TWI454725B - 光學積層膜 - Google Patents

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TWI454725B TW097103644A TW97103644A TWI454725B TW I454725 B TWI454725 B TW I454725B TW 097103644 A TW097103644 A TW 097103644A TW 97103644 A TW97103644 A TW 97103644A TW I454725 B TWI454725 B TW I454725B
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Hideki Moriuchi
Masaomi Kuwabara
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Tomoegawa Co Ltd
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Description

光學積層膜
本發明係有關設置於液晶顯示器(LCD)與電漿顯示器(PDP)等顯示器表面的光學積層膜，尤其有關用以改善畫面辨識性的光學積層膜。
近年來，LCD與PDP等顯示器蓬勃發展，從手機到大型電視，在各種用途有各種規格的製品被製造、販賣。
關於此等顯示器，因螢光燈等室內照明、來自窗戶之太陽光的射入、操作者之影子等的映入於顯示裝置表面，而使畫面辨識性被妨礙。因此，於顯示器表面上，為了提升畫面辨識性而使形成有可擴散表面反射光、抑制外光之正反射、防止外部環境之映入(具有防眩性)之細微凹凸構造的防眩膜等功能性膜設置於最上層表面(以往之AG)。
此等功能性膜係一般製造販賣有於聚對苯二甲酸乙二酯(以下稱為「PET」)或三乙酸纖維素(以下稱為「TAC」)等透光性基體上設置一層形成有細微凹凸構造之防眩層者、或在光擴散層上層積低折射率層者，而藉由層構成之組合以提供期望之功能的功能性膜的開發係正在進行。
然而，近年來顯示器之大型化、高精細化、高對比化係不斷進展，而出現提升功能性膜所需求性能的要求。
在最上層表面使用防眩膜時，當在明亮的房間使用之際，會有因光的擴散而使顯示黑色的影像泛白並降低對比的問題。因此，要求即使減低防眩性也能達成高對比的防 眩膜(高對比AG)。
為了達成高對比，以往係使用在防眩膜之上層設置一層或多層低反射層的方法(附低反射層之AG)。
另一方面，在將防眩膜使用於最上層表面時，有被認為是因細微凹凸構造所引起之閃爍光(亮度之強弱的部分)產生於表面而使辨識性下降的問題。此閃爍光係隨著顯示器之像素數增加所伴隨之像素的精細化、以及像素分割方式等顯示器之技術提升而變得容易產生，故要求具有防閃爍光效果之防眩膜(高精細AG)。
為了達成防閃爍光效果，如專利文獻1，詳細規定功能性膜表面之平均峰距(Sm)、中心線平均表面粗度(Ra)、以及十點平均表面粗度(Rz)，此外，就調整朝向畫面之外光的映入、閃爍光現象、或泛白之平衡的方法而言，如專利文獻2以及專利文獻3詳細規定表面霾值(haze)與內部霾值之範圍的方法亦正在進行開發。因此，在高精細LCD所使用之光擴散性板的設計方面，進行控制用以發揮防閃爍光效果之內部擴散性、與用以發揮防白化效果之表面擴散性。
[專利文獻1]日本特開2002－196117號公報 [專利文獻2]日本特開平11－305010號公報 [專利文獻3]日本特開2002－267818號公報
如此，存在有防眩功能、高對比、防閃爍光之欲解決 之課題，但此等課題彼此間為若追求一方之性質則會犧牲其他方之性質的取捨關係。因此，以於透光性基體上層積1層之構成來滿足此等功能者，到目前為止仍不存在。在此，作為同時賦予此等功能之方法，雖正在進行層積多層之膜或膜表面之形狀等的開發，但多層化造成於透光性基體上塗佈複數次的步驟變為必要而花費較多成本。此外，係難以調整因多層化所致之各層間的平衡，而實際上僅因應使用的目的而選擇、實現此等功能的一部分。
在此，本發明之目的係提供具備均衡之防眩功能、高對比、以及防閃爍光功能並可適用於高精細LCD的光學積層膜，尤其是提供以於透光性基體上層積1層的構造來達成此等功能的光學積層膜。
本發明人努力研究的結果，發現若在光學積層膜的表面構築細微構造，並改變內部霾值與全霾值，則存在有使到目前為止被認為是取捨關係的防眩功能、高對比、以及防閃爍光功能之任一者皆成為最佳化的範圍，而得以完成本發明。
本發明(1)為一種光學積層膜，其係在透光性基體上層積含有透光性樹脂微粒子之輻射線硬化型樹脂層的光學積層膜，其中，上述光學積層膜係具有滿足次式(1)至(4)之內部霾值(X)與全霾值(Y)，同時並在上述樹脂層之最上層表面具有細微之凹凸形狀。
Y>X (1) .Y≦X＋11 (2) Y≦50 (3) X≧15 (4)
本發明(2)係如發明(1)記載之光學積層膜，其中，上述細微之凹凸形狀的平均傾斜角為0.4∘至1.6∘。
本發明(3)係如發明(1)或(2)記載之光學積層膜，其中，上述細微之凹凸形狀的凹凸平均間隔(Sm)為50至200μm。
本發明(4)係如發明(1)至(3)中任一項記載之光學積層膜，其中，上述樹脂層之最上層表面的馬克白(Macbeth)反射濃度為2.0以上。
本發明(5)係如發明(1)至(4)中任一項記載之光學積層膜，其中，於上述樹脂層的上層設置低反射層。
本發明之光學積層膜，即使是僅於透光性基體上層積1層的構造，亦為防眩功能、高對比、防閃爍光功能之平衡優良者，且為在使用於顯示器表面時令辨識性良好之高畫質的顯示器顯示能力成為可能者。然後，亦為因減少塗佈步驟而同時可能減低成本者。
首先，詳細敘述有關本最佳形態之光學積層膜之各構成要素(透光性基體、輻射線硬化型樹脂層)。先就有關本最佳形態之透光性基體而言，只要為透光性便無特別限定，雖然亦可使用石英玻璃或鈉玻璃等玻璃，但可適合使 用PET、TAC、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚醯亞胺(PI)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚乙烯醇(PVA)、聚氯乙烯(polyvinyl chloride，亦即PVC)、環烯烴共聚合物(COC)、含降冰片烯之樹脂、聚醚碸、賽珞凡(cellophane)、芳族聚醯胺等各種樹脂膜。另外，在使用於PDP、LCD時，以PET、TAC膜為較佳。
此等透光性基體的透明性係以越高者越好，就全光線穿透率(JIS K7105)而言為80%以上，較宜為90%以上。此外，就透明基體的厚度而言，從輕量化的觀點來看以薄型為佳，若考慮其生產性與處理性，適合使用在1至700μm範圍者，較宜使用在25至250μm者。
此外，藉由於透光性基體進行鹼處理、電暈處理、電漿處理、濺鍍處理等表面處理；界面活性劑、矽烷偶合劑等之塗佈；或矽蒸鍍等表面改質處理，而可提升透光性基體與樹脂層的密合性。
接著，詳細說明有關本最佳形態之輻射線硬化型樹脂層。有關本最佳形態之輻射線硬化型樹脂層，係只要是藉由以輻射線使輻射線硬化型樹脂組成物硬化的方式形成者，並為含有透光性樹脂微粒子之層便無特別限制。在此，就構成該樹脂層之輻射線硬化型樹脂組成物而言，可將具有丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基等自由基聚合性官能基或環氧基、乙烯基醚基、氧環丁烷基(oxetane group)等陽離子聚合性官能基的單體、寡聚 物、或預聚合物單獨使用或使用適當混合之組成物。就單體的例而言，可舉出丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、甲氧基聚乙烯甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸苯氧基乙酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯等。就寡聚物、預聚合物而言，可舉出聚酯丙烯酸酯、聚胺甲酸酯丙烯酸酯、多官能胺甲酸酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、酸醇甲基丙烯酸酯、三聚氰胺甲基丙烯酸酯、聚矽氧丙烯酸酯等丙烯酸酯化合物；不飽和聚酯、1,4－丁二醇環氧丙醚、丙二醇二環氧丙醚、新戊二醇二環氧丙醚、雙酚A二環氧丙醚或各種脂環式環氧基等環氧系化合物；3－乙基－3－羥甲基氧環丁烷、1,4－雙{[(3－乙基－3－氧環丁基)甲氧基]甲基}苯、二[1－乙基(3－氧環丁基)]甲醚等氧環丁烷化合物。此等化合物可單獨或複數混合使用。
上述輻射線硬化型樹脂組成物，係可直接藉由照射電子束而硬化，但在藉由紫外線照射進行硬化時，必須添加光聚合起始劑。就使用之輻射線而言，只要是紫外線、可見光、紅外線、電子束之任一者皆可。此外，此等輻射線可為偏光亦可為無偏光。就光聚合起始劑而言，可將苯乙酮系、二苯基酮系、噻噸酮(thioxanthone)系、安息香、安息香甲醚等自由基聚合起始劑；芳族重氮鹽、芳族鋶鹽、芳族錪鹽、茂金屬(metallocene)化合物等陽離子聚合起始劑予以單獨或適當組合使用。
在本最佳形態中，除了上述輻射線硬化型樹脂組成物之外，可在不妨礙其聚合硬化的範圍添加使用高分子樹脂。此高分子樹脂係為可溶於後述樹脂層塗料所使用之有機溶劑的熱可塑性樹脂，具體地可舉出丙烯酸系樹脂、酸醇樹脂、聚酯樹脂等。在此等樹脂中，以具有羧基或磷酸基、磺酸基等酸性官能基為佳。
此外，可使用調平劑、增黏劑、抗靜電劑等添加劑。調平劑係有謀求塗膜表面之張力均一化而在塗膜形成前矯正缺陷的作用，可使用界面張力、表面張力皆較上述輻射線硬化型樹脂組成物低的物質。增黏劑係有將搖變性賦予至上述輻射線硬化型樹脂組成物的作用，藉由防止透光性樹脂微粒子或顏料等之沉降而在樹脂層表面之細微凹凸形狀之形成方面具有效果。
樹脂層係主要由輻射線硬化型樹脂組成物之硬化物所構成，其形成方法係為塗佈由輻射線硬化型樹脂組成物與有機溶劑所構成的塗料，並於有機溶劑揮發後藉由電子束或紫外線照射而硬化者。就在此使用之有機溶劑而言，必須選擇適合溶解輻射線硬化型樹脂組成物者。具體而言，考慮到對透光性基體的可濕性、黏度、乾燥速度等塗佈適性，而可使用從醇系、酯系、酮系、醚系、芳族烴中選出之單獨或混合溶劑。
樹脂層的厚度係為在1.0至12.0μm的範圍，較宜為在2.0至11.0μm的範圍，更宜為在3.0至10.0μm的範圍。在硬塗佈層比1μm薄的情形，於其為紫外線硬化型時因氧抑 制(oxygen inhibition)而造成硬化不良，使樹脂層的耐磨耗性劣化；而在比12μm厚的情形，會因樹脂層的硬化收縮而產生捲曲，或產生微裂縫，或使與透光性基體的密合度下降，甚至使光穿透性下降。然後，亦會成為因伴隨膜厚增加之必須塗料量增加所造成之成本增加的原因。
就輻射線硬化型樹脂層所含有之透光性樹脂微粒子而言，可使用由丙烯酸系樹脂、聚苯乙烯樹脂、苯乙烯－丙烯酸系共聚物、聚乙烯樹脂、環氧樹脂、聚矽氧樹脂、聚偏二氟乙烯(polyvinylidene fluoride)、聚二氟乙烯(polyethylene fluoride)系樹脂等所構成之有機透光性樹脂微粒子。透光性樹脂微粒子的折射率係宜為1.40至1.75。在折射率未滿1.40或超過1.75時，與透光性基體或樹脂層的折射率差會變得過大，而使全光線穿透率降低。此外，透光性樹脂微粒子與樹脂之折射率的差，宜為0.2以下。透光性樹脂微粒子的平均粒徑宜為在0.3至10μm之範圍者，較宜為在1至5μm。由於當粒徑在0.3μm以下時防眩性會降低，且由於在10μm以上時，於產生閃爍光的同時，表面凹凸程度亦變得過大而使表面白化，故不適合。此外，上述樹脂中所包含的透光性樹脂微粒子之比例並無特別限定，但若相對於樹脂組成物100重量份設為1至20重量份，則不僅因滿足防眩功能、閃爍光等特性而為適宜，且容易控制樹脂層表面的細微凹凸形狀與霾值。
在本發明中，為了提升對比，以在輻射硬化型樹脂層上設置低反射層為較佳。在此情形下，低反射層的折射率 必須比輻射硬化型樹脂層的折射率低，宜為1.45以下。就具有此等特徵的材料而言，可舉出例如將LiF(折射率n＝1.4)、MgF2 (折射率n＝1.4)、3NaF．A1F3 (折射率n＝1.4)、A1F3 (折射率n＝1.4)、Na3 A1F6 (折射率n＝1.33)等無機材料進行微粒子化，再使該等內含於丙烯酸系樹脂或環氧系樹脂等中之無機系低反射材料；氟系或聚矽氧系之有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、輻射線硬化型樹脂等有機低反射材料。其中，尤以氟系之含氟材料在可防止髒污的觀點為佳。此外，低反射層係以臨界表面張力為20dyne/cm以下為佳。在臨界表面張力超過20dyne/cm時，附著於低反射層的髒污會變得難以清除。
就上述含氟材料而言，可舉出溶解於有機溶劑且容易處理之偏二氟乙烯系共聚物、氟化烯烴/烴共聚物、含氟之環氧樹脂、含氟之環氧丙烯酸酯、含氟之聚矽氧、含氟之烷氧基矽烷等。此等化合物可單獨亦可複數組合使用。
此外，亦可舉出甲基丙烯酸2－(全氟癸基)乙酯、甲基丙烯酸2－(全氟－7－甲基辛基)乙酯、甲基丙烯酸3－(全氟－7－甲基辛基)－2－羥丙酯、甲基丙烯酸2－(全氟－9－甲基癸基)乙酯、甲基丙烯酸3－(全氟－8－甲基癸基)－2－羥丙酯等含氟之甲基丙烯酸酯；丙烯酸3－全氟辛基－2－羥丙酯、丙烯酸2－(全氟癸基)乙酯、丙烯酸2－(全氟－9－甲基癸基)乙酯等含氟之丙烯酸酯；3－全氟癸基－1,2－環氧丙烷、3－(全氟－9－甲基癸基)－1,2－環氧丙烷等環氧化物；環氧丙烯酸酯等輻射線硬化型之含氟之單體、寡聚物、預聚合物等。此等化合物可單獨 亦可混合複數種類使用。
再者，亦可使用將5至30nm之二氧化矽超微粒子分散於水或有機溶劑之溶膠、與氟系之皮膜形成劑混合而成的低反射材料。5至30nm之二氧化矽超微粒子分散於水或有機溶劑之溶膠係可使用下述者：藉由以離子交換等將矽酸鹼鹽中之鹼金屬離子進行脫鹼的方法、或以無機酸將矽酸鹼鹽中和的方法等，而使已知的活性矽酸縮合所得之公知矽膠；藉由將烷氧基矽烷於有機溶劑中並在鹼性觸媒的存在下進行水解與縮合所得之公知矽膠；還有藉由以蒸餾法等將上述水性矽膠中的水置換成有機溶劑所得之有機溶劑系矽膠(有機矽膠)。此等矽膠係可使用水系及有機溶劑系之任一者。在製造有機溶劑系矽膠時，不必完全將水置換成有機溶劑。上述矽膠係含有SiO2 為0.5至50重量%濃度的固形成分。矽膠中的二氧化矽超微粒子構造，係可使用球狀、針狀、板狀等各種物體。
此外，就皮膜成形劑而言，可使用烷氧基矽烷、金屬烷氧化物或金屬鹽的水解物；或是將聚矽氧烷予以氟改性者等。即使在如上述的皮膜形成劑中，亦尤其是藉由使用氟化物，而可使低反射層的臨界表面張力降低以抑制油分附著，因而為較適宜。本發明之低反射層，係可以例如溶劑稀釋上述材料，再以旋塗機、輥塗機、以及印刷等方法設置於輻射線硬化型樹脂層上並乾燥後，藉由以熱或輻射線(紫外線時使用上述之光聚合起始劑)等使其硬化而獲得。輻射線硬化型之含氟之單體、寡聚物、預聚合物雖於 耐污染性優秀，但由於可濕性差，故依組成而會有在輻射線硬化型樹脂層上翹起低反射層的問題，或有低反射層從輻射線硬化型樹脂層剝離的問題的疑慮，因此，較佳為將作為使用於輻射線硬化型樹脂層之上述輻射線硬化型樹脂所說明的具有丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基等聚合性不飽和鍵結之單體、寡聚物、預聚合物予以適當混合而使用。
另外，在使用容易因熱受損之PET、TAC等塑膠系膜作為透明基體時，就此等低反射層的材料而言，以選擇輻射線硬化型樹脂為佳。
關於用以使低反射層發揮良好之防反射功能的厚度，能以公知的計算式予以算出。當入射光垂直入射至低反射層時，使低反射層不反射光而使光100%穿透之條件係只要滿足下面的關係式即可。其中，式中No 表示低反射層的折射率，Ns 表示輻射線硬化型樹脂層的折射率，h表示低反射層的厚度，λo 表示光的波長。
No ＝Ns 1/2 (1) No h＝λo /4 (2)
根據上述(1)式可知，為了100%防止光的反射，只要選擇使低反射層的折射率成為下層(放射線硬化性樹脂層)之折射率的平方根的材料即可。惟，實際上難以找出完全符合此算式的材料，因此係選擇儘量接近的材料。在上述(2)式中，係從(1)式所選擇之低反射層的折射率、與光的波長，來計算作為低反射層之防反射膜的最適當厚度。例如， 令輻射線硬化型樹脂層、低反射層的折射率各為1.50、1.38，並令光的波長為550nm(視感度之基準)，若將此等值代入上述(2)式，則算出低反射層之厚度為0.1μm左右之光學膜厚，以在0.1±0.01μm的範圍為較佳。
接著，詳述有關本最佳形態之光學積層膜的性質。在輻射線硬化型樹脂層的下層，可設置其他功能性賦予層。具體而言，可設置抗靜電層、近紅外線(NIR)吸收層、氖遮斷層、電磁波屏蔽層、硬塗佈層。該光學積層膜係具有滿足下式(1)至(4)之內部霾值(X)與全霾值(Y)。在此，「全霾值」係指光學積層膜之霾值，「內部霾值」係指從在光學積層膜之細微凹凸表面貼有附黏著劑之透明性板之狀態下的霾值減去附黏著劑之透明性板的霾值之值。另外，任一者的霾值皆為依照JIS K7015測定之值。
Y>X (1) Y≦X＋11 (2) Y≦50 (3) X≧15 (4)
在此，於Y>X＋11的範圍，因表面的光擴散效果變大而造成表面白化，並使對比降低。適合的範圍為X＋1<Y<X＋8，較宜為X＋2≦Y≦X＋6。在Y≦X＋11、Y>50的範圍，不但穿透率下降，且於白影像顯示可確認到著色，使辨識性降低。在X<15的範圍，因內部擴散效果不足而表現有閃爍光。適合的範圍在18<X<40，較宜為25≦X≦35。
再者，該光學積層膜係於上述樹脂層之最上層表面具 有細微的凹凸形狀。在此，該細微之凹凸形狀係以從依照ASME95求得之平均傾斜所計算的平均傾斜角度在0.4至1.6的範圍為佳，較宜為0.5至1.4，更宜為0.6至1.2。由於若平均傾斜角度未滿0.4則會使防眩性惡化，若平均傾斜角度超過1.6則會使對比惡化，故不適合作為使用於顯示器表面的光學積層膜。再者，該細微凹凸形狀係以凹凸平均間隔(Sm)在50至250μm的範圍為佳，較宜為55至220，更宜為60至180μm的範圍。再者，該細微凹凸形狀係以馬克白反射濃度為2.0以上為佳，較宜為2.5以上，更宜為2.7以上。
再者，該光學積層膜係以穿透像鮮明度在5.0至70.0的範圍(依據JIS K7105使用0.5mm光梳所測定的值)為佳，以在20.0至65.0為較佳。由於若穿透像鮮明度未滿5.0則會使對比惡化，若超過70.0則會使防眩性惡化，故不適合作為使用於顯示器表面的光學積層膜。
接著，詳細說明有關本最佳形態之光學積層膜的製造方法。首先，詳細說明控制為本發明特徵之表面凹凸形狀或霾值等各種參數的方法。首先，X(內部霾值)之範圍的控制係(為了成為在X≧15的範圍)可藉由透光性微粒子與輻射線硬化型樹脂之折射率的差、透光性微粒子的添加量(每單位面積之含有量)來調節。此外，為了成為在Y≦X＋11的範圍，必須將透光性微粒子的添加量(每單位面積之含有量)、以及透光性微粒子所造成之凹凸藉由塗膜厚度、塗料 物性、乾燥條件等來進行調節。尤其是藉由使用增黏劑作為材料，而可使填料的沉降被抑制，使厚度方向之填料位置變得容易調節，以獲得期望的特性。在此，就上述X(內部霾)之控制、與為了成為在Y≦X＋11之範圍而控制的方法而言，可採用使用兩種透光性微粒子的方法。在此，比起僅使用單獨之透光性微粒子，可更容易進行上述控制。在此情形下，可一起使用折射率與輻射線硬化型樹脂相同的透光性微粒子、以及折射率與輻射線硬化型樹脂不同的透光性微粒子。
關於其他部分，可適用於與習知之光學積層膜相同的手法。例如，在透光性基體上形成樹脂層的方法係並無特別限制，可藉由以下方式進行：在透光性基體上，塗佈包含含有透光性樹脂微粒子之輻射線硬化型樹脂組成物的塗料，乾燥後進行硬化處理，而製成表面具有細微凹凸形狀之樹脂層。就於透光性基體上塗佈塗料的手法而言，可適用一般的塗佈方式或印刷方式。具體而言，可使用氣刀(air doctor)塗佈法、棒塗法、刮刀塗佈法、刀式塗佈法、逆輥塗佈法(reverse coating)、轉印輥塗佈法、凹版輥塗佈法、接觸式塗佈法(kiss coating)、鑄塗法(cast coating)、噴塗法、狹縫模孔(slot orifice)塗佈法、軋光(calendar)塗佈法、壩式(dam)塗佈法、浸漬塗布法、壓鑄模塗佈法等塗佈法；或凹版印刷等凹版印刷、網版印刷等孔板印刷等印刷。
(實施例)
以下說明本發明之實施例以及比較例。另外，「份」係 代表「重量份」。
就樹脂層用塗料而言，將由下述塗料成分所構成之混合物以砂磨機分散30分鐘而得到塗料，將此塗料以逆輥塗佈法塗佈於膜厚度80μm、全光線穿透率92%之透明基體之TAC的單面上，並於100℃乾燥1分鐘後，在氮氣環境中以一個120W/cm集光型高壓水銀燈進行紫外線照射(照射距離10cm，照射時間30秒)，令塗佈膜硬化。
<樹脂層用塗料成分>
以如此方式，獲得具有厚度8μm之樹脂層的實施例之光學積層膜。
[比較例1]
令樹脂用塗料成分與實施例1相同，變更TAC上的塗佈厚度。
以如此方式，獲得具有厚度4.4μm之樹脂層的比較例1之光學積層膜。
[比較例2]
除了令樹脂用塗料成分變更為下述以外，以與實施例相同方式進行。
以如此方式，獲得具有厚度2.7μm之樹脂層的比較例2之光學積層膜。
使用實施例以及比較例1至2所得之光學積層膜，藉由下述方法測定並評估霾值、全光線穿透率、穿透像鮮明度、平均傾斜角度、Ra、Sm、馬克白反射濃度、防眩性、對比、以及閃爍光。
霾值係依據JIS K7105，使用霾值測量計(商品名：NDH2000，日本電色社製)測定。
測定內部霾值時所使用的附黏著劑之透明性板係如以下所述。
全光線穿透率係依據JIS K7105，使用上述霾值測量計測定。
關於穿透像鮮明度，係依據JIS K7105，使用影像清晰度測定器(商品名：ICM－1DP，SUGA試驗機社製)，將測定器設定為穿透模式，以光梳寬0.5mm進行測定。
關於平均傾斜角度，係依據ASME95，使用表面粗度 測定器(商品名：Surfcorder SE1700α，小坂研究所社製)求得平均傾斜，並依據下式算出平均傾斜角度。
平均傾斜角度＝tan－1 (平均傾斜)
Ra以及Sm係依據JIS BO601－1994，使用上述表面粗度測定器測定。
關於馬克白反射濃度，係依據JIS K 7654，使用馬克白反射濃度計(商品名：RD－914，SAKATAENGINEERING社製)將實施例及各比較例之光學積層膜之透光性基體之樹脂層反對側的面以MAGICINK(登錄商標)塗黑後，測定樹脂層表面的馬克白反射濃度。
防眩性係將實施例及各比較例之光學積層膜隔介黏著層而貼合於液晶電視(商品名：AQUOS LG－32GD4，SHARP社製)的畫面表面上後，令液晶顯示體為熄滅狀態，以任意100人來目視判定在照度2501x的條件下於從畫面表面中心垂直距離50cm的地方看自己的影像(臉)是否有映照至畫面，而藉此進行評估。評估方法係以不覺得有映照的人在70人以上時為○，在30人以上未滿70人時為△，未滿30人為×。
對比係將實施例及各比較例之光學積層膜、與比較用的無光澤(nonglare)膜(商品名：SUN Filter NF，SUNCREST社製)，隔介黏著層而貼合於液晶電視(商品名：AQUOS LG－32GD4，SHARP社製)的畫面表面上後，令液晶顯示體為熄滅狀態，以任意100人來目視判定在照度2501x的條件下於從畫面表面中心垂直距離50cm的地方看的黑度， 而藉此進行評估。評估方法係以覺得貼合光學積層膜之畫面較貼合比較用之無光澤膜之畫面黑的人在70人以上時為○，在30人以上未滿70人時為△，未滿30人為×。
閃爍光係將實施例及各比較例之光學積層膜隔介黏著層而貼合於液晶顯示器(商品名：LL－T1620－B，SHARP社製)的畫面表面上後，令液晶顯示體為顯示綠色的狀態，以任意100人來目視判定在照度2501x的條件下於從畫面表面中心垂直距離50cm的地方看是否有閃爍光，而藉此進行評估。評估方法係以不覺得有閃爍光的人在70人以上時為○，在30人以上未滿70人時為△，未滿30人為×。
將上述評估方法之評估結果表示於表1。
實施例1之光學積層膜係為均衡地滿足防眩性、對比、閃爍光者，但超過Y>X＋11範圍之比較例1的光學積層膜係無法滿足對比，而X未滿15之比較例2的光學積層膜係無法滿足閃爍光。
(產業上的利用可能性)
如上所述，藉由以將霾值、穿透像鮮明度、平均傾斜 角度控制在適當的範圍內，而可提供均衡地滿足防眩性、對比、顏色再現性、以及閃爍光之光學積層膜。

Claims (5)

  1. 一種光學積層膜，其係在透光性基體上層積一層含有透光性樹脂微粒子之輻射線硬化型樹脂層的光學積層膜，其中，上述光學積層膜係具有滿足次式(1)至(4)之內部霾值(X)與全霾值(Y)，同時並在上述樹脂層之最上層表面具有平均傾斜角為0.4°至1.6°之細微之凹凸形狀：Y>X (1) Y≦X+11 (2) Y≦50 (3) X≧15 (4)。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學積層膜，其中，前述細微之凹凸形狀的凹凸平均間隔(Sm)為50至200μm。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項之光學積層膜，其中，前述樹脂層之最上層表面的馬克白(Macbeth)反射濃度為2.0以上。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項之光學積層膜，其中，於前述樹脂層的上層設置低反射層。
  5. 如申請專利範圍第3項之光學積層膜，其中，於前述樹脂層的上層設置低反射層。
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