JP2009069428A - 光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents
光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、重量平均分子量が200以上、1000未満である高屈折率樹脂A、重量平均分子量が1000以上、10万以下である高屈折率樹脂B、浸透性溶剤、及び、バインダー樹脂を含み、かつ、含まれる樹脂成分中における前記高屈折率樹脂Aと高屈折率樹脂Bとの合計量が10〜80質量%(固形分比)である樹脂組成物を、上記光透過性基材上に塗布して上記ハードコート層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法。
【選択図】なし
Description
特許文献3では、重量平均分子量が200以上10000以下であり、かつ2超過の官能基を有する樹脂と、重量平均分子量が200以上1000以下であり、かつ2以下の官能基を有する樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなる組成物によりハードコート層を基材上に形成することにより、界面反射と干渉縞の発生を有効に防止する光学積層体が開示されている。
上記高屈折率樹脂A及び光学積層体Bは、屈折率が1.55〜1.65であることが好ましい。
上記高屈折率樹脂Aと上記高屈折率樹脂Bとの含有比(高屈折率樹脂A/高屈折率樹脂B)が、固形分質量比で(95/5)〜(5/95)であることが好ましい。
上記浸透性溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び塩化メチレンからなる群より選択される少なくとも1種であるであることが好ましい。
上記バインダー樹脂は、屈折率が1.55未満であり、かつ、重量平均分子量200以上、1000未満である樹脂1と、屈折率が1.55未満であり、かつ、重量平均分子量1000以上、10万以下である樹脂2とを含むことが好ましい。
上記樹脂組成物は、更に、ケイ素、アルミニウム、チタン、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ及びアンチモンからなる群より選択される少なくとも1つの元素の酸化物を含有することが好ましい。
上記樹脂組成物は、更に、帯電防止剤を有することが好ましい。
上記光透過性基材は、ハードコート層を形成する面に帯電防止層を有することが好ましい。
上記光透過性基材は、トリアセチルセルロースであることが好ましい。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置でもある。
本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。
上記樹脂組成物が2種の高屈折率樹脂を含むことにより、光透過性基材上に形成するハードコート層は、該光透過性基材や、その他必要に応じて積層する低屈折率層等との屈折率の差を大きくすることができ、反射防止性を向上させることができる。また、上記樹脂組成物は、重量平均分子量の異なる2種の高屈折率樹脂と浸透性溶剤を含むものであるため、ハードコート層を形成した際、低分子量のものは浸透性溶剤とともに一部基材に浸透することにより、明確な界面が形成されないので、干渉縞の発生を抑制することができるものである。
なお、本明細書において、「高屈折率樹脂」とは、屈折率が1.55以上の樹脂を意味し、「樹脂」とは、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。
なお、上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、ポリスチレン換算にて得られた値である。
このような浸透性溶剤を使用することにより、製造する光学積層体に干渉縞をなくし、更には光透過性基材との密着性を向上させることができる。これは、以下に挙げる理由によると考えられる。
すなわち、本工程において光透過性基材上に上記樹脂組成物を塗布し、樹脂層を形成すると、該樹脂層中の浸透性溶剤が上記光透過性基材の表面付近に浸透するが、このとき、樹脂組成物の他の成分、具体的には主に高屈折率樹脂A(及び、後述するバインダー樹脂)が、浸透性溶剤とともに光透過性基材中に浸透すると考えられる。そうすると、製造される光学積層体は、光透過性基材とハードコート層との界面が不明確になって光透過性基材からハードコート層にかけて屈折率が徐々に変化するものとなり、干渉縞の発生をなくすことができるものと考えられる。また、ハードコート層の一部が光透過性基材の表面付近に浸透することとなるため、製造される光学積層体は、光透過性基材とハードコート層との密着性が向上するものと考えられる。
上記バインダー樹脂としては、屈折率が1.55未満で透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂が好適に用いられる。
上記電離放射線硬化型樹脂としては、分子量の異なる2種の樹脂を含むことが好ましい。分子量の異なる2種の樹脂を含むことにより、上記樹脂組成物を光透過性基材上に塗布した場合、上記浸透性溶剤とともに低分子の樹脂が光透過性基材へ浸透し、製造する光学積層体の界面反射及び干渉縞の発生をより抑制することができる。また、層間の密着性を高めることができる。更に、形成するハードコート層の鉛筆硬度を優れたものとすることもできる。
上記3官能以上の(メタ)アクリレート系化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、イソシアヌル酸変性トリアクリレート等が挙げられる。また、これらアクリレートは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
このような樹脂1を含有することで、製造する光学積層体に干渉縞の発生を抑制することができ、層間の密着性を優れたものとすることがきる。
上記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物の市販品としては、例えば、日本合成社製の紫光シリーズ、UV1700B、UV6300B、UV765B、UV7640B、UV7600B等が挙げられ;根上工業社製のアートレジンシリーズ、アートレジンHDP、アートレジンUN3320HSBA、UN9000H、アートレジンUN3320HA、アートレジンUN3320HB、アートレジンUN3320HC、アートレジンUN3320HS、アートレジンUN901M、アートレジンUN902MS、アートレジンUN903等が挙げられ;新中村化学社製のUA100H、U4H、U4HA、U6H、U6HA、U15HA、UA32P、U6LPA、U324A、U9HAMI等が挙げられ;ダイセル・ユーシービー社製のEbecrylシリーズ、1290、5129、254、264、265、1259、1264、4866、9260、8210、204、205、6602、220、4450等が挙げられ;荒川化学社製のビームセットシリーズ、371、577等が挙げられ;三菱レーヨン社製のRQシリーズ、大日本インキ社製のユニディックシリーズ等が挙げられ;DPHA40H(日本化薬社製)、CN9006(サーマー社製)、CN968等が挙げられる。この中でも、好ましくは、UV1700B(日本合成社製)、DPHA40H(日本化薬社製)、アートレジンHDP(根上工業社製)、ビームセット371(荒川化学社製)、ビームセット577(荒川化学社製)U15HA(新中村化学社製)等が挙げられる。
このような樹脂2を含有することで、製造する光学積層体に充分な鉛筆硬度を付与することができる。
上記光反応性基としては特に限定されず、例えば、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシ基等が挙げられる。
このような光反応性基を表面に有するコロイダルシリカは、例えば、シリカ微粒子の表面に上記光反応性基を有するシランカップリング剤を反応させる方法等が挙げられる。
上記樹脂組成物が帯電防止剤を含有することで、形成するハードコート層に帯電防止性を付与することができる。
上記光重合開始剤の添加量は、上記電離放射線硬化型樹脂固形分100質量部に対して、0.1〜10質量部であることが好ましい。
上記レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤は、公知のものを使用するとよい。
上記光透過性基材としては、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものであることが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、トリアセチルセルロース(TAC)、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系化合物が挙げられる。なかでも、発明の効果を発揮しやすいという観点からトリアセチルセルロース(TAC)であることがより好ましい。
また、上記樹脂組成物の塗布量としては目的とするハードコート層の膜厚等を考慮して適宜決定されるが、0.1〜30g/m2であることが好ましい。0.1g/m2未満であると、形成するハードコート層の硬度が低下する恐れがある。また、膜厚のコントロールが難しくなり性能のバラツキが大きくなることがある。30g/m2を超えると、製造した光学積層体を曲げた場合にクラックが入りやすくなり問題となることがある。また、コスト的にも高くなるため好ましくない。より好ましい下限は1g/m2、より好ましい上限は20g/m2である。
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、190〜380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
上記帯電防止層は、例えば、上述した帯電防止剤を及び樹脂を含む組成物により形成することができる。上記樹脂としては特に限定されず、例えば、上述の樹脂組成物で例示したバインダー樹脂等が挙げられる。
なお、上記帯電防止層を形成する工程は、上記ハードコート層を光透過性基材上に形成する工程の前に行ってもよく、上記ハードコート層を光透過性基材上に形成する工程の後に行ってもよい。前者の場合、製造する光学積層体は、光透過性基材上に帯電防止層が形成され、該帯電防止層上にハードコート層が形成された構造となる。一方、後者の場合、製造する光学積層体は、光透過性基材上にハードコート層が形成され、該ハードコート層上に帯電防止層が形成された構造となる。
上記高屈折率樹脂A及び高屈折率樹脂Bを含むハードコート層の上に、低屈折率層を形成することにより、屈折率の異なる層が複数形成されて反射防止性能をより高めることができる。上記低屈折率層は、屈折率が1.50未満であることが好ましく、1.45以下であることがより好ましい。
空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開2002−80503号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子を挙げることができる。
dA=mλ/(4nA) (I)
(上記式中、
nAは低屈折率層の屈折率を表し、
mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、
λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)
を満たすものが好ましい。
120<nAdA<145 (II)
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
下記に示す組成を混合して樹脂組成物1を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 5質量部
高屈折率樹脂A(A−REN−10、新中村化学製、Mw268) 2.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 2.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合して樹脂組成物2を調製した。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 5質量部
高屈折率樹脂A(A−REN−10、新中村化学製、Mw268) 2.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 2.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合して樹脂組成物3を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 2.5質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 2.5質量部
高屈折率樹脂A(A−REN−10、新中村化学製、Mw268) 2.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 2.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合して樹脂組成物4を調製した。
ウレタンアクリレート(BS577、荒川化学製) 2.5質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PET30、日本化薬製) 2.5質量部
高屈折率樹脂A(A―REN―10、新中村化学製、Mw268) 2.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 2.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合して樹脂組成物5を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 5質量部
高屈折率樹脂A(EX142、ナガセケムテックス製、Mw226) 2.5質量部
高屈折率樹脂B(HRR2、昭和インク、Mw1500) 2.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合して樹脂組成物6を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製 7質量部
高屈折率樹脂A(A―REN―10、新中村化学製、Mw268) 1.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 1.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合して樹脂組成物7を調製した。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 3質量部
高屈折率樹脂A(A―REN―10、新中村化学製、Mw268) 3.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 3.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合して樹脂組成物1’を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合して樹脂組成物2’を調製した。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合して樹脂組成物3’を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 5質量部
高屈折率樹脂A(A―REN―10、新中村化学製、Mw268) 5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合して樹脂組成物4’を調製した。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 5質量部
高屈折率樹脂A(A−REN−10、新中村化学製、Mw268) 5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合して樹脂組成物5’を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 2.5質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 2.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合して樹脂組成物6’を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 2.5質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 2.5質量部
高屈折率樹脂A(A−REN−10、新中村化学製、Mw268) 5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合して樹脂組成物7’を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 0.5質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 0.5質量部
高屈折率樹脂A(A−REN−10、新中村化学製、Mw268) 4.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 4.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合して樹脂組成物8’を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 2.5質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 2.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 2.5質量部
高屈折率樹脂A(A−REN−10、新中村化学製、Mw268) 2.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
トルエン 10質量部
光透過性基材として、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(富士写真フィルム製、TF80UL、厚さ80ミクロン)を用意し、このフィルムの表面に調製した樹脂組成物1を、湿潤重量26g/m2(乾燥重量13g/m2)で塗布(バーコーティング)して樹脂層を形成し、次いで、50℃にて乾燥することにより溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン社製)を用いて、照射線量50mJ/cm2で紫外線照射を行うことにより、樹脂組成物1を用いて形成した樹脂層を硬化させて、ハードコート層を形成し、光学積層体を製造した。膜厚は、反射率の極小値が波長550nm付近(膜厚0.10μm)になるように形成させた。
樹脂組成物1を、樹脂組成物2〜7、1’〜8’に変更した以外は、実施例1と同様にして実施例2〜7、比較例1〜8に係る光学積層体を製造した。
実施例1〜7及び比較例1〜8で得られた各光学積層体について、以下の評価を行った。結果を表1に示す。
実施例1〜7及び比較例1〜8で得られた各光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から各光学積層体を、3波長蛍光灯で目視しで観察し、干渉縞の発生の有無を以下の基準により評価した。
○:干渉縞の発生はなかった。
×:干渉縞の発生があった。
まず、実施例1〜7及び比較例1〜8で製造した光学積層体のハードコート層の上に、下記組成の低屈折率樹脂組成物を用いて、0.10ミクロンの厚さ(Dry)となるように積層した。
<低屈折率樹脂組成物組成>
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア127;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
シリコーンオイル(X22164E;信越化学社製) 0.1質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
PGME 20質量部
反射Y値は、島津製作所製 MPC3100分光光度計にて、5°正反射率を380〜780nmまでの波長範囲で測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフト(MPC3100内蔵)で算出される、視感反射率を示す値である。なお、5°正反射率を測定する場合には、光学積層体であるフィルムの裏面反射を防止するため、測定膜面とは逆側に、黒テープ(寺岡製)を貼って測定した。以下の基準にて評価を行った。
◎:反射率が1.2%未満であった
○:反射率が1.2%以上であった
上述した方法で低屈折率層を形成した各光学積層体を温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、JIS−S−6006が規定する試験用鉛筆(硬度H)を用いて、JIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度評価方法に従い、4.9Nの荷重にて実施し、以下の評価基準で評価を行った。
評価○:傷なし/測定回数=4/5,5/5
評価×:傷なし/測定回数=0/5,1/5,2/5,3/5
2 ハードコート層
3 光透過性基材
Claims (13)
- 光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、
重量平均分子量が200以上、1000未満である高屈折率樹脂A、重量平均分子量が1000以上、10万未満である高屈折率樹脂B、浸透性溶剤、及び、バインダー樹脂を含み、かつ、含まれる樹脂成分中における前記高屈折率樹脂Aと高屈折率樹脂Bとの合計量が10〜80質量%(固形分比)である樹脂組成物を、前記光透過性基材上に塗布して前記ハードコート層を形成する工程を有する
ことを特徴とする光学積層体の製造方法。 - 高屈折率樹脂A及び光屈折率樹脂Bは、屈折率が1.55〜1.65である請求項1記載の光学積層体の製造方法。
- 高屈折率樹脂Aと高屈折率樹脂Bとの含有比(高屈折率樹脂A/高屈折率樹脂B)が、固形分質量比で(95/5)〜(5/95)である請求項1又は2記載の光学積層体の製造方法。
- 浸透性溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び塩化メチレンからなる群より選択される少なくとも1種である請求項1、2又は3記載の光学積層体の製造方法。
- バインダー樹脂は、屈折率が1.55未満であり、かつ、重量平均分子量200以上、1000未満である樹脂1と、屈折率が1.55未満であり、かつ、重量平均分子量1000以上、10万以下である樹脂2とを含む請求項1、2、3又は4記載の光学積層体の製造方法。
- 樹脂組成物は、更に、ケイ素、アルミニウム、チタン、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ及びアンチモンからなる群より選択される少なくとも1つの元素の酸化物を含有する請求項1、2、3、4又は5記載の光学積層体の製造方法。
- 樹脂組成物は、更に、帯電防止剤を有する請求項1、2、3、4、5又は6記載の光学積層体の製造方法。
- 光透過性基材は、ハードコート層を形成する面に帯電防止層を有する請求項1、2、3、4、5、6又は7記載の光学積層体の製造方法。
- 光透過性基材は、トリアセチルセルロースである請求項1、2、3、4、5、6、7又は8記載の光学積層体の製造方法。
- 請求項1、2、3、4、5、6、7、8又は9記載の光学積層体の製造方法により得られることを特徴とする光学積層体。
- 最表面に請求項10記載の記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置。
- 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光板は、偏光素子表面に請求項10記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。 - 最表面に請求項10記載の光学積層体、又は、請求項12記載の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置。
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