 구체적인 기준으로서는, 예를 들어 다음과 같이 한다. 즉, 광학 적층체의 간섭 무늬 관찰(샘플 이면에 흑 테이프를 붙이고, 3 파장 형광등에 의해 위에서 눈으로 관찰)에 의해 간섭 무늬가 눈으로 확인되는 경우에는, 단면을 레이저 현미경에 의해 관찰하면 계면이 확인된다. 이것을 「계면이 존재한다」라고 인정하고, 간섭 무늬 관찰에 의해 간섭 무늬를 눈으로 확인할 수 없거나, 혹은 매우 약한 경우에는, 레이저 현미경 관찰에서는 계면이 보이지 않거나, 혹은 매우 흐리게만 보이는 상태가 된다. 이를 「계면이 실질적으로 존재하지 않 는다」라고 인정한다.

레이저 현미경은 각 계면으로부터의 반사광을 판독하여, 비파괴적으로 단면 관찰할 수 있다. 이로 인해, 굴절률차가 있는 재료에 의해 다층으로 한 것의, 단면 관찰을 행하여 계면의 존재를 확인할 수 없거나, 혹은 매우 약한 경우에는, 계면이 실질적으로 존재하지 않는다고 판단할 수 있다. 이것으로부터, 기재와 하드 코트층 사이에 계면이 존재하지 않는다고 판단할 수 있다.

또한, 본 발명의 광학 적층체는 계면이 실질적으로 존재하지 않는 것이 바람직하다. 적어도 간섭 무늬가 눈으로 확인되지 않는 것이 바람직하다.

본 발명의 광학 적층체에 있어서는, 하드 코트층 A 및 B 모두 소정의 경도를 달성할 수 있다. 이 경우, 하드 코트층 A는 연필 경도 4H 이상인 것이 바람직하다. 하드 코트층 A는 비커스 경도는 450 N/㎜ 이상인 것이 바람직하다. 또한, 하드 코트층 B는 연필 경도 4H 이상인 것이 바람직하다. 하드 코트층 B는, 비커스 경도가 550 N/㎜ 이상인 것이 바람직하다.

이하에 실시예 및 비교예를 나타내어, 본 발명의 특징을 더욱 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명의 범위는 실시예로 한정되지 않는다.

<제1 제조예>

하드 코트층 형성용 조성물로서, 하기에 나타내는 조성 A 내지 조성 I를 각각 제조하였다.

조성 A

ㆍ 폴리에스테르아크릴레이트(토아 코세이사제 ; M9050, 3 관능, 분자량 418) : 10 질량부

ㆍ 중합 개시제(치바 스페셜티제 ; 이르가큐어(IRGACURE) 184) : 0.4 질량부

ㆍ 메틸에틸케톤(이하, 「MEK」라고 함) : 10 질량부

조성 B

ㆍ 폴리에스테르아크릴레이트(토아 코세이사제 ; M9050, 3 관능, 분자량 418) : 5 질량부

ㆍ 우레탄아크릴레이트(니혼 카야쿠사제 ; DPHA40H, 10 관능, 분자량 약 7000) : 5 질량부

ㆍ 중합 개시제(치바 스페셜티제 ; 이르가큐어 184) : 0.4 질량부

ㆍ MEK : 10 질량부

조성 C

ㆍ 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트(토아 코세이사제 ; M240, 2 관능, 분자량 302) : 2 질량부

ㆍ 우레탄아크릴레이트(니혼 카야쿠사제 ; DPHA40H, 10 관능, 분자량 약 7000) : 6 질량부

ㆍ 우레탄아크릴레이트(아라카와 화학사제 ; BS371, 10 관능 이상, 분자량 약4만) : 2 질량부

ㆍ MEK : 10 질량부

조성 D

ㆍ 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트(토아 코세이사제 ; M240, 2 관능, 분자량 302) : 10 질량부

ㆍ MEK : 10 질량부

조성 E

ㆍ 우레탄아크릴레이트(니혼 코세이사제 ; 자광 UV3520-TL, 2 관능, 분자량 14000) : 10 질량부

ㆍ MEK : 10 질량부

조성 F

ㆍ 우레탄아크릴레이트(니혼 코세이사제 ; 자광 UV1700B, 10 관능, 분자량 2000) : 10 질량부

ㆍ MEK : 10 질량부

조성 G

ㆍ 톨루엔 : 10 질량부

조성 H

ㆍ 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(니혼 카야쿠사제 ; DPHA, 6 관능, 분자량 524) : 2.5 질량부

ㆍ 우레탄아크릴레이트(니혼 코세이사제 : 자광 UV1700B, 10 관능, 분자량 2000) : 2.5 질량부

ㆍ 우레탄아크릴레이트(아라카와 화학사제 ; BS371, 10 관능 이상, 분자량 약 4만) : 2.5 질량부

ㆍ 중합 개시제(치바 스페셜티제 ; 이르가큐어 127) : 0.4 질량부

ㆍ MEK : 10 질량부

조성 I

ㆍ 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(니혼 카야쿠사제 ; DPHA, 6 관능, 분자량 524) : 2 질량부

ㆍ 우레탄아크릴레이트(니혼 코세이사제 ; 자광 UV1700B, 10 관능, 분자량 2000) : 2 질량부

ㆍ 우레탄아크릴레이트(아라카와 화학사제 ; BS371, 10 관능 이상, 분자량 약 4만) : 3 질량부

ㆍ 표면 처리된 콜로이달 실리카 : 3 질량부

ㆍ MEK : 10 질량부

<제2 제조예>

하드 코트층 형성용 조성물로서, 하기의 조성 a 내지 조성 e 및 조성 a'를 각각 제조하였다.

조성 a

ㆍ 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(니혼 카야쿠사제 DPHA, 6 관능, 분자량 547) : 5 질량부

ㆍ 우레탄아크릴레이트(아라카와 화학사제 ; BS371, 10 관능 이상, 분자량 약 4만) : 5 질량부

ㆍ MEK : 10 질량부

조성 b

ㆍ 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(니혼 카야쿠사제 PET 30, 3 관능, 분자량 298) : 5 질량부

ㆍ 우레탄아크릴레이트(네가미 공업사제 ; HDP, 10 관능, 분자량 4500) : 5 질량부

ㆍ MEK : 10 질량부

조성 c

조성 d

ㆍ 이소시아눌산 EO 변성 디아크릴레이트(토아 코세이사제 ; M215,, 2 관능, 분자량 369) : 10 질량부

조성 e

ㆍ 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(니혼 카야쿠사제 DPHA, 6 관능, 분자량 547) : 10 질량부

조성 a'

ㆍ 방오제(니혼 카야쿠사제 UT3971) : 0.5 질량부

ㆍ MEK : 10 질량부

<제1 실시예>

셀룰로오스트리아세테이트 필름(두께 80 ㎛)의 한쪽 면에 하층의 하드 코트층 A 형성용 조성물로서 조성 A의 수지 배합물을, 습윤 중량 26 g/㎡(건조 중량 13g/㎡)로 도포하였다. 70 ℃에서 60초 건조하여, 자외선 50 mJ/㎠를 조사하여 기 초용 하드 코트층 A를 형성하였다.

또한, 하드 코트층 A 상에 상층의 하드 코트층 B 형성용 조성물로서 조성 a의 수지 배합물을, 습윤 중량 26 g/㎡(건조 중량 13 g/㎡)로 도포하였다. 70 ℃에서 60초 건조하여, 자외선 200 mJ/㎠를 조사함으로써 하드 코트층 B를 형성하여, 목적으로 하는 광학 적층체를 얻었다.

<제2 내지 제11 실시예>

하드 코트층의 형성에 있어서, 하층의 하드 코트층 A 형성용 조성물 및 상층의 하드 코트층 B 형성용 조성물로서, 각각 표1에 나타내는 수지 배합물의 조합 및 도공량으로 각 층을 형성한 것 외에는, 제1 실시예와 마찬가지로 하여 제2 내지 제11 실시예의 광학 적층체를 각각 얻었다.

<제1 내지 제6 비교예>

하드 코트층의 형성에 있어서, 하층의 하드 코트층 A 형성용 조성물 및 상층의 하드 코트층 B 형성용 조성물로서, 각각 표2에 나타내는 수지 배합물의 조합 및 도공량으로 각 층을 형성한 것 외에는, 제1 실시예와 마찬가지로 하여 제1 내지 제6 비교예의 광학 적층체를 얻었다.

<제1 시험예>

각 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 적층체에 대해 하기 평가 기준을 기초로 하여 평가하였다. 그 결과를 표1 및 표2에 나타낸다.

(1) 간섭 무늬 유무 시험

광학 적층체의 하드 코트층과 반대의 면에 이면 반사를 방지하기 위한 흑색 테이프를 붙여, 하드 코트층의 면으로부터 광학 적층체를 눈으로 관찰하여 하기 평가 기준으로 평가하였다.

평가 기준

평가 ○ : 간섭 무늬의 발생은 없었다.

평가 × : 간섭 무늬의 발생이 있었다.

(2) 연필 경도 시험

연필 경도 시험 ; 연필 긁기 시험의 경도는 제작한 하드 코트 필름[상기 광학 적층체(이하와 동일)]을 온도 25 ℃, 상대 습도 60 ％의 조건으로 2시간 조습한 후, JIS-S-6006이 규정하는 시험용 연필(경도 4H)을 사용하여, JIS-K-5400이 규정하는 연필 경도 평가 방법에 따라서 4.9 N의 하중으로 실시하였다.

평가 기준

평가 ○ : 흠집 없음/측정 횟수 ＝ 4/5, 5/5

평가 × : 흠집 없음/측정 횟수 ＝ 0/5, 1/5, 2/5, 3/5

(3) 컬 시험

제작한 하드 코트 필름을 가로 × 세로 ＝ 10 ㎝ × 10 ㎝의 크기로 컷트하고, 온도 20 ℃, 상대 습도 60 ％의 환경 하에서 평판 상에 정치했을 때의 4구석의 부상을 측정하여, 그 평균값을 컬 높이로 하였다.

평가 기준

평가 ○ : 25 ㎜ 이하

평가 × : 26 ㎜보다도 크다(통 형상이 되어 측정 불가능한 경우도 ×로 함)

(4) 크랙 시험

제작한 하드 코트 필름을 10 ㎝ × 5 ㎝의 크기로 컷트하고, 직경 16 ㎜인 원통 형상의 금속 파이프에 권취하고, 권취 후에 필름을 원래의 상태로 복귀시켜 눈으로 크랙의 유무를 확인하였다.

평사 기준

평가 ○ : 크랙 없음

평가 × : 크랙 있음

표1 및 표2의 결과로부터도 명백한 바와 같이, 본 발명에서는 경도, 내크랙성 등이 우수하고, 간섭 무늬도 확인되지 않는 적층체를 얻을 수 있는 것을 알 수 있다.

본 발명에 의해, 간섭 무늬의 발현을 효과적으로 억제 내지 방지하면서 높은 표면 경도를 발휘할 수 있는 광학 적층체를 얻을 수 있다. 본 발명의 광학 적층체는 음극선관 표시 장치(CRT), 액정 디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이(PDP), 일렉트로 루미네센스 디스플레이(ELD), 필드 에미션 디스플레이(FED) 등에 적절하게 적용할 수 있다.

Claims

광 투과성 기재 상에, 적어도 (1) 상기 기재에 인접하는 하드 코트층 A 및 (2) 하드 코트층 B가 형성되어 이루어지는 적층체이며, 상기 기재와 하드 코트층 A의 계면이 실질적으로 존재하지 않는 것을 특징으로 하는 광학 적층체.
제1항에 있어서, 하드 코트층 B가 6 이상의 관능기를 갖는 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 조성물 B를 사용하여 형성되어 이루어지는 광학 적층체.
제2항에 있어서, 상기 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물이 중량 평균 분자량 1000 내지 50000인 광학 적층체.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 하드 코트층 A가 중량 평균 분자량 200 이상이고, 또한 3 이상의 관능기를 갖는 화합물 A를 포함하는 조성물 A를 사용하여 형성되어 이루어지는 광학 적층체.
제4항에 있어서, 화합물 A가 (메타)아크릴레이트계 화합물 및 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물의 적어도 1종인 광학 적층체.
제4항 또는 제5항에 있어서, 조성물 A가 상기 기재에 대해 침투성 또는 용해성을 갖는 용제를 포함하는 광학 적층체.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 간섭 무늬가 실질적으로 존재하지 않는 광학 적층체.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 하드 코트층 A 및 하드 코트층 B의 연필 경도가 4H 이상인 광학 적층체.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 하드 코트층 A의 비커스 경도가 450 N/㎜ 이상이고, 하드 코트층 B의 비커스 경도가 550 N/㎜ 이상인 광학 적층체.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 1) 하드 코트층 A와 하드 코트층 B 사이, 2) 하드 코트층 B 위 또는 3)하드 코트층 A 아래에, 대전 방지층, 방현층, 저굴절률층, 방오층 또는 이들의 2종 이상의 층을 형성하여 이루어지는 광학 적층체.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 방지용 적층체로서 사용되는 광학 적층체.
광 투과성 기재 상에 조성물 A를 도포하여 하드 코트층 A를 형성하는 공정(1) 및

상기 하드 코트층 A 상에 조성물 B를 도포하여 하드 코트층 B를 형성하는 공정(2)을 갖는 광학 적층체의 제조 방법이며,

상기 조성물 A는 중량 평균 분자량 200 이상이고, 또한 3 이상의 관능기를 갖는 화합물 A 및 상기 광 투과성 기재에 대해 침투성 또는 용해성을 갖는 용제를 포함하고, 상기 조성물 B는 6 이상의 관능기를 갖는 우레탄(메타)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 적층체의 제조 방법.