TWI454753B - 光學積層體、偏光板、顯示裝置及光學積層體之製造方法 - Google Patents

光學積層體、偏光板、顯示裝置及光學積層體之製造方法 Download PDF

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Takayuki Nakanishi
Chikara Murata
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Description

光學積層體、偏光板、顯示裝置及光學積層體之製造方法
本發明係有關以第二相集中在構成光學積層體的光學功能層的微粒周圍為特徵的光學積層體、偏光板、顯示裝置及光學積層體的製造方法。本發明的光學積層體可以設置在液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、有機電致發光顯示器(OLED)等的顯示器表面，或作為顯示器的一個構成構件使用，為了使在構成OLED的有機EL層中產生的光向有機EL外輸出的效率提高，可以良好地使用在其觀察面一側。特別是關於重視防眩性、明室下的黑色、暗室對比度這樣的辨認性的光學積層體，該光學積層體能夠適合用於例如電視用途的顯示器等。
液晶顯示裝置(LCD)、電漿顯示器(PDP)等顯示裝置，由於在顯示裝置表面上螢光燈等室內照明、來自窗戶的太陽光的入射、操作者的影子等的映入，使得圖像的辨認性受到干擾。因此，在這些顯示器表面，為了使圖像的辨認性提高，可以在最表面設置形成了能夠擴散表面反射光、抑制外來光的鏡面反射、防止外部環境的映入(具有防眩性)的微小凹凸結構的光學積層體等功能性膜。
這些功能性膜，通常製造銷售的是在聚對苯二甲酸乙二酯(以下稱“PET”)、三醋酸纖維素(以下稱“TAC”)等的透光性基體上設置有形成了微小凹凸結構的光學功能層的膜、在光擴散層上層疊了低折射率層的膜，通過層構成的組合提供所希望的功能的功能性膜的開發一直在進行中。
在顯示器的最表面使用光學積層體的情況下，在明亮的房中使用時，由於光的擴散，存在黑色顯示的圖像有些發白、對比度降低的問題。因此，需要一種即使防眩性降低也能夠達到高對比度的光學積層體(高對比度AG)。作為使光學積層體的對比度提高的方法，例如可舉出使表面的凹凸形狀最佳化。
作為在光學功能層表面形成凹凸形狀的方法，通常為在上述透光性基體上塗布添加了微粒的光學功能層形成用塗料後，對該光學功能層形成材料照射紫外線以形成光學功能層(參照例如專利文獻1)。
此外，也有通過使光學功能層中含有的微粒的粒徑和表面凹凸形狀(傾斜角)最佳化從而兼顧防眩性和對比度的方法(參照例如專利文獻2)。
此外，還有通過使用多種樹脂成分不含微粒地形成表面凹凸，通過利用該樹脂成分的相分離特性形成帶狀結構從而兼顧防眩性和對比度的方法(參照例如專利文獻3)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2002-196117號公報
專利文獻2：日本特開2008-158536號公報
專利文獻3：日本特開2008-225195號公報
如專利文獻1，在使用含有微粒的光學功能層的情況下達到防眩性和防閃光的效果。然而，由於在光學功能層中含有的微粒的界面和基於該微粒的形狀的光學功能層的表面凹凸部分產生光的散射，因此存在難以達到高對比度的問題。
如專利文獻2，即便在使微粒的粒徑和表面凹凸的傾斜角最佳化的情況下，也存在對比度不充分的問題。
如專利文獻3，對於利用多種樹脂成分的相分離以在表面形成帶狀凸部的方法，存在製造穩定性方面的問題。
因此，本發明的目的在於提供一種具有不僅防眩性、明室下的黑色優異，而且能夠實現高的暗室對比度的結構體、且製造穩定性優異的光學積層體及該光學積層體的製造方法。另外，本發明的目的還在於提供一種具備該光學積層體的偏光板及顯示裝置。
本發明通過下述技術構成能夠解決上述課題。
(1)一種光學積層體，其特徵在於，其為在透光性基體上層疊有光學功能層的光學積層體，該光學功能層具有：含有相對多的樹脂成分的第一相、含有相對多的無機成分的第二相、和微粒，第二相集中在該微粒的周圍。
(2)如前述(1)所述的光學積層體，其中，前述無機成分為無機奈米微粒。
(3)如前述(1)所述的光學積層體，其中，前述第二相為無機奈米微粒的聚集體。
(4)如前述(1)所述的光學積層體，其中，前述第二相含有0.2質量%以上的無機成分。
(5)一種偏光板，其特徵在於，在構成前述(1)至(4)中任一項所述的光學積層體的透光性基體上層疊有偏光基體。
(6)一種顯示裝置，其特徵在於，具備有前述(1)至(4)中任一項所述的光學積層體。
(7)一種光學積層體的製造方法，其特徵在於，經過如下步驟：在透光性基體上塗布包含有樹脂成分、無機成分、微粒、第1溶劑和第2溶劑的溶液，隨著使第1溶劑和第2溶劑揮發而產生對流的乾燥步驟；以及將經乾燥的塗膜硬化來形成光學功能層的硬化步驟。
根據本發明，能夠提供一種具有不僅防眩性、明室下的黑色優異且能夠實現高的暗室對比度的結構體、且製造穩定性優異的光學積層體及該光學積層體的製造方法。另外，能夠提供一種具備該光學積層體的偏光板及顯示裝置。
進一步地，根據本發明，能夠提供可適合用於要求高對比度的電視用途的光學積層體。
以下說明本發明。構成本發明的光學功能層具有無規聚集結構。第1圖為示意地表示光學功能層的結構的圖。(a)和(b)為表示光學功能層的表面結構的平面圖，(c)和(d)為表示光學積層體的側截面結構的側截面圖。(a)和(c)為以往的海島結構的光學功能層，(b)和(d)為具有無規聚集結構的光學功能層。
由於構成本發明的光學功能層只要至少具有第一相和第二相即可，因此，光學功能層也可以具有第三相、第四相，對構成光學功能層的相的數量沒有限定。例如光學功能層可以具有相機結構。具體可舉出在第1圖(d)的光學功能層16的凹凸上形成其它的相(例如第三相)的層。
構成本發明的光學功能層如第1圖(b)和(d)所示，至少具有含有相對多的樹脂成分的第一相1和含有相對少的該樹脂成分(含有相對多的無機成分)的第二相2。該第二相2各自以不同的大小和形狀存在。構成光學功能層的第一相和第二相在三維空間錯綜複雜地存在。
此外，構成本發明的光學功能層16中存在微粒3。在該微粒3的周圍幾乎不存在構成光學功能層16的第一相1，而存在第二相2。也就是說，第二相2集中在構成光學功能層16的微粒3的周圍。第二相2集中在微粒3的周圍可通過使用激光顯微鏡、SEM(掃描電子顯微鏡)、EDS(能量分散型X射線分光器)來進行確認。
本發明中，“第二相集中在微粒的周圍”是基於從光學積層體的光學功能層面觀察的SEM結果來判斷。首先，從該SEM結果選擇任意10點的微粒。接著，從各個微粒的中心到該微粒長軸的10倍大小的同心圓內存在的第一相和第二相中，求出第二相所占的比例。接下來，算出在任意10點的同心圓內的第二相所占比例的平均值。如果該平均值和比較對照相比相對較高，則符合“第二相集中在微粒的周圍”，如果該平均值和比較對照相比相對較低，則不符合“第二相集中在微粒的周圍”。
比較對照根據上述SEM結果求出。比較對照係將第一相中存在的10點的某點為中心而對應上述各個微粒長軸的10倍大小的同心圓。其中，將10點的某點全部設置在該同心圓內不含微粒的地方。由此，算出10點的某點的同心圓內的第二相所占比例的平均值。
本發明中，光學功能層包含第一相和第二相，無規聚集結構是指第一相和第二相在三維空間互相錯綜複雜地存在，該第二相集中在微粒的周圍的特異的結構體。
如第1圖(c)所示，以往，光學功能層15是在透光性基體20上，利用微粒30、31的形狀來形成表面凹凸。也就是說，由於在微粒30、31上存在的樹脂40因該微粒的形狀而凸起，而在不存在微粒30、31的部分樹脂40不凸起，從而凸部分和凹部分交替形成，因此光學功能層15的表面凹凸是斜率大的結構。另外，第1圖(a)、(c)中，在多個微粒聚集存在而形成表面凹凸時，其表面凹凸也是斜率大的結構。
相對於此，就本發明的光學功能層16而言，由於第二相2集中在微粒3的周圍，與第1圖(a)和(c)中所示的以往的光學功能層相比，能夠減少細微的凹凸，從而能夠提高高防眩性和明室下的黑色。這是由於：構成本發明的光學功能層，由於在第一相上形成比較平坦的面，因此在該第一相上既提高明室下的黑色又實現高的暗室對比度，而由於通過進入第二相中的微粒形成凸部分，從而進入該第二相中的微粒達到防眩作用。
另外，如第二相不集中在微粒的周圍，使微粒存在於第一相和第二相的情況下，會在光學功能層的多個地方形成凹凸(凹凸數量增多)，因此光學功能層會發白，因而不佳。另外，對於不含微粒的光學功能層，由於難以控制表面凹凸的數量和高度等，會使製造變的困難，因此不佳。
構成本發明的光學功能層，只要具有無規聚集結構作為主要結構即可，也可以例如部分存在其它結構(例如海島結構)。
對本發明中形成的無規聚集結構進行金蒸鍍後，通過電子顯微鏡進行觀察，結果可知光學功能層中含有的微粒形成了表面凹凸的凸部分。
此外，對本發明中形成的無規聚集結構進行碳蒸鍍後，通過使用電子顯微鏡進行觀察，可以大致確認碳蒸鍍面的元素的分佈狀況。這是由於：碳蒸鍍面上存在多種元素，通過例如原子序數大的元素顯示為白色、原子序數小的元素顯示為黑色等的顏色區分，從而可用顏色的濃淡表示元素的分佈。
此外，對於本發明中形成的光學功能層和無規聚集結構，通過進行EDS面掃描，可以確認在塗膜(光學功能層)表面、塗膜(光學功能層)的截面存在的元素。該EDS面掃描可以對特定元素(例如：碳元素、氧元素、矽元素等)分佈多的地方進行顏色顯示。
通過使用上述電子顯微鏡的觀察以及EDS面掃描，可以確認無規聚集結構的凹凸結構、特定元素的分佈。由此，可以確認例如在表面凹凸的凸部分中有某特定元素的多數分佈等。
使用第2圖、第4圖再稍微具體地進行說明。第2圖和第4圖為對後述實施例1中製成的光學功能層的表面狀態在同一視野中拍攝的圖，該光學功能層由樹脂成分、無機成分和微粒構成。
第2圖為對光學功能層表面進行了碳蒸鍍的SEM照片。反射電子檢測器中顯示的圖像是將由在光學功能層表面含有的成分引起的反射電子作為圖像來顯示。
反射電子是和原子序數有關的，可以通過例如原子序數大的元素顯示為白色、原子序數小的元素顯示為黑色等的顏色區分來顯示。如第2圖所示，光學功能層中的各元素不是在表面水平方向上均勻存在，而是由原子序數大的元素含量相對較多的部分和含量相對較少的部分組成。
第4圖是表示光學功能層表面的通過EDS所得的無機成分(Si)的面掃描結果的圖，所含有的Si成分的量通過顏色的濃淡表示。如第4圖所示，就Si成分而言，也是由含量相對較多的部分和含量相對較少的部分組成。另外，第4圖中為了具體例示而表示了矽(Si)的面掃描結果，但也可以表示出其它的無機成分元素、樹脂(有機物)成分的面掃描結果。關於第4圖所示的面掃描結果，雖然也與檢測條件有關，但只要矽等無機成分為0.2質量%的濃度即可進行檢測。也就是說，包含第一相和第二相這兩相的光學功能層中，第一相包含90質量%以上的樹脂成分和無機成分，第二相包含小於99.8質量%的樹脂成分和0.2質量%以上的無機成分。第一相中含有的樹脂成分宜為95質量%以上者，進一步宜為99質量%以上者。第二相中含有的無機成分宜為1質量%以上者，進一步宜為5質量%以上者，特別宜為10質量%以上者。第二相中含有的樹脂成分宜為小於99質量%者，進一步宜為小於95質量%者，特別宜為小於90質量%者。對於光學功能層中含有的無機成分的量，與第一相相比，第二相中含有更多。
樹脂成分的含量相對較多的部分(第2圖的顏色濃的部分)中，樹脂成分以外的成分的含量相對地減少(第一相)。
另一方面，樹脂成分的含量相對較少的部分(第2圖的顏色淡的部分)中，樹脂成分以外的成分的含量相對地增多(第二相)。
也就是說，本發明的光學功能層是第一相和第二相錯綜複雜地存在的層，是具有一種成分變少則其它成分變多這樣互補關係的層。
此外，第2圖、第4圖為表示光學功能層的表面水平方向的各成分的含量的圖，在表示光學功能層的垂直方向(厚度方向)的各成分的含量的情況下，也同樣可以得到表示互補關係的結果(第3圖)。
<形成無規聚集結構的方法>
本發明的無規聚集結構可以利用無機成分的聚集體伴隨著溶劑揮發時的對流而無規地集中在微粒周圍的現象而製造。詳細而言，可以經過如下步驟來製造：在透光性基體上塗布含有樹脂成分、無機成分、微粒和溶劑(第1溶劑和第2溶劑)的溶液、伴隨著溶劑(第1溶劑和第2溶劑)的揮發而產生對流的乾燥步驟；以及將經乾燥的塗膜硬化而形成光學功能層的硬化步驟。更具體而言，通常可以通過在透光性基體上塗布前述溶液、使溶劑從塗布層蒸發而進行。
雖然對於聚集和對流的併用之詳細的機制未能解釋清楚，但可推測如下。
(1)通過伴隨著溶劑揮發時的對流的聚集，首先在塗布後的塗布層中產生對流域。
(2)接著，各個對流域內產生無機材料的聚集，聚集體隨著時間經過而逐漸巨大化，但在對流的域壁上聚集的成長停止。隨著聚集的產生和時間的推移，以微粒為核使得無機成分聚集起來。
(3)作為其結果，可適度保持聚集體的大小，通過在光學功能層內散佈這些聚集體從而形成無規聚集結構。
通過伴隨本發明中的無規聚集結構的表面凹凸，可以實現防眩性、明室對比度和暗室對比度的兼顧，這是以往的海島結構中的表面凹凸難以實現的。
以下，對每個構成本發明的層可適用的材料加以說明。
<透光性基體>
作為本發明最佳實施方法所涉及的透光性基體，只要為透光性則沒有特別限定，也可以使用石英玻璃、鈉鈣玻璃等玻璃，可以適於使用PET、TAC、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚醯亞胺(PI)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚乙烯醇(PVA)、聚氯乙烯(PVC)、環烯烴共聚物(COC)、含降冰片烯樹脂、丙烯酸樹脂、聚醚碸、賽璐玢、芳香族聚醯胺等的各種樹脂膜。此外，用於PDP、LCD時，更宜使用選自PET膜、TAC膜及含降冰片烯樹脂膜的1種。
這些透光性基體的透明性越高則越良好，作為全光線透過率(JIS K7105)可為80%以上，更宜為90%以上。此外，作為透光性基體的厚度，從輕量化的觀點考慮宜為薄的類型，而考慮其生產率、操作性時，宜使用1至700μm範圍的基體，更宜為25至250μm者。
通過在透光性基體表面實施鹼處理、電暈處理、電漿處理、濺射處理等表面處理、表面活性劑、矽烷耦合劑等底漆塗布、矽蒸鍍等薄膜乾式塗布等，可以使透光性基體和光學功能層的密合性提高，使該光學功能層的物理強度、耐藥性提高。此外，在透光性基體和光學功能層之間設置其它層的情況下，也可通過上述同樣的方法，使各層界面的密合性提高，使該光學功能層的物理強度、耐藥性提高。
<光學功能層>
光學功能層為含有樹脂成分和無機成分，並使該樹脂成分硬化而形成的層。光學功能層含有微粒(無機微粒、有機微粒)。
(樹脂成分)
作為構成光學功能層的樹脂成分，可以沒有特別限制地使用作為硬化後的皮膜具有充分的強度且具有透明性的物質。作為前述樹脂成分可列舉如：熱硬化型樹脂、熱塑型樹脂、電離輻射線硬化型樹脂、二液混合型樹脂等，這些中，宜通過利用電子束、紫外線照射的硬化處理和簡易的加工操作能夠高效率硬化的電離輻射線硬化型樹脂。
作為電離輻射線硬化型樹脂，可使用具有丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基等自由基聚合性官能基及/或環氧基、乙烯醚基、氧雜環丁烷基等陽離子聚合性官能基的單體、低聚物、預聚物、聚合物，這些可以以單獨形式或者適當混合的組成物的形式來使用。作為單體的例子，可舉出：丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲氧基聚乙二酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸苯氧基乙酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二新戊四醇六丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、新戊四醇三丙烯酸酯等。作為低聚物、預聚物，可舉出：聚酯丙烯酸酯、聚胺酯丙烯酸酯、多官能胺基甲酸乙酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、醇酸丙烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯、有機矽丙烯酸酯等丙烯酸酯化合物；不飽和聚酯、丁二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、雙酚A二縮水甘油醚、各種脂環式環氧樹脂等環氧系化合物；3-乙基-3-羥基甲基氧雜環丁烷、1,4-雙{[(3-乙基-3-氧雜環丁烷基)甲氧基]甲基}苯、二[1-乙基(3-氧雜環丁烷基)]甲醚等氧雜環丁烷化合物。作為聚合物，可舉出：聚丙烯酸酯、聚胺酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯等。這些可以單獨使用、或多種混合使用。
這些電離輻射線硬化型樹脂中，官能基數為3個以上的多官能單體可以提高硬化速度、使硬化物的硬度提高。此外，通過使用多官能胺基甲酸酯丙烯酸酯，可以賦予硬化物的硬度、柔軟性等。
作為電離輻射線硬化型樹脂，可以使用電離輻射線硬化型氟化丙烯酸酯。由於電離輻射線硬化型氟化丙烯酸酯與其它氟化丙烯酸酯相比較為電離輻射線硬化型者會引起分子間的交聯，因此耐藥性優異，即使在皂化處理後也達到表現充分防污性的效果。作為電離輻射線硬化型氟化丙烯酸酯，例如可以使用：2-(全氟癸基)乙基甲基丙烯酸酯、2-(全氟-7-甲基辛基)乙基甲基丙烯酸酯、3-(全氟-7-甲基辛基)-2-羥基丙基甲基丙烯酸酯、2-(全氟-9-甲基癸基)乙基甲基丙烯酸酯、3-(全氟-8-甲基癸基)-2-羥基丙基甲基丙烯酸酯、3-全氟辛基-2-羥基丙基丙烯酸酯、2-(全氟癸基)乙基丙烯酸酯、2-(全氟-9-甲基癸基)乙基丙烯酸酯、十五氟辛基(甲基)丙烯酸酯、十一氟己基(甲基)丙烯酸酯、九氟戊基(甲基)丙烯酸酯、七氟丁基(甲基)丙烯酸酯、八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、五氟丙基(甲基)丙烯酸酯、三氟(甲基)丙烯酸酯、三氟異丙基(甲基)丙烯酸酯、三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、下述化合物(i)至(xxxi)等。另外，下述化合物都為表示丙烯酸酯的情況下的物質，式中的丙烯醯基都可以變更為甲基丙烯醯基。
這些也可單獨或多個種類混合使用。從硬化物的耐磨性和延展性以及柔軟性考慮，在氟化丙烯酸酯內，更宜為具有胺基甲酸酯鍵的含氟化烷基之胺基甲酸酯丙烯酸酯。此外，氟化丙烯酸酯中，亦以多官能氟化丙烯酸酯為佳。另外，此處的多官能氟化丙烯酸酯是指具有2個以上(宜為3個以上，更宜為4個以上)的(甲基)丙烯醯氧基的物質。
電離輻射線硬化型樹脂直接通過電子束照射即可硬化，但在通過紫外線照射進行硬化的情況下，需要添加光聚合引發劑。此外，作為所用的輻射線，可以是紫外線、可見光線、紅外線、電子束中的任一種。另外，這些輻射線可以為偏光，也可以為非偏光。
作為光聚合引發劑，可以單獨或適當組合使用苯乙酮系、二苯甲酮系、噻噸酮系、苯偶姻、苯偶姻甲基醚等自由基聚合引發劑；芳香族重氮鹽、芳香族鋶鹽、芳香族碘鎓鹽、茂金屬化合物等陽離子聚合引發劑。
此外，電離輻射線硬化型樹脂中可含有流平劑、抗靜電劑等添加劑。流平劑具有實現塗膜表面的張力均勻化、矯正塗膜形成前之缺陷的作用。
作為流平劑，可舉出：有機矽系流平劑、氟系流平劑、丙烯酸系流平劑。上述流平劑可以單獨使用，也可以2種以上併用。上述流平劑中，從在光學功能層中形成凹凸結構的觀點考慮，宜為有機矽系流平劑、氟系流平劑，特別宜為有機矽系流平劑。
作為前述有機矽系流平劑，例如可舉出：聚醚改性有機矽、聚酯改性有機矽、全氟改性有機矽、反應性有機矽、聚二甲基矽氧烷、聚甲基烷基矽氧烷等。
作為所涉及的有機矽系流平劑，市售有：日本Unicar (株)製造的“SILWET系列”、“SUPERSILWET系列”、“ABNSILWET系列”；信越化學公司製造的“KF系列”、“X-22系列”；畢克化學日本(株)製造的“BYK-300系列”；共榮社化學(株)製造的“GLANOL系列”；東麗道康寧(株)製造的“SH系列”、“ST系列”、“FZ系列”；Chisso(株)製造的“FM系列”；GE東芝有機矽(株)製造的“TSF系列”(以上為商品名)等。
作為氟系流平劑，宜為具有氟烷基的化合物。作為所涉及的氟烷基，可以為碳原子數為1至20的直鏈或分支結構、脂環式結構(宜為5員環或6員環)，也可以具有醚鍵。上述氟系流平劑可以為聚合物，也可以為低聚物。
此外，作為氟系流平劑，可舉出疏水基具有全氟碳鏈的流平劑。具體而言，可舉出：氟烷基羧酸、N-全氟辛烷磺醯基麩胺酸二鈉、3-(氟烷氧基)-1-烷基磺酸鈉、3-(ω-氟烷醯基-N-乙胺基)-1-丙烷磺酸鈉、N-(3-全氟辛烷磺醯胺)丙基-N,N-二甲基-N-羧基亞甲基甜菜鹼銨、全氟烷基羧酸、全氟辛烷磺酸二乙醇醯胺、全氟烷基磺酸鹽、N-丙基-N-(2-羥乙基)全氟辛烷磺醯胺、全氟烷基磺醯胺丙基三甲基銨鹽、全氟烷基-N-乙基磺醯基甘胺酸鹽、磷酸雙(N-全氟辛基磺醯基-N-乙胺基乙基)酯等。
作為所涉及的氟系流平劑，例如可舉出：共榮社化學(株)製造的“POLYFLOW 600”；大金化學工業(株)製造的“R-2020、M-2020、R-3833、M-3833”；大日本印墨(株)製造的“MEGAFAC F-171、F-172D、F-179A、F-470、F-475、R-08、DEFENSA MCF-300”(以上為商品名)等。
作為氟系流平劑，也可以使用上述化1至化5所示的各材料。
作為丙烯酸系流平劑，市售有：東亞合成化學(株)製造的“ARUFON-UP 1000系列”、“UH 2000系列”、“UC 3000系列”；共榮社化學(株)製造的“POLYFLOW 77”(以上為商品名)等。
用於光學功能層的流平劑的含量過少時，很難得到塗膜的平整效果。流平劑的含量過多時，很難形成無機成分的聚集體。
從上述觀點考慮，光學功能層中的流平劑的含量相對於光學功能層的總成分(有機溶劑除外)100質量%，宜在0.05至3質量%的範圍，更宜在0.1至2質量%的範圍，特別宜在0.2至1質量%的範圍。
電離輻射線硬化型樹脂等的樹脂成分的配合量相對於構成光學功能層的樹脂組成物中的固形分的總質量，為含有50質量%以上，宜為60質量%以上。對於上限值沒有特別限定，例如為99.8質量%。在小於50質量%時，存在無法得到充分硬度等問題。
此外，電離輻射線硬化型樹脂等的樹脂成分的固形分中，包含除了後述無機成分和微粒以外的總固形分，不僅包含電離輻射線硬化型樹脂等的樹脂成分的固形分，還包含其它任意成分的固形分。
(無機成分)
作為本發明中使用的無機成分，只要為光學功能層中所含且在製膜時聚集以形成第二相和無規聚集結構的物質即可。作為無機成分，可以使用無機奈米微粒。作為無機奈米微粒，有二氧化矽、氧化錫、氧化銦、氧化銻、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯等金屬氧化物、金屬等；氧化矽溶膠、氧化鋯溶膠、氧化鈦溶膠、氧化鋁溶膠等金屬氧化物溶膠；氣相二氧化矽、膨潤性黏土、層狀有機黏土等。上述無機奈米微粒可以使用一種，也可以使用多種。
此外，微粒和無機成分(無機奈米微粒)是不同的物質，可通過粒徑來區別。
這些無機奈米微粒中，從可以穩定地形成無規聚集結構這一點考慮，宜為層狀有機黏土。作為層狀有機黏土可穩定地形成無規聚集結構的理由，可舉出：層狀有機黏土和樹脂成分(有機物成分)的相溶性高、也具有聚集性，因此容易形成第一相和第二相的錯綜複雜的結構、製膜時容易形成無規聚集結構。本發明中，層狀有機黏土是指在膨潤性黏土的層間導入有機鎓離子的物質。層狀有機黏土對於特定溶劑的分散性低，使用層狀有機黏土和具備特定性質的溶劑來作為光學功能層形成用塗料時，通過該溶劑的選擇來形成無規聚集結構，形成具有表面凹凸的光學功能層。
膨潤性黏土
膨潤性黏土只要為具有陽離子交換能力、通過在該膨潤性黏土的層間引入水而膨潤的物質即可，可以為天然物也可以為合成物(包含取代物、衍生物)。此外，还可以為天然物和合成物的混合物。
作為膨潤性黏土，例如可舉出：雲母、合成雲母、蛭石、蒙脫土、鐵蒙脫土、貝得石、皂石、鋰蒙脫石、矽鎂石、綠脫石、麥羥矽納石、伊利石、層狀矽酸鹽、層狀鈦酸、蒙脫石、合成蒙脫石等。這些膨潤性黏土可以使用1種，也可以多種混合使用。
有機鎓離子
有機鎓離子只要是能利用膨潤性黏土的陽離子交換性進行有機化的物質則沒有限制。
作為鎓離子，可以使用例如二甲基二硬脂醯基銨鹽、三甲基硬脂醯基銨鹽等四級銨鹽；具有苄基、聚氧乙烯基的銨鹽，也可以使用鏻鹽、吡啶鎓鹽、咪唑鎓鹽形成的離子。作為鹽，例如可舉出與Cl- 、Br- 、NO3 - 、OH- 、CH3 COO- 等陰離子所形成的鹽。作為鹽，宜使用四級銨鹽。
對有機鎓離子的官能基沒有限制，由於使用含有烷基、苄基、聚氧丙烯基或苯基中的任一者的材料時，容易發揮防眩性，因而為佳。
烷基的較佳範圍為碳原子數1至30，例如可舉出：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十八烷基等。
聚氧丙烯基[(CH2 CH(CH3 )O)n H或(CH2 CH2 CH2 O)n H]的n的較佳範圍為1至50，進一步宜為5至50，其加成莫耳數越多，對有機溶劑的分散性越好，但由於過於過量時，生成物會帶有黏性，因此以對溶劑的分散性作為重點的話，n的數值更宜為20至50。此外，在n的數值為5至20時，由於生成物為非黏性從而粉碎性優異。此外，從分散性和操作性的點考慮，四級銨整體的n的總數宜為5至50。
作為該四級銨鹽的具體例子，可舉出：四烷基氯化銨、四烷基溴化銨、聚氧丙烯基‧三烷基氯化銨、聚氧丙烯基‧三烷基溴化銨、二(聚氧丙烯基)‧二烷基氯化銨、二(聚氧丙烯基)‧二烷基溴化銨、三(聚氧丙烯基)‧烷基氯化銨、三(聚氧丙烯基)‧烷基溴化銨等。
對於通式(I)的四級銨離子，R1 宜為甲基或苄基。R2 宜為碳原子數1至12的烷基，特別宜為碳原子數為1至4的烷基。R3 宜為碳原子數1至25的烷基。R4 宜為碳原子數1至25的烷基、(CH2 CH(CH3 )O)n H基或(CH2 CH2 CH2 O)n H基。N宜為5至50。
此外，使用氧化鋁溶膠作為無機奈米微粒時，由於光學功能層的表面硬度提高，耐擦傷性也提高，因而為佳。
無機奈米微粒可為經改性的物質。對於無機奈米微粒的改性可以使用矽烷耦合劑。作為矽烷耦合劑，例如可使用：乙烯基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等。矽烷耦合劑可具有能與構成樹脂成分的輻射線硬化型樹脂的聚合性雙鍵進行共聚的官能基。
無機奈米微粒的平均粒徑宜為100nm以下，更宜為50nm以下，最宜20nm以下。無機奈米微粒只要為具有聚集性的物質即可，對平均粒徑的下限沒有限定，例如為1nm。無機奈米微粒的平均粒徑超過100nm時，光學積層體的霧度值表現出變高的傾向，容易看到白化等現象，同時對比度降低。
無機成分的配合量相對於樹脂組成物中的固形分的總質量為含有0.1至10質量%，特別宜為0.2至5質量%。無機成分的配合量小於0.1質量%時，沒有形成足夠數量的表面凹凸而存在防眩性不充分的問題。無機成分的配合量超過10質量%時，表面凹凸數量增多，存在辨認性受損的問題。
(溶劑)
作為形成用於得到防眩性的表面凹凸的溶劑，宜含有第1溶劑和第2溶劑。
通過在上述本發明的樹脂組成物中加入第1溶劑和第2溶劑，可以製成本發明的光學功能層形成用塗料。本發明的光學功能層形成用塗料由於含有上述第1溶劑和第2溶劑，因此，即使不添加被認為用於製成以往光學功能層的表面凹凸形狀所必需的微粒，也能製成光學功能層的表面凹凸形狀。
第1溶劑是指以實際上不使無機成分產生混濁而具有透明性的狀態使其分散的溶劑。實際上不產生混濁係包括完全不產生混濁的情況以及能夠和不產生混濁等同看待的情況。作為第1溶劑，具體而言，是指添加相對于無機成分100質量份為1000質量份的第1溶劑混合所得的混合液的霧度值為10%以下的溶劑。添加第1溶劑混合所得的混合液的霧度值宜為8%以下，進一步宜為6%以下。此外，對混合液的霧度值的下限值沒有特別限定，例如為0.1%。作為第1溶劑，例如可使用所謂的極性小的溶劑(非極性溶劑)。
第2溶劑是指以使無機成分產生混濁的狀態使其分散的溶劑。作為第2溶劑，具體而言，是指添加相對于無機成分100質量份為1000質量份的第2溶劑混合所得的混合液的霧度值為30%以上的溶劑。添加第2溶劑混合所得的混合液的霧度值宜為40%以上，進一步宜為50%以上。此外，對混合液的霧度值的上限值沒有特別限定，例如為99%。
作為第2溶劑，例如可使用所謂的極性溶劑。
此外，確定第1溶劑和第2溶劑時需要的霧度值，根據JIS K7105來測定。
可根據無機成分的種類而使用的第1溶劑和第2溶劑是不同的。作為可用作第1溶劑和第2溶劑的溶劑，可以使用：甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、丁醇、異丙醇(IPA)、異丁醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮(MEK)、環己酮、甲基異丁基酮(MIBK)等酮類；二丙酮醇等酮醇類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類；乙二醇、丙二醇、己二醇等二醇類；乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、乙基卡必醇、丁基卡必醇、二乙基溶纖劑、二乙基卡必醇、丙二醇單甲醚等二醇醚類；N-甲基吡咯烷酮、二甲基甲醯胺、乳酸甲酯、乳酸乙酯、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸戊酯等酯類；二甲醚、二乙醚等醚類；水等。這些溶劑可以使用一種作為第1溶劑或第2溶劑，也可以多種混合作為第1溶劑或第2溶劑。
此處，第1溶劑和第2溶劑混合使用時，由於容易形成用來得到防眩性的表面凹凸，因而為佳。作為第1溶劑和第2溶劑的混合比，以質量比計為10：90至90：10的範圍時，由於容易形成用來得到防眩性的表面凹凸，而為佳。作為第1溶劑和第2溶劑的混合比，以質量比計，宜為15：85至85：15的範圍，更宜為20：80至80：20的範圍。第1溶劑小於10質量份時，會產生因未分散物所引起的外觀缺陷的問題。第1溶劑超過90質量份時，會有無法得到用於獲得充分防眩性的表面凹凸的問題。
此外，樹脂組成物和溶劑(合併第1溶劑和第2溶劑的溶劑)的配合量，以質量比計，為70：30至30：70的範圍即可。
樹脂組成物小於30質量份時，會有乾燥不均等之產生使得外觀變差、同時表面凹凸數量增多、辨認性受損的問題。
樹脂組成物超過70質量份時，由於固形分的溶解性(分散性)容易受損，因此存在有無法製膜的問題。
(微粒)
上述樹脂組成物含有透光性的微粒。將在該樹脂組成物中添加了溶劑的光學功能層形成用塗料塗布在透光性基體上後，使該光學功能層形成用塗料硬化即可形成光學功能層。通過在樹脂組成物中添加透光性的微粒，容易調整該光學功能層的表面凹凸的形狀、數量。
作為透光性的微粒，可以使用：包括丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚乙烯樹脂、環氧樹脂、矽樹脂、聚偏氟乙烯、聚氟乙烯系樹脂等的有機系透光性的樹脂微粒；二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化鈣、氧化錫、氧化銦、氧化銻等無機系透光性的微粒。透光性的微粒的折射率宜為1.40至1.75，在折射率小於1.40或比1.75大時，與透光性基體或樹脂基質的折射率差過大，全光線透過率降低。此外，透光性的微粒和樹脂的折射率差宜為0.2以下。透光性的微粒的平均粒徑宜為0.3至10μm的範圍，更宜為1至7μm，進一步宜為2至6μm。
由於粒徑小於0.3μm時之防眩性降低，而且，大於10μm大時會產生閃光，同時表面凹凸的程度變得過大使得表面發白，因而不佳。此外，對上述樹脂中含有的透光性的微粒的比例沒有特別限定，從滿足防眩功能、閃光等特性的角度考慮，相對於樹脂組成物100質量份，宜為0.1至20質量份，容易控制光學功能層表面的微小凹凸形狀和霧度值。此處，“折射率”指的是依據JIS K-7142的測定值。此外，“平均粒徑”指的是通過電子顯微鏡實際測量的100個粒子的直徑的平均值。
至於微粒的配合量，相對於構成光學功能層的樹脂組成物中的固形分的總質量，所含為0.1質量%以上，宜為1.0質量%以上。對上限值沒有特別限定，例如為5.0質量%。當其小於0.1質量%時，會有無法得到充分的防眩性等問題。
抗靜電劑(導電劑)
本發明的光學功能層也可含有抗靜電劑(導電劑)。通過導電劑的添加，可有效地防止塵埃附著在光學積層體的表面。作為抗靜電劑(導電劑)的具體例，可以舉出四級銨鹽、吡啶鎓鹽、具有一級至三級胺基等陽離子性基團的各種陽離子性化合物；具有磺酸鹽基團、硫酸酯鹽基團、磷酸酯鹽基團、膦酸鹽基團等陰離子性基團的陰離子性化合物；胺基酸系、胺基硫酸酯系等兩性化合物；胺基醇系、甘油系、聚乙二醇系等非離子性化合物；錫和鈦的醇鹽之類的有機金屬化合物以及該等的乙醯丙酮酸化物鹽之類的金屬螯合物化合物，進一步可舉出將上述所列化合物高分子量化的化合物。另外，具有三級胺基、四級銨基、或金屬螯合部、並且可以利用電離輻射線進行聚合的單體或低聚物，或者如含有官能基的耦合劑的有機金屬化合物等聚合性化合物也可作為抗靜電劑使用。
另外，作為抗靜電劑可舉出導電性微粒。作為導電性微粒的具體例子，可舉出由金屬氧化物構成的物質。作為這樣的金屬氧化物，可舉出：ZnO、CeO2 、Sb2 O2 、SnO2 、常被簡稱為ITO的氧化銦錫、In2 O3 、Al2 O3 、銻摻雜氧化錫(簡稱：ATO)、鋁摻雜氧化鋅(簡稱：AZO)等。所謂導電性微粒是指1微米以下，即亞微米大小的粒子，平均粒徑宜為0.1nm至0.1μm。
另外，作為抗靜電劑(導電劑)的其它的具體例，可舉出導電性聚合物。作為它的材料沒有特別限定，可以列舉出例如選自下述材料中的至少一種，所述材料是：脂肪族共軛系的聚乙炔、聚並苯、聚薁(polyazulene)；芳香族共軛系的聚苯撐；雜環式共軛系的聚吡咯、聚噻吩、聚異硫茚(polyisothianaphthene)；含雜原子共軛系的聚苯胺、聚噻吩伸乙烯(polythienylene vinylene)；混合型共軛系的聚苯伸乙烯；作為分子中具有多個共軛鏈的共軛系的多鏈型共軛系；這些導電性聚合物的衍生物以及在飽和高分子內與上述共軛高分子鏈接枝或嵌段共聚的高分子之導電性複合體。其中，更宜使用聚噻吩、聚苯胺、聚吡咯等有機系抗靜電劑。通過使用上述有機系抗靜電劑，既能發揮優異的抗靜電性能，同時又能提高光學積層體的全光線透過率，還能降低霧度值。另外，以提高導電性、提高抗靜電性能為目的，還可以添加有機磺酸、氯化鐵等的陰離子作為摻雜劑(電子給予劑)。根據摻雜劑的添加效果，特別宜為聚噻吩，因其透明性、抗靜電性高。作為上述聚噻吩，也可適合使用低聚噻吩。作為上述衍生物沒有特別限定，例如可舉出聚苯乙炔、聚二乙炔的烷基取代物等。
<光學積層體>
將含有上述構成成分的光學功能層形成用塗料塗布在透光性基體上後，通過熱、或照射電離輻射線(例如照射電子束或紫外線)使該光學功能層形成用塗料硬化而形成光學功能層，可得到本發明的光學積層體。
光學功能層可以形成在透光性基體的一面，也可以形成在兩面。
此外，可以在光學功能層和透光性基體之間、光學功能層的相反面具有其它層，也可以在光學功能層上具有其它層。此處作為其它層，例如可舉出：偏光層、光擴散層、低反射層、防污層、抗靜電層、紫外線‧近紅外線(NIR)吸收層、氖光吸收層、電磁波屏蔽層等。
光學功能層的厚度宜為1.0至12.0μm的範圍，更宜為2.0至11.0μm的範圍，進一步宜為3.0至10.0μm的範圍。在光學功能層比1.0μm薄的情況下，在紫外線硬化型時由於氧阻礙而引起硬化不良，光學功能層的耐磨性容易劣化。在光學功能層比12.0μm厚的情況下，會產生因光學功能層的硬化收縮而引起的捲曲的產生、微裂紋的產生、與透光性基體的密合性降低、以及光透過性下降。並且，必要塗料量伴隨膜厚的增加而增加，這也成為成本增加的原因。
對於本發明的光學積層體而言，圖像鮮明性宜為5.0至85.0的範圍(依據JIS K7105、使用0.5mm光梳測定的值)，更宜為20.0至75.0。由於圖像鮮明性小於5.0時對比度變差，超過85.0時防眩性變差，因此不適合於顯示器表面所使用的光學積層體。
本發明的光學積層體在光學功能層的表面具有微小凹凸形狀。此處，對於該微小凹凸形狀，從依據ASME95求出的平均斜率計算的平均傾斜角宜在0.2至1.4的範圍，更宜為0.25至1.2，進一步宜為0.30至1.0。由於平均傾斜角小於0.2時防眩性變差，平均傾斜角超過1.4時黑色變差，因此不適合於顯示器表面所使用的光學積層體。
此外，就本發明的光學積層體而言，作為光學功能層的微小凹凸形狀，表面粗糙度Ra宜為0.03至0.2μm，更宜為0.03至0.15μm，特別宜為0.03至0.10μm。表面粗糙度Ra小於0.03μm時，光學功能層的防眩性變得不充分。表面粗糙度Ra超過0.2μm時，光學積層體的黑色變差。
凹凸平均間隔(Sm)處於30至300μm的範圍，更宜為50至250μm，進一步宜為100至250μm。在小於30μm時，由於表面散射變大，會有光學積層體的黑色變差的缺點。超過300μm時，會有防眩性變差的缺點。
十點平均表面粗糙度(Rz)處於0.3至1.2μm的範圍，更加優選為0.4至1.0μm，進一步優選為0.5至0.9μm。在小於0.3μm時存在防眩性變差的缺點。超過1.2μm時存在光學積層體的黑色變差的缺點。
<偏光基體>
本發明中，可以在與光學功能層相反面的透光性基體上層疊偏光基體。此處，該偏光基體可以使用只透過特定的偏光而吸收其它光的光吸收型的偏光基體、或只透過特定的偏光而反射其它光的光反射型的偏光基體。作為光吸收型的偏光基體，可以使用使聚乙烯醇、聚乙烯撐等延伸得到的膜，例如作為二色性元件可舉出將吸附了碘或染料的聚乙烯醇單軸延伸得到的聚乙烯醇(PVA)膜。作為光反射型的偏光基體，例如可舉出：將延伸時延伸方向的折射率不同的2種聚酯樹脂(PEN和PEN共聚物)通過擠出成型技術數百層交替層疊、延伸構成的3M公司製造的“DBEF”；將膽甾型液晶聚合物層和1/4波長板層疊，將從膽甾型液晶聚合物層一側入射的光分離成相互反向的兩束圓偏光，使一束透過而另一束反射，使透過膽甾型液晶聚合物層的圓偏光通過1/4波長板轉換成直線偏光的構成的日東電工公司製造的“NIPOCS”；默克公司製造的“TRANSMAX”等。
通過將偏光基體和光學積層體直接或通過黏接層層疊，可以作為偏光板使用。
<顯示裝置>
本發明的光學積層體，可以應用於液晶顯示裝置(LCD)、電漿顯示板(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、陰極射線管顯示裝置(CRT)、表面電場顯示器(SED)那樣的顯示裝置。特別宜應用於液晶顯示裝置(LCD)。由於本發明的光學積層體具有透光性基體，因此可以將透光性基體側黏接在圖像顯示裝置的圖像顯示面來使用。
在將本發明的光學積層體作為偏光板的表面保護膜的一側使用的情況下，可以適合使用於扭轉向列(TN)、超扭轉向列(STN)、垂直排列(VA)、平面轉換(IPS)、光學補償彎曲(OCB)等模式的透過型、反射型或半透過型的液晶顯示裝置。
<光學積層體的製造方法>
作為在透光性基體上塗布光學功能層形成用塗料的方法，可以應用通常的塗布方式、印刷方式。具體而言，可以使用氣刀塗布、棒塗、刮刀塗布、刮塗、反轉塗布、轉印輥塗布、照相凹版輥塗、吻合塗布、鑄塗、噴塗、狹縫噴嘴塗布、壓延塗布、擋板塗布(dam coating)、浸塗、模塗等塗布、照相凹版印刷等凹版印刷、絲網印刷等孔版印刷等印刷等。
以下，使用實施例說明本發明，但本發明並不限制於這些。
實施例 (製造例1合成蒙脫石的製造)
在10L的燒杯中加入水4L，在其中溶解3號水玻璃(SiO2 28%、Na2 O 9%，莫耳比3.22)860g、一次性地加入95%硫酸162g並進行攪拌，即得矽酸鹽溶液。接著，在1L的水中溶解MgCl2 ‧6H2 O一級試劑(純度98%)560g，將其加入到前述矽酸溶液中製備均質混合溶液。用5分鐘將其滴入2N-NaOH溶液3.6L中並進行攪拌。將所得的反應沈澱物立刻用日本礙子(株)製造的交叉流動(Cross flow)方式的過濾系統[交叉流動過濾器(陶瓷膜過濾器：孔徑2μm、管狀式、過濾面積400cm2 )、加壓：2kg/cm2 、濾布：Tetoron 1310]進行過濾和充分水洗後，加入由水200ml和Li(OH)‧H2 O 14.5g形成的溶液，製成漿狀。將其移入高壓反應釜中，在41kg/cm2 、250℃下使其水熱反應3小時。冷卻後取出反應物，在80℃下乾燥、粉碎，即得下述式的合成蒙脫石。分析該合成蒙脫石，結果可得到以下組成的物質。Na0.4 Mg2.6 Li0.4 Si4 O10 (OH)2 ，另外，通過亞甲基藍吸附法測定的陽離子交換容量為110毫當量/100g。
(製造例2合成蒙脫石系層狀有機黏土A的製造)
使製造例1中合成的合成蒙脫石20g分散在1000ml自來水中，形成懸濁液。將溶解有該合成蒙脫石的陽離子交換容量的1.00倍相當量的下式(II)的四級銨鹽(98%含有品)的水溶液500ml添加至前述合成蒙脫石懸濁液中，邊攪拌邊使其在室溫下反應2小時。將生成物固液分離、洗滌，除去副產物鹽類後進行乾燥，即得合成蒙脫石系層狀有機黏土A。
[實施例1]
將含有前述層狀有機黏土A的如表1所記載的規定的混合物用分散器攪拌30分鐘，將由此所得的光學功能層形成用的塗料通過輥塗方式塗布(線速度：20m/分鐘)在膜厚為60μm、全光線透過率為92%的透明基體的TAC(富士膠捲公司製造；TD60UL)的一面上，在30至50℃下經20秒預備乾燥後，在100℃下乾燥1分鐘，通過在氮氣環境(氮氣置換)中進行紫外線照射(燈：聚光型高壓水銀燈、燈輸出功率：120W/cm、燈數：4盞、照射距離：20cm)使塗布膜硬化。由此，得到具有厚5.9μm的光學功能層的實施例1的光學積層體。此處，從所得光學積層體的光學功能層面觀察的SEM結果如第2圖所示，光學積層體的截面圖的SEM結果如第3圖所示，從光學積層體的光學功能層面觀察的EDS結果如第4圖所示。從這些結果可以確認：構成所得光學積層體的光學功能層至少具有第一相和第二相，形成了無規聚集結構。
[實施例2]
除了把光學功能層形成用塗料變更為表1所記載的規定的混合液以外，和實施例1同樣地操作，得到具有厚4.1μm的光學功能層的實施例2的光學積層體。從SEM、EDS結果可以確認：構成所得積層體的光學功能層至少具有第一相和第二相，形成了無規聚集結構。
[實施例3]
除了把光學功能層形成用塗料變更為表1所記載的規定的混合液以外，和實施例1同樣地操作，得到具有厚5.5μm的光學功能層的實施例3的光學積層體。從SEM、EDS結果可以確認：構成所得積層體的光學功能層至少具有第一相和第二相，形成了無規聚集結構。
[實施例4]
除了把光學功能層形成用塗料變更為表1所記載的規定的混合液以外，和實施例1同樣地操作，得到具有厚5.5μm的光學功能層的實施例4的光學積層體。從SEM、EDS結果可以確認：構成所得積層體的光學功能層至少具有第一相和第二相，形成了無規聚集結構。
[實施例5]
除了把光學功能層形成用塗料變更為表1所記載的規定的混合液以外，和實施例1同樣地操作，得到具有厚5.0μm的光學功能層的實施例5的光學積層體。從SEM、EDS結果可以確認：構成所得積層體的光學功能層至少具有第一相和第二相，形成了無規聚集結構。
[實施例6]
除了把光學功能層形成用塗料變更為表1所記載的規定的混合液以外，和實施例1同樣地操作，得到具有厚5.4μm的光學功能層的實施例6的光學積層體。從SEM、EDS結果可以確認：構成所得積層體的光學功能層至少具有第一相和第二相，形成了無規聚集結構。
[比較例1]
除了把光學功能層形成用塗料變更為表2所記載的規定的混合液以外，和實施例1同樣地操作，得到具有厚4.3μm的光學功能層的比較例1的光學積層體。此處，從所得積層體的SEM、EDS結果可以確認：構成所得光學積層體的光學功能層未形成無規聚集結構而是形成了由透光性有機微粒的聚集構成的海島結構。
[比較例2]
除了把光學功能層形成用塗料變更為表2所記載的規定的混合液以外，和實施例1同樣地操作，得到具有厚5.8μm的光學功能層的比較例2的光學積層體。此處，從所得積層體的SEM、EDS結果可以確認：構成所得光學積層體的光學功能層未形成無規聚集結構而是形成了第一相和第二相分散在整個膜面的海島結構。
[比較例3]
除了把光學功能層形成用塗料變更為表2所記載的規定的混合液以外，和實施例1同樣地操作，得到具有厚6.6μm的光學功能層的比較例3的光學積層體。此處，從所得光學積層體的光學功能層面觀察的SEM結果如第5圖所示，從光學積層體的光學功能層面觀察的EDS結果如第6圖所示。可以確認：構成所得光學積層體的光學功能層相分離為第一相和第二相，但由於光學功能層中不含有微粒，因此沒有形成無規聚集結構。
[比較例4]
除了把光學功能層形成用塗料變更為表2所記載的規定的混合液以外，和實施例1同樣地操作，得到具有厚5.5μm的光學功能層的比較例4的光學積層體。此處，從所得積層體的SEM、EDS結果可以確認：構成所得光學積層體的光學功能層未形成無規聚集結構，而是形成了由透光性有機微粒的聚集構成的海島結構。
[比較例5]
除了把光學功能層形成用塗料變更為表2所記載的規定的混合液以外，和實施例1同樣地操作，得到具有厚4.8μm的光學功能層的比較例5的光學積層體。此處，從所得光學積層體的光學功能層面觀察的SEM結果如第7圖所示。可以確認：構成所得光學積層體的光學功能層未形成無規聚集結構，而是形成了由透光性有機微粒的聚集構成的海島結構。
[比較例6]
除了把光學功能層形成用塗料變更為表2所記載的規定的混合液以外，和實施例1同樣地操作，得到具有厚4.0μm的光學功能層的比較例6的光學積層體。此處，從所得光學積層體的SEM、EDS結果可以確認：構成所得光學積層體的光學功能層未形成無規聚集結構，而是形成了由無定形二氧化矽的聚集構成的海島結構。
上述實施例中使用的材料匯總在表1中，比較例中使用的材料匯總在表2中。
關於SEM和EDS，在以下條件下拍攝。
SEM
通過SEM觀察實施例、比較例中所得的積層體的塗布層表面的狀態及含有元素的信息。觀察是在塗布層表面進行了金或碳蒸鍍之後進行。SEM觀察的條件表示如下。
分析裝置　JSM-6460LV(日本電子公司製造)
前處理裝置　C(碳)塗布：45nm SC-701C(SANYU電子公司製造)
Au(金)塗布：10nm SC-701AT改(SANYU電子公司製造)
SEM條件　加速電壓：20KV或15KV
照射電流：0.15nA
真空度：高真空
圖像檢測器：反射電子檢測器
試樣傾斜：0度
EDS
通過EDS觀察實施例、比較例中所得的積層體的含有元素的信息。觀察是在塗布層表面進行了碳蒸鍍之後進行。EDS觀察的條件表示如下。
分析裝置　JSM-6460LV(日本電子公司製造)
前處理裝置　C(碳)塗布：45nm SC-701C(SANYU電子公司製造)
EDS條件　加速電壓：20KV
照射電流：0.15nA
真空度：高真空
圖像檢測器：反射電子檢測器
MAP解析度：128×96像素
圖像解析度：1024×768像素
(評價方法)
以下，對於實施例和比較例的光學積層體，按照下述項目進行評價。
(霧度值)
關於霧度值(總Hz)，依據JIS K7105、使用霧度計(商品名：NDH2000，日本電色公司製造)進行測定。
(表面粗糙度)
關於表面粗糙度Ra、Rz和Sm，依據JIS B0601-1994、使用上述表面粗糙度測定器進行測定。
(平均傾斜角)
關於平均傾斜角，依據ASME95、使用表面粗糙度測定器(商品名：Surfcorder SE1700α、小阪研究所公司製造)求出平均斜率，依據下式算出平均傾斜角。
平均傾斜角=tan-1 (平均斜率)
(圖像鮮明性)
依據JIS K7105、使用圖像清晰度測定器(商品名：ICM-1DP、SUGA試驗機公司製造)，將測定器設定在透射模式，按光梳寬度0.5mm進行測定。
(防眩性)
關於防眩性，通過定量評價和定性評價2種方法進行數值判定。兩評價的判定值的和為5點以上時記為◎、4點時記為○、3點以下時記為×。
(防眩性的定量評價)
圖形鮮明性的值為5以上~小於40時記為3點，40以上~小於80時記為2點，80以上時記為1點。
(防眩性的定性評價)
使光學積層體形成面的相反面通過無色透明的黏合劑貼合在黑色丙烯酸樹脂板(三菱RAYON製造的ACRYLITE L502)，在400勒克斯的環境照度中，以2盞螢光燈暴露的狀態平行配置的螢光燈作為光源，以45至60度的角度映入光，從鏡面反射方向通過目視觀察其反射像，從而判定螢光燈映入的程度。2盞螢光燈的反射像看成1盞的程度之影像模糊時記為3分，能夠識別出2盞螢光燈但螢光燈的輪廓模糊時記為2分，2盞螢光燈的輪廓不模糊而清晰可見時記為1分。
(黑色)
明室下的黑色，通過定量評價和定性評價2種方法進行數值判定。兩評價的判定值的和為6分時記為◎、5分時記為○、4分以下時記為×。
(黑色的定量評價)
使與實施例和比較例的光學積層體形成面相反的面通過無色透明黏合層貼合在液晶顯示器(商品名：LC-37GX1W，夏普公司製造)的畫面表面，從液晶顯示器畫面的正面上方60°的方向通過螢光燈(商品名：HH4125GL，National公司製造)使液晶顯示器表面的照度為200勒克斯之後，通過色彩輝度計(商品名：BM-5A，TOPCON公司製造)測定將液晶顯示器為白色顯示和黑色顯示時的輝度，所得的黑色顯示時的輝度(cd/m2 )和白色顯示時的輝度(cd/m2 )根據以下式子算出，將平面偏光板的對比度記作100%，根據以下式子算出減少率。減少率小於5%時記為3分，5%以上至小於10%時記為2分，10%以上時記為1分。
對比度=白色顯示的輝度/黑色顯示的輝度
減少率=對比度(光學積層體)/對比度(平面偏光板)
本發明中，平面偏光板指的是在將作為二色性元素的吸附了碘或染料的聚乙烯醇單軸延伸得到的聚乙烯醇(PVA)膜的兩面貼合TAC膜所得的積層體。
(黑色的定性評價)
使光學積層體形成面的相反面通過無色透明的黏合劑貼合在黑色丙烯酸樹脂板(三菱麗陽製造的ACRYLITE L502)，在400勒克斯的環境照度中，以2盞螢光燈暴露的狀態平行配置的螢光燈作為光源，以45至60度的角度映入光，從鏡面反射方向通過目視觀察光源的反射像以外的部分的黑色，與實施例1所示的膜相比，黑色優異時記為3分，黑色相同程度時記為2分，黑色差時記為1分。
(暗室對比度)
對於暗室對比度，使與實施例和比較例的光學積層體形成面相反的面通過無色透明黏合劑貼合在液晶顯示器(商品名：LC-37GX1W，夏普公司製造)的畫面表面，在暗室條件下通過色彩輝度計(商品名：BM-5A，TOPCON公司製造)測定將液晶顯示器為白色顯示和黑色顯示時的輝度，所得的黑色顯示時的輝度(cd/m2 )和白色顯示時的輝度(cd/m2 )根據以下式子算出，將平面偏光板的對比度記作100%，根據以下式子算出減少率。減少率小於3%時記為◎，3%以上至小於7%時記為○，7%以上時記為×。
對比度=白色顯示的輝度/黑色顯示的輝度
減少率=對比度(光學積層體)/對比度(平面偏光板)
所得結果如表3所示。
如以上所述，根據本發明，能夠提供一種不僅有良好防眩性、明室下的黑色優異，而且能夠實現高的暗室對比度、且製造穩定性優異的光學積層體及該光學積層體的製造方法。另外，還能夠提供一種具備該光學積層體的偏光板及顯示裝置。
1．．．第一相
2．．．第二相
3．．．微粒
15、16．．．光學功能層
20．．．透光性基體
30、31．．．微粒
40．．．樹脂
第1圖為表示光學功能層結構的示意圖((a)為海島結構的平面圖，(b)為無規聚集結構的平面圖，(c)為海島結構的截面側視圖，(d)為無規聚集結構的截面側視圖)；
第2圖為實施例1的光學功能層表面的結構經碳蒸鍍後拍攝的SEM照片；
第3圖為實施例1的光學積層體的截面經碳蒸鍍後拍攝的SEM照片；
第4圖為對實施例1的光學功能層表面的結構以無機成分(Si)進行EDS面掃描的照片；
第5圖為比較例3的光學功能層表面的結構經碳蒸鍍後拍攝的SEM照片；
第6圖為對比較例3的光學功能層表面的結構以無機成分(Si)進行EDS面掃描的照片；
第7圖為比較例5的光學功能層表面的海島結構經碳蒸鍍後拍攝的SEM照片。
該代表圖無元件符號及其所代表之意義。

Claims (6)

  1. 一種光學積層體，係在透光性基體上層疊具有第一相及第二相之光學功能層的光學積層體，該光學功能層含有樹脂成分、無機奈米微粒、以及平均粒徑為0.3至10μm之微粒，其中，上述第一相與上述第二相相比，含有相對多的樹脂成分；上述第二相與上述第一相相比，含有相對多的無機奈米微粒，並且，在該微粒的周圍幾乎不存在上述第一相而僅存有上述第二相。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的光學積層體，其中，上述第二相為無機奈米微粒的聚集體。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的光學積層體，其中，上述第二相含有0.2質量%以上的無機成分。
  4. 一種偏光板，其特徵在於，在構成申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的光學積層體的透光性基體上層疊有偏光基體。
  5. 一種顯示裝置，其特徵在於，具備有申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的光學積層體。
  6. 一種光學積層體的製造方法，其特徵在於，經過如下步驟：在透光性基體上塗布包含有樹脂成分、無機奈米微粒、平均粒徑為0.3至10μm之微粒、相對於該無機成分100質量份添加1000質量份混合而得的混合液的霧度值為10%以下的第1溶劑、以及相對於該無機成分100 質量份添加1000質量份而混合之所得的混合液的霧度值為30%以上的第2溶劑的溶液，隨著使第1溶劑和第2溶劑揮發而產生對流的乾燥步驟；以及將經乾燥的塗膜硬化而形成光學功能層的硬化步驟。
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5909454B2 (ja) * 2012-03-30 2016-04-26 富士フイルム株式会社 防眩フィルム、その製造方法、偏光板、及び画像表示装置
WO2013146023A1 (ja) * 2012-03-30 2013-10-03 東京特殊電線株式会社 積層体の検査方法、積層体検査装置および積層体製造装置
JP6641323B2 (ja) * 2012-06-28 2020-02-05 日東電工株式会社 防眩性フィルムの製造方法、防眩性フィルム、偏光板および画像表示装置
CN105378510B (zh) * 2013-07-05 2017-12-05 株式会社钟化 太阳能电池组件用防眩膜、带有防眩膜的太阳能电池组件及它们的制造方法
JP6656799B2 (ja) * 2013-11-29 2020-03-04 王子ホールディングス株式会社 アンチニュートンリング積層体およびそのアンチニュートンリング積層体を用いた静電容量式タッチパネル
WO2015137448A1 (ja) 2014-03-14 2015-09-17 凸版印刷株式会社 Ｅｌ素子、ｅｌ素子用基板、照明装置、ディスプレイ装置、及び液晶ディスプレイ装置
JP6413266B2 (ja) * 2014-03-14 2018-10-31 凸版印刷株式会社 Ｅｌ素子、照明装置、ディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置、およびｅｌ素子の製造方法
JP2016035574A (ja) * 2014-08-01 2016-03-17 日東電工株式会社 防眩フィルムおよび画像表示装置
JP2020052433A (ja) * 2014-08-01 2020-04-02 日東電工株式会社 防眩フィルムおよび画像表示装置
JP6736381B2 (ja) * 2016-06-27 2020-08-05 株式会社トッパンＴｏｍｏｅｇａｗａオプティカルフィルム 光学積層体、偏光板及び表示装置
JP6674371B2 (ja) * 2016-12-14 2020-04-01 株式会社トッパンＴｏｍｏｅｇａｗａオプティカルフィルム 光学積層体、偏光板及び表示装置
JP7298071B2 (ja) * 2018-02-08 2023-06-27 Ａｇｃ株式会社 防眩膜付き透明基体
JP6556317B1 (ja) * 2018-11-27 2019-08-07 住友化学株式会社 光学積層体、フレキシブル表示装置及び光学積層体の製造方法
JP7393875B2 (ja) * 2019-04-10 2023-12-07 日東電工株式会社 防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、光学部材および画像表示装置
JP7078863B2 (ja) * 2020-04-01 2022-06-01 日亜化学工業株式会社 発光装置及びその製造方法
TWI751721B (zh) * 2020-09-25 2022-01-01 宏碁股份有限公司 機殼及其製作方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW428108B (en) * 1998-12-18 2001-04-01 Dainippon Printing Co Ltd Antiglare film and use thereof
CN1540365A (zh) * 2003-04-24 2004-10-27 日本制纸株式会社 防眩膜
TW200517458A (en) * 2003-10-06 2005-06-01 Dainippon Printing Co Ltd Antiglare film
JP2005195820A (ja) * 2004-01-06 2005-07-21 Daicel Chem Ind Ltd 防眩フィルム
TW200936719A (en) * 2007-10-30 2009-09-01 Dainippon Printing Co Ltd Curable resin composition for hard coat layer and hard coat film

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001259517A (ja) * 2000-03-16 2001-09-25 Kawamura Inst Of Chem Res 表面に凹凸構造を有する熱硬化性樹脂塗膜及びその製造方法
JP2002323700A (ja) * 2001-04-26 2002-11-08 Keiwa Inc 光学シート及びこれを用いたバックライトユニット
EP1391758A3 (en) * 2002-08-09 2004-06-16 Eastman Kodak Company Optical element containing nanocomposite particles
JP4229678B2 (ja) * 2002-11-08 2009-02-25 帝人化成株式会社 光拡散性ポリカーボネート樹脂組成物および光拡散板
US7201949B2 (en) * 2003-10-21 2007-04-10 Eastman Kodak Company Optical film for display devices
EP2006711A4 (en) * 2006-03-16 2011-01-19 Daicel Chem ANTI GLARE FILM
JP5103825B2 (ja) * 2006-08-18 2012-12-19 大日本印刷株式会社 光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置
CN101324677A (zh) * 2007-03-14 2008-12-17 索尼株式会社 防眩光膜的制造方法
JP2009061686A (ja) * 2007-09-06 2009-03-26 Teijin Dupont Films Japan Ltd 防眩性積層体
TWI394985B (zh) * 2008-05-07 2013-05-01 Ind Tech Res Inst 抗眩膜及其製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW428108B (en) * 1998-12-18 2001-04-01 Dainippon Printing Co Ltd Antiglare film and use thereof
CN1540365A (zh) * 2003-04-24 2004-10-27 日本制纸株式会社 防眩膜
TW200517458A (en) * 2003-10-06 2005-06-01 Dainippon Printing Co Ltd Antiglare film
JP2005195820A (ja) * 2004-01-06 2005-07-21 Daicel Chem Ind Ltd 防眩フィルム
TW200936719A (en) * 2007-10-30 2009-09-01 Dainippon Printing Co Ltd Curable resin composition for hard coat layer and hard coat film

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