JP5103825B2 - 光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置に関する。

陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の画像表示装置においては、一般に最表面には反射防止のための光学積層体が設けられている。このような反射防止用光学積層体は、光の散乱や干渉によって、像の写り込みを抑制したり反射率を低減したりするものである。

このような反射防止用光学積層体の一つとして、透明性基材の表面に凹凸形状を有する防眩層を形成した防眩性積層体が知られている。このような防眩性積層体は、表面の凹凸形状によって外光を散乱させて外光の反射や像の写り込みによる視認性の低下を防止することができる。防眩性積層体としては、粒子によって凹凸を形成したものや（特許文献１）、エンボス賦型処理を施すことにより凹凸形状としたものが知られている（特許文献２、３）。

しかし、このような従来の防眩性積層体では、「防眩性」と「コントラスト向上」の両方の性質を満足させることは困難であった。このため、これらの防眩性積層体は、画面表示における艶黒感（濡れたように艶のある黒色）を含む黒色再現性、コントラスト等において劣ることがあった。つまり、明室における黒色の階調表現、特に低階調において、黒色のグラデーションの差が認識し難く、感度が低いことがあった。具体的には、黒と灰色の色認識に於いて、色ぼけ及び同一の色調の黒としか認識できないことがあった。特に、良好な防眩性（＝外光の散乱）の性能を有する防眩性積層体ほど、これらの視認性は著しく低下していた。

すなわち、反射防止積層体においては「コントラスト向上」を実現しながら、良好な視認性を得るための「防眩性」の両方の性質を同時に得ることが課題とされている。これらの問題を改善し、艶黒感と防眩性の両方の性質において良好な性質を得ることが求められている。

特許文献４には、凹凸構造の光拡散層上に低屈折率層を形成することが記載されており、低屈折率層にコロイダルシリカを添加することも記載されている。しかし、凹凸構造の制御を目的として表面調整層を形成することは記載されていない。

特許文献５は、表面が滑らかな凹凸形状を有するノングレアシートが記載されている。特許文献５に記載された凹凸形状の形成方法は、圧縮成形等が記載されているのみである。 また、特許文献５では、凹凸形状が中心線平均粗さRaが０．０５〜０．４μｍ、Sm表面凹凸間ピッチが１００〜５００μｍであるものが良好とされている。しかしながら、Raは、ある一定の長さにおいて、凹凸を中心線で山部と谷部に分割し、谷部を山のほうへ折り返した状態で、山谷両方をあわせた面積を求め、その面積を、長さで割ることによって、計測された値である。よって、Raだけでは、凹凸の形状は明らかではなく、凹凸の高さも不明確である。実質的に、どのような凹凸の形状がよいかについては、詳細に言及されておらず、特許文献５に記載された基準だけでは良好な凹凸形状を得ることはできなかった。

また、特許文献５に示された圧縮成形等では、凹凸形状のコントロールは難しく、使用する透明性基材の素材や、使用する防眩層の素材が制限され、あらゆるディスプレイに対応する光学積層体は得られないという課題もあった。

特開平６−１８７０６号公報 特開平６−１６８５１号公報 特開２００４−３４１０７０号公報 特開２００３−７５６０５号公報 特開昭６３−２９８２０１号公報

本発明は、上記現状に鑑み、艶黒感等の黒色再現性と防眩性という複数の性質を同時に得ることができる光学積層体を提供することを目的とするものである。

本発明は、表面に凹凸を有する光学積層体であって、光学積層体表面の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、
Ｓｍが１０８．７μｍ以上１８９．４μｍ以下であり、
θａが０．３０２°以上０．７６７°以下であり、
Ｒｚが０．４０６μｍ以上０．８５４μｍ以下であり、
光透過性基材上に設けられた表面に凹凸を有する防眩層、及び、該防眩層上に設けられた表面調整層を有するものであり、上記表面調整層は、樹脂バインダーを含有するものであることを特徴とする光学積層体である。

上記表面調整層は、樹脂バインダー及び流動性調整剤を含有するものであることが好ましい。
上記防眩層は、硬化型樹脂の硬化物及び微粒子を含有する層であることが好ましい。
上記表面調整層は、厚みが０．６μｍ〜１５μｍであることが好ましい。
上記表面調整層は、屈折率が１．４９〜１．８２であることが好ましい。
上記樹脂バインダーは、電離放射線硬化型樹脂であることが好ましい。
上記流動性調整剤は、コロイダルシリカであることが好ましい。
上記コロイダルシリカは、樹脂１００質量部に対し、５〜８０質量部配合されていることが好ましい。
本発明の光学積層体は、上記表面調整層上に更に低屈折率層を有することが好ましい。
上記防眩層に使用する凹凸形成性微粒子は、２種類または３種類であることが好ましい。

上記光学積層体は、光透過性基材上に凹凸を有する防眩層を設ける工程（１）及び上記工程（１）によって得られた防眩層上に樹脂バインダーを含有する表面調整層形成用組成物によって表面調整層を形成する工程によって得られるものであってもよい。

上記光学積層体は、３次元ゴニオフォトメーターによる光散乱性測定において、１／１００の強度になる角度が１．５〜３．５°であることが好ましい。
上記光学積層体は、３次元ゴニオフォトメーターによる光散乱性測定において、１／１０００の強度になる角度が２〜６°であることが好ましい。

本発明は、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述した光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明は、最表面に上述した光学積層体、又は、上述した偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
本発明は、最表面に上述した光学積層体、又は、上述した偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置でもある。
本発明は、最表面に上述した光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置でもある。

本発明は、光透過性基材上に凹凸を有する防眩層を設ける工程（１）及び
上記工程（１）によって得られた防眩層上に樹脂バインダー及びコロイダルシリカを含有する表面調整層形成用組成物によって表面調整層を形成する工程
からなることを特徴とする上述した光学積層体の製造方法でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。

画像表示装置の艶黒感は、明室環境下で画像表示装置を黒色表示した際の黒色の再現性であり、目視観測によって評価されるものである。外部から光学積層体に入射した光が反射する際の光の反射角度が広範囲にわたる場合、光が光学積層体表面の凹凸角度に応じて、あらゆる方向に反射し（拡散反射し）観測者の目に届くため、本来の黒色が再現されない（つまり、拡散した光の一部しか観測者の目に届かない。）。従来の光学積層体において、凹凸形状を形成することによって艶黒感が低下するのはこのような原因によるものであった。本発明者らは、このような作用に着目した検討を行い、入射した光が正反射角近傍に集中して反射されるような形状にコントロールすることによって、光源からの光は、ほとんど拡散反射せず、正反射光に近くなるものとした。これによって、正反射光以外は観測者の目に届かないので、本来の濡れたような黒色が再現される。ここで入射した光が正反射角近傍に集中して反射されるような形状とは、本願発明において特定の範囲内のＳｍ、θａ、Ｒｚによって規定されたゆるやかな凹凸形状である。

一方、表面がこのような凹凸形状を有する画像表示装置は、光が反射しないわけではなく、平滑であるクリヤー層のような反射や映り込みを抑制することができるような散乱は生じるものであることから、防眩性においても充分な性能を得ることができる。

このような凹凸形状のコントロールは、種々の方法によって行われているが、上述したようなパラメーターを満たす凹凸形状を得ることは容易ではない。例えば、樹脂バインダー及び微粒子を含有する防眩層形成用組成物を塗布して防眩層を単層で形成する方法によって凹凸形状を形成する場合は、微粒子を十分に樹脂によって包埋できる程度に膜厚を厚くして形成することが好ましい方法だが、膜厚が厚くなることで、膜中での微粒子の挙動をコントロールするのが困難となり（つまり、凹凸形状を好ましい範囲にコントロールしにくく、また、そのために、好ましい光学特性が得られない）、生産性が悪い等の要因によって、本発明において必要とされる特定の範囲内のＳｍ，θａ、Ｒｚを有するような緩やかな形状を描く表面形状を形成させることは困難であった。

本発明は、これらのディスプレイにおいて、反射防止用光学積層体の表面の凹凸形状をコントロールし、反射散乱光が一定の散乱角の範囲内での散乱にとどまるよう制御することによって、防眩性と黒色再現性との両方を得ることができることを見出すことによって完成されたものである。

上述したような作用によって艶黒感と防眩性とを両立するためには、光学積層体表面の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の十点平均粗さをＲｚとした場合に、Ｓｍが１００μｍ以上２００μｍ以下、θａが０．３°以上０．８０°以下、Ｒｚが０．４０μｍ超過０．９０μｍ以下としたものであり、このような範囲内のものとすることによって、上述したような小さい反射角を得ることができる。

上記パラメータを満たすような凹凸形状は従来の光学積層体における凹凸形状よりもゆるやかな凹凸形状であり、このために、従来の防眩層よりも、反射光拡散性を狭めることができる。また、このようなゆるやかな形状を有するために、防眩層のない、平滑な表面よりも、光の拡散反射が抑制され、制御された光の散乱が正反射角近傍の範囲内において生じるものと推測される。

なおＳｍ、θａ、Ｒｚは、それぞれ以下の方法によって測定した値である。
Ｓｍ（μｍ）とは、この防眩層の凹凸の平均間隔を表し、θａ（度）は凹凸部の平均傾斜角を表す。１０点平均粗さ（Ｒｚ）とは、測定基準長さ部分の平均線か ら縦倍率の方向に測定した、最も高い山頂から５番目までの山頂の標高（絶対値）の平均と、最も低い谷底から５番目までの谷底における標高（絶対値）の平均値との和によって求められる凹凸の粗さである。これらは、表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／（株）小坂研究所製）の取り扱い説明書（１９９５，０７，２０改訂）に記載されたＪＩＳ Ｂ０６０１ １９９４に準拠した方法である。θａ（度）は角度単位であり、傾斜を縦横比率で表したものがΔaである場合、Δa＝tanθａ＝（各凹凸の極小部と極大部の差（各凸部の高さに相当）の総和/基準長さ）で求められる。ここで、「基準長さ」とは、下記の測定条件と同じである。

本発明による光学積層体の表面粗さを表すパラメーター（Ｓｍ、θａ、Ｒｚ）を測定する場合、例えば、上記表面粗さ測定器を用いて、下記の測定条件で測定を行うことができ、この測定は本発明にあっては好ましいものである。

測定条件
１）表面粗さ検出部の触針：
型番／SE2555N（２μ標準）（株）小坂研究所製
（先端曲率半径２μｍ／頂角：９０度／材質：ダイヤモンド）
２）表面粗さ測定器の測定条件：
基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：
０．８ｍｍ
評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５ (１)以外）：
４．０ｍｍ
触針の送り速さ：０．１ｍｍ／ｓ

なお、これらの数値は、防眩層の形成に使用する樹脂種や凹凸形成に使用される粒子の粒子径や配合量、更に表面調整層の組成や膜厚等を調整することによって、適宜所望の範囲のものとすることができる。

本発明においては、光透過性基材上に凹凸を有する防眩層及び防眩層上に設けられた表面調整層を有するものである。すなわち、防眩層によって凹凸形状を形成した後、更に表面調整層を設けることによって、防眩層表面に存在する微妙な凹凸や凹凸における鋭い形状部分をある程度緩やかな形状のものとすることによって、上述したＳｍ、θａ、Ｒｚが所望の範囲内のものである凹凸形状を得るものである。

上記表面調整層は、バインダー樹脂を含有するものであり、バインダー樹脂を含有する表面調整層形成用組成物を防眩層上に塗布し、必要に応じて硬化反応を生じさせることによって、形成することができる。

すなわち、本発明においては上述したような作用に基づく艶黒感を得るために、表面調整層の形成によって微細な凹凸を目止めし、スムージングをかけるものである。これによって、上述したパラメーターを満たす光学積層体を得ることができる。

上記表面調整層は、樹脂バインダーを含有するものである。上記樹脂バインダーとしては特に限定されないが、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂など、塗工時に固形分を調整するための溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、熱硬化型樹脂等を硬化して得られるもの等を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。なお、本明細書において、「樹脂」は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。

上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、（メタ）アクリレート基等のラジカル重合性官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物と（メタ）アルリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。

上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。

上記電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤又は光重合促進剤を上記表面調整層形成用組成物に添加することが好ましい。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４（チバスペシャリティーケミカルズ社製）として市販されている１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、アシルホスフィンオキシド類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることができる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることができる。光重合開始剤の添加量は、上記電離放射線硬化型樹脂１００質量部に対し、０．１〜１０質量部であることが好ましい。

上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。上記電影放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ、これによってより優れた艶黒感を得ることができる。上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

上記光透過性基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂としては、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が好ましい。

上記バインダー樹脂として使用できる熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を併用して使用することもできる。

本発明においては、表面調整層は流動性調整剤を含有するものであることが好ましい。流動性調整剤を含有しない表面調整層形成用組成物によって表面調整層を形成すると、過剰なスムージングがかかってしまっていた。これによって、艶黒感は優れるが、防眩性能が著しく低下してしまった。しかし、上記有機微粒子又は無機微粒子等の流動性調整剤を含有する組成物によって被膜の形成を行うと、艶黒感等の黒色再現性と防眩性という性能との両立を図ることができる。このような効果が得られる作用は明確ではないが、上述したような各種の流動性調整剤を含有する組成物は、その流動性が制御されていることによって表面の凹凸形状への追随性が良好であることから、スムージングにおいて、従来の表面調整層では完全につぶれてしまう防眩層にある微細な凹凸形状に、適度な滑らかさを付与させながら凸形状を完全につぶさず残すことができるものと推測される。この結果、同一面積の中に存在する凸部分が増え、艶黒感を失わず、防眩性を向上させることができると考えられる。

上記流動性調整剤として使用することができる有機微粒子又は無機微粒子の形状は特に制限されるものではなく、例えば、球状、板状、繊維状、不定形、中空等のいずれのものでも良い。

上記有機微粒子としては粒子内部に適度な架橋構造を有しており、活性エネルギー線硬化樹脂やモノマー、溶剤等による膨潤が少ない硬質な微粒子を用いることができる。例えば、粒子内部架橋タイプのスチレン系樹脂、スチレン−アクリル系共重合樹脂、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、スチレン−イソプレン系樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等を主成分とするものを使用することができる。

上記無機微粒子の種類についても特に制限されるものではなく、例えば、シリカ、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類酸化物、チタン酸化物、亜鉛酸化物、アルミニウム酸化物、硼素酸化物、スズ酸化物、リン酸化物、インジウムスズ酸化物、ジルコニウム酸化物、金属、金属窒化物、炭素同位体、微粉珪酸、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、微粉タルク、酸化チタン、珪藻土、スメクタイト、カオリンクレー 等が挙げられる。好ましい金属の具体例として、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ａｕ、Ａｇが、好ましい金属窒化物の具体例として、ＴｉＣ、ＳｉＣ、ＡｌＣ、ＷＣ、ＢＣが、好ましい炭素同位体の具体例として、ダイヤモンド、グラファイト、カーボンがそれぞれ挙げられる。

上記無機微粒子は、導電性金属酸化物微粒子であってもよい。上記導電性金属酸化物微粒子としては特に限定されず、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の値はすべて屈折率を表すものである。）、Ｓｂ_２Ｏ_２（１．７１）、ＳｎＯ_２（１．９９７）、ＣｅＯ_２（１．９５）、酸化インジウム錫（略称 ＩＴＯ；１．９５）、Ｉｎ_２Ｏ_３（２．００）、Ａｌ_２Ｏ_３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称 ＡＴＯ；２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称 ＡＺＯ；２．０）等を挙げることができる。上記有機微粒子又は無機微粒子の２以上を同時に使用するものであってもよい。

また、上記有機微粒子又は無機微粒子は、コア／シェル構造を有するものであってもよい。この場合、シェル部は表面に重合性官能基が導入されたものであってもよい。上記シェル部は、重合性官能基が直接又は重合性官能基を備えるモノマー、オリゴマー、ポリマーがグラフト形態となって化学反応によりコアに結合した構造；粒子部分（コア）の表面に重合性官能基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーが被膜形態となって化学反応により結合した構造等を挙げることができる。

上記コア／シェル構造を有する超微粒子の粒子部分（コア）は、有機、無機成分のいずれであっても良く、上記シェル部も有機又は無機成分のいずれであっても良い。コア／シェル構造を有する超微粒子としては例えば、その全体が有機成分のみからなるもの（ポリマーラテックスなど）、その全体が無機成分のみからなるもの、その全体が有機−無機複合成分からなるものがあり、更には、粒子部分（コア）とその表面に付着した重合性官能基を有する部分（グラフト部分又はシェル部分）のうちの一方が有機材料であり、他方が無機材料であるようなグラフト微粒子及びコア／シェル微粒子も含まれる。

上記コア／シェル微粒子として、その表面に重合性官能基を有するものを使用した場合、官能基を有する樹脂バインダー（後述）を用いたコーティング組成物を調製し、当該コーティング組成物を上記凹凸を有する防眩層の表面に塗布し、硬化させることが好ましい。これによって、微粒子表面の重合性官能基とバインダー成分の重合性官能基が塗膜硬化時に反応し、バインダー成分とコア／シェル微粒子との間に共有結合を形成するので、塗膜の強度や密着性を向上させる効果が大きく、表面凹凸形状に対する追随性効果も大きい点で好ましい。上記樹脂バインダーとして一分子中に重合性官能基を２個以上有する多官能バインダー成分を使用すると、架橋結合を形成し得るので好ましい。特に、重合性官能基を有する超微粒子に比較的少量の多官能モノマー又はオリゴマーを補助的に配合することによって、超微粒子同士の接触点で結着力を大きく向上させることができ、表面凹凸形状への追随性もより向上させることができるので非常に好ましい。

上記有機微粒子又は無機微粒子は、一般的には一次粒子径が１ｎｍ〜５００ｎｍ（数平均粒子径）の範囲のものを用いるのが好ましい。一次粒子径が１ｎｍ未満では、塗膜に充分な硬度及び強度を付与することが困難になり、一方、一次粒子径が５００ｎｍを超えると、塗膜の透明性が損なわれ用途によっては適用不可能となる場合がある。微粒子の粒子径は均一に揃っていても良く、分布を持っていても良い。また、塗膜の強度を低下させない範囲であれば、粒子径の異なる微粒子を二種以上混合して使用することができる。微粒子の一次粒子径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等により得られる二次電子放出のイメージ写真から目視計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により機械計測してもよい。
上記導電性金属酸化物微粒子の平均粒子径は、動的光散乱法等によって測定することができる。

上記微粒子の中でも、本発明において好ましいのは、コロイダルシリカ、ＡＴＯ、ジルコニア超微粒子、超微粒子酸化アンチモン等であり、コロイダルシリカが特に好ましい。その好ましいサイズは、１〜７０ｎｍ程度である。

本発明において「コロイダルシリカ」とは、コロイド状態のシリカ粒子を水又は有機溶媒に分散させたコロイド溶液を意味する。上記コロイダルシリカの粒子径（直径）は、例えば１〜７０ｎｍの超微粒子のものであることが好ましい。なお、本発明におけるコロイダルシリカの粒子径は、ＢＥＴ法による平均粒子径（ＢＥＴ法により表面積を測定し、粒子が真球であるとして換算して平均粒子径を算出する）である。

上記コロイダルシリカは、公知のものであり、市販のものとしては、例えば、「メタノールシリカゾル」、「ＭＡ−ＳＴ−Ｍ」、「ＩＰＡ−ＳＴ」、「ＥＧ−ＳＴ」、「ＥＧ−ＳＴ−ＺＬ」、「ＮＰＣ−ＳＴ」、「ＤＭＡＣ−ＳＴ」、「ＭＥＫ」、「ＸＢＡ−ＳＴ」、「ＭＩＢＫ−ＳＴ」（以上、日産化学工業（株）製品、いずれも商品名）、「ＯＳＣＡＬ１１３２」、「ＯＳＣＡＬ１２３２」、「ＯＳＣＡＬ１３３２」、「ＯＳＣＡＬ１４３２」、「ＯＳＣＡＬ１５３２」、「ＯＳＣＡＬ１６３２」、「ＯＳＣＡＬ１１３２」、（以上、触媒化成工業（株）製品、いずれも商品名）で市販されているものを挙げることができる。

上記有機微粒子又は無機微粒子は、表面調整層のバインダー樹脂質量１００に対し、微粒子質量が５〜８０で含まれていることが好ましい（微粒子質量／バインダー樹脂質量＝Ｐ／Ｖ比＝５〜８０／１００）。５未満であると、凹凸形状への追随性が不充分となるため、上述したＳｍ、θａ、Ｒｚを有する凹凸形状を得ることが困難になる場合があり、艶黒感等の黒色再現性と防眩性とを両立することが困難になる場合がある。８０を超えると、過剰の流動性調整剤によって高粘度となりすぎて加工適正が悪化する場合がある。

表面調整層の膜厚（硬化時）は０．６μｍ以上１５μｍ以下（１２μｍ以下が好ましい）であることが好ましく、より好ましくは下限が３μｍ以上であり上限が８μｍ以下である。なお、上記表面調整層の厚みは、後述する方法で防眩層の厚みＡを測定したのち、表面調整層を積層した防眩層＋表面調整層の厚みＢを測定し、このＢからＡの値を差し引いて算出した値である。防眩層と、表面調整層のバインダー樹脂に屈折率差がある場合には、完成した製品の、上記Ｂを測定した後に、Ａを測定して算出も可能である。また、光学積層体を完全に製造した後、後述するＳＥＭやＴＥＭによる断面観察により、算出することもできる。上記膜厚が０．６μｍ未満であると、防眩性は良好であるが、艶黒感が改善しない場合がある。膜厚が１５μｍを超えた場合は、艶黒感は非常に優れるが、防眩性が改善しないという問題を生じる場合がある。

本発明の光学積層体において、上記表面調整層は屈折率が１．４９〜１．８６であることが好ましい。すなわち、本発明において上記表面調整層は、ハード性を有するものとすることが好ましいものである。しかし、低屈折率層としての機能も発揮するのに好ましい屈折率１．３８〜１．４６程度で、かつ、膜厚を上記範囲の層とすると、低屈折率材料は、どのような方法（例えば、樹脂材料のみの場合、樹脂材料に無機・有機又は有機無機ハイブリッドの微粒子を添加した場合、無機蒸着によるによる場合）であってもディスプレイ最表面に用いることができるだけのハード性を有しない。すなわち、低屈折率の皮膜は柔らかく傷つきやすいか、硬くても脆いものとなる。低い屈折率の表面調整層によってハード性を得るためには、低屈折率層の膜厚をきわめて薄く（例えば、０．１〜０．５μｍ）する必要がある。しかしながら、膜厚が０．１〜０．５μｍ程度である場合には、本発明で所望とする艶黒感を得ることが困難になる。従って、屈折率が上記範囲である層とすることが好ましい。上記屈折率は、上限１．７６であることがより好ましく、下限１．５１であることがより好ましい。

上記表面調整層の屈折率は、使用する有機微粒子又は無機微粒子及びバインダー樹脂として以下の好ましい材料を選択することによって所望の範囲内のものとすることができる。例えば、有機微粒子として、アクリル系樹脂微粒子（１．４９〜１．５３）、アクリルースチレン共重合樹脂微粒子（１．５４〜１．６０）など、上記有機微粒子以外にも、上記コア／シェル構造を有するものを好適に使用することができ、無機微粒子としてはコロイダルシリカ（屈折率１．４５〜１．５０）、ジルコニア（２．１９〜２．４０）、ＡＴＯ（２．０）、ＺｎＯ（１．９）、アルミナ（１．６３）、チタニア（２．５２〜２．７６）、酸化アンチモン（２．０９）等を使用することができる。

上記表面調整層を得るために好適に使用することができる樹脂バインダーとしては、上記したバインダー樹脂中の３官能以上の不飽和結合を有する化合物等を挙げることができる。また、臭素原子、硫黄原子、フルオレン骨格を含有する高屈折率化合物で、１個以上の不飽和結合を有する化合物も、上記３官能以上の不飽和結合を有する化合物と共に、又は単独で使用することができる。

更に、上記表面調整層の屈折率と防眩層を形成する樹脂バインダーの屈折率との差（表面調整層の屈折率から防眩層を形成する樹脂バインダーの屈折率を差し引いた差）が０〜０．２５であることが好ましく、表面調整層の上に低屈折率層を設ける場合には、０．１〜０．２５であるのが好ましく、低屈折率層を設けない場合には、０〜０．１未満であるのが好ましい。低屈折率層を設けず、表面調整層が最表面になる場合は、防眩層との屈折率の差が大きくなりすぎると、防眩層と表面調整層界面での反射が起こるため、最表面層に干渉縞が生じ、視認性が低下する原因になり、かつ、最表面層が高屈折率であると、空気層界面で反射率が高くなり、やはり視認性が低下するという点で好ましくなく、かえって本発明の効果を損なってしまうおそれがある。上記防眩層のバインダーと表面調整層との屈折率の差は、表面調整層が最表面となる場合には、上限０．１であることがより好ましく、下限０であることがより好ましい。また、防眩層を形成する樹脂バインダーの屈折率からから表面調整層の屈折率を差し引いた場合の屈折率差は、０〜０．０５であることがより好ましい。

また、表面調整層は、上述したような機能のほかに、帯電防止、屈折率調整、高硬度化、防汚染性等を付与する機能を有するものであってもよい。この場合、上記表面調整層は、必要に応じてその他の添加剤を含有する表面調整層形成用組成物によって形成することができる。

上記帯電防止剤としては特に限定されず、例えば、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性化合物；スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性化合物；アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物；アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物；スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物；上記有機金属化合物のアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等を挙げることができる。上記に列記した化合物を高分子量化した化合物も使用することができる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマー又は官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。

上記帯電防止剤としては、導電性ポリマーも挙げることができる。導電性ポリマーとしては特に限定されず、例えば、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、脂肪族共役系のポリアセチレン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフト又はブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げることができる。

上記帯電防止剤は、上記バインダー樹脂量（溶剤を除く）に対する添加が７〜１５０質量％であることが好ましい。より好ましくは、上記添加量の上限が１００以下であり、下限が５以上である。添加量を上記数値範囲に調整することにより、光学積層体としての透明性を保ち、また艶黒感や防眩性等の性質に悪影響を与えることなく、帯電防止性能を付与することができる点で好ましい。

上記表面調整層の形成方法は特に限定されないが、例えば、上記した有機微粒子又は無機微粒子、バインダー樹脂（モノマー、オリゴマー等の樹脂成分を包含する）、溶剤及び任意成分とを混合して得た表面調整層形成用組成物を防眩層上に塗布することにより形成することができる。溶剤としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）；又はこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。

上記表面調整層形成用組成物は、更に、フッ素系又はシリコーン系等のレベリング剤を含有するものであってもよい。レベリング剤を添加した表面調整層形成用組成物は、塗工面を良好にし、耐擦傷性の効果を付与できるという機能を有する。

上記表面調整層形成用組成物は、ミヤバーコート法、ロールコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法によって塗装することができる。表面調整層形成用組成物の塗布後に、必要に応じて乾燥と硬化を行う。上記表面調整層の形成においては、上記樹脂バインダーとして紫外線硬化型樹脂を使用し、紫外線によって硬化を行うことが好ましい。紫外線によって硬化を行う場合、１９０〜３８０ｎｍの波長域の紫外線を使用することが好ましい。紫外線による硬化は、例えば、メタルハライドランプ灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯等によって行うことができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げることができる。

本発明の光学積層体の防眩層は、光透過性基材表面に設けられた層であり、表面に凹凸を有するものである。凹凸の形成方法は特に限定されず、公知の方法を使用することができる。上記防眩層と上記表面調整層の２層及び必要に応じて設けられるその他の層の合計厚みとして、０．５μｍ以上２７μｍ以下（好ましくは２０μｍ以下）であることが好ましく、より好ましくは下限が１μｍであり、上限が２３μｍ（更に好ましくは１５μｍ）である。なお、上記防眩層と上記表面調整層の２層及び必要に応じて設けられるその他の層の合計厚みは、基材とそれに積層した最初の層の界面から空気と接する防眩性凹凸最表面までの厚みをいう。基材界面から最表面までには、防眩層と表面調整層からなる場合だけでなく、その他光学機能層等が積層され、多層になっている場合もある。上記厚みは、以下の方法によって測定することができる。

（層厚：合計厚みの測定方法）
共焦点レーザー顕微鏡（LeicaTCS-NT：ライカ社製：倍率「３００〜１０００倍」）にて、光学積層体の断面を透過観察し、界面の有無を判断し下記の評価基準で判断した。具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率１．５１８のオイルを約２ｍｌ乗せて観察し判断した。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気層を消失させるために用いた。測定によって得られた１画面につき 最表面の凹凸の最大凸部、最小凹部の基材からの膜厚を１点ずつ計２点測定し、それを５画面分、計１０点測定し、平均値を算出した。表面調整層の膜厚は、１画面につき、防眩層の凹凸の最大凸部、最小凹部の基材からの膜厚を１点ずつ計２点測定し、それを５画面分、計１０点測定し、平均値を算出し、先に求めた全体の層厚から差し引いて求めることができる。
上記レーザー顕微鏡は、各層に屈折率差があることによって非破壊断面観察できる。よって、もし、屈折率差が不明瞭であったり、差が０に近い場合には、この防眩層や表面調整層の厚みは、各層の組成の違いで層を観察できるＳＥＭ及びＴＥＭ断面写真観察によっても、同様に求めることができる。

上記防眩層の形成方法としては特に限定されないが、樹脂及び微粒子を含有する防眩層形成用組成物を用いて凹凸形状を有した防眩層を形成する方法によって行うことが好ましい。微粒子は、種類、大きさの異なるものを何種類か適宜選択して用いることができる。

樹脂及び微粒子を含有する防眩層形成用組成物を用いて凹凸形状を有した防眩層を形成する方法において使用される微粒子は、使用される一種類又は数種類の微粒子について各々、球状、例えば真球状、楕円状、不定形等のものであってよく、真球状であることがより好ましい。上記各微粒子の平均粒子径は、１.０μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、上限が１５．０μｍであり下限が、３．５μｍであるものがより好ましい。なお、上記微粒子の平均粒子径は、コールターカウンター法（電気抵抗法）計測することができる。また、レーザー回折法やSEM観察などによっても測定できる。また、上記各微粒子は、凝集粒子であってもよく、凝集粒子である場合は、二次粒子径が上記範囲内であることが好ましい。なお、平均粒子径（μｍ）は、単分散型の粒子(形状が単一な粒子)であれば、その平均粒子径を表し、ブロードな粒度分布を持つ不定形型の粒子であれば、粒度分布測定により、最も多く存在する粒子の粒径を平均粒子径として表している。

上記各微粒子は、微粒子全体の８０％以上（質量比；好ましくは９０％以上）が、平均粒径±１.０（好ましくは０．３）μｍの範囲内にあることが好ましい。これによって、防眩性積層体の凹凸形状の均一性を良好なものとすることができる。但し、平均粒子径が３．５μｍ未満の微粒子を使用する場合には、上記の粒径分布範囲外になる微粒子、例えばブロードな粒子分布を有する、平均粒径２．５μｍ、１．５μｍの不定形微粒子を使用してもよい。

また、用いる微粒子として、多種類のものを用いる場合、粒子径や素材が異なる２種類または、3種類の粒子を混合して使用するものであってもよい。このように２、３種類の粒子を混合して使用する場合は、同種類の素材からなり、粒子径及び粒子分布のみが異なる２、３種類の粒子を混合するものであってもよいし、異なる素材からなる２、３種類の粒子を混合して使用するものであってもよい。

２種以上の微粒子を混合して使用する場合、微粒子は粒子全体としての分布において、２つ以上のピークを有する分布形状を有することが好ましい。すなわち、主として凹凸形状を形成する性質を有する大きな粒子径を有する粒子に加えて、小さな粒子径を有する粒子を併用することによって、大きな粒子径を有する粒子を全体に均一に分散させることができ、目的とする形状を得ることができる。

すなわち、平均粒子径が１.０μｍ以上２０μｍ以下（好ましくは下限３．５μｍ、上限１５．０μｍ）であり、微粒子全体の８０％以上（質量比；好ましくは９０％以上）が、平均粒子径±１.０（好ましくは０．３）μｍの範囲内にある粒子を第１の微粒子とし、これに、更に粒子径が小さい第２、第３の微粒子を配合し、これらを混合した微粒子組成物を使用することが好ましい。

上記第１の微粒子の粒子径をＲ１、第２の微粒子の粒子径をＲ２とすると、粒子径Ｒ２は、
０.２５×Ｒ１（好ましくは０．５０）≦Ｒ２≦１．０×Ｒ１（好ましくは０．７５）(Ｉ)
を満たすものであることが好ましい。また、更にその他の微粒子を複数含むものであってもよい。この関係は、第２の微粒子に対する第３の微粒子にも成り立つ。第３の微粒子の粒子径をＲ３とすると、
０．２５×Ｒ２（好ましくは０．５０）≦Ｒ３≦１．０×Ｒ２ （好ましくは０．７５）（ＩＩ）を満たすものが好ましい。

但し、第一、第二、第三微粒子とも、同じ成分からなる場合には、粒子径は必ず異なることが好ましい。互いに異なる素材からなる２種類以上の微粒子を混合して用いる場合には、当該２種類以上の微粒子は、上記のように平均粒子径が異なることも好ましいが、同じ平均粒子径であるものも好ましく用いられる。

Ｒ２が０.２５×Ｒ１以上、Ｒ３が０．２５×Ｒ２以上であることにより、塗布液の分散が容易となり、粒子が凝集することがない。また、塗布後の乾燥工程においてフローティング時の風の影響を受けることなく、均一な凹凸形状を形成することができる。

また、本発明の別の態様によれば、樹脂と、第一微粒子と、第二微粒子との単位面積当りの総質量比が、第一微粒子の単位面積当りの総質量をＭ_１、第二微粒子の単位面積当りの総質量をＭ_２、樹脂の単位面積当りの総質量をＭとした場合に、下記の式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）： ０．０８≦(Ｍ_１＋Ｍ_２)／Ｍ≦０．３６ （ＩＩＩ）
０≦Ｍ_２≦４.０Ｍ_１ （ＩＶ）
を満たすものが好ましい。

上記第２の微粒子としては、特に限定されず、上記第１の微粒子と同様の無機系、有機系のものを使用することができる。上記第２の微粒子の含有量は、上記第１の微粒子の含有量に対して、３〜１００質量％であることが好ましい。第３の微粒子は、第２の微粒子と同様の配合量であってよい。

本発明においては、２種類の微粒子か、３種類の微粒子を用いて凹凸形状を形成するのが好ましい。
この場合には、各微粒子には、主に以下のような役割があり、その役割によって、微粒子の素材と粒径を適宜選択することができる。但し、この役割は、１例であり、第１の微粒子、第２の微粒子、第３の微粒子それぞれの役割は、適宜選択できる。

まず、微粒子として２種類使用する場合、より大きな粒子径を有する微粒子（すなわち、上述した第１の微粒子）が主に凹凸形状を形作る機能を有する。このような目的に使用する微粒子としては、後述する内部拡散性のない微粒子（すなわち、樹脂バインダーとの屈折率差が小さい微粒子）を主に選択する。又、本発明においては、防眩層を防眩層と表面調整層の２層で構成する。防眩層を形成するとき、この第１の微粒子の粒子径は、マトリックス樹脂の膜厚より大きい場合もある。この場合、第１の微粒子は、防眩層の被膜から頭を出している状態であり、これによって凹凸形状が形成されている。

このような第１の微粒子は、特に凝集しやすい素材からなる微粒子である場合に、防眩層中で凝集してしまうことによって、好ましい凹凸形状が得られなくなる場合がある。このような場合には、上記第１の微粒子の防眩層膜内での横方向での分散性を良好にするため、上記第１の微粒子の粒子径の７５％以下という小さな粒子径を有する微粒子（すなわち、上述した第２の微粒子）を併用することが好ましい。これによって、凹凸形状が良好にコントロールされ、被膜全体で均一に形成することができる。上記第２の微粒子は、内部拡散性を持つ微粒子でもよく、または、不定形の凝集性の微粒子でもよい。

上記第1の微粒子、第２の微粒子に加えて、更に小さな粒子径を有する第３の微粒子を併用することもできる。この場合、第２の微粒子としては内部拡散性を生じる微粒子（すなわち、樹脂バインダーとの屈折率差が大きい粒子）を選択することが好ましい。上記第2の微粒子の粒径は、第１の微粒子の粒子径の７５％以下であるような小さなものが好ましい。第３の微粒子は、第２の微粒子よりも更に微細なものであり、上記第１の微粒子、第２の微粒子の、防眩層膜内での横方向の分散性を良好にし、好ましい凹凸を形成するためのスペーサーとなる。これによって凹凸形状が良好にコントロールされ、被膜全体で均一に凹凸形状を形成することができる。上記第３の微粒子の粒径は、第２の微粒子の８５％以下の小さなものが好ましい。

上記微粒子の素材としては、特に限定されず、無機系、有機系のものが使用することができ、好ましくは透明性のものがよい。有機系材料により形成されてなる微粒子の具体例としては、プラスチックビーズを挙げることができる。プラスチックビーズとしては、ポリスチレンビーズ（屈折率１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９〜１．５３）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４〜１．５８）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒドビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ、等が挙げられる。上記プラスチックビーズは、その表面に疎水性基を有することが好ましく、例えば、スチレンビーズを挙げることができる。無機系微粒子としては、不定形シリカ等を挙げることができる。

上記不定形シリカは、分散性が良好な粒径０ ．５〜５μｍのシリカビーズを使用することが好ましい。上記不定形シリカの含有量は、バインダー樹脂に対して１〜３０質量部であることが好ましい。以下で詳述する防眩層形成用組成物の粘度上昇を生じることなく上記不定形シリカの分散性を良好なものとするために、平均粒径や、添加量を変更させるとともに、粒子表面への有機物処理の有無も変更して使用することができる。粒子表面に有機物処理を施す場合には、疎水化処理が好ましい。

上記有機物処理には、ビーズ表面に化合物を化学的に結合させる方法や、ビーズ表面とは化学的な結合なしに、ビーズを形成する組成物にあるボイドなどに浸透させるような物理的な方法があり、どちらを使用してもよい。一般的には、水酸基またはシラノール基等のシリカ表面の活性基を利用する化学的処理法が、処理効率の観点で好ましく用いられる。処理に使用する化合物としては、上述活性基と反応性の高いシラン系、シロキサン系、シラザン系材料などが用いられる。例えば、メチルトリクロロシラン等の、直鎖アルキル単基置換シリコーン材料、分岐アルキル単置換シリコーン材料、或いはジ-ｎ-ブチルジクロロシラン、エチルジメチルクロロシラン等の多置換直鎖アルキルシリコーン化合物や、多置換分岐鎖アルキルシリコーン化合物が挙げられる。同様に、直鎖アルキル基若しくは分岐アルキル基の単置換、多置換シロキサン材料、シラザン材料も有効に使用することができる。

必要機能に応じ、アルキル鎖の末端、乃至中間部位に、ヘテロ原子、不飽和結合基、環状結合基、芳香族官能基等を有するものを使用しても構わない。これらの化合物は、含まれるアルキル基が疎水性を示すため、被処理材料表面を、親水性から疎水性に容易に変換することが可能となり、未処理では親和性の乏しい高分子材料とも、高い親和性を得ることができる。

本発明における防眩層は、表面の凹凸を形成し防眩性を付与するだけでなく、マトリクスと微粒子との屈折率の違いにより生じる内部散乱性（屈折率差が大きいほど、内部散乱性は大きくなる）を付与することが好ましい。
この内部散乱性は、防眩性フィルムで問題となるギラツキ（表面凹凸がレンズの働きをし、特に、画素サイズの小さい高精細ディスプレイの場合に、輝度のバラツキを生じさせ、視認性の低下を引き起こす現象）改良性を持たせることができる。

このようなギラツキ改良性を付与する微粒子としては、上記バインダーの屈折率との差が０．０３〜０．２０であるものを用いることが好ましい。防眩層に含まれるバインダーと微粒子との屈折率の差を０．０３以上、０．２０以下が好ましいとしたのは、屈折率差が０．０３未満の場合は、両者の屈折率の差が小さすぎて、光拡散効果を得られず、又、屈折率差が０．２０よりも大きい場合は、光拡散性が高すぎて、フィルム全体が白化してしまうからである。なお、上記微粒子と上記バインダーとの屈折率差は、０．０４以上、０．１６以下が特に好ましい。

上記微粒子において、２種類以上の異なる屈折率を有する透光性微粒子を用い、それら微粒子の混合を行なう場合には、透光性微粒子の屈折率は、各々の微粒子の屈折率と使用比率とに応じた平均値として見なすことができ、微粒子の混合比率調整により細かい屈折率設定が可能となり、１種類の場合よりも制御が容易となり、様々な設計が可能となる。
従って、本発明においては、上記微粒子として２種類以上の異なる屈折率を有する微粒子を用いても良い。この場合には、第１の微粒子と第２の微粒子との屈折率の差を０．０３以上、０．１０以下とすることが好ましい。上記微粒子のうち、第１の微粒子と第２の透微粒子との屈折率の差を０．０３以上、０．１０以下が好ましいとしたのは、屈折率差が０．０３未満の場合は、両者の屈折率の差が小さすぎて、両者を混合しても屈折率の制御の自由度が小さく、又、屈折率差が０．１０よりも大きい場合は、マトリクスとの屈折率差の大きい微粒子により光拡散性が決定してしまうからである。なお、上記屈折率差は、０．０４以上、０．０９以下がより好ましく、０．０５以上、０．０８以下が特に好ましい。

上記防眩層に含有させる第１の微粒子としては、特に透明度が高く、バインダーとの屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。第１の微粒子に用いられる有機微粒子としては、具体的には、アクリルビーズ（屈折率１．４９〜１．５３３）、アクリル−スチレン共重合体ビーズ（屈折率１．５５）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５７）等が挙げられる。無機微粒子としては、不定形シリカビーズ（屈折率１．４５〜１．５０）が挙げられる。
第２の微粒子としては、有機微粒子が好適であり、特に透明度が高く、樹脂との屈折率差が前述のような数値になるものを組み合わせて用いることが好ましい。
第２の微粒子に用いられる有機微粒子としては、具体的にはスチレンビーズ（屈折率１．６０）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合ビーズ（１．６６）等が挙げられる。

また、上記微粒子として２種類の異なる屈折率を有する微粒子を用いる場合には、前述のように、第１の微粒子の粒径＞第２の微粒子の粒径とすることも好ましいが、あえて２種類の微粒子の粒径を揃えることにより、第１の微粒子と第２の微粒子の比率を自由に選択し用いることもでき、このようにすることで、光拡散性の設計が容易になる。第１の微粒子と第２の微粒子との粒径を揃えるためには、単分散粒子が得やすい有機微粒子が、この点で好ましい。粒径にばらつきがないほど、防眩性や内部散乱特性にばらつきが少なくなり、防眩層の光学性能設計が容易になるので好ましい。単分散性を更に上げる手段として、風力分級、ろ過フィルタによる湿式ろ過分級が挙げられる。

上記防眩層は、上記微粒子及び硬化型樹脂を含有する防眩層形成用組成物により形成することができる。上記硬化型樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物又は熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。これらの樹脂としては、上記表面調整層において樹脂バインダーとして使用することができる樹脂として例示した樹脂を使用することができる。

上記防眩層は、微粒子と樹脂とを適切な溶剤に混合して得た防眩層形成用組成物を光透過性基材に塗布することにより形成することができる。適切な溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ニトロメタン、Ｎ―メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物；ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等のエーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエタン、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素；ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のその他の物；又はこれらの混合物が挙げられる。より好ましい溶剤としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン等が挙げられる。

本発明の好ましい態様によれば、上記防眩層形成用組成物に、フッ素系又はシリコーン系等のレベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤を添加した上記防眩層形成用組成物は、塗布適性が向上し、かつ、耐擦傷性という効果を付与することができる。レベリング剤は、耐熱性が要求されるフィルム状光透過性基材（例えばトリアセチルセルロースやポリエチレンテレフタレート）に好ましくは利用される。

上記防眩層形成用組成物を光透過性基材に塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。上記防眩層形成用組成物の塗布後に、必要に応じて乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。樹脂が硬化し、樹脂中の微粒子が固定されて、防眩層の最表面に所望の凹凸形状が形成される。

本発明の光学積層体は、更に、表面調整層の表面に低屈折率層を有するものであってもよい。これによって、反射防止機能を良好なものとすることができる。

上記低屈折率層は、表面調整層の表面に形成されてなり、その屈折率が表面調整層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、表面調整層の屈折率が１．５以上であり、低屈折率層の屈折率が１．５未満であり、好ましくは１．４５以下で構成されてなるものが好ましい。

低屈折率層は、１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかで構成されていてもよい。

上記フッ素系樹脂とは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体である。重合性化合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基（電離放射線硬化性基）や熱で硬化する極性基（熱硬化極性基）等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。

フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールなど）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。

フッ素原子を含有する熱硬化性極性基を有する重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを例示することができる。上記熱硬化性極性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基が好ましく挙げられる。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。

電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物（フッ素系樹脂）としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。

フッ素原子を含有する上記重合性化合物の重合体としては、例えば、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体；などが挙げられる。

また、これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も、上記重合性化合物の重合体として用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーンなどが例示できる。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。

上記したほか、さらには、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等のイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオール等のフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物；なども、フッ素系樹脂として用いることができる。

低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物（屈折率層形成用組成物）を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分（樹脂等）及び必要に応じて添加剤（例えば、後述の「空隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層形成用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は、例えば、防眩層で上述したものが挙げられる。

溶剤も防眩層で上述したものが挙げられ、好ましくは、メチルイソブチルケトン、 シクロヘキサノン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ジエチルケトン、ＰＧＭＥ等である。

上記組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、表面調整層の形成で上述した公知の装置を使用して混合することができる。

塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、表面調整層の形成で上述した各種方法を用いることができる。

得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。

上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は表面調整層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を１．３０〜１．４５に調節することが可能である。

空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された方法によって調製されたシリカ微粒子を挙げることができる。特開平７−１３３１０５、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。

被膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。

「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、表面調整層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒子径は、動的光散乱法などという方法によって測定した値である。「空隙を有する微粒子」は、上記低屈折率層中にマトリックス樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜５００質量部程度、好ましくは１０〜２００質量部程度とするのが好ましい。

低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層形成用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）、好ましくは０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。

樹脂の硬化手段は、防眩層の項で説明したのと同様であってよい。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。

低屈折率層の膜厚（ｎｍ）ｄ_Ａは、下記式（Ｖ）：
ｄ_Ａ＝ｍλ／（４ｎ_Ａ） （Ｖ）
（上記式中、
ｎ_Ａは低屈折率層の屈折率を表し、
ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、
λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。

また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式（ＶＩ）：
１２０＜ｎ_Ａｄ_Ａ＜１４５ （ＶＩ）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。

上記光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、セルロース系樹脂（セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート等）、ポリエーテルスルフォン、ポリオレフィン（ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン）、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、アクリル樹脂（ポリメタクリル酸メチル等）ポリカーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。

その他に、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Cyclo-Olefin-Polymer：COP）フィルムも使用することができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が用いられる基材で、例えば、日本ゼオン（株）製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト（株）製 スミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ（株）製 アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製 アペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製の Ｔｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成（株）製 オプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ（株）製のFVシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。

本発明にあっては、これらの熱可塑性樹脂を薄膜の柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板又はガラス板の板状体のものも使用することも可能である。

光透過性基材の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは上限が２００μｍ以下であり、下限が３０μｍ以上である。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを越える厚さであってもよく、１〜１０ｍｍ程度のものを使用できる。基材は、その上に防眩層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。

本発明の光学積層体は、３次元ゴニオフォトメーターによる光散乱性測定において、１／１００の強度になる角度が１．５〜３．５°であることが好ましい。また、１／１０００の強度になる角度が２〜６°であることが好ましい。

従来の光学積層体においては、光学積層体表面の凹凸角度に応じて、光があらゆる方向に反射し（拡散反射し）観測者の目に届くため、本来の黒色が再現されない（つまり、拡散した光の一部しか観測者の目に届かない）。従来の光学積層体において、凹凸形状を形成することによって艶黒感が低下するのはこのような原因によるものであった。本発明者らは、このような作用に着目した検討を行い、入射した光が正反射角近傍に集中して反射されるような形状にコントロールすることによって、艶黒感と防眩性との両立を図ったものである。

３次元ゴニオフォトメーターは、光学材料の反射散乱光を測定することができる装置である。本発明は、反射光の散乱をコントロールして艶黒感と防眩性の両方の性質を得るものであるが、このような光学積層体におけるこのような光学特性は、３次元ゴニオフォトメーターによる反射散乱光測定によって評価することができる。本発明の光学積層体は、上記観点から３次元ゴニオフォトメーターによる反射光散乱性測定の結果が上記範囲内のものであることが好ましく、このような範囲のものは、艶黒感と防眩性の両方の性質において優れている。

なお、本発明において、３次元ゴニオフォトメーターの測定は、例えば、以下の方法によって行うことができる。測定装置として、３次元ゴニオフォトメータ ＧＰ−１０型（（株）オプテック）を使用した。光源は白色光源（５０Ｗハロゲンランプ）、検出器はフォトマル（Ｒ９５５）である。装置を、光反射散乱解析用に設定した後、サンプル（黒アクリル板、及び黒アクリル板に防眩層面とは逆側を光学用粘着剤で張り合わせたもの）を、試料ホルダ（１２０ｍｍ×３８ｍｍの大きさ）に、入射光面に防眩層面を向けて設置し、光の出射絞りを２０ｍｍ（直径２０ｍｍ）に設定し、サンプルに光を照射し、その反射散乱光を、フォトマル（受光絞りを６ｍｍ、直径６ｍｍに設定）で受光し、その光を電気的な強度データとして測定した。試料は、横方向に±２０°の角度で移動させ、この角度範囲の、反射散乱光の角度分布を測定した。

上記の凹凸形状を有し、上記の反射光散乱特性を有する防眩層は、従来の防眩性に富むが、艶黒感のない防眩層や、メンギラを防止できるように開発された高精細な防眩層と比較し、画像鮮明度も優れており、この点においても優れた効果を有するものである。このような優れた画像鮮明度が得られる作用は、本件の凹凸形状が、従来の凹凸形状とは異なる種類のものであることを示すものである。画像鮮明度の向上を妨げていたノイズのような細かな凹凸がなく、防眩性が失われない程度に、なめらかで緩やかな凹凸形状のみが存在することにより、鮮明度を悪化させる原因（拡散反射成分）が減り、その表面物性は、画像鮮明性において、あたかも平滑な表面の有する物性（画像鮮明度が最も良好な表面）のように機能することができる（正反射成分が増える）ためと推測される。

画像鮮明度は、写像性測定器（スガ試験機（株）、品番；「ＩＣＭ−１ＤＰ」）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠し、５種類の光学櫛１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ、および２ｍｍ）で測定できるが、特に、細かい目の光学櫛を透過する光が多い方が、画像鮮明性に優れている。凹凸形状により、画像鮮明度は異なるが、本発明の光学積層体及び従来の防眩層で、画像鮮明度の向上にポイントを置いて凹凸形状を設計した場合に得られるほぼ最良の画像鮮明度（％）は、以下表１に示した通りである。

上記表１のように、本発明の光学積層体は従来の光学積層体よりも、優れた画像鮮明性が得られるものである。このように、細かい光学櫛において、画像鮮明度を向上できるということは、実際に、本件をディスプレイに装着した場合には、従来よりも、いっそう、文字や画像が見やすい状態にできることを示している。

本発明の光学積層体は、光学積層体表面の表面ヘイズ値が０．１％以上５．０％以下であることが好ましい。上記表面ヘイズ値が上記範囲内にあると、艶黒感を維持しながら、防眩性もある好ましい表面形状を得ることができるという点で好ましい。上記表面ヘイズ値は、上述したフィルム表面の凹凸形状等を調整することにより適宜調整することができる。

上記表面ヘイズ値は、以下の方法により測定された値である。
防眩層の凹凸上にペンタエリスリトールトリアクリレートなどの樹脂（モノマー又はオリゴマー等の樹脂成分を包含する）をトルエンなどで希釈し、適宜開始剤を添加し、固形分６０％としたものをワイヤーバーで乾燥膜厚が８μｍとなるように塗布、乾燥、硬化する。これによって、防眩層の表面凹凸がつぶれ、平坦な層となる。ただし、この防眩層を形成する組成物中にレベリング剤などが入っていることで、リコート剤がはじきやすく濡れにくいような場合は、あらかじめ防眩フィルムをケン化処理（２ｍｏｌ／ｌ のＮａＯＨ（又はＫＯＨ）溶液 ５５度 ３分浸したのち、水洗し、キムワイプで水滴を完全に除去した後、５０度オーブンで１分乾燥）により、親水処理を施すとよい。この表面を平坦にしたフィルムは、表面凹凸によるヘイズをもたない、内部ヘイズだけを持つ状態となっている。このヘイズを、内部ヘイズとして求めることができる。そして、内部ヘイズを、元のフィルムのヘイズ（全体ヘイズ）から差し引いた値が、表面凹凸だけに起因するヘイズ（表面ヘイズ）として求められる。

本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の各用途に使用することができるものであるが、各用途に応じて必要とされる物性を有するフィルムとすることが好ましい。特に、非自発光型画像表示装置に使用する場合と、自発発光型画像表示装置に使用する場合とでは、要求される光学特性が若干異なるため、目的に応じて特に内部ヘイズ値を調整することが好ましい。

例えば、本発明の光学積層体をＬＣＤ用等の非自発光型画像表示装置に使用する場合は、光学積層体の内部ヘイズ値が０％以上７０％以下であることが好ましい。上記内部ヘイズ値が上記範囲内にあると、本発明の光学積層体をＬＣＤ用に使用する場合の“ぎらつき”（後述）を改善する効果が得られる。上記内部ヘイズ値は、上述した表面ヘイズ値の測定方法において記載された方法によって測定される値である。

上述した防眩層形成用組成物を用いて凹凸形状を有する防眩層を形成し、上記内部ヘイズ値を有する光学積層体を得る場合、使用する樹脂と微粒子との屈折率との差ｎを０．０３以上０．２０以下とすることによって、上記内部ヘイズ値を有する光学積層体を得ることができる。上記ｎは、より好ましくは下限が０．０５以上であり、更に好ましくは０．０７以上であり、より好ましくは上限が０．１８以下であり、更に好ましくは０．１２以下である。このように、樹脂と微粒子との屈折率との差ｎを上記範囲内とすることにより、光学積層体に内部ヘイズを付与することができ、ＬＣＤ等の画像ムラ、及び、バックライト等背面からの透過光が凹凸形状をもつ光学積層体を通過するときに、その表面凹凸が微細なレンズの役割をして、表示される画素を乱してしまう“ぎらつき”（目には、キラキラする輝度の差によるちらつき、として見える）を有効に防止することができる。

更に、例えば、本発明の光学積層体をＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置に使用する場合は、内部ヘイズ値が０％以上３％以下であることが好ましい。このような低いヘイズ値のものとすることによって、艶黒感と防眩性の両方の性質において優れた効果が得られる点で好ましい。

上述した防眩層形成用組成物を用いて凹凸形状を有する防眩層を形成し、低い内部ヘイズ値（０〜３％）を有する光学積層体を得る方法の例としては、使用する樹脂と微粒子との屈折率との差ｎを０以上０．０５以下とすることによって、上記内部ヘイズ値を有する光学積層体を得る方法を挙げることができる。上記ｎは、より好ましくは下限が０．００１以上であり、更に好ましくは０．００５以上であり、より好ましくは上限が０．０３以下であり、更に好ましくは０．０１以下である。つまりは、なるべく樹脂と微粒子の屈折率差がない方向に調整するのが好ましい。樹脂と微粒子との屈折率との差ｎが上記範囲内にあることにより、高いコントラストと低い内部ヘイズ値を実現することができる。光学積層体として、このような特性を実現することを目的とする場合、樹脂と微粒子との屈折率との差ｎが上記範囲内にすることが好ましい。内部ヘイズ値を３％よりも高い値とし、ぎらつきを防止するためには、屈折率差を０．０５よりも大きくすればよい。ただし、材料同士の屈折率差だけではなく膜厚や、材料の添加量によっても内部ヘイズ値は変更できるため、材料の屈折率差範囲は上記に限定されない。

偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体における防眩層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板も、本発明の一つである。

上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材（好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。

本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。

上記非自発発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。

本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。

上記自発発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。

上記自発発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行なうＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。

本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。

本発明の光学積層体によって、画像表示装置における艶黒感等の黒色再現性、防眩性等の性質を同時に得ることができる。

以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明する。

（実験１：種々のＳｍ，θａ，Ｒｚを有する光学積層体の製造及びその物性の確認）
光学積層体を構成する各層の組成物を下記組成に従い調製した。
防眩層形成用組成物Ａ （実施例Ａで使用）
（紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）
２．１質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（屈折率１．５１）
０．９質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００） ０．２２質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
０．１２６質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
０．０２１質量部
（透光性第一微粒子）
単分散アクリルビーズ（粒子径５μｍ、屈折率１．５３５）
０．４４質量部
（透光性第二微粒子）
不定形シリカ（平均粒子径１．５μｍ、粒子表面に疎水有機処理あり）
０．０４４質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤 ０．０１１質量部
上記材料に、トルエン／シクロヘキサノン＝8／2の混合溶剤を添加し、十分混合し、固形分４０．５％の組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して防眩層形成用組成物Ａを調製した。

防眩層形成用組成物Ｂ （実施例Ｂで使用）
（紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）
２．２０質量部
イソシアヌル酸変性ジアクリレート Ｍ２１５（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）
１．２１質量部
ポチメチルメタクリレート（分子量７５，０００） ０．３４質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ．２２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．０４質量部
（透光性第一微粒子）
単分散アクリルビーズ（粒子径９．５μｍ、屈折率１．５３５） ０．８２質量部
（透光性第二微粒子）
不定形シリカインキ（平均粒子径１．５μｍ、固形分６０％、シリカ成分は全固形分の１５％）
１．７３質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤 ０．０２質量部
（溶剤）
トルエン： ５．８８質量部
シクロヘキサノン： １．５５質量部
上記材料を十分混合し、固形分４０．５％の組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して防眩層形成用組成物Ｂを調製した。

防眩層形成用組成物Ｃ （実施例Ｃ，Ｄで使用）
紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）
１００質量部
（ポリマー）
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００） １０質量部
（透光性第一微粒子）
単分散アクリルビーズ（粒径７．０μｍ、屈折率１．５３５） ２０質量部
（透光性第二微粒子）
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０） ２．５質量部
（透光性第三微粒子）
不定形シリカ：平均粒子径２．５μｍ 粒子表面に有機疎水処理あり ２質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ６質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤 ０．０４５質量部
（溶剤）
トルエン １５８質量部
シクロヘキサノン ３９．５質量部
を適宜添加して十分混合した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分４０．５％の防眩層形成用組成物Ｃとした。

防眩層形成用組成物Ｄ （実施例Ｅで使用）
（紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１） １００質量部
（ポリマー）
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００） １０質量部
（透光性第一微粒子）
単分散アクリルビーズ（粒径７．０μｍ、屈折率１．５３５） ２０質量部
（透光性第二微粒子）
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０） １６．５質量部
（透光性第三微粒子）
不定形シリカ：平均粒子径２．５μｍ ２質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ６質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤 ０．０４５質量部
（溶剤）
トルエン １７４．４質量部
シクロヘキサノン ４３．６質量部
を適宜添加して十分混合した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分４０．５％の防眩層形成用組成物Ｄとした。

防眩層形成用組成物Ａ 比較例Ｂ
紫外線硬化型樹脂
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１） ２０質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００） １質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．２質量部
微粒子
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０） １．２質量部
シリコン系レベリング剤 ０．０１２質量部
トルエン ３７．２質量部
メチルイソブチルケトン ６．６質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分３５％の防眩層形成用組成物Ａを調製した。

防眩層形成用組成物Ｂ 比較例Ｃ
紫外線硬化型樹脂
多官能ウレタンアクリレートＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製屈折率１．５１） １６質量部
イソシアヌル酸変性ジアクリレートＭ２１５（東亞合成（株）製） ２質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００） ２質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．２質量部
微粒子
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０） ０．５質量部
シリコン系レベリング剤 ０．０１３２質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが６：４の溶剤を、全固形分が４０％となるように添加して十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層形成用組成物Ｂを調製した。

防眩層形成用組成物Ｃ 実施例Ｉ
紫外線硬化型樹脂
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１） ５０質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．５０質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
ＰＥＴＡを４０℃オーブン中で１時間温めた後、２種類の光硬化開始剤をゆっくりと添加しながら攪拌し、４０℃オーブンで更に１時間温め、その後、再攪拌し光硬化開始剤を完全に溶解させ、固形分１００％の防眩層形成用組成物Ｃとして調整した。

防眩層形成用組成物Ｄ 比較例Ｅ
（樹脂）
酢酸プロピオン酸セルロースエステル（イーストマンケミカル社製、ＣＡＰ４８２−２０） ０.９５質量部
反応性オリゴマー［（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル共重合体のカルボキシル基の一部に、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチルアクリレートを付加させた化合物；ダイセル・ユーシービー（ＵＣＢ）（株）製、サイクロマーＰ］
１６．２５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ） １５．８質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ２５質量部
（溶剤）
メチルエチルケトン ５１質量部
ブタノール １７質量部
上記材料を適宜添加して十分混合した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分３３．５％の防眩層形成用組成物Ｄとした。

防眩層形成用組成物Ｅ 比較例Ｎ
紫外線硬化型樹脂
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１） ２０質量部
セルロースアセテートプロピオネート（分子量５０，０００） ０．４質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．２質量部
微粒子
不定形シリカ（平均粒径１．５μｍ、シランカップリング剤による表面疎水処理あり）
８８質量部
シリコン系レベリング剤 ０．０１２質量部
トルエン ３５質量部
メチルイソブチルケトン ６．７質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分３５％の防眩層形成用組成物Ｅを調製した。

防眩層形成用組成物Ｆ 比較例Ａ
紫外線硬化型樹脂
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１） ２０質量部
セルロースアセテートプロピオネート（分子量５０，０００） ０．４質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．２質量部
微粒子
不定形シリカ（平均粒径１．５μｍ） ０．８８質量部
シリコン系レベリング剤 ０．０１２質量部
トルエン ３５．４質量部
メチルイソブチルケトン ６．７質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分３５％の防眩層形成用組成物Ｆを調製した。

防眩層形成用組成物Ｇ 比較例Ｄ
紫外線硬化型樹脂
多官能ウレタンアクリレートＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製屈折率１．５１） １４質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート ＰＥＴＡ （屈折率１．５１） ６質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００） ２質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．３２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．２２質量部
微粒子
単分散スチレンビーズ（粒径５．０μｍ、屈折率１．６０） ４．６７質量部
シリコン系レベリング剤 ０．０９９質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが８：２の溶剤を、全固形分が４０％となるように添加して十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層形成用組成物Ｇを調製した。

防眩層形成用組成物Ｈ 比較例Ｆ
紫外線硬化型樹脂
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１） ２０質量部
セルロースアセテートプロピオネート（分子量５０，０００） ０．４質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．２質量部
微粒子
不定形シリカ（平均粒径１．５μｍ、シランカップリング剤による表面疎水処理あり）
４６質量部
不定形シリカ（平均粒径１．０μｍ、シランカップリング剤による表面疎水処理あり）
０．４６質量部
シリコン系レベリング剤 ０．０１２質量部
トルエン ３５．９質量部
メチルイソブチルケトン ６．３質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分３５％の防眩層形成用組成物Ｈを調製した。

防眩層形成用組成物Ｉ 比較例Ｇ
紫外線硬化型樹脂
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ＤＰＨＡ（屈折率１．５１） １９質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート ＰＥＴＡ （屈折率１．５１） １質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００） ２質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．２質量部
微粒子
単分散スチレンビーズ（粒径５．０μｍ、屈折率１．６０） ３．０８質量部
シリコン系レベリング剤 ０．０９９質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが８：２の溶剤を、全固形分が４０％となるように添加して十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層形成用組成物Ｉを調製した。

防眩層形成用組成物Ｊ 比較例Ｈ
紫外線硬化型樹脂
多官能ウレタンアクリレートＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製屈折率１．５１） １８質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００） ２質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．３２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．２２質量部
微粒子
単分散アクリルスチレンビーズ（粒径７．０μｍ、屈折率１．５５） １．５質量部
シリコン系レベリング剤 ０．０９質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが８：２の溶剤を、全固形分が４５％となるように添加して十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層形成用組成物Ｊを調製した。

防眩層形成用組成物Ｋ 比較例Ｊ
紫外線硬化型樹脂
多官能ウレタンアクリレートＵＶ６３００Ｂ（日本合成化学工業（株）製屈折率１．５１） ２０質量部
ＭＥＫ分散コロイダルシリカ（粒径１０〜２０ｎｍ、固形分３０％） ２０質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．２質量部
微粒子
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０） １．９質量部
シリコン系レベリング剤 １０−２８（大日精化（株）製） ０．０９質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが８：２の溶剤を、全固形分が４０％となるように添加して十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層形成用組成物Ｋを調製した。

防眩層形成用組成物Ｌ 比較例Ｋ
紫外線硬化型樹脂
多官能ウレタンアクリレートＵＶ６３００Ｂ（日本合成化学工業（株）製屈折率１．５１） ２０質量部
ＭＥＫ分散コロイダルシリカ（粒径１０〜２０ｎｍ、固形分３０％） ２０質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．２質量部
微粒子 単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０） ３．４質量部
シリコン系レベリング剤 ０．０９質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが６：４の溶剤を、全固形分が４０％となるように添加して十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層形成用組成物Ｌを調製した。

防眩層形成用組成物Ｍ 比較例Ｌ
紫外線硬化型樹脂
多官能ウレタンアクリレートＵＶ６３００Ｂ（日本合成化学工業（株）製屈折率１．５１） ２０質量部
ＭＥＫ分散コロイダルシリカ（粒径１０〜２０ｎｍ、固形分３０％） ２０質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．２質量部
微粒子
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０） ２．９質量部
シリコン系レベリング剤 ０．０９質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが８：２の溶剤を、全固形分が４０％となるように添加して十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層形成用組成物Ｍを調製した。

防眩層形成用組成物Ｎ 比較例Ｏ
紫外線硬化型樹脂
多官能ウレタンアクリレートＵＶ６３００Ｂ（日本合成化学工業（株）製屈折率１．５１） ２０質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００） ２質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．２質量部
微粒子
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０） １．５質量部
単分散アクリルスチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．５５） ０．４質量部
シリコン系レベリング剤 ０．０９９質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが８：２の溶剤を、全固形分が３８％となるように添加して十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層形成用組成物Ｎを調製した。

防眩層形成用組成物Ｏ 比較例Ｐ
紫外線硬化型樹脂
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ＤＰＨＡ（屈折率１．５１） １９質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート １質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００） ２質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．２質量部
微粒子
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０） １．６５質量部
シリコン系レベリング剤 ０．０９９質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが６：４の溶剤を、全固形分が４０％となるように添加して十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層形成用組成物Ｏを調製した。

表面調整層用組成物Ａ （比較例Ｂで使用）
紫外線硬化型樹脂
多官能ウレタンアクリレート ＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）屈折率１．５１） ３１．１質量部
アロニックスＭ３１５（商品名、東亞合成（株）製イソシアヌール酸のエチレンオキサイド３モル付加物のトリアクリレート） １０．４質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．４９質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．４１質量部
防汚剤 ＵＴ−３９７１（日本合成化学工業（株）製） ２．０７質量部
トルエン ４８．７６質量部
シクロヘキサノン ５．５９質量部
上記成分を十分混合して組成物として調整した。
この組成物を孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分４５％の表面調整層用組成物Ａを調製した。

表面調整層用組成物Ｂ （実施例Ｂで使用）
紫外線硬化型樹脂
多官能ウレタンアクリレート ＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製屈折率１．５１） ３１．１質量部
アロニックスＭ３１５（商品名、東亞合成（株）製イソシアヌール酸のエチレンオキサイド３モル付加物のトリアクリレート） １０．４質量部
光硬化開始剤
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １．４９質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ０．４１質量部
防汚剤 ＵＴ−３９７１（日本合成化学工業（株）製） ２．０７質量部
トルエン ５２５．１８質量部
シクロヘキサノン ６０．２８質量部
上記成分を十分混合して組成物として調整した。
この組成物を孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分４０．５％の表面調整層用組成物Ｂを調製した

表面調整層用組成物Ｃ（実施例Ａ，Ｃ，Ｄ，Ｅで使用）
コロイダルシリカスラリー（ＭＩＢＫ分散）；固形分４０％、平均粒径２０ｎｍ
２．９１質量部
多官能ウレタンアクリレートＵＶ−１７００Ｂ（紫外線硬化型樹脂；日本合成化学工業製固形分６０％ＭＩＢＫ） ６．１０質量部
アロニックスＭ２１５（紫外線硬化型樹脂；東亜合成製 イソシアヌール酸のエチレンオキサイド２モル付加物のジアクリレート固形分６０％ＭＩＢＫ）
１．５２質量部
イルガキュア１８４（光硬化開始剤；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．０１８質量部
イルガキュア９０７（光硬化開始剤；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．００３質量部
シリコン系レベリング剤 ０．００８５質量部
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン ２．０６質量部
シクロヘキサノン ０．４１質量部
上記成分を十分混合して組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、固形分約４５％の表面調整層用組成物Ｃを調製した。

低屈折率組成物 Ａ
中空シリカスラリー（ＩＰＡ，ＭＩＢＫ分散、固形分２０％、粒径５０ｎｍ）
９．５７質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート ＰＥＴ３０（紫外線硬化型樹脂；日本化薬製）
０．９８１質量部
ＡＲ１１０（フッ素ポリマー；固形分１５％ＭＩＢＫ溶液；ダイキン工業製）
６．５３質量部
イルガキュア１８４（光硬化開始剤；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．０６９質量部
シリコーン系レベリング剤 ０．１５７質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ２８．８質量部
メチルイソブチルケトン ５３．９質量部
上記成分を攪拌の後、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、固形分４％の低屈折率層用組成物Ａを調製した。これは、屈折率が１．４０である。

実施例Ａ
防眩層の形成
厚さ８０μｍのトリアセテートセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ 富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ａを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１０を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩層を形成した。
表面調整層の形成
さらに凹凸付与層の上に、表面調整層用組成物Ｃを、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の防眩層の総厚：約９μｍ）

実施例Ｂ
防眩層の形成
厚さ１００μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製、商品名「Ａ４３００」）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｂを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃８を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩層を形成した。
表面調整層の形成
さらに防眩層の上に、表面調整層用組成物Ｂを、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１０を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の防眩層の総厚：約１２．５μｍ）

実施例Ｃ
防眩層の形成
厚さ８０μｍのトリアセテートセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ 富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｃを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩層を形成した。防眩層で、バインダ樹脂との屈折率差が最大０．０９である微粒子を使用することで、内部拡散効果を出し、ギラツキをより効果的に防止できるようにした。
表面調整層の形成
さらに凹凸付与層の上に、表面調整層用組成物Ｃを、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の防眩層の総厚：約１３．５μｍ）

実施例Ｄ
防眩層の形成
厚さ８０μｍのトリアセテートセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ 富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｃを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩層を形成した。防眩層で、バインダ樹脂との屈折率差が最大０．０９である微粒子を使用することで、内部拡散効果を出し、ギラツキをより効果的に防止できるようにした。
表面調整層の形成
さらに凹凸付与層の上に、表面調整層用組成物Ｃを、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層した。
低屈折率層の形成
さらに表面調整層の上に、低屈折率層用組成物Ａを、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、低屈折率層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の防眩層の総厚：約１３．６μｍ）

実施例Ｅ
防眩層の形成
厚さ８０μｍのトリアセテートセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ 富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｄを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩層を形成した。防眩層で、バインダ樹脂との屈折率差が最大０．０９である微粒子を使用することで、内部拡散効果を出し、ギラツキをより効果的に防止できるようにした。
表面調整層の形成
さらに凹凸付与層の上に、表面調整層用組成物Ｃを、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１０を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の防眩層の総厚：約１２μｍ）

比較例Ａ
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｆを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃６を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩性光学積層体を形成した。この防眩層は、バインダー内部でシリカが凝集し、その凝集塊や分散したままのシリカで凹凸形状を形成している。（基材上の防眩層の総厚：約 ３μｍ）

比較例Ｂ
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ａを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃８を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩性光学積層体を形成した。この防眩層は、バインダー内部でシリカが凝集し、その凝集塊や分散したままのシリカで凹凸形状を形成している。（基材上の防眩層の総厚：約３．６μｍ）

比較例Ｃ
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｂを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１０を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射をして塗膜を硬化させ、防眩性光学積層体を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約 ６μｍ）

比較例Ｄ
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｇを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１０を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射をして塗膜を硬化させ、防眩性光学積層体を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約５．５μｍ）

比較例Ｅ
防眩層の形成
厚さ８０μｍのトリアセテートセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ 富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｄを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃２４を用いて塗布し、８０℃のオーブン中で２分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させると共に、液相からのスピノーダル分解により相分離型凹凸層を形成し、その後、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩層を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約８μｍ）

比較例Ｆ
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｈを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃６を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射をして塗膜を硬化させ、防眩性光学積層体を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約３μｍ）

比較例Ｇ
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｉを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１０を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射をして塗膜を硬化させ、防眩性光学積層体を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約５μｍ）

比較例Ｈ
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｊを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃３６を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射をして塗膜を硬化させ、防眩性光学積層体を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約２３μｍ）

比較例Ｉ （エンボスローラによる凹凸形状の形成）
ここでの比較例は、エンボスローラによる凹凸形状の形成を行ったものである。
このようなエンボスローラによる凹凸形状の形成について具体的に説明する前に、図２を参照しつつ、以下に簡単に概略を説明する。

まず、光透過性基材４１が、供給部であるニップローラ４５ａを介しエンボスローラ４７に供給される。このエンボスローラ４７の表面には、所望の防眩層の凹凸形状と逆形状の凹凸形状４２が形成されている。エンボスローラ４７の下部には、コーティングヘッド４３が設置され、パイプ４６により、液溜め（図示せず）より防眩層形成用組成物４４が供給される。供給された防眩層形成用組成物４４が、コーティングヘッド４３の上部に向かって開口したスリット４９から供給される。エンボスローラ４７の凹凸形状４２を有する型面に防眩層形成用組成物４４が付与された後、エンボスローラ４７が回転（図の矢印方向）し、エンボスローラ４７の凹凸形状４２と供給部であるニップローラ４５ａとの間において、光透過性基材４１と防眩層形成用組成物４４が密着される。

光透過性基材４１と防眩層形成用組成物４４の層とが密着されたものを、エンボスローラ４７の上部に移動させ、エンボスローラ４７の上方に設置された、硬化装置４８により硬化処理を行なう。これにより、防眩層形成用組成物４４の層が硬化させれ、光透過性基材４１の上に一体形成される。光透過性基材４１の上に硬化され防眩層形成用組成物４４の層の光学積層体を、エンボスローラ４７の回転に伴い移動させ、剥離ローラ４５ｂにより、エンボスローラ４７から剥離し、凹凸形状を有する防眩層を伴った光学積層体が製造される。

エンボスローラの調製
鉄製のローラを準備し、ローラの表面に、１００メッシュ（粒径分布；１０６μｍ〜１５０μｍ）のガラスビーズを用いて、ビーズショットを行なうことにより、凹凸を形成し、得られた凹凸面にクロムを厚みが５μｍになるようメッキして、エンボスローラとした。ビーズショットの際の吹付け圧力、吹付けノズルとローラとの間隔等を調整することにより、本発明の光学積層体が有する防眩層の凹凸形状の光学特性に合致したエンボスローラを作成した。

プライマー層の形成
ポリウレタン樹脂系のプライマー塗料（ザ・インクテック（株）製、ケミカルマットニ
ス用メジウム主剤、硬化剤（ＸＥＬ硬化剤（Ｄ））を、主剤／硬化剤／溶剤の質量比を、
１０／１／３．３の割合で混合した組成物を用いてグラビアコーティングを行ない、乾燥
して、厚み３μｍのプライマー層を形成した。溶剤としては、トルエン／メチルエチルケ
トン＝１／１のものを用いた。

防眩層の形成
図２で表した本発明の第４の製造装置（エンボス装置４０）に、調製したエンボスロー
ラーを装着し、また、調製した防眩層形成用組成物Ｃをコーティングヘッドの液溜めに供給した。液溜めは４０℃で常に保温した。厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム（東洋紡（株）製、品番；Ａ４３００）を準備し、エンボスローラに供給した。防眩層形成用組成物Ｃをエンボスローラに塗布し、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムをその組成物上に重ね、ゴムローラでラミネートし、続いて、フィルム側より、紫外線光源を用いて紫外線を２００ｍｊ照射し硬化させ、エンボスローラより剥離し、防眩層を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約１５μｍ）

比較例Ｊ
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｋを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩性光学積層体を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約６μｍ）

比較例Ｋ
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｌを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩性光学積層体を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約６μｍ）

比較例Ｌ
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｍを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩性光学積層体を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約６μｍ）

比較例Ｍ
アクリル製黒板 厚さ２ｍｍ（住友化学（株）製 スミペック）を3次元ゴニオフォトメーターでの光拡散性特性の測定用ブランクとして用いた。

比較例Ｎ
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｅを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃６を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩性光学積層体を形成した。この防眩層は、バインダー内部でシリカが凝集し、その凝集塊や分散したままのシリカで凹凸形状を形成している。（基材上の防眩層の総厚：約３μｍ）

比較例Ｏ
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｎを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１０を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩性光学積層体を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約５μｍ）

比較例Ｐ
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層形成用組成物Ｏを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩性光学積層体を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約５μｍ）

上記実施例Ａ〜Ｅ及び比較例Ａ〜Ｐについて、明細書内記載の方法で、Ｓｍ，θａ，Ｒｚの測定、ゴニオフォトメーターの測定、表面ヘイズ、内部ヘイズ、全体ヘイズの測定、及び以下の基準に基づく評価を行った。

艶黒感試験
実施例と比較例の光学積層体のフィルム面と反対側にクロスニコルの偏光板に張り合わせた後、３０Ｗの三波長蛍光下（サンプル面に、４５度の角度で照射）で官能評価（サンプルから５０ｃｍ程度上部、４５度くらいの方向から目視観察）を行って、艶黒感を下記基準によって詳細に評価した。

評価基準
評価○：艶のある黒色を再現することができた。
評価×：艶のある黒色を再現することができなかった。

防眩性の官能試験方法
表面処理したフィルムの裏面を粘着処理し、黒アクリル板に貼付したものを評価用サンプルとする。幅２０ｍｍの白黒ストライプ板を用意し、上記サンプルにこのストライプを法線から２０度の角度で写り込ませ、観察する。このときサンプル面の照度は２５０ｌｘで、ストライプの輝度（白）は６５ｃｄ／ｍ^２とした。またストライプ板とサンプルの距離は１．５ｍで、サンプルと観察者の距離は１ｍとした。これを観察者が見たときのストライプの見え方により次のように定義する（図３参照）
○：ストライプが認識できない
×：ストライプが認識できる

Ｒａ（μｍ）測定方法
算術平均粗さＲａ（μｍ）は、ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４の定義に従うものであり、Ｓｍ，θａ，Ｒｚと同様な明細書内記載の測定条件、方法で測定し、評価を行った。この算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９８２で定義される、中心線平均粗さＲａに相当するものである。

表２から、実施例は、艶黒感と防眩性の両物性が同時に良好であったのに対し、比較例では、両物性を満たせるものがなかった。以上より、本発明によって限定されたＳｍ，θａ及びＲｚを有する光学積層体は、艶黒感及び防眩性の両方に優れるものであることが示された。更に、図４〜７に実施例及び比較例の3次元ゴニオフォトメーターの測定結果を示した。これらの図から、実施例の光学積層体は、正反射角近傍に集中して反射されているのに対して、比較例の光学積層体は、あらゆる方向に反射していることが明らかである。また表２中のＲａの値は、艶黒感との相関性がなく、よってＲａをコントロールしても光学積層体の艶黒感を改善することができないことも明らかである。

（実験２）
表面調整層において流動性調整剤を使用し、この配合量を調整することによって、光学積層体の凹凸形状をコントロールすることができることを示すための実験を以下に行った。

下地凹凸層用組成物
（紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１） ８０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（屈折率１．５１）
２０質量部
（ポリマー）
ポリメチルメタクリレート（分子量７５０００） １０質量部
（透光性第一微粒子）
単分散アクリルビーズ（粒径７．０μｍ、屈折率１．５３５） ２０質量部
（透光性第二微粒子）
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０） １６．５質量部
（透光性第三微粒子）
不定形シリカ：平均粒子径２．５μｍ ２質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ６質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） １質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤 ０．０４５質量部
（溶剤）
トルエン １７４．４質量部
シクロヘキサノン ４３．６質量部
を適宜添加して十分混合した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分４０．５％の下地凹凸層用組成物とした。

表面調整層用組成物 ＰＶ
０〜ＰＶ８５ 固形分４５％の場合
表３に示す配合によって、固形分４５％で、ＰＶを０〜８５の範囲内の種々の割合の表面調整層形成用組成物を調製した。なお表２中の各成分としては、以下のものを使用した。
（紫外線硬化型樹脂）
（１）多官能ウレタンアクリレート ＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製）
（２）イソシアヌル酸変性３官能アクリレート アロニックスＭ３１５（東亞合成（株）製）
（流動性調整剤）
（３）コロイダルシリカ分散液（メチルイソブチルケトン分散、固形分４０％、平均粒径２０ｎｍ）
（光重合開始剤）
（４）イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
（５）シリコン系レベリング剤
（溶剤）
（６）シクロヘキサノン／メチルイソブチルケトン＝１．５／８．５
なお、表３に示す表面調整層形成用組成物で目標膜厚が得られなかった場合には、適宜、溶剤（６）で希釈して使用した。

光学積層体製造方法
上記組成物を使用して、以下に示す方法で表２に示したＰＶ０〜ＰＶ８５の各表面調整層形成用組成物を使用して、同様な方法で製造した。但し、表面調整層のない積層体に関しては、以下記載の下地凹凸層形成方法の、紫外線照射量を１００ｍｊとして、透明基材に防眩層を積層して製造した。
下地凹凸層の形成
厚さ８０μｍのトリアセテートセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ 富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、下地凹凸層用組成物を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ下地凹凸層を形成した。
表面調整層の形成
さらに下地凹凸層の上に、表面調整層用組成物を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて膜厚が５〜６ｇ／ｍ^２となるように塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の防眩層の総厚：約１２μｍ）

このようにして得られた光学積層体について、Ｓｍ、θａ、Ｒｚ、艶黒感、防眩性、外観を上記と同様な方法にて評価した。結果を表４に示す。各サンプルは、全て同じ下地凹凸層を有しており、表面調整層も、流動性調整剤の配合以外は、膜厚が同じになるように作製することによって、表面調整層がある場合、更に、表面調整層中に流動性調整剤がある場合について比較できるようにした。

表４に示した結果より、表面調整層において流動性調整剤を使用することによってＳｍ、θａ、Ｒｚをコントロールすることができ、更に、このように流動性をコントロールした表面調整剤によって表面調整層を形成することによって、より優れた防眩性性能を有する光学積層体が得られることが明らかになった。

本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の反射防止用フィルムとして使用することができる。

本発明の光学積層体の一例を示す模式図である。 比較例Ｉの光学積層体の製造に使用するエンボス装置を示す模式図である。 防眩性の評価基準を示す図である。 実施例Ａ〜Ｅの光学積層体の３次元ゴニオフォトメーターによる光散乱性測定結果を示す図である。 比較例Ａ〜Ｆの光学積層体の３次元ゴニオフォトメーターによる光散乱性測定結果を示す図である。 比較例Ｇ〜Ｌの光学積層体の３次元ゴニオフォトメーターによる光散乱性測定結果を示す図である。 比較例Ｍ〜Ｐの光学積層体の３次元ゴニオフォトメーターによる光散乱性測定結果を示す図である。

符号の説明

１１ 光透過性基材
１２ 防眩層
１３ 表面調整層
１４ 流動性調整剤
４１ 光透過性基材
４２ 逆形状の凹凸形状
４３ コーティングヘッド
４４ 防眩層形成用組成物
４５ａ，４５ｂ ニップローラ
４６ パイプ
４７ エンボスローラ
４８ 硬化装置

Claims (17)

1. 表面に凹凸を有する光学積層体であって、
   光学積層体表面の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、
   Ｓｍが１０８．７μｍ以上１８９．４μｍ以下であり、
   θａが０．３０２°以上０．７６７°以下であり、
   Ｒｚが０．４０６μｍ以上０．８５４μｍ以下であり、
   光透過性基材上に設けられた表面に凹凸を有する防眩層、及び、該防眩層上に設けられた表面調整層を有するものであり、
   前記表面調整層は、樹脂バインダーを含有するものである
   ことを特徴とする光学積層体。
2. 前記表面調整層は、樹脂バインダー及び流動性調整剤を含有するものである請求項１記載の光学積層体。
3. 前記流動性調整剤は、コロイダルシリカであり、樹脂１００質量部に対する添加量が、５〜８０である請求項２記載の光学積層体。
4. 前記防眩層は、硬化型樹脂の硬化物及び微粒子を含有する層である請求項１，２又は３記載の光学積層体。
5. 前記表面調整層は、厚みが０．６μｍ〜１５μｍである請求項１，２，３又は４記載の光学積層体。
6. 前記表面調整層は、屈折率が１．４９〜１．８２である請求項１，２，３，４又は５記載の光学積層体。
7. 前記樹脂バインダーは、電離放射線硬化型樹脂である請求項１，２，３，４，５又は６記載の光学積層体。
8. 前記表面調整層上に更に低屈折率層を有する請求項１，２，３，４，５，６又は７記載の光学積層体。
9. 前記防眩層は、前記微粒子として、２種類又は３種類の微粒子を混合して用いることによって形成された層である請求項３，４，５，６，７又は８記載の光学積層体。
10. 光透過性基材上に凹凸を有する防眩層を設ける工程（１）及び
    前記工程（１）によって得られた防眩層上に樹脂バインダー及びコロイダルシリカを含有する表面調整層形成用組成物によって表面調整層を形成する工程
    によって得られることを特徴とする請求項１，２，３，４，５，６，７又は８記載の光学積層体。
11. ３次元ゴニオフォトメーターによる光散乱性測定において、１／１００の強度になる角度が１．５〜３．５°である請求項１，２，３，４，５，６，７，８，９又は１０記載の光学積層体。
12. ３次元ゴニオフォトメーターによる光散乱性測定において、１／１０００の強度になる角度が２〜６°である請求項１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０又は１１記載の光学積層体。
13. 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
    前記偏光板は、偏光素子表面に請求項１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１又は１２記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
14. 最表面に請求項１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１又は１２記載の光学積層体、又は、請求項１３記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
15. 最表面に請求項１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１又は１２記載の光学積層体、又は、請求項１３記載の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置。
16. 最表面に請求項１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１又は１２記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置。
17. 光透過性基材上に凹凸を有する防眩層を設ける工程（１）及び
    前記工程（１）によって得られた防眩層上に樹脂バインダー及びコロイダルシリカを含有する表面調整層形成用組成物によって表面調整層を形成する工程
    からなることを特徴とする請求項１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１又は１２記載の光学積層体の製造方法。

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