CN101410729B

CN101410729B - 光学层积体

Info

Publication number: CN101410729B
Application number: CN2007800113510A
Authority: CN
Inventors: 堀尾智之; 上野健治
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2006-03-31
Filing date: 2007-03-30
Publication date: 2011-03-30
Anticipated expiration: 2027-03-30
Also published as: US20090176077A1; TW200736654A; KR20090006131A; TWI416158B; KR101344132B1; CN101410729A; WO2007116831A1

Abstract

本发明提供一种光学层积体，该光学层积体能够有效抑制或防止干涉条纹的产生，同时显示出较高的表面硬度。该光学层积体是在透光性基材上至少形成(1)与上述基材邻接的硬膜层A和(2)硬膜层B而构成的层积体，其特征在于，上述基材和硬膜层A之间实质上不存在界面。

Description

光学层积体

技术领域

本发明涉及一种新颖的光学层积体。

背景技术

在阴极射线管显示装置(CRT)、等离子体显示屏(PDP)、有机或无机的电致发光显示屏(ELD)、场发射显示屏(FED)或液晶显示屏(LCD)等图像显示装置中，要求防止因外光的反射或影像的映射导致对比度下降、视觉辨认性下降。因此，为了采用光的散射原理或光学干涉的原理来降低影像的映射或反射率，通常在图像显示装置的最表面设置防反射层积体。

在上述防反射层积体中，为了在透明材料上形成硬膜(hard coat)或对硬膜赋予所期望的功能(例如，抗静电性、防污性、防反射性等)，一般进一步形成其他层。

但是，在透明基材上形成硬膜等的情况下，存在如下问题：透明基材表面的反射光与硬膜表面的反射光产生干涉，因膜厚的不均，导致出现被称为干涉条纹的不规则图案，会损害外观。

为了解决该问题，从光学角度出发可采用将大大增加硬膜层等的厚度至几微米以上的方法；或将硬膜层等的厚度降低至100nm左右的方法。但是，前者因产生裂纹以及成本较高等原因而缺乏实用性。后者存在不能确保充分的表面硬度的问题。

专利文献1：日本特开2005-107005

发明内容

因此，本发明的主要目的在于，提供一种光学层积体，其能够有效抑制或防止干涉条纹的产生，并能够显示出高表面硬度。

本发明人鉴于上述现有技术的问题，反复进行深入研究，结果发现，通过采用特定的层构成，能够实现上述目的，从而完成了本发明。

即，本发明为一种光学层积体，该光学层积体是在透光性基材上至少形成(1)与上述基材邻接的硬膜层A和(2)硬膜层B来构成的层积体，其特征在于，所述基材和所述硬膜层A之间实质上不存在界面。

优选上述硬膜层B使用含有聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物的组合物B来形成，该聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物具有6个以上官能团。

优选上述聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物的重均分子量为1000～50000。

优选上述硬膜层A使用含有化合物A的组合物A来形成，该化合物A的重均分子量为200以上，且具有3个以上官能团。

优选上述化合物A是(甲基)丙烯酸酯系化合物和聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物中的至少一种化合物。

优选上述组合物A含有对上述基材具有浸透性或溶解性的溶剂。

优选上述光学层积体实质上不存在干涉条纹。

优选上述硬膜层A和上述硬膜层B的铅笔硬度为4H以上。

优选上述硬膜层A的维氏硬度为450N/mm以上，上述硬膜层B的维氏硬度为550N/mm以上。

优选上述光学层积体通过在1)硬膜层A和硬膜层B之间、2)硬膜层B之上或3)硬膜层A之下形成抗静电层、防眩层、低折射率层、防污层或2种以上这些层来构成。

优选上述光学层积体用作防反射用层积体。

本发明还提供一种光学层积体的制造方法，该方法包括：在透光性基材上涂布组合物A以形成硬膜层A的工序(1)；和在所述硬膜层A上涂布组合物B以形成硬膜层B的工序(2)，其特征在于，所述组合物A含有重均分子量为200以上且具有3个以上官能团的化合物A和对所述透光性基材具有浸透性或溶解性的溶剂，所述组合物B含有具有6个以上官能团的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物。

发明效果

本发明的光学层积体，通过形成特定的至少2层硬膜层，从而能够实现在基材和硬膜层A之间实质上不存在界面的状态。由此，能够抑制或防止干涉条纹的产生同时，能够显示出较高的表面硬度。并且，通过上述构成，本发明的层积体还能够有效抑制加工时的翘曲。

作为硬膜层积体，本发明的光学层积体可优选用作防反射层积体(包括用作防眩性层积体)。并且，本发明的光学层积体可用于透过型显示装置。尤其，可以用于电视、计算机、字符处理器等的显示屏的显示。特别优选用于CRT、液晶面板等显示屏的表面。

附图说明

图1是表示在本发明的实施例中制作的光学层积体的层构成(截面)的图。

具体实施方式

本发明的光学层积体是在透光性基材上至少形成(1)与上述基材邻接的硬膜层A和(2)硬膜层B来构成的层积体，其特征在于，上述基材和硬膜层A之间实质上不存在界面。

此外，在本说明书中，将丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯总称为(甲基)丙烯酸酯。

下面，说明本发明的光学层积体的各层。此外，在本发明中，只要没有特别说明，就将单体、低聚物、预聚物等固化性树脂前体总称为“树脂”。

透光性基材

透光性基材优选具有平滑性、耐热性并且机械强度优异的材料。作为形成透光性基材的材料的具体例，可以举出聚酯(聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯)、三乙酸纤维素、二乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、聚酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或者聚氨酯等热塑性树脂，优选聚酯(聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯)、三乙酸纤维素。特别优选三乙酸纤维素。

并且，这些材料还可以使用市售品。例如，作为聚酯树脂，优选使用东洋纺株式会社制造的产品名“A-4100”、“A-4300”等。而且，作为三乙酸纤维素，优选使用富士胶片株式会社制造的产品名“TF80UL”、“FTTDY80UL”等。

上述透光性基材优选使用上述热塑性树脂作为富有柔软性的膜状体，根据要求固化性的使用方式，也可以使用这些热塑性树脂的板，或者还可以使用玻璃板的板状体。

除此之外，作为上述透光性基材，可以举出具有脂环结构的非晶质烯烃聚合物(Cyclo-Olefin-Polymer：COP)膜。上述透光性基材是使用降冰片烯系聚合物、单环的环状烯烃系聚合物、环状共轭二烯系聚合物、乙烯基脂环式烃类聚合物等的基材，例如，可以举出日本Zeon株式会社制造的ZEONEX或ZEONOR(降冰片烯系树脂)、SUMITOMO BAKELITE株式会社制造的SUMILIT FS-1700、JSR株式会社制造的ARTON(改性降冰片烯系树脂)、三井化学株式会社制造的APEL(环状烯烃共聚物)、Ticona公司制造的Topas(环状烯烃共聚物)、日立化成株式会社制造的OPTOREZOZ-1000系列(脂环式丙烯酸树脂)等。

此外，作为三乙酸纤维素的替代基材，还优选使用旭化成化学株式会社制造的FV系列(低双折射率、低光弹性模量膜)。

透光性基材的厚度优选为20μm～300μm，更优选为30μm～200μm。透光性基材为板状体的情况下，其厚度也可以超过这些厚度，达到300μm～5000μm。在基材上形成硬膜层、抗静电层等时，为了提高粘结性，除了进行电晕放电处理、氧化处理等物理处理之外，还可预先涂布被称为锚定剂或底漆的涂料。

硬膜层

本发明中的“硬膜层”是指在JIS5600-5-4(1999)所规定的铅笔硬度试验中给出“H”以上的硬度的层。

在本发明中，至少形成(1)与基材邻接的硬膜层A和(2)作为最表面层的硬膜层B。通过硬膜层A，能够抑制或防止干涉条纹的产生。并且，硬膜层A还能够有效抑制层积体的翘曲。通过硬膜层B，能够确保预定的硬度。像这样，通过形成为具有2层硬膜层的层结构，能够一举解决干涉条纹问题和表面硬度问题。

各硬膜层的厚度可以根据所期望的特性等适当设定，通常形成0.1～100μm的厚度，特别优选形成0.8～20μm的厚度。

各硬膜层只要具有透明性即可，没有特别限制。例如，可以使用通过紫外线或电子射线固化的树脂(电离放射线固化型树脂)、溶剂干燥型树脂、热固型树脂等中的一种或2种以上树脂。这些树脂本身可以使用公知或市售的树脂。在本发明中，优选使用电离放射线固化型树脂。作为电离放射线固化型树脂，可以举出例如聚酯树脂、聚醚树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、氨基甲酸酯树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、多硫醇-多烯树脂等。这些树脂可以使用一种或2种以上。

在形成各硬膜层时，例如可以使用包含原料成分的组合物(硬膜层形成用组合物)来形成。更具体地说，将原料成分和根据需要添加的添加剂溶解或分散到溶剂中获得溶液或分散液，将所得到的溶液或分散液用作硬膜层形成用组合物，由上述组合物形成涂膜，使上述涂膜固化，从而分别获得各硬膜层。

对于上述组合物的制备方法，只要能够将各成分均匀混合即可，可采用公知的方法实施。例如，可以使用涂料摇摆器、微珠磨机、捏合机、混合器等公知的装置进行混合。

涂膜的形成方法可以依照公知的方法进行。例如，可以采用旋涂法、浸渍法、喷雾法、模涂(ダイドコ—ト)法、棒涂法、辊涂法、凹液面涂布法(meniscus coating)、苯胺印刷法、丝网印刷法、刮槽(ピ—ド)涂布法等各种方法。

得到的涂膜的固化方法可以根据上述组合物的成分等适当选择即可。例如，若上述组合物的成分为紫外线固化型，则可以通过对涂膜照射紫外线来进行固化。

作为用于形成各硬膜层A或硬膜层B的组合物A或组合物B，只要使用具有透明性的上述树脂的原料成分即可，可以根据上述树脂的种类等，适当设定。例如，可以举出(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮等单官能单体；聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸改性二丙烯酸酯或异氰脲酸改性三丙烯酸酯等多官能性单体等的一种或2种以上物质。

在本发明中，其中，优选(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯系化合物中的至少一种物质。即，优选使用丙烯酸酯化合物和/或甲基丙烯酸酯化合物中的至少一种物质。

在组合物A或组合物B中，可以根据需要，使用溶剂。作为溶剂，可以根据要使用的原料成分的种类等，适当从公知的溶剂中选择。

例如，可以举出甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇、乙二醇一甲醚、乙二醇一甲醚乙酸酯、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂等醇类；丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、二丙酮醇等酮类；甲酸甲酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乳酸乙酯、乙酸丁酯等酯类；硝基甲烷、N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺等含氮化合物；二异丙醚、四氢呋喃、二氧六环、二氧戊环等醚类；二氯甲烷、三氯甲烷、三氯乙烷、四氯乙烷等卤代烃；二甲亚砜、碳酸亚丙酯等其他物质；或2种以上这些物质的混合物。作为更优选的溶剂，可以举出乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲乙酮等中的至少一种物质。

尤其，作为用于组合物A的溶剂，可以优选使用对所使用的透光性基材具有浸透性的溶剂。例如，在将纤维素系树脂用作透光性基材的情况下，可适合使用甲乙酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯等。

在组合物A或组合物B中使用溶剂的情况下，对溶剂的用量适当设定，使各组合物的固体成分含量达到5质量％～80质量％即可。

(硬膜层A)

尤其，作为用于形成硬膜层A的组合物A，作为原料成分，优选使用含有重均分子量为200以上且具有3个以上官能团的化合物(化合物A)的组合物(混合物)。通过使用这种化合物A，能够有效地抑制干涉条纹的产生。

上述重均分子量通常为200以上即可，但优选为250以上，更优选为300以上，最优选为350以上。上述重均分子量的上限没有特别限定，通常只要为4万左右即可。并且，上述官能团的数量一般为3个以上，但优选数量大于3个，更优选为4个以上，最优选为5个以上。上述官能团的数量的上限没有限定，通常为15左右即可。

上述化合物A只要是具有上述的重均分子量和官能团数的物质即可，如上所述，可以使用(甲基)丙烯酸酯系化合物和聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物中的至少一种物质。例如，优选使用具有上述的重均分子量和官能团数的聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等中的至少一种物质。

这些可以使用公知或市售的产品。组合物A中的化合物A的含有比例(固体成分)没有限定，通常为50质量％～100质量％(特别为90质量％～100质量％)即可。作为除化合物A以外的成分，除了聚合引发剂或后述的添加剂之外，组合物A还可以含有重均分子量小于200的化合物等。

(硬膜层B)

尤其，作为用于形成硬膜层B的组合物B，作为原料成分，优选使用含有具有6个以上(优选为6～15个)官能团的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物的组合物(混合物)。作为上述聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物，特别优选重均分子量为1000～50000(优选为1500～40000)的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物中的至少一种化合物。

并且，在本发明中，除了上述聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物之外，还可以合用具有3～6个官能团的(甲基)丙烯酸酯系化合物(但不包括上述聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物)。作为上述(甲基)丙烯酸酯系化合物，优选使用例如二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等中的至少一种化合物。

对组合物B中的上述(甲基)丙烯酸酯系化合物和上述聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物的合计的含有比例(固体成分)没有限定，通常只要为10质量％～100质量％(特别是20质量％～100质量％)即可。作为除这些化合物以外的成分，除了后述的添加剂之外，组合物B还可以含有官能团少于3个的化合物等。

而且，上述(甲基)丙烯酸酯系化合物与上述聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物的比例没有限定，通常在上述(甲基)丙烯酸酯系化合物和上述聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物的合计100质量％中，优选上述(甲基)丙烯酸酯系化合物为0～90质量％(特别优选5质量％～90质量％)，优选上述聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物为10质量％～100质量％(特别优选10质量％～95质量％)。

其他成分

本发明中，组合物A或组合物B中还可以根据需要含有聚合引发剂、抗静电剂、防眩剂等添加剂。

作为聚合引发剂，例如，可以使用乙酰苯类、二苯甲酮类、米歇尔苯甲酸酐(Michler′s benzoyl benzoate)、阿尔法阿米罗基酯(α-amyloximester)、一硫化四甲基秋兰姆(テトラメチルメゥラムモノサルフアイド)、噻吨酮类等。并且，根据需要，添加光敏剂、光聚合促进剂。作为上述光敏剂、光聚合促进剂，可以使用公知的物质，例如，苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、α-甲基苯偶姻、α-苯基苯偶姻等苯偶姻系化合物；蒽醌、甲基蒽醌等蒽醌系化合物；偶苯酰；丁二酮；乙酰苯、二苯甲酮等苯丙酮化合物；二苯二硫、硫化四甲基秋兰姆等硫化物；α-氯甲基萘；蒽和六氯丁二烯、五氯丁二烯等卤代烃、噻吨酮、正丁胺、三乙胺、三正丁基膦等。

具体地说，对于乙酰苯系光聚合引发剂，优选使用二苯甲酮或噻吨酮光敏剂。

作为抗静电剂，例如，可以举出季铵盐、吡啶鎓盐、具有由伯氨基、仲氨基、叔氨基衍生的阳离子性基团的化合物等各种阳离子性化合物；具有磺酸根、硫酸酯根、磷酸酯根、膦酸根等阴离子性基团的阴离子性化合物；氨基酸系、具有氨基的硫酸酯(アミノ硫酸エステル)系等两性化合物；氨基醇系、甘油系、聚乙二醇系等非离子型化合物；锡和钛的醇盐这样的有机金属化合物和它们的乙酰丙酮盐这样的金属螯合物等，此外，还可以举出将上述列出的化合物高分子量化后的化合物。并且，具有叔氨基、季铵基或金属螯合部且可借助电离放射线聚合的单体或低聚物、或者具有可借助电离放射线聚合的官能团的如偶联剂那样的有机金属化合物等可聚合的化合物也可用作抗静电剂。

并且，作为抗静电剂，可以举出导电性微粒。作为导电性微粒的具体例，可以举出由金属氧化物构成的物质。作为这种金属氧化物，可以举出ZnO(折射率为1.90，下面括号内的数值表示折射率)、CeO₂(1.95)、Sb₂O₂(1.71)、SnO₂(1.997)、常被简称为ITO的氧化铟锡(1.95)、In₂O₃(2.00)、Al₂O₃(1.63)、锑掺杂氧化锡(简称为ATO，2.0)、铝掺杂氧化锌(简称为AZO，2.0)等。上述微粒的平均粒径优选5μm以下，更优选1μm以下。

而且，作为抗静电剂，可以举出导电性聚合物。作为所述材料，没有特别限定，例如，可以举出脂肪族共轭系的聚乙炔、多并苯、聚甘菊环、芳香族共轭系的聚亚苯基、杂环式共轭系的聚吡咯、聚噻吩、聚异硫茚、含杂原子共轭系的聚苯胺、聚噻吩乙炔、混合型共轭系的聚(亚苯基亚乙烯基)(poly(phenylene vinylene))、在分子中具有2个以上共轭链的共轭系(即多链型共轭系)、这些导电性聚合物的衍生物、以及将这些共轭高分子链接枝或嵌段共聚到饱和高分子上而得的高分子导电性合成物组成的组中选择的至少一种物质。其中，优选使用聚噻吩、聚苯胺、聚吡咯等有机系抗静电剂。通过使用上述有机系抗静电剂，发挥优异的抗静电性能的同时，提高了光学层积体的全光线透过率，还能够降低雾值。此外，为了提高导电性、提高抗静电性能，也可以将有机磺酸、氯化铁等阴离子性化合物作为掺杂剂(给电子剂)添加。还在添加掺杂剂的效果的基础上，聚噻吩因透明性、抗静电性高而特别优选。作为所述聚噻吩，优选使用低聚噻吩。作为所述衍生物，没有特别限定，例如，可以举出聚苯乙炔、聚二乙炔的烷基取代物等。

作为防眩剂，可以使用例如各种微粒。其形状可以是圆球状、椭圆状等中的任意一种形状，可优选举出圆球状的微粒。并且，所述微粒可以举出无机系或有机系的微粒。所述微粒以发挥防眩性并优选具有透明性的微粒为宜。作为所述微粒的具体例，在有机系中，可以举出塑料微珠；在无机系中，可以举出二氧化硅微珠。作为塑料微珠的具体例，可以举出聚苯乙烯微珠(折射率1.60)、三聚氰胺微珠(折射率1.57)、丙烯酸微珠(折射率1.49～1.535)、丙烯酸-苯乙烯微珠(折射率1.54～1.58)、苯胍胺-甲醛缩合物微珠(折射率1.66)、苯胍胺-三聚氰胺-甲醛缩合物微珠(折射率1.52～1.66)、三聚氰胺-甲醛缩合物微珠(折射率1.66)、聚碳酸酯微珠、聚乙烯微珠等。所述塑料微珠优选在表面具有疏水性基团，例如可以举出苯乙烯微珠。作为二氧化硅微珠，可以举出球状二氧化硅、无定形二氧化硅等。除此之外，还可以使用有机/无机复合的二氧化硅/丙烯酸复合化合物微珠(折射率1.52)等。所述防眩剂可以2种以上合用。

该情况下，优选合用抗沉降剂。通过添加抗沉降剂，能够抑制树脂微珠沉淀，使树脂微珠均匀地分散到溶剂内。作为抗沉降剂的具体例，可以举出粒径为0.5μm以下、优选为0.1μm左右～0.25μm左右的二氧化硅微珠。

其他层

作为本发明的基本层结构，只要在透光性基材上至少形成硬膜层A和硬膜层B即可。例如，可以举出如下形成的3层结构，在该3层结构中，在透光性基材上邻接形成硬膜层A，在硬膜层A上邻接形成硬膜层B。该情况下，在不损害本发明层积体的透光性等的范围内，可以根据需要，在1)硬膜层A和硬膜层B的层间、2)硬膜层B之上或3)硬膜层A之下适宜地形成1层或2层以上其他层(抗静电层、防眩层、低折射率层、防污层、粘结剂层、其他硬膜层等)。这些层也可以采用与公知的防反射用层积体相同的材料。

(抗静电层)

抗静电层可由含有抗静电剂和树脂的组合物形成。该情况下，还可以使用溶剂。作为抗静电剂和溶剂，可以使用在上述硬膜层项中说明的物质。抗静电层的厚度没有限制，优选为30nm左右～1μm左右。

作为上述树脂，可以使用例如热塑性树脂、热固性树脂或电离放射线固化性树脂或者电离放射线固化性化合物(包括有机反应性硅化合物)。其中，优选热固性树脂或电离放射线固化性树脂或者电离放射线固化性化合物。尤其，最优选使用电离放射线固化性树脂和/或电离放射线固化性化合物。

电离放射线固化性化合物可以以含有它的电离放射线固化性组合物的形式使用。作为电离放射线固化性化合物，可以使用分子中具有聚合性不饱和键或环氧基的单体、低聚物和预聚物中的至少一种物质。此处，电离放射线是指电磁波或带电粒子射线之中具有能够使分子聚合或交联的能量量子的射线，通常使用紫外线或电子射线。

作为电离放射线固化性组合物中的预聚物或低聚物，除了例如不饱和二羧酸和多元醇的缩合物等不饱和聚酯类；聚酯甲基丙烯酸酯、聚醚甲基丙烯酸酯、多元醇甲基丙烯酸酯、三聚氰胺甲基丙烯酸酯等甲基丙烯酸酯类；聚酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、多元醇丙烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯等丙烯酸酯类之外，还可以举出阳离子聚合型环氧化合物等。这些预聚物或低聚物可以使用一种或2种以上。

作为电离放射线固化性组合物中的单体，可以举出例如以下物质中的至少一种：苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯系单体；丙烯酸甲酯、丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸甲氧基乙酯、丙烯酸丁氧基乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸甲氧基丁酯、丙烯酸苯酯等丙烯酸酯类；甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲氧基乙酯、甲基丙烯酸乙氧基甲酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸月桂酯等甲基丙烯酸酯类；丙烯酸-2-(N，N-二乙基氨基)乙酯、丙烯酸-2-(N，N-二甲氨基)乙酯、丙烯酸-2-(N，N-二苄基氨基)甲酯、丙烯酸-2-(N，N-二乙基氨基)丙酯等具有不饱和取代基的取代氨基醇酯类；丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺等不饱和羧酸酰胺类；乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯等二丙烯酸酯化合物；二丙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯等多官能性化合物和/或分子中具有2个以上巯基的聚硫醇化合物(例如，三羟甲基丙烷三巯基乙酸酯(trimethylolpropanetrithioglycolate)、三羟甲基丙烷三巯基丙酸酯、季戊四醇四巯基乙酸酯等)。

通常，作为电离放射线固化性组合物中的单体，根据需要，使用一种上述化合物，或将2种以上的上述化合物混合使用，为了对电离放射线固化性组合物赋予通常的涂布性，优选将上述单体的预聚物或低聚物设定为5质量％以上，将上述单体和/或聚硫醇化合物设定为95质量％以下。

抗静电层要求挠性的情况下，优选减少单体量，或者使用官能团数为1或2的丙烯酸酯单体。并且，在抗静电层要求耐磨耗性、耐热性、耐溶剂性等的情况下，优选使用例如官能团数为3个以上的丙烯酸酯单体。此处，作为官能团数为1的单体，可以举出2-羟基丙烯酸酯、丙烯酸-2-己酯、丙烯酸苯氧基乙酯等。作为官能团数为2的单体，可以举出乙二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯。作为官能团数为3以上的单体，可以举出三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯等。

为了调整抗静电层的挠性、表面硬度等物理性质，根据需要，也可以将不会被电离放射线照射固化的树脂添加到电离放射线固化性组合物中。作为所述树脂，可以举出例如聚氨酯树脂、纤维素树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚酯树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯等热塑性树脂中的一种或2种以上物质。其中，从提高挠性方面考虑，优选聚氨酯树脂、纤维素树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂等中的至少一种物质。通过紫外线照射使电离放射线固化性组合物固化时，只要添加光聚合引发剂或光聚合促进剂即可。作为光聚合引发剂，在具有自由基聚合性不饱和基团的树脂系的情况下，可以使用例如乙酰苯类、二苯甲酮类、噻吨酮类、苯偶姻、苯偶姻甲醚等中的一种或2种以上物质。并且，在具有阳离子聚合性官能团的树脂系的情况下，作为光聚合引发剂，可以使用例如芳香族重氮鎓盐、芳香族锍盐、芳香族碘鎓盐、茂金属(メタセロン)化合物、苯偶姻磺酸酯等中的1种或2种以上物质。光聚合引发剂的添加量可以根据要使用的光聚合引发剂的种类等适当设定，相对于100质量份的电离放射线固化性组合物，光聚合引发剂的添加量设定为0.1质量份左右～10质量份左右即可。

电离放射线固化性组合物中，可以根据需要合用反应性的有机硅化合物。例如，可以使用以通式RmSi(OR’)n(其中，R和R’相同或不同，表示碳原子数为1～10的烷基。m和n分别表示满足m+n＝4的关系的整数)表示的化合物。

具体地说，可以举出如下物质中的至少一种物质：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、四五乙氧基硅烷、四五异丙氧基硅烷、四五正丙氧基硅烷、四五正丁氧基硅烷、四五仲丁氧基硅烷、四五叔丁氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二甲基乙氧基硅烷、二甲基甲氧基硅烷、二甲基丙氧基硅烷、二甲基丁氧基硅烷、甲基二甲氧基硅烷、甲基二乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷等。

该情况下，作为可以与电离放射线固化性组合物合用的有机硅化合物，根据需要，可以合用硅烷偶联剂。作为硅烷偶联剂，具体地说，可以举出如下物质中的至少一种物质：γ-(2-氨乙基)氨丙基三甲氧基硅烷、γ-(2-氨乙基)氨丙基甲基二甲氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基甲氧基硅烷、N-β-(N-乙烯基苄基氨乙基)-γ-氨丙基甲氧基硅烷盐酸盐、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、氨基硅烷、甲基甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯丙基三甲氧基硅烷、γ-氯丙基三甲氧基硅烷、六甲基二硅氮烷、乙烯基三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、氯化十八烷基二甲基[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]铵、甲基三氯硅烷、二甲基二氯硅烷等。

(防眩层)

防眩层可以形成于例如透过性基材和硬膜层或低折射率层(后述)之间。防眩层可以由包含树脂和防眩剂的树脂组合物形成。

作为上述树脂，可以从硬膜层项中说明的物质中适当进行选择来使用。

作为防眩剂，可以使用各种微粒。微粒的平均粒径没有限制，通常微粒的平均粒径只要在0.01μm左右～20μm左右即可。并且，微粒形状可以是圆球状、椭圆状等的任意一种形状，可优选举出圆球状的微粒。并且，上述微粒可以举出无机系或有机系的微粒。

上述微粒以发挥防眩性并优选具有透明性的微粒为宜。作为微粒的具体例，在无机系中，可以举出二氧化硅微珠；在有机系中，可以举出塑料微珠。

作为塑料微珠的具体例，可以举出聚苯乙烯微珠(折射率1.60)、三聚氰胺微珠(折射率1.57)、丙烯酸微珠(折射率1.49～1.535)、丙烯酸-苯乙烯微珠(折射率1.54～1.58)、苯胍胺-甲醛缩合物微珠(折射率1.66)、苯胍胺-三聚氰胺-甲醛缩合物微珠(折射率1.52～1.66)、三聚氰胺-甲醛缩合物微珠(折射率1.66)、聚碳酸酯微珠、聚乙烯微珠等。上述塑料微珠优选在其表面具有疏水性基团，例如可以举出苯乙烯微珠。作为二氧化硅微珠，可以举出球状二氧化硅、无定形二氧化硅等。除此之外，还可以使用有机/无机复合的二氧化硅/丙烯酸复合化合物微珠(折射率1.52)等。它们也可以2种以上合用。

对于上述微粒，将平均粒径设定为R(μm)，将防眩层凹凸的十点平均粗糙度设定为Rz(μm)，将防眩层的凹凸平均间隔设定为Sm(μm)，将凹凸部的平均倾斜角设定为βa，在此情况下，优选满足下述的全部数学式。

30≤Sm≤600

0.05≤Rz≤1.60

0.1≤θa≤2.5

0.3≤R≤15

Sm(μm)表示该防眩层的凹凸的平均间隔，θa(度)表示凹凸部的平均倾斜角，(Rz)表示10点平均粗糙度，该定义依照表面粗糙度测定器：SE-3400/(株)小坂研究所制作的操作说明书(1995.07.20修订)。

在θa为角度单位，并将以纵横比例表示倾斜的斜率设定为Δa的情况下，以Δa＝tanθa＝(各凹凸的最小部和最大部之差(相当于各凸部的高度)的总和/基准长度)求出。基准长度是对利用测定机SE-3400测得的粗糙度曲线进行截弯取直得到的值λc，相当于实际的触针测量长度。

并且，在本发明的其他优选实施方式中，将上述微粒和上述树脂组合物的折射率分别设定为n1、n2的情况下，优选满足Δn＝|n1-n2|<0.1且在防眩层内部的雾度值为55％以下的防眩层。

微粒的添加量根据所使用的微粒的种类、所期望的防眩性等的不同而不同，相对于100质量份的上述树脂组合物，微粒的添加量只要通常为2质量份～30质量份，优选为10质量份左右～25质量份左右即可。

在制备防眩层用组合物时，还可以添加抗沉降剂。通过添加抗沉降剂，能够抑制树脂微珠沉淀，使其均匀地分散到溶剂内。作为抗沉降剂的具体例，可以使用二氧化硅微珠等微珠类。

微珠类的平均粒径没有限定，通常为0.5μm以下，优选为0.1～0.25μm。

防眩层的膜厚(固化时)通常为0.1μm左右～100μm左右，优选在0.8μm～10μm的范围内。通过使膜厚处于该范围，能够充分发挥作为防眩层的功能。

(低折射率层)

低折射率层是起到如下作用的层：当来自外部的光(例如，荧光灯、自然光等)在光学层积体的表面发生反射时，降低其反射率。

对于低折射率层，例如形成于防眩层的表面的情况下，其折射率低于防眩层。在本发明的优选方式中，防眩层的折射率为1.5以上，低折射率层的折射率小于1.5，优选为1.45以下。

低折射率层可以由1)含有二氧化硅或氟化镁的材料、2)作为低折射率树脂的氟类材料、3)含有二氧化硅或氟化镁的氟类材料、4)二氧化硅或氟化镁的薄膜等中的任意一种材料构成。

上述氟类材料是指至少分子中含有氟原子的聚合性化合物或其聚合物。聚合性化合物没有特别的限制，优选例如具有利用电离放射线进行固化的官能团(电离放射线固化性基团)或利用热进行固化的极性基团(热固化极性基团)等固化反应性基团的化合物。还可以使用同时具有这些反应性基团的化合物。

作为具有含氟原子的电离放射线固化性基团的聚合性化合物，可以广泛使用具有烯键式不饱和键的含氟单体。更具体地说，可以例示出氟代烯烃类(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2，2-二甲基-1，3-间二氧杂环戊烯等)。作为具有(甲基)丙烯酰氧基的化合物，还包括如(甲基)丙烯酸-2，2，2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸-2，2，3，3，3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟癸基)乙酯、α-三氟甲基丙烯酸甲酯、α-三氟甲基丙烯酸乙酯这样的、分子中含有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物；分子中具有氟代烷基、氟代环烷基或氟代亚烷基(所述氟代烷基、氟代环烷基和氟代亚烷基具有至少3个氟原子且碳原子数为1～14)和至少2个(甲基)丙烯酰氧基的含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。

作为具有含氟原子的热固性极性基团的聚合性化合物，可以举出例如4-氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物；氟乙烯-烃类乙烯基醚共聚物；环氧树脂、聚氨酯、纤维素、酚醛树脂、聚酰亚胺等各树脂的氟改性物等。作为所述热固性极性基团，可以优选地举出例如羟基、羧基、氨基、环氧基等可形成氢键的基团。它们不仅与涂膜的密合性优异，与二氧化硅等无机超微粒的亲和性也优异。

作为同时具有电离放射线固化性基团和热固性极性基团的聚合性化合物(氟类树脂)，可以举出丙烯酸或甲基丙烯酸的部分氟代和全氟代烷基酯、丙烯酸或甲基丙烯酸的部分氟代和全氟代链烯基酯、丙烯酸或甲基丙烯酸的部分氟代和全氟代芳基酯类；完全或部分氟代乙烯基醚类；完全或部分氟代乙烯基酯类；完全或部分氟代乙烯基酮类等。

作为含氟原子的上述聚合性化合物的聚合物，可以举出例如，包括至少1种含氟(甲基)丙烯酸酯化合物(该含氟(甲基)丙烯酸酯化合物为具有上述电离放射线固化性基团的聚合性化合物)的单体或单体混合物的聚合物；分子中不含氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物(如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基已酯那样的化合物)与至少一种含氟(甲基)丙烯酸酯化合物与的共聚物；如氟乙烯、偏二氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯、3，3，3-三氟丙烯、1，1，2-三氯-3，3，3-三氟丙烯、六氟丙烯这样的含氟单体的均聚物或共聚物等。

并且，在这些共聚物含有硅酮成分的含硅酮偏二氟乙烯共聚物也可以用作上述聚合性化合物的聚合物。作为该情况下的硅酮成分，可以举出(聚)二甲基硅氧烷、(聚)二乙基硅氧烷、(聚)二苯基硅氧烷、(聚)甲基苯基硅氧烷、烷基改性(聚)二甲基硅氧烷、含偶氮基(聚)二甲基硅氧烷、二甲基硅酮、苯基甲基硅酮、烷基和/或芳烷基改性硅酮、氟硅酮、聚醚改性硅酮、脂肪酸酯改性硅酮、甲基氢硅酮、含硅烷醇基硅酮、含烷氧基硅酮、含苯酚基硅酮、甲基丙烯酸改性硅酮、丙烯酸改性硅酮、氨基改性硅酮、羧酸改性硅酮、甲醇改性硅酮、环氧改性硅酮、巯基改性硅酮、氟改性硅酮、聚醚改性硅酮等。其中，优选具有二甲基硅氧烷结构的硅酮。

除了上述之外，作为氟系材料，还可以使用使分子中具有至少1个异氰酸基的含氟化合物与分子中具有至少1个氨基、羟基、羧基等可与异氰酸基反应的官能团的化合物反应得到的化合物；含氟多元醇(如含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟-ε-己内酯改性多元醇等)与具有异氰酸基的化合物反应得到的化合物；等等。

在形成低折射率层时，可以使用例如含有原料成分的组合物(折射率层形成用组合物)来形成。更具体地说，将原料成分(树脂等)和根据需要添加的添加剂(例如，后述的“具有空隙的微粒”、聚合引发剂、抗静电剂、防眩剂等)溶解或分散到溶剂中，得到溶液或分散液，将所得到的溶液和分散液用作低折射率层形成用组合物，由所述组合物形成涂膜，使所述涂膜固化，从而能够得到低折射率层。此外，聚合引发剂、防眩剂等添加剂可以举出例如硬膜层中记述的物质。

溶剂也可以举出硬膜层中所述的物质，优选甲基异丁基酮、环己酮、异丙醇(IPA)、正丁醇、叔丁醇、二乙基酮、PGME等。

对于上述组合物的制备方法，只要能够将成分均匀地混合即可，可以按照公知的方法实施。例如，可以使用在形成硬膜层时使用的上述公知的装置进行混合。

涂膜的形成方法可以采用公知的方法。例如，可以使用在形成硬膜层时使用的上述的各种方法。

所得到的涂膜的固化方法可以根据组合物的成分等适当选择。例如，若组合物的成分为紫外线固化型，只要通过对涂膜照射紫外线，进行固化即可。

在上述低折射率层中，作为低折射率剂，优选使用“具有空隙的微粒”。“具有空隙的微粒”能够在保持防眩层的层强度的同时，降低其折射率。在本发明中，“具有空隙的微粒”是指，形成在微粒的内部填充有气体的结构和/或含气体的多孔质结构体，并且与微粒本身的折射率相比，折射率与气体在微粒中的占有率成反比例地下降的微粒。并且，本发明中，还包括根据微粒的形态、结构、凝集状态、微粒在覆膜内部的分散状态能够在内部和/或表面的至少一部分上形成纳米多孔结构的微粒。使用了该微粒的低折射率层能够将折射率调节到1.30～1.45。

作为具有空隙的无机系微粒，例如，可以举出通过日本特开2001-233611号公报所记载的方法制备的二氧化硅微粒。具有空隙的二氧化硅微粒也可以是通过日本特开平7-133105、日本特开2002-79616号公报、日本特开2006-106714号公报等所记载的制法得到的二氧化硅微粒。具有空隙的二氧化硅微粒容易制造且自身的硬度高，因此与粘结剂混合来形成低折射率层时，层强度得到提高，并且能够将折射率调节到1.20左右～1.45左右的范围内。特别是，作为具有空隙的有机系微粒的具体例，可以优选举出使用日本特开2002-80503号公报中公开的技术制备的中空聚合物微粒。

作为可以在覆膜的内部和/或表面的至少一部分形成纳米多孔结构的微粒，除了上面的二氧化硅微粒之外，还可以举出：缓释材料、多孔质微粒或中空微粒的分散体或凝集体，所述缓释材料为增大比表面积而制造，使填充用的柱和表面的多孔质部吸附各种化学物质；所述多孔质微粒用于固定催化剂；所述中空微粒的分散体或凝集体用于包含绝热材料、低介电材料。作为这种具体情况，作为市售品，可以从以下商品中选择本发明的优选粒径范围内的微粒来使用：日本SILICA工业株式会社制造的商品名Nipsil、Nipgel之中的多孔质二氧化硅微粒的聚集体、日产化学工业株式会社制造的具有二氧化硅微粒连接成链状的结构的胶态二氧化硅UP系列(商品名)。

“具有空隙的微粒”的平均粒径在5nm～300nm，优选下限为8nm以上且上限为100nm以下，更优选下限为10nm以上且上限为80nm以下。由于微粒的平均粒径设处于范围内，因而能够对防眩层赋予优异的透明性。此外，所述平均粒径是通过动态光散射法等方法测定得到的值。“具有空隙的微粒”优选在上述低折射率层中，相对于100质量份的基体树脂，通常为0.1质量份左右～500质量份左右、优选为10质量份左右～200质量份左右。

在形成低折射率层时，将上述低折射率层形成用组合物的粘度设定为能够得到良好涂布性的0.5～5cps(25℃)、优选为0.7～3cps(25℃)的范围。能够实现防可见光线反射性优异的防反射膜，并且能够形成均匀的、没有涂布不均的薄膜，而且能够形成对基材的密合性特别优异的低折射率层。

树脂的固化方式可以采用与防眩层项中说明的相同的方式。在为了进行固化处理而利用加热装置的情况下，优选在氟类树脂组合物中添加热聚合引发剂，该热聚合引发剂通过加热产生例如自由基，引发聚合性化合物聚合。

低折射率层的膜厚(nm)d_A优选满足下式(I)。

d_A＝mλ/(4n_A)(I)

(上述式中，

n_A表示低折射率层的折射率，

m表示正奇数，优选为1，

λ为波长，优选为480～580nm范围内的值)

并且，本发明中，从降低反射率的方面考虑，优选低折射率层满足下述数学式(II)。

120<n_Ad_A<145 (II)

(防污层)

防污层起到如下作用：使得光学层积体的最表面上难以附着污渍(指纹、水性或油性的油墨类、铅笔等)，或者即使在附着了污渍时，也能够容易拭去。根据本发明的优选方式，为防止在低折射率层的最表面上附着污渍，可以设置防污层，特别优选在形成有低折射率层的透光性基材的一个面和相反的两侧设置防污层。通过形成防污层，能够对光学层积体(防反射用层积体)实现防污性和耐擦伤性的进一步改善。即使在没有低折射率层的情况下，也可以设置防污层以防止最表面附着污渍。

防污层通常可由含有防污层用剂和树脂的组合物形成。作为防污层用剂的具体例，可以举出与分子中具有氟原子的电离放射线固化型树脂组合物的相容性低并且难以添加到低折射率层中的氟类化合物和/或硅系化合物；与分子中具有氟原子的电离放射线固化型树脂组合物和微粒具有相容性的氟类化合物和/或硅系化合物。这些可以使用公知或市售的产品。

防污层例如可形成于硬膜层B上。尤其，优选防污层形成为最表面。也可以通过例如对硬膜层B本身赋予防污性能来代替防污层。

光学层积体中的界面等

本发明的光学层积体中实质上不存在界面。此处，“(实质上)不存在界面”包括如下情况，1)两个层面重叠，但实际上不存在界面；以及2)根据折射率判断为在两者的面上不存在界面。作为“(实质上)不存在界面”的具体基准，如下所述。即，通过光学层积体的干涉条纹观察(在样品背面粘贴黑色胶带，利用3波长荧光灯，从上面进行目视观察)看到干涉条纹的情况下，通过激光显微镜观察截面时，确认到界面。将这种情况认定为“存在界面”。在干涉条纹观察中，在未能通过目视确认到干涉条纹或者干涉条纹极弱的情况下，在激光显微镜观察中看不到界面或者只能看到非常不清晰的界面。将这种情况认定为“实质上不存在界面”。

激光显微镜能够读取来自各界面的反射光，非破坏性地进行截面观察。因此，虽然由具有折射率差的材料形成多层，但在进行截面观察而未能确认到界面存在或界面非常弱的情况下，可以判断为实质上不存在界面。由此，可以判断为基材和硬膜层之间不存在界面。

并且，本发明的光学层积体优选实质上不存在界面。优选至少不能视觉辨认到干涉条纹。

在本发明的光学层积体中，硬膜层A和B均能够达成预定的硬度。该情况下，硬膜层A优选铅笔硬度为4H以上。硬膜层A优选维氏硬度在450N/mm以上。并且，硬膜层B优选铅笔硬度在4H以上。硬膜层B优选维氏硬度在550N/mm以上。

实施例

以下示出实施例和比较例，进一步具体说明本发明的特征。但是，本发明的范围不限于实施例。

<制造例1>

作为硬膜层形成用组合物，分别制备如下所示的组成A～组成I。

组成A

·聚酯丙烯酸酯(东亚合成株式会社制造；M9050、3个官能团、分子量418)：10质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE184)：0.4质量份

·甲乙酮(下面称为“MEK”)：10质量份

组成B

·聚酯丙烯酸酯(东亚合成株式会社制造；M9050、3个官能团、分子量418)：5质量份

·聚氨酯丙烯酸酯(日本化药株式会社制造；DPHA40H、10个官能团、分子量约7000)：5质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE184)：0.4质量份

·MEK：10质量份

组成C

·聚乙二醇二丙烯酸酯(东亚合成株式会社制造；M240、2个官能团、分子量302)：2质量份

·聚氨酯丙烯酸酯(日本化药株式会社制造；DPHA40H、10个官能团、分子量约7000)：6质量份

·聚氨酯丙烯酸酯(荒川化学株式会社制造；BS371、10个官能团以上、分子量约4万)：2质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE184)：0.4质量份

·MEK：10质量份

组成D

·聚二丙烯酸乙二醇酯(东亚合成株式会社制造；M240、2个官能团、分子量302)：10质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE184)：0.4质量份

·MEK：10质量份

组成E

·聚氨酯丙烯酸酯(日本合成株式会社制造；紫光UV3520-TL、2个官能团、分子量14000)：10质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE184)：0.4质量份

·MEK：10质量份

组成F

·聚氨酯丙烯酸酯(日本合成株式会社制造；紫光UV1700B、10个官能团、分子量2000)：10质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE184)：0.4质量份

·MEK：10质量份

组成G

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE184)：0.4质量份

·甲苯：10质量份

组成H

·二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制造；DPHA、6个官能团、分子量524)：2.5质量份

·聚氨酯丙烯酸酯(日本合成株式会社制造；紫光UV1700B、10个官能团、分子量2000)：2.5质量份

·聚氨酯丙烯酸酯(荒川化学株式会社制造；BS371、10个官能团以上、分子量约4万)：2.5质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE127)：0.4质量份

·MEK：10质量份

组成I

·二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制造；DPHA、6个官能团、分子量524)：2质量份

·聚氨酯丙烯酸酯(日本合成株式会社制造；紫光UV1700B、10个官能团、分子量2000)：2质量份

·聚氨酯丙烯酸酯(荒川化学株式会社制造；BS371、10个官能团以上、分子量约4万)：3质量份

·进行了表面处理的胶态二氧化硅：3质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE184)：0.4质量份

·MEK：10质量份

<制造例2>

作为硬膜层形成用组合物，分别制备下述的组成a～组成e和组成a’。

组成a

·二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制造DPHA、6个官能团、分子量547)：5质量份

·聚氨酯丙烯酸酯(荒川化学株式会社制造；BS371、10个官能团以上、分子量约4万)：5质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE184)：0.4质量份

·MEK：10质量份

组成b

·季戊四醇三丙烯酸酯(日本化药株式会社制造PET30、3个官能团、分子量298)：5质量份

·聚氨酯丙烯酸酯(根上工业社制造；HDP、10个官能团、分子量4500)：5质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE184)：0.4质量份

·MEK：10质量份

组成c

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE184)：0.4质量份

组成d

·异氰脲酸环氧乙烷改性二丙烯酸酯(东亚合成株式会社制造；M215、2个官能团、分子量369)：10质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE184)：0.4质量份

组成e

·二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制造DPHA、6个官能团、分子量547)：10质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE184)：0.4质量份

组成a’

·防污剂(日本化药株式会社制造UT3971)：0.5质量份

·聚合引发剂(汽巴精化制造；IRGACURE184)：0.4质量份

·MEK：10质量份

<实施例1>

在三乙酸纤维素膜(厚度80μm)的单面上，以26g/m²的湿润重量(干燥重量为13g/m²)涂布作为下层硬膜层A形成用组合物的组成A的树脂混合物。于70℃干燥60秒，以50mJ/cm²照射紫外线，形成用作底层的硬膜层A。

此外，在硬膜层A上，以26g/m²的湿润重量(干燥重量13g/m²)涂布作为上层硬膜层B形成用组合物的组成a的树脂混合物。于70℃干燥60秒，以200mJ/cm²照射紫外线，形成硬膜层B，获得目标光学层积体。

<实施例2～11>

在形成硬膜层时，作为下层硬膜层A形成用组合物以及上层硬膜层B形成用组合物，分别以表1所示的树脂混合物的组合和涂布量形成各层，除此之外，采用与实施例1相同的方式，分别获得实施例2～11的光学层积体。

<比较例1～6>

在形成硬膜层时，作为下层硬膜层A形成用组合物以及上层硬膜层B形成用组合物，分别以表2所示的树脂混合物的组合和涂布量形成各层，除此之外，采用与实施例1相同的方式，分别获得比较例1～6的光学层积体。

<试验例1>

根据下述评价基准，对在各实施例和比较例中得到的光学层积体进行评价。将其结果示于表1和表2。

(1)有无干涉条纹的试验

在光学层积体的与硬膜层相反的面上粘贴用于防止背面反射的黑色胶带，通过目视从硬膜层的面观察光学层积体，依照下述评价基准进行评价。

评价基准

评价○：未产生干涉条纹。

评价×：产生干涉条纹。

(2)铅笔硬度试验

铅笔硬度试验：制得的硬膜片(上述光学层积体(以下相同))在温度25℃、相对湿度60％的条件下调湿2小时之后，使用JIS-S-6006中规定的试验用铅笔(硬度4H)，依照JIS-K-5400规定的铅笔硬度评价方法，以4.9N的负荷测定铅笔划痕试验的硬度。

评价基准

评价○：无伤痕/测定次数＝4/5，5/5

评价×：无伤痕/测定次数＝0/5，1/5，2/5，3/5

(3)翘曲试验

将制得的硬膜片切割成横×纵＝10cm×10cm的尺寸，测定在温度20℃、相对湿度60％的环境下静置于平板上时的四角翘起程度，将其平均值设定为翘曲高度。

评价基准

评价○：25mm以下

评价×：大于26mm(为筒状，不可进行测定时也为×)

(4)裂纹试验

将制得的硬膜片切割成10cm×5cm的尺寸，卷绕在直径为16mm的圆筒状的金属管上，卷绕后，再将膜恢复为原来的状态，目视确认有无裂纹。

评价基准

评价○：无裂纹

评价×：有裂纹

【表1】

【表2】

由表1和表2的结果可知，在本发明中，能够得到硬度、耐裂纹性等优异，并且未发现干涉条纹的层积体。

根据本发明，能够得到在可有效抑制或防止干涉条纹的产生的同时能够显示出高表面硬度的光学层积体。本发明的光学层积体适合用于阴极射线管显示装置(CRT)、液晶显示屏(LCD)、等离子体显示屏(PDP)、电致发光显示屏(ELD)、场发射显示屏(FED)等。

Claims

1.一种光学层积体，该光学层积体是在透光性基材上至少形成(1)与所述基材邻接的硬膜层A和(2)硬膜层B而构成的层积体，其特征在于，所述基材和所述硬膜层A之间实质上不存在界面。

2.根据权利要求1所述的光学层积体，其中，所述硬膜层B使用含有聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物的组合物B来形成，该聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物具有6个以上官能团。

3.根据权利要求2所述的光学层积体，其中，所述聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物的重均分子量为1000～50000。

4.根据权利要求1～3任一项所述的光学层积体，其中，所述硬膜层A使用含有化合物A的组合物A来形成，该化合物A的重均分子量为200以上，且具有3个以上官能团。

5.根据权利要求4所述的光学层积体，其中，所述化合物A是(甲基)丙烯酸酯系化合物和聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物中的至少一种化合物。

6.根据权利要求4或5所述的光学层积体，其中，所述组合物A含有对所述基材具有浸透性或溶解性的溶剂。

7.根据权利要求1～3任一项所述的光学层积体，其中，所述光学层积体至少不能视觉辨认到干涉条纹。

8.根据权利要求4所述的光学层积体，其中，所述光学层积体至少不能视觉辨认到干涉条纹。

9.根据权利要求5所述的光学层积体，其中，所述光学层积体至少不能视觉辨认到干涉条纹。

10.根据权利要求6所述的光学层积体，其中，所述光学层积体至少不能视觉辨认到干涉条纹。

11.根据权利要求1～3任一项所述的光学层积体，其中，所述硬膜层A和所述硬膜层B的铅笔硬度为4H以上。

12.根据权利要求4所述的光学层积体，其中，所述硬膜层A和所述硬膜层B的铅笔硬度为4H以上。

13.根据权利要求5所述的光学层积体，其中，所述硬膜层A和所述硬膜层B的铅笔硬度为4H以上。

14.根据权利要求6所述的光学层积体，其中，所述硬膜层A和所述硬膜层B的铅笔硬度为4H以上。

15.根据权利要求7所述的光学层积体，其中，所述硬膜层A和所述硬膜层B的铅笔硬度为4H以上。

16.根据权利要求8～10任一项所述的光学层积体，其中，所述硬膜层A和所述硬膜层B的铅笔硬度为4H以上。

17.根据权利要求1～3任一项所述的光学层积体，其中，所述硬膜层A的维氏硬度为450N/mm以上，所述硬膜层B的维氏硬度为550N/mm以上。

18.根据权利要求4所述的光学层积体，其中，所述硬膜层A的维氏硬度为450N/mm以上，所述硬膜层B的维氏硬度为550N/mm以上。

19.根据权利要求5所述的光学层积体，其中，所述硬膜层A的维氏硬度为450N/mm以上，所述硬膜层B的维氏硬度为550N/mm以上。

20.根据权利要求6所述的光学层积体，其中，所述硬膜层A的维氏硬度为450N/mm以上，所述硬膜层B的维氏硬度为550N/mm以上。

21.根据权利要求7所述的光学层积体，其中，所述硬膜层A的维氏硬度为450N/mm以上，所述硬膜层B的维氏硬度为550N/mm以上。

22.根据权利要求8～10任一项所述的光学层积体，其中，所述硬膜层A的维氏硬度为450N/mm以上，所述硬膜层B的维氏硬度为550N/mm以上。

23.根据权利要求1～3任一项所述的光学层积体，其中，所述光学层积体通过在1)所述硬膜层A和所述硬膜层B之间、2)所述硬膜层B之上或3)所述硬膜层A之下形成抗静电层、防眩层、低折射率层、防污层或2种以上这些层来构成。

24.根据权利要求4所述的光学层积体，其中，所述光学层积体通过在1)所述硬膜层A和所述硬膜层B之间、2)所述硬膜层B之上或3)所述硬膜层A之下形成抗静电层、防眩层、低折射率层、防污层或2种以上这些层来构成。

25.根据权利要求5所述的光学层积体，其中，所述光学层积体通过在1)所述硬膜层A和所述硬膜层B之间、2)所述硬膜层B之上或3)所述硬膜层A之下形成抗静电层、防眩层、低折射率层、防污层或2种以上这些层来构成。

26.根据权利要求6所述的光学层积体，其中，所述光学层积体通过在1)所述硬膜层A和所述硬膜层B之间、2)所述硬膜层B之上或3)所述硬膜层A之下形成抗静电层、防眩层、低折射率层、防污层或2种以上这些层来构成。

27.根据权利要求7所述的光学层积体，其中，所述光学层积体通过在1)所述硬膜层A和所述硬膜层B之间、2)所述硬膜层B之上或3)所述硬膜层A之下形成抗静电层、防眩层、低折射率层、防污层或2种以上这些层来构成。

28.根据权利要求8～10任一项所述的光学层积体，其中，所述光学层积体通过在1)所述硬膜层A和所述硬膜层B之间、2)所述硬膜层B之上或3)所述硬膜层A之下形成抗静电层、防眩层、低折射率层、防污层或2种以上这些层来构成。

29.根据权利要求11所述的光学层积体，其中，所述光学层积体通过在1)所述硬膜层A和所述硬膜层B之间、2)所述硬膜层B之上或3)所述硬膜层A之下形成抗静电层、防眩层、低折射率层、防污层或2种以上这些层来构成。

30.根据权利要求12～15任一项所述的光学层积体，其中，所述光学层积体通过在1)所述硬膜层A和所述硬膜层B之间、2)所述硬膜层B之上或3)所述硬膜层A之下形成抗静电层、防眩层、低折射率层、防污层或2种以上这些层来构成。

31.根据权利要求16所述的光学层积体，其中，所述光学层积体通过在1)所述硬膜层A和所述硬膜层B之间、2)所述硬膜层B之上或3)所述硬膜层A之下形成抗静电层、防眩层、低折射率层、防污层或2种以上这些层来构成。

32.根据权利要求17所述的光学层积体，其中，所述光学层积体通过在1)所述硬膜层A和所述硬膜层B之间、2)所述硬膜层B之上或3)所述硬膜层A之下形成抗静电层、防眩层、低折射率层、防污层或2种以上这些层来构成。

33.根据权利要求18～21任一项所述的光学层积体，其中，所述光学层积体通过在1)所述硬膜层A和所述硬膜层B之间、2)所述硬膜层B之上或3)所述硬膜层A之下形成抗静电层、防眩层、低折射率层、防污层或2种以上这些层来构成。

34.根据权利要求22所述的光学层积体，其中，所述光学层积体通过在1)所述硬膜层A和所述硬膜层B之间、2)所述硬膜层B之上或3)所述硬膜层A之下形成抗静电层、防眩层、低折射率层、防污层或2种以上这些层来构成。

35.根据权利要求1～3任一项所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

36.根据权利要求4所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

37.根据权利要求5所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

38.根据权利要求6所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

39.根据权利要求7所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

40.根据权利要求8～10任一项所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

41.根据权利要求11所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

42.根据权利要求12～15任一项所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

43.根据权利要求16所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

44.根据权利要求17所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

45.根据权利要求18～21任一项所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

46.根据权利要求22所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

47.根据权利要求23所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

48.根据权利要求24～27任一项所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

49.根据权利要求28所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

50.根据权利要求29所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

51.根据权利要求30所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

52.根据权利要求31或32所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

53.根据权利要求33所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

54.根据权利要求34所述的光学层积体，其中，所述光学层积体用作防反射用层积体。

55.一种光学层积体的制造方法，该方法包括：在透光性基材上涂布组合物A以形成硬膜层A的工序(1)；和在所述硬膜层A上涂布组合物B以形成硬膜层B的工序(2)，其特征在于，

所述组合物A含有重均分子量为200以上且具有3个以上官能团的化合物A和对所述透光性基材具有浸透性或溶解性的溶剂，所述组合物B含有具有6个以上官能团的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系化合物。