KR20160037089A - 반사 방지 필름, 표시 장치 및 표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법 - Google Patents

반사 방지 필름, 표시 장치 및 표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20160037089A
KR20160037089A KR1020150133546A KR20150133546A KR20160037089A KR 20160037089 A KR20160037089 A KR 20160037089A KR 1020150133546 A KR1020150133546 A KR 1020150133546A KR 20150133546 A KR20150133546 A KR 20150133546A KR 20160037089 A KR20160037089 A KR 20160037089A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
refractive index
index layer
antireflection film
high refractive
low refractive
Prior art date
Application number
KR1020150133546A
Other languages
English (en)
Inventor
도모히코 시마츠
세이지 시노하라
히로시 나카무라
Original Assignee
다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 filed Critical 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
Publication of KR20160037089A publication Critical patent/KR20160037089A/ko
Priority to KR1020230062850A priority Critical patent/KR102569304B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
    • G02B5/286—Interference filters comprising deposited thin solid films having four or fewer layers, e.g. for achieving a colour effect

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

본 발명은, 초고정밀 표시 소자를 사용했을 경우에 있어서, 표시 장치 표면의 반사를 억제하여 초고정밀 표시 소자의 화상 품질이 손상되는 것을 방지하면서 백화를 억제할 수 있는 반사 방지 필름을 제공한다.
투명 기재 상에 고굴절률층 및 저굴절률층을 갖는 반사 방지 필름이며, 하기 조건에 의하여 측정되는 확산 광선 반사율(RSCE)이 0.12％ 이하인, 전체 광선 반사율(RSCI)이 4.0％ 이상인 표시 소자용 반사 방지 필름.
(확산 광선 반사율 및 전체 광선 반사율의 측정)
반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 확산 광선 반사율(RSCE)을 측정함.

Description

반사 방지 필름, 표시 장치 및 표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법 {ANTI REFLECTION FILM, DISPLAY DEVICE, METHOD FOR SELECTING ANTI REFLECTION FILM FOR DISPLAY DEVICE}
본 발명은 반사 방지 필름, 표시 장치 및 표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법에 관한 것이다.
최근 들어, 지상 디지털 방송으로의 이행 등에 수반하여, 초고정밀 화상 표시가 가능한 표시 장치의 개발이 진행되고 있다. 이러한 초고정밀 표시 장치의 화상 품질을 손상시키지 않기 위하여, 표시 장치의 표면에는 외광의 투영을 방지하는 성능이 요구된다.
외광의 투영을 방지하는 수단으로서는, 주로 표면을 요철로 하여 정반사광을 저감시키는 안티글레어 처리와, 다층 박막의 간섭 작용에 의하여 반사율을 저감시키는 반사 방지 처리를 들 수 있다. 최근에는, 영상의 고급감을 내기 쉬운 반사 방지 처리가 주류로 되고 있다.
다층 박막은 박막을 중첩시키면 중첩시킬수록 반사율을 저감시킬 수 있지만, 비용 대 효과의 관점에서 코팅에 의한 2층 내지 3층 구조의 것이 많다. 이러한 반사 방지 필름으로서는, 예를 들어 특허문헌 1의 것을 들 수 있다.
또한 최근 들어, 2층 내지 3층 구조의 반사 방지 필름에서도, 초고정밀 표시 장치 화상 품질을 손상시키지 않기 위하여 반사율 0.5％ 이하의 초저반사율 제품이 요구되고 있다.
그러나 초저반사율의 반사 방지 필름은, 범용적으로 행해지고 있는, 이면을 흑색화 처리했을 때의 반사 방지 평가에서는 양호한 시인성을 나타내기는 하지만, 초고정밀 표시 장치에 내장했을 경우에 백화를 발생시키는 경우가 있었다. 이 백화는, 광학 필름의 분야에서 범용적인 평가인 헤이즈로는 검지할 수 없었다. 바꾸어 말하면 상기 백화는 백색의 레벨로서는 낮아, 통상의 사용 환경에서는 인간이 인식하기 어려울 정도의 백색이다. 그러나 초고정밀 표시 장치에 초저반사율의 반사 방지 필름을 내장했을 때, 주의 깊게 관찰함으로써 백색이 인식되는 경우가 있었다.
일본 특허 공개 제2010-152311호 공보
본 발명은, 초고정밀 표시 소자를 사용했을 경우에 있어서, 표시 장치 표면의 반사를 억제하면서 백화를 억제하여 초고정밀 표시 소자의 화상 품질이 손상되는 것을 방지할 수 있는 반사 방지 필름 및 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한 본 발명은, 초고정밀 표시 소자를 사용한 표시 장치의 표면 반사를 억제하면서 백화를 억제하여 초고정밀 표시 소자의 화상 품질이 손상되는 일이 없는 반사 방지 필름을 효율적으로 선택하는 반사 방지 필름의 선택 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하도록 예의 연구하여, 먼저, 최근의 초고정밀화된 표시 장치는, (1) 표시 소자를 구성하는 투명 전극의 밀도를 증가시키고 있어 표시 소자의 반사율이 증가하고, (2) 초저반사율화된 반사 방지 필름은, 헤이즈로는 검지할 수 없는 광 확산이 발생하고, (3) 반사 방지 필름이 초저반사인 경우, 확산에 의한 백화가 두드러지기 쉽다고 하는 지견을 얻었다.
그리고 본 발명자들은 더욱 예의 연구한 결과, 표시 소자의 반사율 증가에 의하여, 표시 장치에 입사된 외광 중 반사광으로 되어 시인자측으로 돌아오는 비율이 증가하고, 증가한 반사광이, 광 확산을 발생시키는 반사 방지 필름을 재통과함으로써 광 확산의 정도가 커져 백화의 문제가 발생하는 것을 알아내어, 상기 과제를 해결하기에 이르렀다.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 이하의 [1] 내지 [9]의 반사 방지 필름, 표시 장치 및 표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법을 제공한다.
[1] 투명 기재 상에 고굴절률층 및 저굴절률층을 갖는 반사 방지 필름이며, 하기 조건에 의하여 측정되는 확산 광선 반사율(RSCE)이 0.12％ 이하인, 전체 광선 반사율(RSCI)이 4.0％ 이상인 표시 소자용 반사 방지 필름.
(확산 광선 반사율의 측정)
반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 확산 광선 반사율(RSCE)을 측정함.
[2] 전체 광선 반사율(RSCI)이 4.0％ 이상인 표시 소자 상에 반사 방지 필름을 갖고 이루어지고, 상기 반사 방지 필름은 투명 기재 상에 고굴절률층 및 저굴절률층을 가지며, 또한 상기 반사 방지 필름은, 하기 조건에 의하여 측정되는 확산 광선 반사율(RSCE)이 0.12％ 이하인 표시 장치.
(확산 광선 반사율의 측정)
반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 확산 광선 반사율(RSCE)을 측정함.
[3] 상기 반사 방지 필름은, 상기 확산 광선 반사율(RSCE)과, 하기 조건에 의하여 측정되는 전체 광선 반사율(RSCI)의 비[RSCE/RSCI]가 0.32 이하인, 상기 [2]에 기재된 표시 장치.
(전체 광선 반사율의 측정)
반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 전체 광선 반사율(RSCI)을 측정함.
[4] 상기 반사 방지 필름은, 하기 조건에 의하여 측정되는 반사율 Y값이 0.5％ 이하인, 상기 [2] 또는 [3]에 기재된 표시 장치.
(반사 방지 필름의 반사율 Y값의 측정)
반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 반사율 Y값을 측정함.
[5] 상기 고굴절률층이 고굴절률 입자를 함유하여 이루어지는, 상기 [2] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 표시 장치.
[6] 상기 저굴절률층이 저굴절률 입자를 함유하여 이루어지는, 상기 [2] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 표시 장치.
[7] 상기 표시 소자의 화소 수가 3840×2160 픽셀 이상인, 상기 [2] 내지 [6] 중 어느 하나에 기재된 표시 장치.
[8] 상기 표시 소자 상에 터치 패널을 갖고, 상기 터치 패널 상에 상기 반사 방지 필름을 갖는, 상기 [2] 내지 [7] 중 어느 하나에 기재된 표시 장치.
[9] 전체 광선 반사율(RSCI)이 4.0％ 이상인 표시 소자를 갖는 표시 장치의 반사 방지 필름으로서, 투명 기재 상에 고굴절률층 및 저굴절률층을 갖고 이루어지고, 하기 조건에 의하여 측정되는 확산 광선 반사율(RSCE)이 0.12％ 이하인 반사 방지 필름을 선택하는, 표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법.
(확산 광선 반사율의 측정)
반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 확산 광선 반사율(RSCE)을 측정함.
본 발명의 반사 방지 필름 및 표시 장치는, 표시 장치 표면의 반사를 억제하면서 반사율이 높은 초고정밀 표시 소자의 반사광에 기인하는 백화를 억제하여 초고정밀 표시 소자의 화상 품질이 손상되는 것을 방지할 수 있다.
또한 본 발명의 표시 장치 반사 방지 필름의 선택 방법은, 초고정밀 표시 소자를 사용한 표시 장치의 표면 반사를 억제하면서 백화를 억제하여 초고정밀 표시 소자의 화상 품질이 손상되는 일이 없는 반사 방지 필름을 효율적으로 선택할 수 있다.
도 1은 본 발명의 표시 장치의 일 실시예를 도시하는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 표시 장치의 다른 실시예를 도시하는 단면도이다.
[표시 장치]
본 발명의 표시 장치는, 전체 광선 반사율(RSCI)이 4.0％ 이상인 표시 소자 상에 반사 방지 필름을 갖고 이루어지고, 상기 반사 방지 필름은 투명 기재 상에 고굴절률층 및 저굴절률층을 가지며, 또한 상기 반사 방지 필름은, 하기 조건에 의하여 측정되는 확산 광선 반사율(RSCE)이 0.12％ 이하인 것이다.
(확산 광선 반사율의 측정)
반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 확산 광선 반사율(RSCE)을 측정한다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 표시 장치(10)의 실시 형태를 도시하는 단면도이다. 도 1 및 도 2의 표시 장치(10)는 모두 표시 소자(1) 상에, 투명 기재(21) 상에 하드 코트층(22), 고굴절률층(23) 및 저굴절률층(24)를 갖는 반사 방지 필름(2)이 배치되어 있다. 또한 도 2의 표시 장치(10)는 표시 소자(1)와 반사 방지 필름(2) 사이에 터치 패널(3)이 배치되어 있다.
또한 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이 반사 방지 필름(2)은, 투명 기재(21)측의 면이 액정 표시 소자(1)측을 향하도록 하여 표시 소자(1) 상에 설치한다. 또한 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이 반사 방지 필름(2)은 표시 장치(10)의 최표면에서 사용하는 것이 바람직하다.
<표시 소자>
본 발명의 표시 장치를 구성하는 표시 소자로서는 액정 표시 소자, 플라즈마 표시 소자, 유기 EL 표시 소자 등을 들 수 있다. 이들 표시 소자는, 표시 소자를 구동하기 위한 패터닝된 투명 전극을 갖고 있다. 상기 투명 전극은 ITO 등의 반사율이 높은 재료로 형성되어 있고, 또한 표시 소자의 초고정밀화에 수반하여 상기 투명 전극의 밀도가 증가하고 있으므로, 표시 소자의 반사율도 높아지게 되었다. 본 발명에서는, 표시 소자로서, 전체 광선 반사율(RSCI)이 4.0％ 이상인 것을 사용한다. 표시 소자의 전체 광선 반사율(RSCI)의 상한은 15.0％ 정도이다.
표시 소자의 구체적인 구성은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어 액정 표시 소자의 경우, 하부 유리 기판, 하부 투명 전극, 액정층, 상부 투명 전극, 컬러 필터 및 상부 유리 기판을 순서대로 갖는 기본 구성을 포함하고, 초고정밀 액정 표시 소자에서는, 상기 하부 투명 전극 및 상부 투명 전극이 고밀도로 패터닝되어 있다.
전체 광선 반사율(RSCI)은, 적분구를 사용하여 표시 소자 표면에 모든 방향으로부터 광을 부여하고, 라이트 트랩을 폐쇄하여 정반사 방향을 포함하는 모든 반사광을 측정하고, 상기 측정값으로부터 산출되는 반사율이다. 한편, 후술하는 확산 광선 반사율(RSCE)은, 적분구를 사용하여 샘플 표면에 모든 방향으로부터 광을 부여하고, 정반사 방향에 상당하는 라이트 트랩을 개방하여 라이트 트랩으로부터 빠져나오는 반사광 이외의 반사광을 측정하고, 상기 측정값으로부터 산출되는 반사율이다. 대표적인 RSCE 및 RSCI의 측정 장치는, 수광기의 위치는 샘플의 법선에 대하여 +8°이고, 수광기의 개구각은 10°이며, 라이트 트랩의 위치는 샘플의 법선에 대하여 -8°이고, 라이트 트랩의 커버 범위는 10°이다. 이러한 수광기로서는, 코니카 미놀타 가부시키가이샤 제조의 상품명 CM-2002를 들 수 있다. 표시 소자의 RSCI는 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.
표시 소자는 화소 수가 3840×2160 픽셀 이상인, 소위 4K 해상도 이상의 해상도를 갖는 것이 바람직하다. 4K 해상도 이상의 초고정밀 표시 소자는, 표시 소자를 구성하는 투명 전극의 밀도가 높기 때문에 반사율이 높아져, 반사광을 원인으로 하는 반사 방지 필름의 백화가 발생하기 쉽다. 또한 이러한 초고정밀 표시 소자는 1픽셀당 광량이 적으므로, 백화에 의한 영향을 받기 쉽다. 이 때문에, 4K 해상도 이상의 해상도를 갖는 표시 소자는 본 발명의 효과를 발휘하기 쉬운 점에서 적합하다.
또한 4K 해상도 이상의 표시 소자로서는, 화소 수가 3840×2160 픽셀인 것, 화소 수가 4096×2160 픽셀인 것 등을 들 수 있다. 4K 해상도 이상의 표시 소자의 화면 크기는 통상, 대각 40 내지 85인치 정도이다.
또한 화소 수가 3840×2160 픽셀 미만이어도, 화소 밀도가 250ppi 이상인 표시 소자는 본 발명의 효과를 발휘하기 쉬운 점에서 적합하다.
전체 광선 반사율(RSCI)이 4.0％ 이상인 표시 소자 상에 통상의 초저반사율의 반사 방지 필름을 설치했을 때 백화를 발생시키는 이유는 이하와 같이 생각된다.
먼저, 2층 구조 내지는 3층 구조의 다층 박막을 포함하는 반사 방지 필름은, 저굴절률층의 굴절률을 낮게 하면서 고굴절률층의 굴절률을 높게 함으로써 반사율을 저하시킬 수 있는 경향이 있다. 고굴절률층의 굴절률을 높게 하기 위해서는, 고굴절률층에 고굴절 입자를 다량으로 함유시키는 것이 유효하다. 고굴절률 입자는, 고굴절률층 내에서 응집하지 않고 분산되어 작은 평균 입자 직경을 유지하고 있으면, 상기 입자에 의한 광 확산은 확산 분포의 자락이 넓어지지 않기 때문에 백화가 억제된다. 그러나 최근에는, 대전 방지성을 부여하기 위하여 고굴절률 입자로서 도전성 입자를 사용하는 경우가 있으며, 그 경우, 도전성 입자를 응집시켜 네트워크화한 편이 대전 방지성을 발현시키기 쉽기 때문에, 과도한 분산을 행하지 않는 경우가 있다. 또한 애초에 고굴절률 입자를 다량으로 사용했을 경우, 균일한 분산은 어려워져 고굴절률 입자는 응집하는 경향이 있다. 그리고 응집 입자의 입자 직경이 증가하면 증가할수록, 응집 입자에 의한 확산 광은 확산 분포의 자락이 넓어진다. 한편, 초저반사의 반사 방지 필름의 표면 반사율 Y값은 낮기 때문에, 응집 입자에 의하여 확산된 확산 분포의 자락이 두드러져 백화가 인식되게 된다. 특히 표시 소자의 전체 광선 반사율(RSCI)이 4.0％ 이상이고 표시 소자로부터의 반사광이 많아지는 경우에, 응집 입자의 광 확산에 의한 백화의 문제가 현저해진다.
<반사 방지 필름>
본 발명의 표시 장치를 구성하는 반사 방지 필름은, 투명 기재 상에 고굴절률층 및 저굴절률층을 갖고 이루어지는 것이다. 고굴절률층 및 저굴절률층은 다층 박막의 광학 간섭 기능에 의하여 반사 방지 기능을 부여하는 역할을 갖는다. 반사 방지 필름은, 중굴절률층을 더 형성하거나 하여 3층 이상의 다층 박막의 광학 간섭 기능에 의한 반사 방지 기능을 부여해도 되지만, 비용 대 효과의 관점에서 다층 박막은 고굴절률층 및 저굴절률층의 2층 구조인 것이 바람직하다.
또한 본 발명의 표시 장치를 구성하는 반사 방지 필름은, 하기 조건에 의하여 측정되는 확산 광선 반사율(RSCE)이 0.12％ 이하인 것을 사용한다.
(확산 광선 반사율 및 전체 광선 반사율의 측정)
반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 확산 광선 반사율(RSCE)을 측정한다.
투명 점착제의 굴절률은, 투명 기재 및 흑색 판의 굴절률과의 굴절률 차가 0.05 이내인 것을 사용한다. 또한 상기 굴절률의 적합한 조건은, 후술하는 RSCI 및 Y값의 측정에 있어서도 마찬가지이다.
반사 방지 필름의 확산 광선 반사율(RSCE), 전체 광선 반사율(RSCI) 및 반사율 Y값은, 보다 상세하게는 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.
전체 광선 반사율(RSCI)이 정반사 방향을 포함하는 모든 반사광으로부터 산출되는 반사율인 것에 비하여, 확산 광선 반사율(RSCE)은 정반사 방향의 반사광을 제외한 반사광으로부터 산출되는 반사율이다. 반사 방지 필름은 표면이 대략 평활하여, 정반사광에 비하여 확산 반사광의 비율은 작다. 이 때문에, 전체 반사광으로부터 정반사광을 제외한 RSCE는, 지극히 적은 성분인 확산 반사광을 나타내는 데 적합한 파라미터라고 할 수 있다.
전체 광선 반사율(RSCI)이 높은 표시 소자 상에 RSCE가 0.12％를 초과하는 반사 방지 필름을 설치하면, 표시 소자에서 반사된 반사광이 반사 방지 필름을 재통과할 때 반사 방지 필름 내의 확산 성분에 의하여 확산되어 백화로서 인식되어 버린다. 특히 초저반사의 반사 방지 필름의 표면 반사율 Y값은 낮기 때문에, 반사 방지 필름 내에서 확산된 확산 광이 두드러져 백화가 인식되게 된다.
RSCE는 0.11％ 이하인 것이 바람직하다. 또한 RSCE의 하한은 특별히 한정되지 않지만 0.05％ 정도이다.
반사 방지 필름은, RSCE와, 하기 조건에 의하여 측정되는 전체 광선 반사율(RSCI)의 비[RSCE/RSCI]가 0.32 이하인 것이 바람직하고, 0.30 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.25 이하인 것이 더욱 바람직하다.
(전체 광선 반사율의 측정)
반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 전체 광선 반사율(RSCI)을 측정한다.
반사 방지 필름의 RSCE/RSCI가 0.32 이하인 것은, 정반사광보다도 확산 반사광의 비율이 적은 것을 의미한다. 이 때문에, RSCE가 본 발명의 조건을 만족시키면서 RSCE/RSCI를 0.32 이하로 함으로써, 확산 반사광을 보다 두드러지기 어렵게 할 수 있다(백화를 보다 인식하기 어렵게 할 수 있음). 또한 정반사광을 필요 이상으로 증가시키지 않는 관점에서 RSCE/RSCI는 0.10 이상인 것이 바람직하다.
또한 본 발명에서는, 반사 방지 필름의 RSCE/(RSCI-RSCE)가 0.50 이하인 것이 바람직하고, 0.40 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.30 이하인 것이 더욱 바람직하다.
RSCE/(RSCI-RSCE)가 0.50 이하인 것은, 정반사광보다도 확산 반사광의 비율이 적은 것을 의미한다. 이 때문에, RSCE가 본 발명의 조건을 만족시키면서 RSCE/(RSCI-RSCE)를 0.50 이하로 함으로써, 확산 반사광을 보다 두드러지기 어렵게 할 수 있다(백화를 보다 인식하기 어렵게 할 수 있음). 또한 정반사광을 필요 이상으로 증가시키지 않는 관점에서 RSCE/(RSCI-RSCE)는 0.10 이상인 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서 반사 방지 필름의 RSCI의 값은 특별히 제한되지 않지만, 정반사광을 필요 이상으로 증가시키지 않는 관점에서 RSCI는 0.80％ 이하인 것이 바람직하고, 0.75％ 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.70％ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
반사 방지 필름은 초저반사율의 것이 바람직하고, 구체적으로는 반사율 Y값이 0.50％ 이하의 것이 바람직하며, 0.45％ 이하의 것이 보다 바람직하다. 또한 반사 방지 필름의 반사율 Y값이란, CIE 1931 표준 표색계의 Y값을 말하며, 이하의 방법에 의하여 측정할 수 있다.
(반사 방지 필름의 반사율 Y값의 측정)
반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 반사율 Y값을 측정한다.
반사 방지 필름은, 전체 광선 투과율(JIS K7361-1: 1997)이 90％ 이상인 것이 바람직하고, 92％ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한 본 발명의 반사 방지 필름은, 헤이즈(JIS K7136: 2000)가 1.0％ 이하인 것이 바람직하고, 0.5％ 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.3％ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
전체 광선 투과율 및 헤이즈를 측정할 때의 광 입사면은 투명 기재측이다.
반사 방지 필름의 표면(저굴절률층측의 표면)의 산술 평균 조도 Ra(JIS B0601: 1994)는 10㎚ 이하인 것이 바람직하고, 1 내지 8㎚인 것이 보다 바람직하다. 또한 반사 방지 필름의 표면(저굴절률층측의 표면)의 10점 평균 조도 Rz(JIS B0601: 1994)는 160㎚ 이하인 것이 바람직하고, 50 내지 155㎚인 것이 보다 바람직하다.
Ra, Rz가 상기 범위이면 평활성을 갖고 내찰상성이 향상된다.
(투명 기재)
반사 방지 필름의 투명 기재는, 일반적으로 반사 방지 필름의 기재로서 사용되는 투명한 것이면 특별히 한정되지 않지만, 재료비, 생산성 등의 관점에서, 바람직하게는 플라스틱 필름, 플라스틱 시트 등을 용도에 따라 적절히 선택할 수 있다.
플라스틱 필름 또는 플라스틱 시트로서는, 각종 합성 수지를 포함하는 것을 들 수 있다. 합성 수지로서는, 트리아세틸셀룰로오스 수지(TAC), 디아세틸셀룰로오스, 아세테이트부틸레이트셀룰로스, 셀로판 등의 셀룰로오스 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트-이소프탈레이트 공중합 수지, 폴리에스테르계 열가소성 엘라스토머 등의 폴리에스테르 수지; 저밀도 폴리에틸렌 수지(선상 저밀도 폴리에틸렌 수지를 포함함), 중밀도 폴리에틸렌 수지, 고밀도 폴리에틸렌 수지, 에틸렌α올레핀 공중합체, 폴리프로필렌 수지, 폴리메틸펜텐 수지, 폴리부텐 수지, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 프로필렌-부텐 공중합체, 올레핀계 열가소성 엘라스토머 또는 이들의 혼합물 등의 폴리올레핀 수지; 폴리(메트)아크릴산 메틸 수지, 폴리(메트)아크릴산에틸 수지, 폴리(메트)아크릴산 부틸 수지 등의 아크릴 수지; 나일론 6 또는 나일론 66 등으로 대표되는 폴리아미드 수지; 폴리스티렌 수지; 폴리카르보네이트 수지; 폴리아릴레이트 수지; 또는 폴리이미드 수지 등을 바람직하게 들 수 있다.
투명 기재로서는, 상술한 플라스틱 필름, 플라스틱 시트 중에서 단독으로, 또는 2종 이상을 선택하여 혼합물로서 사용할 수 있지만, 유연성, 강인성, 투명성 등의 관점에서 셀룰로오스 수지, 폴리에스테르 수지가 보다 바람직하고, 더욱 바람직하게는 트리아세틸셀룰로오스 수지(TAC), 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지이다.
투명 기재의 두께에 대해서는 특별히 제한은 없지만 용도에 따라 적절히 선택되는데, 통상 5 내지 130㎛이며, 내구성이나 핸들링성 등을 고려하면 10 내지 100㎛가 바람직하다.
(하드 코트층)
투명 기재와 고굴절률층 사이에는, 반사 방지 필름의 내찰상성을 향상시킬 목적으로 하드 코트층을 갖는 것이 바람직하다. 여기서 하드 코트란, JIS K5600-5-4:1999에서 규정되는 연필 경도 시험에서 「H」 이상의 경도를 나타내는 것을 말한다.
하드 코트층은, 열경화성 수지 조성물 또는 전리 방사선 경화성 수지 조성물 등의 경화성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 것이 바람직하고, 내찰상성을 보다좋게 하는 관점에서 전리 방사선 경화성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 것이 보다 바람직하다.
열경화성 수지 조성물은 적어도 열경화성 수지를 포함하는 조성물이며, 가열에 의하여 경화되는 수지 조성물이다.
열경화성 수지로서는 아크릴 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지, 요소멜라민 수지, 에폭시 수지, 불포화폴리에스테르 수지, 실리콘 수지 등을 들 수 있다. 열경화성 수지 조성물에는, 이들 경화성 수지에 필요에 따라 경화제가 첨가된다.
전리 방사선 경화성 수지 조성물은, 전리 방사선 경화성 관능기를 갖는 화합물(이하, 「전리 방사선 경화성 화합물」이라고도 함)을 포함하는 조성물이다. 전리 방사선 경화성 관능기로서는, (메트)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기 등의 에틸렌성 불포화 결합기 및 에폭시기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 전리 방사선 경화성 화합물로서는, 에틸렌성 불포화 결합기를 갖는 화합물이 바람직하고, 에틸렌성 불포화 결합기를 2개 이상 갖는 화합물이 보다 바람직하며, 그 중에서도 에틸렌성 불포화 결합기를 2개 이상 갖는 다관능성 (메트)아크릴레이트계 화합물이 더욱 바람직하다. 다관능성 (메트)아크릴레이트계 화합물로서는 단량체 및 올리고머의 어느 것도 사용할 수 있다.
또한 전리 방사선이란, 전자파 또는 하전 입자선 중, 분자를 중합 또는 가교할 수 있는 에너지 양자를 갖는 것을 의미하며, 통상, 자외선(UV) 또는 전자선(EB)이 사용되지만, 그 외에 X선, γ선 등의 전자파, α선, 이온선 등의 하전 입자선도 사용 가능하다.
다관능성 (메트)아크릴레이트계 화합물 중, 2관능 (메트)아크릴레이트계 단량체로서는 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 비스페놀A테트라에톡시디아크릴레이트, 비스페놀A테트라프로폭시디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트 등을 들 수 있다.
3관능 이상의 (메트)아크릴레이트계 단량체로서는, 예를 들어 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 이소시아누르산 변성 트리(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
또한 상기 (메트)아크릴레이트계 단량체는 분자 골격의 일부를 변성한 것이어도 되고, 에틸렌옥시드, 프로필렌옥시드, 카프로락톤, 이소시아누르산, 알킬, 환상 알킬, 방향족, 비스페놀 등에 의한 변성이 이루어진 것도 사용할 수 있다.
또한 다관능성 (메트)아크릴레이트계 올리고머로서는 우레탄(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 폴리에테르(메트)아크릴레이트 등의 아크릴레이트계 중합체 등을 들 수 있다.
우레탄(메트)아크릴레이트는, 예를 들어 다가 알코올 및 유기 디이소시아네이트와 히드록시(메트)아크릴레이트의 반응에 의하여 얻어진다.
또한 바람직한 에폭시(메트)아크릴레이트는, 3관능 이상의 방향족 에폭시 수지, 지환족 에폭시 수지, 지방족 에폭시 수지 등과 (메트)아크릴산을 반응시켜 얻어지는 (메트)아크릴레이트, 2관능 이상의 방향족 에폭시 수지, 지환족 에폭시 수지, 지방족 에폭시 수지 등과 다염기산과 (메트)아크릴산을 반응시켜 얻어지는 (메트)아크릴레이트 및 2관능 이상의 방향족 에폭시 수지, 지환족 에폭시 수지, 지방족 에폭시 수지 등과 페놀류와 (메트)아크릴산을 반응시켜 얻어지는 (메트)아크릴레이트이다.
상기 전리 방사선 경화성 화합물은 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
전리 방사선 경화성 화합물이 자외선 경화성 화합물인 경우에는, 전리 방사선 경화성 조성물은 광중합 개시제나 광중합 촉진제 등의 첨가제를 포함하는 것이 바람직하다.
광중합 개시제로서는, 아세토페논, 벤조페논, α-히드록시알킬페논, 미힐러케톤, 벤조인, 벤질메틸디케탈, 벤조일벤조에이트, α-아실옥심에스테르, 티오크산톤류 등으로부터 선택되는 1종 이상을 들 수 있다. 이들 광중합 개시제는 융점이 100℃ 이상인 것이 바람직하다. 광중합 개시제의 융점을 100℃ 이상으로 함으로써, 잔류한 광중합 개시제가 투명 도전막 형성 시나 결정화 공정의 열에 의하여 승화되고, 투명 도전막의 저저항화가 손상되는 것을 방지할 수 있다. 후술하는 고굴절률층 및 저굴절률층에서 광중합 개시제를 사용할 때도 마찬가지이다.
또한 광중합 촉진제는, 경화 시의 공기에 의한 중합 저해를 경감시켜 경화 속도를 빠르게 할 수 있는 것이며, 예를 들어 p-디메틸아미노벤조산이소아밀에스테르, p-디메틸아미노벤조산에틸에스테르 등으로부터 선택되는 1종 이상을 들 수 있다.
하드 코트층의 두께는 0.1 내지 100㎛의 범위에 있는 것이 바람직하고, 0.8 내지 20㎛의 범위가 보다 바람직하다. 하드 코트층의 두께가 상기 범위 내에 있으면 충분한 하드 코트 성능이 얻어져, 외부로부터의 충격에 대하여 크랙 등의 발생도 없어 깨지기 어렵게 된다.
하드 코트층, 및 후술하는 고굴절률층 및 저굴절률층의 두께는, 예를 들어 주사형 전자 현미경(SEM), 투과형 전자 현미경(TEM) 또는 주사 투과형 전자 현미경(STEM)을 사용하여 촬영한 단면의 화상으로부터 20군데의 두께를 측정하고, 20군데의 값의 평균값으로부터 산출할 수 있다. 측정하는 막 두께가 ㎛ 오더인 경우, SEM을 사용하는 것이 바람직하고, ㎚ 오더인 경우, TEM 또는 STEM을 사용하는 것이 바람직하다. SEM의 경우, 가속 전압은 1 내지 10㎸, 배율은 1000 내지 7000배로 하는 것이 바람직하고, TEM 또는 STEM의 경우, 가속 전압은 10 내지 30㎸, 배율은 5만 내지 30만 배로 하는 것이 바람직하다.
하드 코트층의 굴절률은, 후술하는 고굴절률층의 굴절률보다 작고 1.45 내지 1.70의 범위 내인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.45 내지 1.60의 범위 내이다. 하드 코트층의 굴절률이 이러한 범위에 있으면, 고굴절률층의 굴절률의 제어에 곤란성이 발생하지 않는다. 또한 간섭 줄무늬를 억제하는 관점에서는, 하드 코트층의 굴절률과 투명 기재의 굴절률의 차를 작게 하는 것이 바람직하다.
하드 코트층 및 후술하는 고굴절률층 및 저굴절률층의 굴절률은, 예를 들어 반사 광도계에 의하여 측정한 반사 스펙트럼과, 프레넬 계수를 사용한 다층 박막의 광학 모델로부터 산출한 반사 스펙트럼의 피팅에 의하여 산출할 수 있다.
하드 코트층은, 상술한 경화성 수지 조성물, 필요에 따라 배합하는 자외선 흡수제나 레벨링제 등의 첨가제 및 희석 용제에 의하여 하드 코트층 형성용 도포액을 조제하고, 당해 도포액을 투명 기재 상에 종래 공지된 도포 방법에 의하여 도포, 건조하고, 필요에 따라 전리 방사선을 조사하여 경화함으로써 형성할 수 있다.
(고굴절률층)
고굴절률층은, 예를 들어 경화성 수지 조성물 및 고굴절률 입자를 포함하는 고굴절률층 도포액으로 형성할 수 있다.
고굴절률층은, 반사 방지 필름을 초반사율화하는 관점에서는 굴절률을 높게 하는 것이 바람직하지만, 굴절률을 높게 하기 위해서는 다량의 고굴절률 입자가 필요해지며, 고굴절 입자의 응집이나 네트워크화에 의하여 백화의 원인으로 된다. 이 때문에 굴절률은 1.55 내지 1.85로 하는 것이 바람직하고, 1.56 내지 1.70으로 하는 것이 보다 바람직하다.
또한 고굴절률층의 두께는 200㎚ 이하인 것이 바람직하고, 50 내지 180㎚인 것이 보다 바람직하다. 또한 고굴절률층이 후술하는 2층 구성을 포함하는 경우, 2층의 합계 두께가 상기 값을 만족시키는 것이 바람직하다.
또한 고굴절률층은, 상기 굴절률의 범위를 만족시키는 복수의 층으로 형성해도 되지만 비용 대 효과의 관점에서 2층 이하가 바람직하다.
고굴절률 입자로서는 5산화안티몬(1.79), 산화아연(1.90), 산화티타늄(2.3 내지 2.7), 산화세륨(1.95), 주석 도핑 산화인듐(1.95 내지 2.00), 안티몬 도핑 산화주석(1.75 내지 1.85), 산화이트륨(1.87) 및 산화지르코늄(2.10) 등을 들 수 있다. 또한 상기 괄호 내는 각 입자의 재료 굴절률을 나타낸다.
이들 고굴절률 입자 중에서는, 소량의 첨가로 상기 적합한 굴절률을 달성하는 관점에서 굴절률이 2.0을 초과하는 것이 바람직하다. 또한 5산화안티몬, 주석 도핑 산화인듐(ITO), 안티몬 도핑 산화주석(ATO) 등의 도전성을 갖는 고굴절률 입자는, 플라즈마 진동수가 근적외 영역에 있는 자유 전자를 갖고, 상기 자유 전자의 플라즈마 진동을 원인으로 하여 가시광 영역의 광도 일부 흡수 내지는 반사되어, 착색의 문제를 발생시키는 경우가 있다. 이 때문에 고굴절률 입자는 비도전성인 것이 바람직하다.
이상으로부터, 상기 예시한 고굴절률 입자 중에서는, 산화티타늄 및 산화지르코늄이 적합하고, 또한 내광성 등의 내구 안정성이 높다는 관점에서 산화지르코늄이 최적이다. 또한 반사 방지 필름에 대전 방지성을 부여하고자 하는 경우에는, 고굴절률층을 후술하는 바와 같이 2층 구성으로 하여, 한쪽 층에 도전성 고굴절률 입자를 함유시키는 것이 바람직하다.
고굴절률 입자의 1차 입자의 평균 입자 직경은 5 내지 200㎚가 바람직하고, 5 내지 100㎚가 보다 바람직하며, 10 내지 80㎚가 더욱 바람직하다.
고굴절률 입자 및 후술하는 저굴절률 입자의 1차 입자의 평균 입자 직경은, 이하의 (1) 내지 (3)의 작업에 의하여 산출할 수 있다.
(1) 입자 그 자체 또는 입자의 분산액을 투명 기재 상에 도포 건조시킨 것에 대하여 SEM, TEM 또는 STEM의 표면상(像)을 촬상한다.
(2) 표면상으로부터 임의의 10개의 입자를 추출하고, 개개의 입자의 긴 직경 및 짧은 직경을 측정하고, 긴 직경 및 짧은 직경의 평균으로부터 개개의 입자 입자 직경을 산출한다. 또한 긴 직경은, 화면 상에 있어서 가장 긴 직경으로 하고, 짧은 직경은, 긴 직경을 구성하는 선분의 중점에 직교하는 선분을 긋고, 상기 직교하는 선분이 입자와 교차하는 2점 간의 거리를 말하는 것으로 한다.
(3) 동일한 샘플의 다른 화면의 촬상에 있어서 같은 작업을 5회 행하고, 합계 50개 분의 입자의 입자 직경의 수 평균으로부터 얻어지는 값을 평균 입자 직경으로 하였다.
또한 입자의 평균 입자 직경을 산출할 시에 있어서, 산출하는 평균 입자 직경이 ㎛ 오더인 경우, SEM을 사용하는 것이 바람직하고, 산출하는 평균 입자 직경이 ㎚ 오더인 경우, TEM 또는 STEM을 사용하는 것이 바람직하다. SEM의 경우, 가속 전압은 1 내지 10㎸, 배율은 1000 내지 7000배로 하는 것이 바람직하고, TEM 또는 STEM의 경우, 가속 전압은 10 내지 30㎸, 배율은 5만 내지 30만 배로 하는 것이 바람직하다.
고굴절률 입자의 함유량은, 고굴절률화와 백화 억제의 균형의 관점에서, 경화성 수지 조성물 100질량부에 대하여 30 내지 300질량부인 것이 바람직하고, 30 내지 100질량부인 것이 보다 바람직하며, 35 내지 75질량부인 것이 더욱 바람직하다.
고굴절률층은, 고굴절 입자의 과도한 응집을 억제하기 위하여 분산 안정화하는 것이 바람직하다. 분산 안정화의 수단으로서는, 예를 들어 베이스로 되는 고굴절 입자에 대하여, 상기 입자보다도 표면 전하량이 적은 다른 고굴절률 입자를 첨가하는 수단을 들 수 있다. 상기 수단에 의하면, 상기 다른 고굴절률 입자의 둘레에 베이스로 되는 고굴절률 입자가 적절하게 집합하여, 베이스로 되는 고굴절 입자가 과도하게 응집하는 것을 억제할 수 있다. 또한 다른 분산 안정화의 수단으로서, 고굴절률 입자로서 표면 처리된 것을 사용하거나 고굴절률층 도포액 중에 분산제를 첨가하는 수단을 들 수 있다.
고굴절률층을 형성하는 경화성 수지 조성물로서는, 하드 코트층에서 예시한 것과 마찬가지의 것을 사용할 수 있으며, 전리 방사선 경화성 수지 조성물이 적합하다.
또한 고굴절률 입자의 첨가량을 과도하게 하지 않고 상술한 굴절률을 얻기 위하여, 굴절률이 높은 경화성 수지 조성물을 사용하는 것이 바람직하다. 경화성 수지 조성물의 굴절률은 1.54 내지 1.70 정도가 바람직하다.
또한 고굴절률층은, 하드 코트층측에 위치하는 고굴절률층 (A)와, 저굴절률층측에 위치하는 고굴절률층 (B)의 2층 구성으로 해도 된다. 또한 그때, 고굴절률층 (A)의 굴절률보다도 고굴절률층 (B)의 굴절률 쪽을 높게 하는 것이 바람직하다. 고굴절률층을 상기 구성으로 함으로써, 저굴절률층과의 굴절률 차를 크게 할 수 있어 반사율을 낮게 할 수 있음과 함께, 고굴절률층과 하드 코트층의 굴절률 차를 작게 할 수 있어 간섭 줄무늬의 발생을 억제할 수 있다.
고굴절률층을 2층 구성으로 하는 경우, 고굴절률층 (A)의 굴절률이 1.55 내지 1.7, 고굴절률층 (B)의 굴절률이 1.6 내지 1.85인 것이 바람직하다.
또, 상기 2층 구성에 있어서, 고굴절률층 (A) 및 고굴절률층 (B) 중 한쪽에 도전성 고굴절률 입자를 함유시키고, 다른 쪽에 비도전성 고굴절률 입자를 함유시키고, 또한 [도전성 고굴절률 입자를 함유하는 층의 두께<비도전성 고굴절률 입자를 함유하는 층의 두께]로 하는 것이 바람직하다. 당해 구성으로 함으로써, 착색의 원인으로 될 수 있는 도전성 고굴절률 입자의 첨가량을 억제하면서 대전 방지성을 부여할 수 있다. 또한 도전성 고굴절률 입자는 층 내에서 네트워크화시킴으로써 적은 첨가량으로 대전 방지성을 부여하고, 나아가 착색 및 백화를 억제할 수 있는 점에서 바람직하다.
고굴절률층은, 고굴절률 입자, 경화성 수지 조성물, 필요에 따라 배합하는 자외선 흡수제나 레벨링제 등의 첨가제 및 희석 용제에 의하여 고굴절률층 형성용 도포액을 조제하고, 당해 도포액을 하드 코트층 상에 종래 공지된 도포 방법에 의하여 도포, 건조하고, 필요에 따라 전리 방사선을 조사하여 경화함으로써 형성할 수 있다.
(저굴절률층)
저굴절률층은 고굴절률층 상에 형성되는 층이다.
저굴절률층은, 반사 방지 필름을 초저반사율로 하기 위하여 굴절률이 1.26 내지 1.36인 것이 바람직하고, 1.28 내지 1.34인 것이 보다 바람직하며, 1.30 내지 1.32인 것이 더욱 바람직하다.
저굴절률층의 굴절률을 낮게 하면 낮게 할수록, 고굴절률층의 굴절률을 그다지 높게 하지 않더라도 반사 방지 필름의 굴절률을 낮출 수 있다. 한편, 저굴절률층의 굴절률을 너무 낮추면 저굴절률층의 강도가 저하되는 경향이 있다. 이 때문에, 저굴절률층의 굴절률을 상기 범위로 함으로써, 저굴절률층의 강도를 유지하면서 고굴절률층의 고굴절률 입자의 첨가량을 억제할 수 있고, 백화의 억제로 이어지는 점에서 적합하다.
또한 저굴절률층의 두께는 80 내지 120㎚인 것이 바람직하고, 85 내지 110㎚인 것이 보다 바람직하며, 90 내지 105㎚인 것이 더욱 바람직하다.
저굴절률층을 형성하는 방법으로서는 습식법과 건식법으로 크게 나눌 수 있다. 습식법으로서는, 금속 알콕시드 등을 사용하여 졸겔법에 의하여 형성하는 방법, 불소 수지와 같은 저굴절률의 수지를 도포 시공하여 형성하는 방법, 수지 조성물에 저굴절률 입자를 함유시킨 저굴절률층 형성용 도포액을 도포 시공하여 형성하는 방법을 들 수 있다. 건식법으로서는, 후술하는 저굴절률 입자 중에서 원하는 굴절률을 갖는 입자를 선택하고, 물리 기상 성장법 또는 화학 기상 성장법에 의하여 형성하는 방법을 들 수 있다.
습식법은 생산 효율의 관점에서 우수하며, 본 발명에 있어서는, 습식법 중에서도 수지 조성물에 저굴절률 입자를 함유시킨 저굴절률층 형성용 도포액에 의하여 형성하는 것이 바람직하다.
저굴절률 입자는, 그 굴절률을 저하시키기 위하여, 즉 반사 방지 특성을 향상시킬 목적으로 바람직하게 사용되며, 실리카나 불화 마그네슘 등의 무기계, 또는 유기계 중 어느 것이어도 제한 없이 사용할 수 있지만, 반사 방지 특성을 보다 향상시키고 또한 양호한 표면 경도를 확보하는 관점에서, 그 자신이 공극을 갖는 구조의 입자가 바람직하게 사용된다.
그 자신이 공극을 갖는 구조를 가지는 입자는 미세한 공극을 내부에 갖고 있으며, 예를 들어 굴절률 1.0의 공기 등의 기체가 충전되어 있으므로, 그 자신의 굴절률이 낮은 것으로 되어 있다. 이러한 공극을 갖는 입자로서는, 무기계 또는 유기계 다공질 입자, 중공 입자 등을 들 수 있으며, 예를 들어 다공질 실리카, 중공 실리카 입자, 또는 아크릴 수지 등이 사용된 다공질 중합체 입자나 중공 중합체 입자를 들 수 있다. 무기계의 입자로서는, 일본 특허 공개 제2001-233611호 공보에서 개시되는 기술을 사용하여 조제한 공극을 갖는 실리카 입자가, 유기계의 입자로서는, 일본 특허 공개 제2002-80503호 공보에서 개시되는 기술을 사용하여 조제한 중공 중합체 입자 등을 바람직한 일례로서 들 수 있다. 상기와 같은 공극을 갖는 실리카 또는 다공질 실리카는, 그들의 굴절률이 1.18 내지 1.44의 범위에 있어, 굴절률이 1.45 정도인 일반적인 실리카 입자보다도 굴절률이 낮기 때문에, 저굴절률층의 저굴절률화를 도모하는 관점에서 바람직하다.
중공형 실리카 입자는, 저굴절률층의 도막 강도를 유지하면서 그 굴절률을 낮추는 기능을 갖는 입자이다. 본 발명에서 사용하는 중공형 실리카 입자는, 내부에 공동을 갖는 구조의 실리카 입자이다. 중공형 실리카 입자는, 실리카 입자 본래의 굴절률(굴절률 n=1.45 정도)에 비하여, 내부의 공동 점유율에 반비례하여 굴절률이 저하되는 실리카 입자이다. 이 때문에 중공형 실리카 입자의 입자 전체로서의 굴절률은 1.18 내지 1.44로 된다.
중공형 실리카 입자로서는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 외각을 갖고, 그 내부가 다공질 또는 공동으로 되어 있는 입자이며, 일본 특허 공개 평6-330606, 일본 특허 공개 평7-013137, 일본 특허 공개 평7-133105, 일본 특허 공개 제2001-233611호 공보에서 개시되어 있는 기술을 사용하여 조제한 실리카 입자를 들 수 있다.
저굴절률 입자의 1차 입자의 평균 입자 직경은 5 내지 200㎚가 바람직하고, 5 내지 100㎚가 보다 바람직하며, 10 내지 80㎚가 더욱 바람직하다. 1차 입자의 평균 입자 직경이 상기 범위 내에 있으면, 저굴절률층의 투명성을 손상시키지 않고 양호한 입자의 분산 상태가 얻어진다. 특히 저굴절률 입자로서 중공형 입자를 사용하고, 상기 중공형 입자의 평균 입자 직경이 70 내지 80㎚인 것은, 강도 부족으로 되지 않는 외각의 두께를 유지하면서 공극률을 높여 굴절률을 저하시킬 수 있고, 또한 반사율을 낮게 하기 위한 이상적인 저굴절률층의 두께(약 100㎚)와의 균형도 우수한 점에서 적합하다.
본 발명에서 사용되는 저굴절률 입자는 표면 처리된 것이 바람직하다. 저굴절률 입자의 표면 처리로서는, 실란 커플링제를 사용한 표면 처리가 보다 바람직하며, 그 중에서 (메트)아크릴로일기를 갖는 실란 커플링제를 사용한 표면 처리를 행하는 것이 바람직하다. 저굴절률 입자에 표면 처리를 실시함으로써, 후술하는 바인더 수지와의 친화성이 향상되어 입자의 분산이 균일해지고 입자끼리의 응집이 발생하기 어려워지므로, 응집 유래의 대입자화에 따른 저굴절률층의 투명화의 저하나, 저굴절률층 형성용 조성물의 도포성, 상기 조성물의 도막 강도의 저하가 억제된다.
또한 실란 커플링제가 (메트)아크릴로일기를 가졌을 경우, 상기 실란 커플링제는 전리 방사선 경화성을 갖기 때문에 후술하는 바인더 수지와 용이하게 반응하므로, 저굴절률층 형성용 조성물의 도막 중에 있어서 저굴절률 입자가 바인더 수지에 양호하게 고정된다. 즉, 저굴절률 입자가 바인더 수지 중에서 가교제로서의 기능을 갖게 된다. 이것에 의하여, 상기 도막 전체의 수축 효과가 얻어져, 바인더 수지가 원래 갖는 유연성을 남긴 채, 저굴절률층에 우수한 표면 경도를 부여하는 것이 가능해진다. 따라서 저굴절률층이 그 자체의 유연성을 살려서 변형됨으로써, 외부 충격에 대한 흡수력이나 복원력을 갖기 때문에, 흠집의 발생이 억제되어 내찰상성이 우수한 높은 표면 경도를 갖게 된다.
저굴절률 입자의 표면 처리에 있어서 바람직하게 사용되는 실란 커플링제로서는, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 2-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 2-(메트)아크릴옥시프로필트리에톡시실란 등을 예시할 수 있다.
저굴절률층에 있어서의 저굴절률 입자의 함유량은, 저굴절률층의 수지 100질량부에 대하여 10 내지 250질량부가 바람직하고, 50 내지 200질량부가 보다 바람직하며, 100 내지 180질량부가 더욱 바람직하다. 저굴절률 입자의 함유량이 상기 범위 내에 있으면 양호한 반사 방지 특성과 표면 경도가 얻어진다.
또한 저굴절률층에 포함되는 전체 저굴절률 입자에서 차지하는 중공 입자 및/또는 다공질 입자의 비율은 70질량％ 이상이 바람직하고, 80질량％ 이상이 보다 바람직하며, 80 내지95 질량％가 더욱 바람직하다.
저굴절률층 형성용 도포액에 포함되는 수지 조성물로서는, 먼저 경화성 수지 조성물을 들 수 있다. 경화성 수지 조성물로서는, 하드 코트층에서 예시한 것과 마찬가지의 것을 사용할 수 있으며, 전리 방사선 경화성 수지 조성물이 적합하다.
또한 수지 조성물로서, 그 자체가 저굴절률성을 나타내는 불소 함유 중합체도 바람직하게 사용된다. 불소 함유 중합체는, 적어도 분자 중에 불소 원자를 포함하는 중합성 화합물의 중합체이며, 방오성 및 미끄럼성을 부여할 수 있는 점에서 적합하다. 불소 함유 중합체는, 분자 중에 반응성 기를 가져 경화성 수지 조성물로서 기능하는 것이 바람직하고, 전리 방사선 경화성 반응성 기를 가져 전리 방사선 경화성 수지 조성물로서 기능하는 것이 보다 바람직하다.
불소 함유 중합체로서는, 저굴절률층 표면의 오염을 튕겨낼 뿐만 아니라, 튕겨낸 오염의 닦임성을 부여하기 위하여, 불소와 함께 규소를 포함하는 것이 바람직하며, 예를 들어 공중합체에 실리콘 성분을 함유시킨 실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체를 바람직하게 들 수 있다. 이 경우의 실리콘 성분으로서는, (폴리)디메틸실록산, (폴리)디에틸실록산, (폴리)디페닐실록산, (폴리)메틸페닐실록산, 알킬 변성 (폴리)디메틸실록산, 아조기 함유 (폴리)디메틸실록산이나, 디메틸실리콘, 페닐메틸실리콘, 알킬·아르알킬 변성 실리콘, 플루오로실리콘, 폴리에테르 변성 실리콘, 지방산에스테르 변성 실리콘, 메틸 수소 실리콘, 실라놀기 함유 실리콘, 알콕시기 함유 실리콘, 페놀기 함유 실리콘, 메타크릴 변성 실리콘, 아크릴 변성 실리콘, 아미노 변성 실리콘, 카르복실산 변성 실리콘, 카르비놀 변성 실리콘, 에폭시 변성 실리콘, 머캅토 변성 실리콘, 불소 변성 실리콘, 폴리에테르 변성 실리콘 등을 들 수 있다. 그 중에서도 디메틸실록산 구조를 갖는 것이 바람직하다.
저굴절률층은, 예를 들어 저굴절률 입자, 수지 조성물, 필요에 따라 배합하는 자외선 흡수제나 레벨링제 등의 첨가제 및 희석 용제에 의하여 저굴절률층 형성용 도포액을 조제하고, 당해 도포액을 고굴절률층 상에 종래 공지된 도포 방법에 의하여 도포, 건조하고, 필요에 따라 전리 방사선을 조사하여 경화시킴으로써 형성할 수 있다.
<터치 패널>
터치 패널은, 필요에 따라 표시 소자와 반사 방지 필름 사이에 배치된다.
터치 패널로서는 정전 용량식 터치 패널, 저항막식 터치 패널, 광학식 터치 패널, 초음파식 터치 패널 및 전자기 유도식 터치 패널 등을 들 수 있다.
저항막식 터치 패널은, 도전막을 갖는 상하 한 쌍의 투명 기판의 도전막끼리가 대향하도록 스페이서를 개재하여 배치되어 이루어지는 구성을 기본 구성으로 하고, 상기 기본 구성에 회로가 접속되어 이루어지는 것이다.
정전 용량식 터치 패널은 표면형 및 투영형 등을 들 수 있으며, 투영형이 많이 사용되고 있다. 투영형의 정전 용량식 터치 패널은, X축 전극과, 상기 X축 전극과 직교하는 Y축 전극을 절연체를 개재하여 배치한 기본 구성에, 회로가 접속되어 이루어지는 것이다. 상기 기본 구성을 보다 구체적으로 설명하면, (1) 1매의 투명 기판 상의 각각의 면에 X축 전극 및 Y축 전극을 형성하는 형태, (2) 투명 기판 상에 X축 전극, 절연체층, Y축 전극을 이 순서대로 형성하는 형태, (3) 투명 기판 상에 X축 전극을 형성하고, 다른 투명 기판 상에 Y축 전극을 형성하여, 접착제층 등을 개재하여 적층하는 형태 등을 들 수 있다. 또한 이들 기본 형태에 다른 투명 기판을 더 적층하는 형태를 들 수 있다.
<기타 부재>
표시 소자와 반사 방지 필름 사이에는, 필요에 따라 편광 필름, 위상차 필름 등의 기타 부재를 갖고 있어도 된다.
[반사 방지 필름]
본 발명의 반사 방지 필름은, 투명 기재 상에 고굴절률층 및 저굴절률층을 갖는 반사 방지 필름이며, 하기 조건에 의하여 측정되는 확산 광선 반사율(RSCE)이 0.12％ 이하인, 전체 광선 반사율(RSCI)이 4.0％ 이상인 표시 소자에 사용되는 것이다.
(확산 광선 반사율의 측정)
반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 확산 광선 반사율(RSCE)을 측정한다.
본 발명의 반사 방지 필름의 실시 형태는, 상술한 본 발명의 표시 장치에 있어서의 반사 방지 필름의 실시 형태와 마찬가지이다.
[표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법]
본 발명의 표시 장치 반사 방지 필름의 선택 방법은, 전체 광선 반사율(RSCI)이 4.0％ 이상인 표시 소자를 갖는 표시 장치의 반사 방지 필름으로서, 투명 기재 상에 고굴절률층 및 저굴절률층을 갖고 이루어지고, 하기 조건에 의하여 측정되는 확산 광선 반사율(RSCE)이 0.12％ 이하인 반사 방지 필름을 선택하는 것이다.
(확산 광선 반사율의 측정)
반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 확산 광선 반사율(RSCE)을 측정한다.
본 발명의 반사 방지 필름의 선택 방법을 적용하는 표시 장치는, 표시 소자와 반사 방지 필름 사이에 터치 패널을 갖고 있어도 된다.
본 발명의 반사 방지 필름의 선택 방법에 있어서의 표시 소자, 터치 패널 및 반사 방지 필름의 실시 형태는, 상술한 본 발명의 표시 장치에 있어서의 표시 소자, 터치 패널 및 반사 방지 필름의 실시 형태와 마찬가지이다.
본 발명의 표시 장치 반사 방지 필름의 선택 방법은, 반사율이 높은 초고정밀 표시 소자를 사용한 표시 장치의 백화를 억제하면서 초고정밀 표시 소자의 화상 품질이 손상되는 일이 없는 반사 방지 필름을 효율적으로 선택할 수 있는 점에서 유용하다.
[실시예]
다음으로, 본 발명을 실시예에 의하여 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이 예에 의하여 전혀 한정되는 것은 아니다.
1. 물성 및 평가
실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름에 대하여 이하의 측정 및 평가를 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
1-1. 반사 방지 필름의 RSCE 및 RSCI
반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에, 두께 25㎛의 투명 점착제층(파낙사 제조, 상품명: 파나클린 PD-S1, 굴절률 1.49)을 개재하여 흑색 판(쿠라레사 제조, 상품명: 코모글래스 DFA2CG 502K(흑색)계, 전체 광선 투과율 0％, 두께 2㎜, 굴절률 1.49)을 접합한 샘플을 제작하였다. 적분구 분광 광도계(코니카 미놀타 가부시키가이샤 제조, 상품명: CM-2002)를 사용하여, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면으로부터 상기 샘플의 확산 광선 반사율(RSCE) 및 전체 광선 반사율(RSCI)을 측정하였다. 또한 적분구 분광 광도계의 광원은 D65, 수광기의 위치는 샘플의 법선에 대하여 +8°이고, 수광기의 개구각은 10°이며, 라이트 트랩의 위치는 샘플의 법선에 대하여 -8°이고, 라이트 트랩의 커버 범위는 10°였다.
1-2. 반사 방지 필름의 반사율 Y값
반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에, 두께 25㎛의 투명 점착제층(파낙사 제조, 상품명: 파나클린 PD-S1, 굴절률 1.49)을 개재하여 흑색 판(쿠라레사 제조, 상품명: 코모글래스 DFA2CG 502K(흑색)계, 전체 광선 투과율 0％, 두께 2㎜, 굴절률 1.49)을 접합한 샘플을 제작하였다. 분광 광도계(시마즈 세이사쿠쇼 가부시키가이샤 제조, 상품명: UV-2450)를 사용하여, JIS Z8722: 1982에 준거하여 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 반사율 Y값을 측정하였다. 또한 시야각은 2°, 광원은 D65, 측정 파장은 380 내지 780㎚를 0.5㎚ 간격으로 하였다. 또한 반사율 Y값은, 샘플의 저굴절률층측의 표면에 대하여 수직으로 입사되는 광의 입사각을 0°로 하고 입사각 5°로 샘플에 광을 입사시켰을 때, 상기 입사광의 정반사광에 의하여 얻어지는 값으로 하였다.
1-3. 액정 표시 장치의 백화의 확인
액정 표시 소자 상에, 반사 방지 필름의 투명 기재측의 면이 액정 표시 소자측을 향하도록 하여 반사 방지 필름을 설치하여, 모의 액정 표시 장치를 제작하였다. 상기 모의 액정 표시 장치의 표면(저굴절률층)의 중심 부근에, 상기 모의 액정 표시 장치의 수직 방향에서 암실 하에서 LED 라이트를 조사하고, 동일한 방향에서 액정 표시 장치의 LED 라이트의 조사 포인트로부터 이격된 부위의 백화의 정도를 육안으로 관찰하였다. 상기 관찰을 20명이 행하고, 백화가 전혀 신경 쓰이지 않는 것을 1점, 약간 백화가 신경 쓰이지만 문제없는 것을 2점, 백화가 신경 쓰여 문제 있는 수준의 것을 3점으로 하여, 각 사람이 평가하였다. 20명의 평가의 평균점이 1.1점 이하인 것을 「AA」, 1.1점 초과 1.5점 이하인 것을 「A」, 1.5점 초과 2.0점 이하인 것을 「B」, 2.0점 초과 2.5점 이하인 것을 「C」, 2.5점 초과 3.0점 이하인 것을 「D」로 하였다.
또한 액정 표시 소자는, 표시 소자 A[전체 광선 반사율(RSCI): 7.8％, 화소 수: 3840×2160 픽셀, 크기: 대각 55인치], 표시 소자 B[전체 광선 반사율(RSCI): 6.7％, 화소 수: 1920×1080 픽셀, 크기: 대각 40인치]의 2개를 준비하고, 각각의 액정 표시 소자를 사용한 모의 액정 표시 장치를 제작하여, 상기 측정을 행하였다.
또한 표시 소자의 전체 광선 반사율(RSCI)은 적분구 분광 광도계(코니카 미놀타 가부시키가이샤 제조, 상품명: CM-2002)를 사용하여 측정하였다. 또한 적분구 분광 광도계의 광원은 D65, 수광기의 위치는 표시 소자의 법선에 대하여 +8°이고, 수광기의 개구각은 10°이며, 라이트 트랩의 위치는 표시 소자의 법선에 대하여 -8°이고, 라이트 트랩의 커버 범위는 10°이었다.
1. 반사 방지 필름의 제작
[실시예 1]
두께 80㎛의 트리아세틸셀룰로오스 필름(굴절률 1.49) 상에 하기 처방의 하드 코트층 형성용 도포액을 도포, 건조 및 자외선 조사하여, 두께 10㎛, 굴절률 1.52, 연필 경도 2H의 하드 코트층을 형성하였다. 이어서, 하드 코트층 상에 하기 처방의 고굴절률층 형성용 도포액을 도포, 건조 및 자외선 조사하여, 두께 130㎚, 굴절률 1.60의 고굴절률층을 형성하였다. 이어서, 고굴절률층 상에 하기 처방의 저굴절률층 형성용 도포액을 도포, 건조 및 자외선 조사하여, 두께 100㎚, 굴절률 1.30의 저굴절률층을 형성하여, 반사 방지 필름을 얻었다.
<하드 코트층 형성용 도포액의 조제>
광중합 개시제(BASF사 제조, 이르가큐어 127, 2-히드록시-1-{4-[4-(2-히드록시-2-메틸 프로피오닐)벤질]페닐}-2-메틸프로판-1-온)를 1.6질량부, 희석 용제(메틸이소부틸케톤/시클로헥사논=8/2)를 58.3질량부 투입하고, 용해 잔류물이 없어질 때까지 교반하였다. 여기에 광경화 수지(아라카와 가가쿠사 제조, 빔 세트 577)를 40질량부 투입하여 교반하고, 용해 잔류물이 없어질 때까지 교반하였다. 마지막으로 레벨링제(다이니치 세이카 고교사 제조, 세이카 빔 10-28(MB))를 0.1질량부 투입하고 교반하여, 하드 코트층 형성용 도포액을 조제하였다.
<고굴절률층 형성용 도포액의 조제>
광중합 개시제(BASF사 제조, 이르가큐어 127) 0.1질량부, 희석 용제(메틸이소부틸케톤/시클로헥사논/메틸에틸케톤=4/2/4)를 92.6질량부 투입하고, 용해 잔류물이 없어질 때까지 교반하였다. 여기에 광경화 수지(아라카와 가가쿠사 제조, 빔 세트 577)를 3질량부 투입하고, 용해 잔류물이 없어질 때까지 교반하였다. 또한 미끄럼 용이성 입자(SIK 나노텍사 제조, SIRMIBK-H84, 고형분 30질량％, 평균 1차 입자 직경 30㎚)를 0.04질량부, 산화지르코늄(스미토모 오사카 시멘트사 제조, MZ-230X, 고형분 32.5질량％, 평균 1차 입자 직경 15 내지 50㎚)을 4.1질량부, 레벨링제(다이니치 세이카 고교사 제조, 세이카 빔 10-28(MB)) 0.03질량부를 각각 투입한 직후에, 분산제(빅케미 저팬사 제조, 디스퍼빅 163)를 0.13질량부 첨가하고, 페인트 메이커를 사용하여 10시간 교반을 행하고 분산하여, 고굴절률층 형성용 도포액을 조제하였다.
<저굴절률층 형성용 도포액의 조제>
광중합 개시제(BASF사 제조, 이르가큐어 127) 0.2질량부, 희석 용제(MIBK/AN=7/3)를 91.1질량％ 투입하고(최종 도공액의 고형분이 3질량％로 되는 양), 용해 잔류물이 없어질 때까지 교반하였다. 여기에 광경화 수지(닛폰 가야쿠사 제조, KAYARAD-PET-30) 1.2질량％, 중공 실리카 입자(고형분 20질량％, 평균 1차 입자 직경 60㎚) 7.4질량％, 레벨링제(다이니치 세이카 고교사 제조, 세이카 빔 10-28(MB)) 0.05질량％를 각각 투입한 직후에, 분산제(신에쓰 가가쿠사 제조, KBM-5103)를 0.05질량부 첨가하고, 페인트 메이커를 사용하여 10시간 교반을 행하고 분산하여, 저굴절률층 형성용 도포액을 조제하였다.
[실시예 2]
실시예 1의 고굴절률층 형성용 도포액의 광경화성 수지를 2.3질량부, 산화지르코늄을 4.8질량부로 변경(변경 후의 굴절률은 1.60)한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 반사 방지 필름을 얻었다.
[실시예 3]
실시예 1의 고굴절률층 형성용 도포액의 광경화성 수지를 1.7질량부, 산화지르코늄을 5.4질량부로 변경하고, 저굴절률층 형성용 도포액의 광경화성 수지를 0.8질량부, 중공 실리카 입자를 7.8질량부로 더 변경(변경 후의 고굴절률층의 굴절률은 1.63, 저굴절률층의 굴절률은 1.29)한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 반사 방지 필름을 얻었다.
[실시예 4]
실시예 3의 산화지르코늄을 5산화안티몬으로 변경(변경 후의 굴절률은 1.58)한 것 이외에는 실시예 3과 마찬가지로 하여, 반사 방지 필름을 얻었다.
[비교예 1]
실시예 4의 고굴절률층 형성용 도포액의 광경화성 수지를 0.5질량부, 5산화안티몬을 6.6질량부로 변경하고, 저굴절률층 형성용 도포액의 광경화성 수지를 0.2질량부, 중공 실리카 입자를 7.5질량부로 더 변경함과 함께, 불소 함유 중합체(JSR사 제조의 상품명 옵스타 JN35, 고형분 20질량％)를 0.9질량부 첨가(변경 후의 고굴절률층의 굴절률은 1.63, 저굴절률층의 굴절률은 1.300)한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 반사 방지 필름을 얻었다.
[비교예 2]
비교예 1의 저굴절률층 형성용 도포액의 광경화성 수지를 1.0질량부, 중공 실리카 입자를 7.6질량부, 불소 함유 중합체를 0.0질량부로 변경(변경 후의 굴절률은 1.295)한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 반사 방지 필름을 얻었다.
[비교예 3]
고굴절률층을 2층 구성으로 하여, 하드 코트층측의 고굴절률층 (A)의 형성에 실시예 4의 고굴절률층 형성용 도포액을 사용하여 두께를 50㎚으로 하고, 저굴절률층측의 고굴절률층 (B)의 형성에 실시예 3의 고굴절률층 형성용 도포액을 사용하여 두께를 100㎚로 한 것 이외에는 비교예 2와 마찬가지로 하여, 반사 방지 필름을 얻었다.
Figure pat00001
표 1의 결과로부터 밝혀진 바와 같이 실시예 1 내지 4의 표시 장치는, RSCE의 값이 억제된 반사 방지 필름을 사용하고 있는 점에서, RSCI가 4.0％ 이상인 표시 소자에 있어서 백화가 인식되는 것을 억제할 수 있는 것이었다.
본 발명의 반사 방지 필름 및 표시 장치는, 표시 장치 표면의 반사를 억제하면서 반사율이 높은 초고정밀 표시 소자의 반사광에 기인하는 백화를 억제하여 초고정밀 표시 소자의 화상 품질이 손상되는 것을 방지할 수 있는 점에서 유용하다.
또한 본 발명의 표시 장치 반사 방지 필름의 선택 방법에 의하면, 초고정밀 표시 소자를 사용한 표시 장치의 표면 반사를 억제하면서 백화를 억제하여 초고정밀 표시 소자의 화상 품질이 손상되는 일이 없는 반사 방지 필름을 효율적으로 선택할 수 있는 점에서 유용하다.
1: 표시 소자
2: 반사 방지 필름
21: 투명 기재
22: 하드 코트층
23: 고굴절률층
24: 저굴절률층
3: 터치 패널
10: 표시 장치

Claims (9)

  1. 투명 기재 상에 고굴절률층 및 저굴절률층을 갖는 반사 방지 필름이며, 하기 조건에 의하여 측정되는 확산 광선 반사율(RSCE)이 0.12％ 이하인, 전체 광선 반사율(RSCI)이 4.0％ 이상인 표시 소자용 반사 방지 필름.
    (확산 광선 반사율의 측정)
    반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 확산 광선 반사율(RSCE)을 측정함.
  2. 전체 광선 반사율(RSCI)이 4.0％ 이상인 표시 소자 상에 반사 방지 필름을 갖고 이루어지고, 상기 반사 방지 필름은 투명 기재 상에 고굴절률층 및 저굴절률층을 가지며, 또한 상기 반사 방지 필름은, 하기 조건에 의하여 측정되는 확산 광선 반사율(RSCE)이 0.12％ 이하인 표시 장치.
    (확산 광선 반사율의 측정)
    반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 확산 광선 반사율(RSCE)을 측정함.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 반사 방지 필름은, 상기 확산 광선 반사율(RSCE)과, 하기 조건에 의하여 측정되는 전체 광선 반사율(RSCI)의 비[RSCE/RSCI]가 0.32 이하인 표시 장치.
    (전체 광선 반사율의 측정)
    반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 전체 광선 반사율(RSCI)을 측정함.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 반사 방지 필름은, 하기 조건에 의하여 측정되는 반사율 Y값이 0.5％ 이하인 표시 장치.
    (반사 방지 필름의 반사율 Y값의 측정)
    반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 반사율 Y값을 측정함.
  5. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 고굴절률층이 고굴절률 입자를 함유하여 이루어지는 표시 장치.
  6. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 저굴절률층이 저굴절률 입자를 함유하여 이루어지는 표시 장치.
  7. 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 표시 소자의 화소 수가 3840×2160 픽셀 이상인 표시 장치.
  8. 제2항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 표시 소자 상에 터치 패널을 갖고, 상기 터치 패널 상에 상기 반사 방지 필름을 갖는 표시 장치.
  9. 전체 광선 반사율(RSCI)이 4.0％ 이상인 표시 소자를 갖는 표시 장치의 반사 방지 필름으로서, 투명 기재 상에 고굴절률층 및 저굴절률층을 갖고 이루어지고, 하기 조건에 의하여 측정되는 확산 광선 반사율(RSCE)이 0.12％ 이하인 반사 방지 필름을 선택하는, 표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법.
    (확산 광선 반사율의 측정)
    반사 방지 필름의 투명 기재의 고굴절률층측과는 반대측의 면에 투명 점착제를 개재하여 흑색 판을 접합한 샘플을 제작하고, 상기 샘플의 저굴절률층측의 면의 확산 광선 반사율(RSCE)을 측정함.
KR1020150133546A 2014-09-26 2015-09-22 반사 방지 필름, 표시 장치 및 표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법 KR20160037089A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020230062850A KR102569304B1 (ko) 2014-09-26 2023-05-16 반사 방지 필름, 표시 장치 및 표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014197230 2014-09-26
JPJP-P-2014-197230 2014-09-26

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020230062850A Division KR102569304B1 (ko) 2014-09-26 2023-05-16 반사 방지 필름, 표시 장치 및 표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20160037089A true KR20160037089A (ko) 2016-04-05

Family

ID=55584154

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150133546A KR20160037089A (ko) 2014-09-26 2015-09-22 반사 방지 필름, 표시 장치 및 표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법
KR1020230062850A KR102569304B1 (ko) 2014-09-26 2023-05-16 반사 방지 필름, 표시 장치 및 표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020230062850A KR102569304B1 (ko) 2014-09-26 2023-05-16 반사 방지 필름, 표시 장치 및 표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9829603B2 (ko)
JP (2) JP6780229B2 (ko)
KR (2) KR20160037089A (ko)
CN (1) CN105467473B (ko)
TW (1) TWI673513B (ko)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6561520B2 (ja) * 2015-03-20 2019-08-21 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法
JP6561519B2 (ja) * 2015-03-20 2019-08-21 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法
KR102467683B1 (ko) * 2015-03-20 2022-11-17 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 반사 방지 필름, 해당 반사 방지 필름을 사용한 표시 장치, 및 반사 방지 필름의 선택 방법
JP6488371B2 (ja) * 2015-04-17 2019-03-20 株式会社カネカ 位相差フィルム及びその利用
KR102385234B1 (ko) * 2015-09-15 2022-04-12 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 이의 제조 방법
JP6825235B2 (ja) * 2016-06-06 2021-02-03 大日本印刷株式会社 光学積層体の製造方法、光学積層体の水接触角制御方法、および保護フィルム付き光学積層体
JP2018010169A (ja) * 2016-07-13 2018-01-18 大日本印刷株式会社 Ｌｅｄ表示装置
TWI761320B (zh) * 2016-10-04 2022-04-21 日商半導體能源研究所股份有限公司 顯示裝置及電子裝置
US10877181B2 (en) * 2016-11-11 2020-12-29 AGC Inc. Substrate with low-reflection property and manufacturing method thereof
KR102642763B1 (ko) 2017-12-22 2024-03-05 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 적층체, 표시 패널 및 표시 장치
JP7222360B2 (ja) * 2018-01-31 2023-02-15 Ａｇｃ株式会社 反射防止膜付ガラス基板及び光学部品
TWI674525B (zh) * 2018-08-14 2019-10-11 友達光電股份有限公司 抗反射整合觸控顯示面板
CN109785763B (zh) * 2019-03-29 2022-02-08 上海天马微电子有限公司 一种显示面板及其制备方法、显示装置
JPWO2020218374A1 (ko) * 2019-04-23 2020-10-29
CN111913337A (zh) * 2019-05-09 2020-11-10 中强光电股份有限公司 波长转换元件及其制作方法
US20210141217A1 (en) * 2019-11-08 2021-05-13 Viavi Solutions Inc. Optical coating and an apparatus including the optical coating
US20210284795A1 (en) * 2020-03-10 2021-09-16 Samsung Electronics Co., Ltd. Resin film and display device including the same
JP2021162687A (ja) * 2020-03-31 2021-10-11 デクセリアルズ株式会社 反射防止フィルム積層体及びそれを備える物品

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003050674A (ja) * 2001-08-08 2003-02-21 Nagano Fujitsu Component Kk タッチパネル及びタッチパネルを備えた入力装置
JP2006227253A (ja) * 2005-02-17 2006-08-31 Fuji Photo Film Co Ltd 偏光板および液晶表示装置
JP2007065635A (ja) * 2005-08-02 2007-03-15 Fujifilm Corp 光学フィルム、特に反射防止フィルム及びその製造方法、並びに反射防止フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置
JP2007065523A (ja) 2005-09-02 2007-03-15 Hitachi Displays Ltd 表示パネル及び表示装置とこれを備える機器
JP2007216610A (ja) * 2006-02-20 2007-08-30 Teijin Dupont Films Japan Ltd 反射防止フィルム
JP4913627B2 (ja) * 2007-02-27 2012-04-11 リケンテクノス株式会社 反射防止フィルムおよびその製造方法
JP2008224718A (ja) * 2007-03-08 2008-09-25 Konica Minolta Opto Inc 防眩性反射防止フィルム及び表示装置
JP5271575B2 (ja) * 2007-03-20 2013-08-21 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置
US20090142561A1 (en) * 2007-12-04 2009-06-04 Toppan Printing Co., Ltd. Antireflection laminated body
JP5114438B2 (ja) * 2008-02-13 2013-01-09 富士フイルム株式会社 光学フィルム、その製造方法、偏光板および画像表示装置
JP2010008757A (ja) * 2008-06-27 2010-01-14 Konica Minolta Opto Inc 防眩性反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置
JP2010152311A (ja) 2008-07-22 2010-07-08 Fujifilm Corp 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP2010181613A (ja) * 2009-02-05 2010-08-19 Nof Corp 反射防止フィルム
CN102317993A (zh) * 2009-02-13 2012-01-11 夏普株式会社 显示装置
CN102483469B (zh) * 2009-09-18 2014-08-27 东丽株式会社 防反射部件、和防反射部件的制造方法
KR101725585B1 (ko) * 2011-05-16 2017-04-10 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 반사 방지 필름의 제조 방법, 반사 방지 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
JP6053262B2 (ja) * 2011-08-02 2016-12-27 キヤノン株式会社 光学素子、それを用いた光学系および光学機器
JP2013104959A (ja) 2011-11-11 2013-05-30 Toppan Printing Co Ltd 反射防止フィルム
JP2013125266A (ja) * 2011-12-16 2013-06-24 Asahi Glass Co Ltd ディスプレイ用光学フィルタおよびディスプレイ装置
JP2013142817A (ja) * 2012-01-11 2013-07-22 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置
JP5826104B2 (ja) * 2012-04-27 2015-12-02 富士フイルム株式会社 光拡散性反射防止フィルム、光拡散性反射防止フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置
JP2014056066A (ja) 2012-09-12 2014-03-27 Toppan Printing Co Ltd 反射防止フィルムおよびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN105467473B (zh) 2019-03-08
KR102569304B1 (ko) 2023-08-22
TWI673513B (zh) 2019-10-01
US20160091632A1 (en) 2016-03-31
KR20230073167A (ko) 2023-05-25
JP6992865B2 (ja) 2022-01-13
US9829603B2 (en) 2017-11-28
JP6780229B2 (ja) 2020-11-04
TW201625985A (zh) 2016-07-16
CN105467473A (zh) 2016-04-06
JP2021015282A (ja) 2021-02-12
JP2016071369A (ja) 2016-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102569304B1 (ko) 반사 방지 필름, 표시 장치 및 표시 장치의 반사 방지 필름의 선택 방법
KR101870473B1 (ko) 반사 방지 필름, 반사 방지 필름의 제조 방법, 편광판 및 화상 표시 장치
TWI418463B (zh) An optical laminate, a polarizing plate, and an image display device
TWI534460B (zh) An optical film, a polarizing plate, a liquid crystal panel, and an image display device
JP6427968B2 (ja) 反射防止フィルム及びディスプレイ
KR20150143629A (ko) 하드 코트 필름 및 하드 코트 필름 권회체
JP6825198B2 (ja) 防眩性光学積層体及び画像表示装置
JP2009086660A (ja) 光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置
TW201305590A (zh) 防眩性薄膜、偏光板、影像顯示裝置及防眩性薄膜之製造方法
JP2006154758A (ja) 光学積層体
KR20160114593A (ko) 양면 투명 도전성 필름 및 그 권회체, 그리고 터치 패널
KR102467683B1 (ko) 반사 방지 필름, 해당 반사 방지 필름을 사용한 표시 장치, 및 반사 방지 필름의 선택 방법
JP2010241937A (ja) ハードコート層用硬化性樹脂組成物、ハードコートフィルム、及び透過型光学表示装置
TW201604574A (zh) 光學膜及附觸控面板之顯示裝置
JP6561519B2 (ja) 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法
JP6558007B2 (ja) 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法
JP2007322877A (ja) 光学積層体
KR102055018B1 (ko) 방현성 필름의 제조 방법, 방현성 필름, 도공액, 편광판 및 화상 표시 장치
JP6405883B2 (ja) 積層体、導電性積層体、及び、タッチパネル
JP6907435B2 (ja) 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法
JP6561520B2 (ja) 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法
JP6907436B2 (ja) 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法
US7569277B2 (en) Optical laminate
JP2021039359A (ja) 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法
JP2021015283A (ja) 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
A107 Divisional application of patent