JP6589425B2 - 光学積層体 - Google Patents
光学積層体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6589425B2 JP6589425B2 JP2015140831A JP2015140831A JP6589425B2 JP 6589425 B2 JP6589425 B2 JP 6589425B2 JP 2015140831 A JP2015140831 A JP 2015140831A JP 2015140831 A JP2015140831 A JP 2015140831A JP 6589425 B2 JP6589425 B2 JP 6589425B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- layer
- low refractive
- hard coat
- index layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
このような低屈折率層が最表面に形成された光学積層体としては、例えば、特許文献1等に、中空状シリカ微粒子、フッ素原子含有ポリマー及び防汚剤を含有する低屈折率層を有する光学積層体が開示されている。
しかしながら、従来の低屈折率層を備えた光学積層体では、低屈折率層表面の反射Y値を小さくでき反射防止性能を優れたものとすることができるものの、低屈折率層表面の平坦性に劣り、近年のタッチパネル用途として求められる極めて高い表面平滑性に充分に応えることができなかった。
また、タッチパネルや液晶ディスプレイ等の表示画面の最表面に、平滑性を高めた低屈折率層を備えた光学積層体を設けた場合、表示画面を指で触れると指紋汚れが顕著となり、耐汚染性に劣るという問題もあった。
また、本発明の光学積層体は、低屈折率層の表面にケン化処理を施したときの上記ケン化処理の前後における低屈折率層の表面の水の接触角の変化率が15%以下であることが好ましい。
また、上記ハードコート層は、光透過性基材側に設けられた第一のハードコート層と、低屈折率層側に設けられた第二のハードコート層とを有し、上記第一のハードコート層は、該第一のハードコート層を構成する樹脂成分が上記光透過性基材中に浸透することで形成された浸透層と、上記樹脂成分を主成分とする非浸透層とを有することが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、上記浸透層の膜厚をH1とし、上記非浸透層の膜厚をH2とし、上記第二のハードコート層の膜厚をH3としたとき、上記非浸透層の膜厚と上記第二のハードコート層の膜厚との和(H2+H3)が4〜12μmであり、上記浸透層の膜厚と、上記非浸透層の膜厚及び上記第二のハードコート層の膜厚の和との比(H1:H2+H3)が5:95〜45:55であることが好ましい。
また、上記浸透層における不飽和二重結合量をU1とし、非浸透層における不飽和二重結合量をU2とし、第二のハードコート層における不飽和二重結合量をU3としたとき、上記U1、U2及びU3が、U1>U2>U3の関係を満たすことが好ましい。
本発明は、偏光素子の表面に、本発明の光学積層体を該光学積層体における低屈折率層が存在する側の面と反対側の面に設けてなることを特徴とする偏光板でもある。
また、本発明は、最表面に本発明の光学積層体、又は、本発明の偏光板を備えてなることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下に、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において、特に言及しない限り「樹脂」とは、モノマー及びオリゴマーをも含むものとする。
上記低屈折率層とは、本発明の光学積層体を構成する光透過性基材、ハードコート層等の低屈折率層以外の構成物の屈折率よりも低い屈折率を有する層のことを意味する。
なお、このような極めて高い平滑性を備えた低屈折率層は、後述する組成とすることで得ることができる。上記低屈折率層の表面の算術平均粗さ(Ra)の好ましい下限は0.9nm、好ましい上限は2.5nmである。
上記中空状シリカ微粒子は、上記低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げる役割を果たすものである。なお、本明細書において、「中空状シリカ微粒子」とは、内部に気体が充填された構造であり、シリカ微粒子本来の屈折率に比べて気体の占有率に反比例して屈折率が低下するシリカ微粒子を意味する。
なお、上記中空状シリカ微粒子の平均一次粒子径とは、該中空状シリカ微粒子単独の場合、動的光散乱法により測定された値を意味する。一方、上記低屈折率層中の中空状シリカ微粒子の平均一次粒子径は、低屈折率層の断面をSEM、TEM及びSTEM等で観察し、任意の単粒子状の中空状シリカ微粒子30個を選択してその断面の粒子径を測定し、その平均値として算出される値である。
図1に示したように、本発明の光学積層体10は、ハードコート層11が図示しない光透過性基材上に設けられており、ハードコート層11の表面には中空状シリカ微粒子13を含む低屈折率層12が設けられている。
本発明の光学積層体において、上記低屈折率層の厚み方向の断面で任意に選択した幅1μmの領域において、上記低屈折率層の最表面に接している上記中空状シリカ微粒子の個数が20個以下である。20個を超えると、低屈折率層の表面の平滑性が不充分となり、タッチパネル用途として近年求められる極めて高い平滑性の要求を満たすことができなくなる。
すなわち、図1に示した本発明の光学積層体10においては、低屈折率層12の厚み方向の断面で任意に選択した幅1μmの領域において、低屈折率層12の最表面に接している中空状シリカ微粒子13の個数は7個である。
このような状態で中空状シリカ微粒子が含まれる低屈折率層は、最表面においてバインダー成分や有機シリコーンの存在する割合が従来の光学積層体における低屈折率層と比較して高くなるため、上述した算術平均粗さ(Ra)を満たす極めて優れた平滑性を備えたものとなる。
上記低屈折率層の最表面に接している上記中空状シリカ微粒子の個数の好ましい下限は10個であり、好ましい上限は18個である。
上記有機シリコーンを低屈折率層に含有することで、上述したような極めて平滑性に優れた低屈折率層を最表面に備えたとしても、本発明の光学積層体は、耐ブロッキング性に優れたものとなる。この理由は明確ではないが、上述したように本発明の光学積層体では、低屈折率層の最表面に有機シリコーンが従来と比較して高い割合で存在していることが影響しているものと推測される。なお、上記有機シリコーンは防汚剤としての機能も発揮する。このため、本発明の光学積層体は、優れた防汚性能も備えたものとなる。
上記反応性官能基を有する有機シリコーンとしては、例えば、(ポリ)ジメチルシロキサン、(ポリ)ジエチルシロキサン、(ポリ)ジフェニルシロキサン、(ポリ)メチルフェニルシロキサン、アルキル変性(ポリ)ジメチルシロキサン、アゾ基含有(ポリ)ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、(メタ)アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が挙げられる。なかでも、ジメチルシロキサン構造を有するものは、低屈折率層からのブリードアウトの問題が生じ難いことから好ましい。
上記低屈折率層が防汚剤を更に含有することで、本発明の光学積層体は、より優れた防汚性能を有することとなる。
また、例えば、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、α−トリフルオロ(メタ)アクリル酸メチル等の分子中にフッ素原子を有する(メタ)アクリレート化合物;分子中にフッ素原子を少なくとも3個持つ炭素数1〜14の、フルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル化合物等も挙げられる。
更にまた、主鎖にフッ素化アルキレン基を有するフッ素ポリマー、オリゴマーや、主鎖及び側鎖にフッ素化アルキレン基、フッ素化アルキル基を有するフッ素化ポリマー、オリゴマー等も挙げられる。これらの中でも、特に、主鎖及び側鎖にフッ素化アルキレン基、フッ素化アルキル基を有するフッ素化ポリマーは、低屈折率層からのブリードアウトの問題が生じにくいことから特に好適に用いられる。
上記バインダー成分としては、紫外線硬化型樹脂が挙げられ、本発明では、特に(メタ)アクリル樹脂が好適に用いられる。なお、本明細書において、「(メタ)アクリル」とは、アクリル又はメタクリルを意味する。
上記(メタ)アクリル樹脂としては、(メタ)アクリルモノマーの重合体又は共重合体が挙げられ、上記(メタ)アクリルモノマーとしては特に限定されないが、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)テトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリ(メタ)アクリレート等が好適に挙げられる。
また、これら(メタ)アクリルモノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
これらの(メタ)アクリルモノマーは、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。これらの(メタ)アクリルモノマーは、後述するような屈折率の範囲を満たすとともに硬化反応性に優れ、得られる低屈折率層の硬度を向上させることができる。
なお、上記(メタ)アクリルモノマーの重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算により求めることができる。GPC移動相の溶剤には、テトラヒドロフランやクロロホルムを使用することができる。測定用カラムは、テトラヒドロフラン用又はクロロホルム用のカラムの市販品カラムを組み合わせて使用するとよい。上記市販品カラムとしては、例えば、Shodex GPC KF−801、GPC−KF800D(いずれも、商品名、昭和電工社製)等を挙げることができる。検出器には、RI(示差屈折率)検出器及びUV検出器を使用するとよい。このような溶剤、カラム、検出器を使用して、例えば、Shodex GPC−101(昭和電工社製)等のGPCシステムにより、上記重量平均分子量を適宜測定することができる。
なお、上記ケン化処理の前後における低屈折率層の表面の水の接触角の変化率は、低屈折率層のケン化処理前後で接触角計にて測定し{(前測定値−後測定値)/前測定値}×100で算出することができる。
dA=mλ/(4nA) (I)
(上記式中、
nAは低屈折率層の屈折率を表し、
mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、
λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)
を満たすものが好ましい。
120<nAdA<145 (II)
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
更に、上記低屈折率層は、例えば、#0000番のスチールウールを用いた摩擦荷重300g/cm2、10往復摩擦する耐擦傷試験で傷が生じないことが好ましい。
上記溶剤としては特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、s−ブタノール、t−ブタノール、ベンジルアルコール、PGME等のアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン等のケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、PGMEA等のエステル;ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素;メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン等のアミド;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル;1−メトキシ−2−プロパノール等のエーテルアルコール等が挙げられる。なかでも、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール(IPA)、n−ブタノール、s−ブタノール、t−ブタノール、PGME、PGMEAが好ましい。
上記その他の成分としては、例えば、光重合開始剤、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、帯電防止剤、上述した以外の樹脂等が挙げられる。
また、上記低屈折率層用組成物がカチオン重合性官能基を有する樹脂系を含有する場合、上記光重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等が挙げられ、これらは、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。具体的には、チバスペシャリティーケミカルズ社製のイルガキュア184、イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア819、イルガキュア127、イルガキュア500、イルガキュア754、イルガキュア250、イルガキュア1800、イルガキュア1870、イルガキュアOXE01、DAROCUR TPO、DAROCUR1173;日本シーベルヘグナー社製のSpeedcureMBB、SpeedcurePBZ、SpeedcureITX、SpeedcureCTX、SpeedcureEDB、Esacure ONE、Esacure KIP150、Esacure KTO46;日本化薬社製のKAYACURE DETX−S、KAYACURE CTX、KAYACURE BMS、KAYACURE DMBI等が挙げられる。なかでも、イルガキュア369、イルガキュア127、イルガキュア907、Esacure ONE、SpeedcureMBB、SpeedcurePBZ、KAYACURE DETX−Sが好ましい。
上記光重合開始剤の添加量は、上記バインダー樹脂の固形分100質量部に対して、0.1〜10質量部であることが好ましい。
上記レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、帯電防止剤、その他の樹脂は、公知のものを使用することができる。
上記低屈折率層用組成物を塗布する方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法が挙げられる。
上記光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、例えば、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又は、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。好ましくは、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、セルローストリアセテートが挙げられる。
また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ社製のFVシリーズ(低複屈折率、低光弾性率フィルム)も好ましい。
本明細書において、上記「ハードコート層」とは、JIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で2H以上の硬度を示すものをいう。硬度は、3H以上であることがより好ましい。また、上記ハードコート層の膜厚(硬化時)としては0.1〜100μm、好ましくは0.8〜20μmである。
上記樹脂としては、透明性のものが好適に用いられ、具体的には、紫外線若しくは電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂(塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂)との混合物、又は、熱硬化型樹脂等が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
上記光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。
また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホソフィン等が挙げられる。
上記溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がセルローストリアセテート等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例としては、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。
上記熱硬化型樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を更に添加して使用することができる。
また、光透過性基材と第一のハードコート層との界面で浸透層が形成されることで、該界面での干渉縞の発生を好適に防止することができ、また、上記光透過性基材と第一のハードコート層との密着性も極めて優れたものとなる。
上記非浸透層の膜厚と上記第二のハードコート層の膜厚との和(H2+H3)が4〜12μmであることで、本発明の光学積層体の硬度(鉛筆硬度)を優れたものとすることができる。
また、上記浸透層の膜厚と、上記非浸透層の膜厚及び上記第二のハードコート層の膜厚の和との比(H1:H2+H3)が5:95〜45:55であることで、干渉縞の抑制とカールの抑制とを好適に図ることができる。
なお、上記不飽和二重結合量は、例えば、本発明の光学積層体に対して、オスミウム染色処理(不飽和結合部が染色)を実施後、STEMにて観察することにより測定することができる。
また、上記光透過性基材は、その上に第一のハードコート層を形成するに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、ケン化処理、溶剤処理等の化学的な処理、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布(厚みは1μm程度)を予め行ってもよい。
上記第一のシリカ微粒子としては特に限定されないが、例えば、コロイダルシリカが挙げられる。
上記コロイダルシリカは、表面処理コロイダルシリカであることが好ましい。上記表面処理コロイダルシリカとしては、表面に紫外線反応性官能基を有するコロイダルシリカが挙げられる。上記紫外線反応性官能基としては特に限定されず、例えば、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシ基、ビニル基等が挙げられる。
このような紫外線反応性官能基を表面に有するコロイダルシリカとしては、例えば、第一のシリカ微粒子の表面に上記紫外線反応性官能基を有するシランカップリング剤を反応させる方法等により得ることができる。
上記シランカップリング剤としては特に限定されず、公知のものを挙げることができ、例えば、KBM−502、KBM−503、KBE−502、KBE−503、KBM−5803、KBM−4803、KBM−1083(商品名、いずれも、信越化学工業社製)等が挙げられる。
上記平均粒子径は、本発明の光学積層体の断面を電子顕微鏡(SEM、TEM、STEM)で観察し、測定して得られる値である。上記コロイダルシリカの平均粒子径は、インク中で分散した状態であっても、形成後の第一のハードコート層内においても、同じ数値を示すのである。
なお、本発明の光学積層体において、上記コロイダルシリカは、1種類で用いてもよいし、平均粒子径が異なる2種類以上を混合して用いてもよい。
本発明の光学積層体では、上記第一のハードコート層形成用組成物におけるコロイダルシリカの形態は、単粒子状、又は、異形粒子状のいずれかであってもよいが、形成する第一のハードコート層のケン化耐性及び鉛筆硬度が良好になることから、より好ましくは異形粒子状である。
ここで、「異形粒子状」とは、3〜20個の球状のコロイダルシリカが無機の化学結合により結合した状態を意味する。このような異形粒子状のコロイダルシリカは、上述した表面処理コロイダルシリカであることで容易に形成することができる。
上記異形粒子状のコロイダルシリカは、球状のコロイダルシリカが無機の化学結合により結合した状態なため、鉛筆硬度試験等のような外部からの押込力がかかった際、つぶれにくい頑丈な性質を持っている。また、異形粒子状のコロイダルシリカは、表面面積が広く、またその形状から、上記ペンタエリスルトールトリ(メタ)アクリレート等との接着力が強くなる利点がある。そのため、異型粒子状のコロイダルシリカは、剥がれにくくケン化耐性等が向上する。更に、異形粒子状のコロイダルシリカは、該異形粒子状のコロイダルシリカ同士がランダムに絡み合うために、物理的にも頑丈になる。
また、単粒子状シリカでも、粒子径が大きくなると(例えば、平均粒径が30nm以上)、鉛筆硬度試験等のような外部からの大きな押込力がかかった際、つぶれにくく頑丈となり、また、剥がれにくくなり、ケン化耐性も良好となる。
更に、単粒子状シリカの粒子径が小さくなった場合であっても(例えば、平均粒径が30nm未満)、第一のハードコート層表面付近の硬度が増すため、耐SW性が良化する結果も得られる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。
上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性の観点から、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。
なお、本明細書において、(メタ)アクリルとは、アクリル及びメタクリルを意味する。
上記熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が90℃以上であることが好ましい。
また、上記熱可塑性樹脂は、分子内に紫外線又は電子線により硬化する官能基を有していてもよい。上記熱可塑性樹脂のガラス転移温度は、分子内への紫外線又は電子線により硬化する官能基の導入により低下する傾向にあるため、硬化前の状態でガラス転移温度が90℃以上となる範囲で、上記分子内に紫外線又は電子線により硬化する官能基が導入されることが好ましい。
上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の1又は2以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。1の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等を挙げることができる。2以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、多官能のウレタン(メタ)アクリレート、多官能のエポキシ(メタ)アクリレート等の多官能化合物、又は、上記多官能化合物と(メタ)アクリレート等との反応生成物(例えば、多価アルコールのポリ(メタ)アクリレートエステル)等が挙げられる。更に、上述した化合物のエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン又はイソシアヌル酸等の変性を施した化合物であってもよい。
上記熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。
上記光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類(例えば、商品名イルガキュア184、BASF社製の1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア907、BASFの2−メチル−1〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モリフォリノプロパン−1−オン)、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用してもよいし又は2種以上を併用してもよい。
また、商品名イルガキュア127(BASF社製の2−ヒドロキシ−1−{4−〔4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)ベンジル〕−フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン)や、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1や2−ジメチルアミノ−2−(4メチル−ベンジル)−1−(4−モリフォリン−4−イル−フェニル)−ブタン−1−オンも併用可能である。
更に、上記以外の市販品も使用でき、具体的には、BASF社製のイルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア819、イルガキュア500、イルガキュア754、イルガキュア250、イルガキュア1800、イルガキュア1870、イルガキュア2959、イルガキュアOXE01、DAROCUR TPO、DAROCUR1173、日本シイベルヘグナー社製のSpeedcureMBB、SpeedcurePBZ、SpeedcureITX、SpeedcureCTX、SpeedcureEDB、Esacure ONE、Esacure KIP150、Esacure KTO46、日本化薬社製のKAYACURE DETX−S、KAYACURE CTX、KAYACURE BMS、KAYACURE DMBI等が挙げられる。
また、紫外線の波長としては、190〜380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
上記光透過性基材がTAC基材であると、このような浸透性溶剤がTAC基材を膨潤、湿潤することによって、第一のハードコート層用組成物の一部がTAC基材に浸透する挙動をとり、TAC基材の界面近傍に第一のハードコート層の樹脂成分が浸透した浸透層が形成され、これらの界面を実質的に無くすことができ、干渉縞の発生の防止、及び、TAC基材と第一のハードコート層との密着性の向上を図ることができる。
好ましくは、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、ジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネート等が用いられる。
その他溶剤も、上記浸透性溶剤と混合して用いることができる。
なお、本明細書において、上記第一のハードコート層の厚み、上記浸透層の膜厚H1及び非浸透層の膜厚H2は、本発明の光学積層体の断面顕微鏡観察により測定した任意の20カ所の厚みの平均値である。
上記第二のシリカ微粒子及び第二の樹脂成分としては、上述した第一のハードコート層における第一のシリカ微粒子及び第一の樹脂成分と同様のものが挙げられ、また、上記第二のハードコート層用組成物の調製方法も上記第一のハードコート層用組成物と同様の方法が挙げられる。
上記第二のシリカ微粒子の平均粒子径は、上記第一のシリカ微粒子の平均粒子径と同じであっても、異なっていてもよい。
本発明の光学積層体において、上記第二のハードコート層は、上述した第一のハードコート層よりも硬度の高い層である。このような高硬度の第二のハードコート層を有することで、本発明の光学積層体は、耐擦傷性に優れたものとなる。
第二のシリカ微粒子の配合量のより好ましい下限は30質量%であり、より好ましい上限は50質量%である。
ここで、上記「第一の樹脂成分が海島状に分散された分散物を含有する」という状態は、上記第二のハードコート層の断面顕微鏡観察により確認することができ、具体的には、第二のハードコート層の断面において、均一に分散された状態の第二のシリカ微粒子中に、上記第一の樹脂成分が第二のシリカ微粒子が殆ど存在しない塊状で観察される。
なお、上記面積率は、TEMによる上記第二のハードコート層の断面写真から、画像解析ソフトWin Roof(三谷商事社ビジュアルシステム部)によって画像の2値化(第一の樹脂成分の存在量を面積化する)を行い、0.01μm2以上となる領域の面積を測定して得ることができる。
一方、第一の樹脂成分が、第二のハードコート層の第一のハードコート層側と反対側表面に多く存在すると、耐擦傷性が悪化することがある。
ここで、上記「第二のハードコート層の第一のハードコート層側に偏在して含有されている」とは、上記第二のハードコート層の断面顕微鏡観察により確認することができ、該第二のハードコート層の断面の厚み方向の中点を結ぶ線の第一のハードコート層と反対側(以下、上側領域ともいう)よりも第一のハードコート層側(以下、下側領域ともいう)に上記第一の樹脂成分が多く分散されていることを意味する。
より具体的には、上述した面積率を測定したときに、上記下側領域における第一の樹脂成分の面積率が、上記上側領域における第一の樹脂成分の面積率の1.5〜2.3倍であることが好ましい。
本明細書において、上記第二のハードコート層の鉛筆硬度試験による硬度は、5回ひっかき試験を行ったうち、1回の引いた長さの3分の1以上の長さに傷が発生した回をNGとし、NGが1回以下であれば合格という基準に基づいて評価した結果を意味する。つまり、5回ひっかき試験を行い、1回傷が発生した場合は「4/5」という記述になり合格となり、また、5回ひっかき試験を行い、4回傷が発生した場合は「1/5」という記述になり不合格となる。
なお、上記筒状体の直径とは、該筒状体の断面形状が円である場合、該断面形状(円)の直径を意味し、上記筒状体の断面形状が非円形である場合、該断面形状の2点間距離の最大値を意味する。
本発明の光学積層体は、上記条件で作製したサンプルが静置させた後に筒状体とならないことが好ましい。すなわち、本発明の光学積層体を用いてなる上記サンプルは、カールすることで互いに近づく対向した2辺の最短距離が0mmを超えることが好ましい。これは、上記筒状体は、上記サンプルの対向する2辺がカールして重なりあうことで形成されることとなるため、該対向する2辺の最短距離が0mmとなることで上記筒状体が形成され始める。このため、上記サンプルの対向する2辺の最短距離が0mmよりも大きいことで、上記サンプルは筒状体とならないこととなる。
本発明の光学積層体では、上記サンプルがカールを生じていないことがより好ましく、このとき、上記サンプルの2辺は100mmとなる。
本発明の光学積層体のヘイズは、1%未満であることが好ましく、0.5%未満であることがより好ましい。
上記ハードコート層及び低屈折率層を形成する方法としては、上述したとおりである。
上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材(好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム)にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
上記画像表示装置は、LCD、FED、ELD(有機EL、無機EL)、タブレットPC、電子ペーパー等の画像表示装置であってもよい。
更に、本発明は、最表面に上記光学積層体を備えてなるタッチパネルであってもよい。
上記タッチパネルとしては特に限定されず従来公知の構成からなるものが挙げられる。
このため、本発明の光学積層体は、液晶ディスプレイ(LCD)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、電子ペーパー、タッチパネル、タブレットPC等に好適に適用することができる。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(製品名「KAYARAD DPHA」、日本化薬社製、3官能) 7.0質量部
ウレタンアクリレート(製品名「UV−1700B」、日本合成化学工業社製、10官能) 3.0質量部
重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製) 0.4質量部
メチルエチルケトン 15.0質量部
なお、ハードコート層用組成物(1)中のレベリング剤の固形分質量比は0.10%であった。
ポリエステルアクリレート(製品名「アロニックスM−9050」、東亞合成社製、3官能) 7.0質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製、3官能) 3.0質量部
重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製) 0.4質量部
メチルエチルケトン 15.0質量部
なお、ハードコート層用組成物(2)中のレベリング剤の固形分質量比は0.10%であった。
(第一のハードコート層用組成物)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(製品名「KAYARAD DPHA」、日本化薬社製、3官能) 7.0質量部
ウレタンアクリレート(製品名「UV−7640B」、日本合成化学工業社製、6〜7官能) 3.0質量部
重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製) 0.4質量部
メチルエチルケトン 10.0質量部
(第二のハードコート層用組成物)
ポリエステルアクリレート(製品名「アロニックスM−9050」、東亞合成社製、3官能) 7.0質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート(製品名「ライトアクリレートTMP−A」、共栄社化学製、3官能) 3.0質量部
重合開始剤(イルガキュア184、BASFジャパン社製) 0.4質量部
メチルエチルケトン 5.0質量部
なお、ハードコート層用組成物(3)は、第一のハードコート層用組成物と第二のハードコート層用組成物とを同時塗布するための2液構成であり、該ハードコート層用組成物(3)中のレベリング剤の固形分質量比は0.10%であった。
ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製、3官能) 0.20質量部
中空シリカ微粒子分散液(微粒子、日揮触媒化社製、平均粒径55nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン分散) 0.80質量部
メチルイソブチルケトン 9.10質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 1.20質量部
反応性官能基を有する有機シリコーン(X−22−164E、信越化学社製) 0.04質量部
重合開始剤(イルガキュア127、BASFジャパン社製) 0.01質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製、3官能) 0.16質量部
中空シリカ微粒子分散液(微粒子、日揮触媒化社製、平均粒径55nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン分散) 0.80質量部
メチルイソブチルケトン 8.10質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 1.10質量部
反応性官能基を有する有機シリコーン(X−22−164E、信越化学社製)
0.03質量部
重合開始剤(イルガキュア127、BASFジャパン社製) 0.01質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製、3官能) 0.14質量部
中空シリカ微粒子分散液(微粒子、日揮触媒化社製、平均粒径55nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン分散) 0.80質量部
メチルイソブチルケトン 4.44質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 1.00質量部
反応性官能基を有する有機シリコーン(X−22−164E、信越化学社製)
0.03質量部
重合開始剤(イルガキュア127、BASFジャパン社製) 0.01質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製、3官能) 0.20質量部
中空シリカ微粒子分散液(微粒子、日揮触媒化社製、平均粒径65nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン分散) 0.80質量部
メチルイソブチルケトン 9.10質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 1.20質量部
反応性官能基を有する有機シリコーン(X−22−164E、信越化学社製)
0.04質量部
重合開始剤(イルガキュア127、BASFジャパン社製) 0.01質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製、3官能) 0.20質量部
中空シリカ微粒子分散液(微粒子、日揮触媒化社製、平均粒径60nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン分散) 0.80質量部
メチルイソブチルケトン 9.10質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 1.20質量部
反応性官能基を有する有機シリコーン(X−22−164E、信越化学社製)
0.04質量部
重合開始剤(イルガキュア127、BASFジャパン社製) 0.01質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製、3官能) 0.33質量部
中空シリカ微粒子分散液(微粒子、日揮触媒化社製、平均粒径55nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン分散) 0.80質量部
メチルイソブチルケトン 12.10質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 1.67質量部
反応性官能基を有する有機シリコーン(X−22−164E、信越化学社製)
0.05質量部
重合開始剤(イルガキュア127、BASFジャパン社製) 0.02質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製、3官能) 0.27質量部
中空シリカ微粒子分散液(微粒子、日揮触媒化社製、平均粒径55nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン分散) 0.80質量部
メチルイソブチルケトン 10.75質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 1.48質量部
反応性官能基を有する有機シリコーン(X−22−164E、信越化学社製)
0.04質量部
重合開始剤(イルガキュア127、BASFジャパン社製) 0.02質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製、3官能) 0.20質量部
中空シリカ微粒子分散液(微粒子、日揮触媒化社製、平均粒径45nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン分散) 0.80質量部
メチルイソブチルケトン 9.10質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 1.20質量部
反応性官能基を有する有機シリコーン(X−22−164E、信越化学社製)
0.04質量部
重合開始剤(イルガキュア127、BASFジャパン社製) 0.01質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製、3官能) 0.13質量部
中空シリカ微粒子分散液(微粒子、日揮触媒化社製、平均粒径55nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン分散) 0.80質量部
メチルイソブチルケトン 7.19質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 0.97質量部
反応性官能基を有する有機シリコーン(X−22−164E、信越化学社製)
0.03質量部
重合開始剤(イルガキュア127、BASFジャパン社製) 0.01質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製、3官能) 0.14質量部
中空シリカ微粒子分散液(微粒子、日揮触媒化社製、平均粒径70nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン分散) 0.80質量部
メチルイソブチルケトン 7.44質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 1.00質量部
反応性官能基を有する有機シリコーン(X−22−164E、信越化学社製)
0.03質量部
重合開始剤(イルガキュア127、BASFジャパン社製) 0.01質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製、3官能) 0.41質量部
中空シリカ微粒子分散液(微粒子、日揮触媒化社製、平均粒径55nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン分散) 0.80質量部
メチルイソブチルケトン 14.10質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 1.95質量部
反応性官能基を有する有機シリコーン(X−22−164E、信越化学社製)
0.06質量部
重合開始剤(イルガキュア127、BASFジャパン社製) 0.03質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製、3官能) 0.20質量部
中空シリカ微粒子分散液(微粒子、日揮触媒化社製、平均粒径40nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン分散) 0.80質量部メチルイソブチルケトン 9.10質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 1.20質量部
反応性官能基を有する有機シリコーン(X−22−164E、信越化学社製)
0.04質量部
重合開始剤(イルガキュア127、BASFジャパン社製) 0.01質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製、3官能) 0.20質量部
中空シリカ微粒子分散液(微粒子、日揮触媒化社製、平均粒径55nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン分散) 0.80質量部
メチルイソブチルケトン 9.10質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 1.20質量部
重合開始剤(イルガキュア127、BASFジャパン社製) 0.01質量部
光透過性基材として厚さ60μmのトリアセチルセルロース基材(富士フィルム社製、TD60UL)を用意し、該光透過性基材上にハードコート層用組成物(1)を塗布し形成した塗膜を、0.2m/sの流速で70℃の乾燥空気中で15秒間、更に、10m/sの流速で70℃の乾燥空気中で30秒間乾燥させた後、窒素雰囲気下、30mJ/cm2の条件で紫外線を照射して硬化させ、厚さ4.5μmの第一のハードコート層を形成した。
次いで、第一のハードコート層上に、ハードコート層用組成物(2)を塗布し形成した塗膜を、0.2m/sの流速で70℃の乾燥空気中で15秒間、更に、10m/sの流速で70℃の乾燥空気中で30秒間乾燥させた後、窒素雰囲気下、30mJ/cm2の条件で紫外線を照射して硬化させ、厚さ6.0μmの第二のハードコート層を形成した。
そして、第二のハードコート層上に、低屈折率層用組成物(1)を塗布し形成した塗膜を、0.2m/sの流速で70℃の乾燥空気中で15秒間、更に、10m/sの流速で70℃の乾燥空気中で30秒間乾燥させた後、窒素雰囲気下、150mJ/cm2の条件で紫外線照射して硬化させ、厚さ100nmの低屈折率層を形成し、光学積層体を製造した。
低屈折率層用組成物(1)に代えて、低屈折率層用組成物(2)〜(8)をそれぞれ用いた以外は、実施例1と同様にして実施例2〜7、参考例1に係る光学積層体を製造した。
光透過性基材として厚さ60μmのトリアセチルセルロース基材(富士フィルム社製、TD60UL)を用意し、該光透過性基材上にハードコート層用組成物(3)の第一のハードコート層用組成物と第二のハードコート層用組成物とを、第一のハードコート層用組成物が光透過性基材側となるようにして、同時に塗布し形成した塗膜を、0.2m/sの流速で70℃の乾燥空気中で15秒間、更に、10m/sの流速で70℃の乾燥空気中で30秒間乾燥させた後、窒素雰囲気下、30mJ/cm2の条件で紫外線を照射して硬化させ、厚さ10.5μmのハードコート層を形成した。
そして、形成したハードコート層上に、低屈折率層用組成物(1)を塗布し形成した塗膜を、0.2m/sの流速で70℃の乾燥空気中で15秒間、更に、10m/sの流速で70℃の乾燥空気中で30秒間乾燥させた後、窒素雰囲気下、150mJ/cm2の条件で紫外線照射して硬化させ、厚さ100nmの低屈折率層を形成し、光学積層体を製造した。
低屈折率層用組成物(1)に代えて、低屈折率層用組成物(9)〜(13)をそれぞれ用いた以外は、実施例1と同様にして比較例1〜5に係る光学積層体を製造した。
低屈折率層の厚さが70nmとなるようにした以外は、実施例1と同様にして光学積層体を製造した。
実施例、参考例及び比較例で得られた各光学積層体の裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、低屈折率層の面から、島津製作所製、分光反射率測定器「MPC3100」を用いて、5°正反射率を380〜780nmまでの波長範囲で測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフト(MPC3100内蔵)で算出される、視感反射率を示す値を反射Y値として求め、下記の基準にて反射率を評価した。
◎:1.0%未満
○:1.0〜1.5%
×:1.5%を超える
実施例、参考例及び比較例で得られた光学積層体を、クリーンルーム室内(室温25度、湿度50%)の環境内で、3900m相当分の巻取りを行った。巻取り後、同じくクリーンルーム内で、24時間経過後に、巻返して、貼り付きの状況を評価した。
○:貼り付き発生なし
×:貼り付き発生あり
実施例、参考例及び比較例で得られた各光学積層体の表面に、指紋を付着させた後、日本製紙クレシア製キムワイプ(登録商標)を、30往復させて拭き取り、拭き取り性(指紋の残り具合)を、目視にて下記の基準にて耐汚染性を評価した。
◎:10往復以下で完全に拭取れる
○:30往復以下で完全に拭取れる
×:30往復以下では拭取れない
これに対し、比較例1に係る光学積層体は、低屈折率層の最表面に接している中空状シリカ微粒子が多かったため、また、比較例2に係る光学積層体は、低屈折率層の中空シリカ微粒子の平均粒径が大きかったため、低屈折率層の表面の算術平均粗さ(Ra)が大きくなって平滑性が劣り、耐汚染性に劣っていた。
また、比較例3に係る光学積層体は、低屈折率層中におけるバインダー樹脂に対する中空状シリカ微粒子の含有量が少なかったため、また、比較例4に係る光学積層体は、中空状シリカ微粒子の平均粒径が小さかったため、低屈折率層の表面の算術平均粗さ(Ra)が小さくなり、反射防止性及び耐ブロッキング性に劣っていた。
また、比較例5に係る光学積層体は、低屈折率層に有機シリコーンを含まなかったため、耐ブロッキング性及び耐汚染性に劣っていた。
また、比較例6に係る光学積層体は、低屈折率層の厚みが薄く低屈折率層の最表面に接している中空状シリカ微粒子が多くなっていたため、低屈折率層の表面の算術平均粗さ(Ra)が大きくなって平滑性が劣り、耐汚染性に劣っていた。
11 ハードコート層
12 低屈折率層
13 中空状シリカ微粒子
Claims (8)
- 光透過性基材の上に、ハードコート層及び低屈折率層がこの順に形成された光学積層体であって、
前記低屈折率層は、中空状シリカ微粒子、バインダー成分及び有機シリコーンを含有するものであり、
前記中空状シリカ微粒子は、平均一次粒子径が45〜65nmであり、
前記低屈折率層の厚み方向の断面で任意に選択した幅1μmの領域において、前記低屈折率層の最表面に接している前記中空状シリカ微粒子の個数が10個以上20個以下であり、
前記低屈折率層は、表面のJIS B0601(1992)に規定される算術平均粗さ(Ra)が、0.7〜3.0nmであり、
前記中空状シリカ微粒子の平均粒子径が前記低屈折率層の厚みに対して55%以上100%未満であり、
前記バインダー成分100質量部に対して前記中空状シリカ微粒子の含有量が50〜120質量部である
ことを特徴とする光学積層体。 - 有機シリコーンは、分子中に反応性官能基を有する請求項1記載の光学積層体。
- 低屈折率層の表面にケン化処理を施したときの前記ケン化処理の前後における低屈折率層の表面の水の接触角の変化率が15%以下である請求項1又は2記載の光学積層体。
- ハードコート層は、光透過性基材側に設けられた第一のハードコート層と、低屈折率層側に設けられた第二のハードコート層とを有し、
前記第一のハードコート層は、該第一のハードコート層を構成する樹脂成分が前記光透過性基材中に浸透することで形成された浸透層と、前記樹脂成分を主成分とする非浸透層とを有する
請求項1、2又は3記載の光学積層体。 - 浸透層の膜厚をH1とし、非浸透層の膜厚をH2とし、第二のハードコート層の膜厚をH3としたとき、
前記非浸透層の膜厚と前記第二のハードコート層の膜厚との和(H2+H3)が4〜12μmであり、
前記浸透層の膜厚と、前記非浸透層の膜厚及び前記第二のハードコート層の膜厚の和との比(H1:H2+H3)が5:95〜45:55である
請求項4記載の光学積層体。 - 浸透層における不飽和二重結合量をU1とし、非浸透層における不飽和二重結合量をU2とし、第二のハードコート層における不飽和二重結合量をU3としたとき、
前記U1、U2及びU3が、U1>U2>U3の関係を満たす請求項4又は5記載の光学積層体。 - 偏光素子の表面に、請求項1、2、3、4、5又は6記載の光学積層体を該光学積層体における低屈折率層が存在する側の面と反対側の面に設けてなることを特徴とする偏光板。
- 最表面に請求項1、2、3、4、5若しくは6記載の光学積層体、又は、請求項7記載の偏光板を備えてなることを特徴とする画像表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015140831A JP6589425B2 (ja) | 2015-07-14 | 2015-07-14 | 光学積層体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015140831A JP6589425B2 (ja) | 2015-07-14 | 2015-07-14 | 光学積層体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017019247A JP2017019247A (ja) | 2017-01-26 |
JP6589425B2 true JP6589425B2 (ja) | 2019-10-16 |
Family
ID=57887489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015140831A Active JP6589425B2 (ja) | 2015-07-14 | 2015-07-14 | 光学積層体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6589425B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102510532B1 (ko) * | 2019-06-10 | 2023-03-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 색 변환 패널 |
JP6902591B2 (ja) * | 2019-10-30 | 2021-07-14 | 株式会社ダイセル | ハードコートフィルム |
JP7464489B2 (ja) | 2020-09-29 | 2024-04-09 | アイカ工業株式会社 | アフターキュア型成形用反射防止ハードコートフィルム |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4632403B2 (ja) * | 2004-03-26 | 2011-02-16 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止フィルム |
JP2006091859A (ja) * | 2004-08-27 | 2006-04-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止フィルム、並びにそれを用いた偏光板及び画像表示装置 |
JP5022597B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2012-09-12 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
JP4900890B2 (ja) * | 2005-02-24 | 2012-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルム、光学フィルムの作製方法、偏光板、及びそれを用いた画像表示装置 |
JP2006293334A (ja) * | 2005-03-14 | 2006-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2006293201A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム、その製造方法、偏光板及び液晶表示装置 |
JP5023561B2 (ja) * | 2006-06-06 | 2012-09-12 | 凸版印刷株式会社 | 反射防止積層体 |
JP5277539B2 (ja) * | 2006-09-29 | 2013-08-28 | 大日本印刷株式会社 | ハードコートフィルム、及びその製造方法 |
JP5048304B2 (ja) * | 2006-11-02 | 2012-10-17 | リケンテクノス株式会社 | ハードコートフィルムおよび反射防止フィルム |
JP2010254950A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-11-11 | Sony Corp | 樹脂組成物、反射防止フィルム、表示装置および反射防止フィルムの製造方法 |
-
2015
- 2015-07-14 JP JP2015140831A patent/JP6589425B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017019247A (ja) | 2017-01-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6011527B2 (ja) | 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 | |
JP6070195B2 (ja) | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置 | |
JP5983410B2 (ja) | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 | |
US7963660B2 (en) | Antiglare hard-coated film | |
JP6268692B2 (ja) | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 | |
JP6237796B2 (ja) | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 | |
JP4893840B2 (ja) | 防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置 | |
US20060132922A1 (en) | Hard-coated antiglare film and method of manufacturing the same | |
US20120189828A1 (en) | Optical layered body, polarizer and image display device | |
JP5008734B2 (ja) | 防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置 | |
JP2010085983A (ja) | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 | |
JP5076763B2 (ja) | 光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置 | |
JP2009075354A (ja) | 光学積層体、偏光板、及び、画像表示装置 | |
JP6244678B2 (ja) | タッチパネル付光学積層体、偏光板及び画像表示装置 | |
JP6589425B2 (ja) | 光学積層体 | |
JP5051088B2 (ja) | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 | |
JP2009069429A (ja) | 光学積層体、光学積層体の製造方法、偏光板及び画像表示装置 | |
JP6443069B2 (ja) | 光学積層体 | |
JP5604845B2 (ja) | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 | |
JP2010117554A (ja) | 光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置 | |
JP5120490B2 (ja) | 防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置 | |
JP6589274B2 (ja) | タッチパネル付光学積層体、偏光板、画像表示装置及びニュートンリングの発生の抑制方法 | |
JP2012177700A (ja) | 光学積層体の防汚剤ブリードアウトの抑制状態の評価方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180528 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190219 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190422 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190820 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190902 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6589425 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |