JP2010117554A - 光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents
光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】光透過性基材、及び、ハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、カルバゾール化合物、並びに、ウレタン(メタ)アクリレート及び/又は(メタ)アクリレートを含むハードコート層形成用組成物を、上記光透過性基材上に塗布してハードコート層を形成する工程を有し、上記ウレタン(メタ)アクリレート及び上記(メタ)アクリレートは、官能基数が3以上であり、上記カルバゾール化合物の含有量(A)と上記ウレタン(メタ)アクリレート及び/又は(メタ)アクリレートの含有量(B)との比(A/B)は、固形分質量比で0.5/9.5〜8/2である光学積層体の製造方法。
【選択図】 なし
Description
しかし、これらの高屈折率樹脂又は中屈折率樹脂は、耐光性、臭い、腐食性、透明性や環境負荷の観点からみて優れたものではなかった。
上記カルバゾール化合物は、一般式(A)
X:−CH=CH2、−(CH2)nOCOCH=CH2、
−C(CH3)=CH2、−(CH2)nOCOC(CH3)=CH2、
−(C2H4O)m(CH2)nOCOC(CH2)n=CH2であり;
Y、y、Z又はz:−H、−CH3、−(CH2)nCH3、−OH、−NH3又は上記Xであり;mは1〜10の整数であり、nは1〜10の整数である)で表されるモノマー化合物であることが好ましい。
上記(メタ)アクリレートは、重量平均分子量が200以上1000未満であることが好ましい。
上記光学積層体の製造方法は、更に、低屈折率層を形成する工程を有することが好ましい。
本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下に、本発明を詳細に説明する。
X:−CH=CH2、−(CH2)nOCOCH=CH2、
−(CH3)=CH2、−(CH2)nOCOC(CH3)=CH2、
−(C2H4O)m(CH2)nOCOC(CH2)n=CH2であり、;
Y、y、Z又はz:−H、−CH3、−(CH2)nCH3、−OH、−NH3又は上記のXであり;mは1〜10の整数であり、nは1〜10の整数である)で表されるモノマー化合物であることが好ましい。
このような化合物を使用することにより所望の高い屈折率を付与することができる。また、ウレタン(メタ)アクリレート、(メタ)アクリレート等にも溶解することができる。また耐食性、耐光性、密着性、硬度にも優れた層を形成することができる。
上記ウレタン(メタ)アクリレートは、多価アルコールと有機ポリイソシアネートとヒドロキシ(メタ)アクリレート化合物との反応によって得られる。なお、本明細書では、(メタ)アクリレートは、アクリレート又はメタクリレートを表す。
なかでも、好ましくは、UV1700B(日本合成社製)、DPHA40H(日本化薬社製)、アートレジンHDP(根上工業社製)、ビームセット371(荒川化学社製)、ビームセット577(荒川化学社製)U15HA(新中村化学社製)等が挙げられる。
上記官能基数が3以上の(メタ)アクリレートの具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、イソシアヌル酸変性トリアクリレート等が挙げられる。また、これらアクリレートは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
上記光重合開始剤としては、アセトフェノン類(例えば、商品名イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製として市販されている1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、他にも、イルガキュア127、LAMBERTI社製のESACURE ONE、ESACURE KIP150)、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は2種以上を併用してもよい。
上記光重合開始剤の含有量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分100質量部に対して、0.1〜10質量部であることが好ましい。
上記低屈折率層は、上記ハードコート層の表面に形成されてなり、その屈折率がハードコート層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、上記ハードコート層の屈折率が1.5以上であり、低屈折率層の屈折率が1.5未満であり、好ましくは1.45以下で構成されてなるものが好ましい。
dA=mλ/(4nA) (I)
(上記式中、
nAは低屈折率層の屈折率を表し、
mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、
λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)
を満たすものが好ましい。
120<nAdA<145 (II)
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
上記光学積層体の一態様について、図を用いて説明する。図1は、上から順に低屈折率層1、ハードコート層2、光透過性基材3を備えてなる光学積層体を示す。本発明の光学積層体は、このような態様の他に、目的に応じて任意の層からなるものであってもよく、また、上述した態様に限定されないものである。
下記に示す組成を混合してハードコート層形成用組成物1を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B;日本合成社製、10官能、重量平均分子量2000) 4質量部
N−ビニルカルバゾール(日本触媒社製) 2質量部
イソシアヌル酸変性トリアクリレート(アロニックスM315;東亞合成社製、3官能、分子量423) 4質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合してハードコート層形成用組成物2を調製した。
ウレタンアクリレート(前出) 2.5質量部
N−ビニルカルバゾール(前出) 5質量部
イソシアヌル酸変性トリアクリレート(前出) 2.5質量部
重合開始剤(前出) 0.4質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合してハードコート層形成用組成物3を調製した。
ウレタンアクリレート(前出) 4.5質量部
N−ビニルカルバゾール(前出) 1質量部
イソシアヌル酸変性トリアクリレート(前出) 4.5質量部
重合開始剤(前出) 0.4質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合してハードコート層形成用組成物4を調製した。
ウレタンアクリレート(前出) 4質量部
ポリビニルカルバゾール(分子量5万) 2質量部
イソシアヌル酸変性トリアクリレート(前出) 4質量部
重合開始剤(前出) 0.4質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合してハードコート層形成用組成物5を調製した。
N−ビニルカルバゾール(前出) 10質量部
重合開始剤(前出) 0.4質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合してハードコート層形成用組成物6を調製した。
ウレタンアクリレート(前出) 0.5質量部
N−ビニルカルバゾール(前出) 9質量部
イソシアヌル酸変性トリアクリレート(前出) 0.5質量部
重合開始剤(前出) 0.4質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合してハードコート層形成用組成物7を調製した。
ウレタンアクリレート(前出) 4.99質量部
N−ビニルカルバゾール(前出) 0.01質量部
イソシアヌル酸変性トリアクリレート(前出) 5質量部
重合開始剤(前出) 0.4質量部
メチルエチルケトン 10質量部
下記に示す組成を混合してハードコート層形成用組成物8を調製した。
イソシアヌル酸変性ジアクリレート(M215;東亞合成社製、2官能、重量平均分子量333) 5質量部
N−ビニルカルバゾール(前出) 5質量部
重合開始剤(前出) 0.4質量部
メチルエチルケトン 10質量部
低屈折率層形成用組成物として、下記に示す成分を混合して調製した。
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20重量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 14.3質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.95質量部
重合開始剤(イルガキュア127;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
変性シリコーンオイル(X22164E;信越化学工業社製) 0.15質量部
メチルイソブチルケトン 83.5質量部
トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(富士写真フィルム製、TF80UL、厚さ80ミクロン)を用意し、このフィルムの表面に上記ハードコート層形成用組成物1を、湿潤重量20g/m2(乾燥重量10g/m2)で塗布(バーコーティング)し、次いで、50℃にて乾燥することにより溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン社製)を用いて、照射線量50mJ/cm2で紫外線照射を行うことにより、組成物を硬化させて、ハードコート層を形成させた。次に、ハードコート層の表面に、上記低屈折率層用組成物を乾燥重量0.1g/m2で塗布(バーコーティング)し、次いで、40℃にて乾燥することにより溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン社製)を用いて、照射線量200mJ/cm2で紫外線照射を行い、光学積層体を製造した。膜厚は、反射率の極小値が波長550nm付近(膜厚0.10μm)になるように形成させた。
実施例1において、ハードコート層形成用組成物1の代わりに、上記ハードコート層形成用組成物2又は3を使用した以外は、実施例1と同様にして、それぞれ実施例2及び3の光学積層体を得た。
実施例1において、ハードコート層形成用組成物1の代わりに、上記ハードコート層形成用組成物4〜8を使用した以外は、実施例1と同様にして、それぞれ比較例1〜5の光学積層体を得た。
低屈折率層の表面を、#0000番のスチールウールを用いて、所定の摩擦荷重(300g/cm2)で10往復摩擦し、その後の塗膜の剥がれの有無を目視し下記の基準にて評価した。
評価基準
評価 ○;傷なし(塗膜の剥がれが全くなかった)
評価 ×;傷あり(塗膜の剥がれがあった)
光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視しで観察し、下記評価基準にて評価した。
評価基準
評価○;干渉縞の発生はなかった。
評価×;干渉縞の発生があった。
反射Y値は、島津製作所製 MPC3100分光光度計にて、5°正反射率を380〜780nmまでの波長範囲で測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフト(MPC3100内蔵)で算出される、視感反射率を示す値である。なお、5°正反射率を測定する場合には、光学積層体であるフィルムの裏面反射を防止するため、測定膜面とは逆側に、黒テープ(寺岡製)を貼った。
2 ハードコート層
3 光透過性基材
Claims (8)
- 光透過性基材、及び、ハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、
カルバゾール化合物、並びに、ウレタン(メタ)アクリレート及び/又は(メタ)アクリレートを含むハードコート層形成用組成物を、前記光透過性基材上に塗布してハードコート層を形成する工程を有し、
前記ウレタン(メタ)アクリレート及び前記(メタ)アクリレートは、官能基数が3以上であり、
前記カルバゾール化合物の含有量(A)と前記ウレタン(メタ)アクリレート及び/又は(メタ)アクリレートの含有量(B)との比(A/B)は、固形分質量比で0.5/9.5〜8/2である
ことを特徴とする光学積層体の製造方法。 - ウレタン(メタ)アクリレートは、重量平均分子量が1000〜10万である請求項1又は2記載の光学積層体の製造方法。
- (メタ)アクリレートは、重量平均分子量が200以上1000未満である請求項1、2又は3記載の光学積層体の製造方法。
- 更に、低屈折率層を形成する工程を有する請求項1、2、3又は4記載の光学積層体の製造方法。
- 請求項1、2、3、4又は5記載の光学積層体の製造方法により得られることを特徴とする光学積層体。
- 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光板は、偏光素子表面に請求項6記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。 - 最表面に、請求項6記載の光学積層体、又は、請求項7記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
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