JP6656799B2 - アンチニュートンリング積層体およびそのアンチニュートンリング積層体を用いた静電容量式タッチパネル - Google Patents

Description

本発明はアンチニュートンリング積層体およびそのアンチニュートンリング積層体を用いた静電容量式タッチパネルに関する。

タッチパネルは、位置入力装置として機能する電子部品であり、液晶ディスプレイ等の表示装置と組み合わされ、携帯電話や携帯ゲーム機等において幅広く利用されている。タッチパネルは、操作者が画面表示に基づき、手や入力ペンでタッチパネルの特定位置を指し示すと、装置がその特定位置の情報を感知することで、操作者が望む適切な動作を行なわせることができるインターフェースである。タッチパネルとしては、指し示す位置を検出する動作原理によって種々の方式のものがあるが、抵抗膜式や静電容量式が汎用されている。特に静電容量式は、携帯電話などのモバイル機器を中心として急速に拡大してきた。静電容量式の代表的な検出方式としては、アナログ検出の表面型と、パターニングされた電極を用いた積算検出方式による投影型の２つが挙げられる。

静電容量式タッチパネルとしては、片面または両面に導電層を設けたガラス板（以下、センサガラスということがある）を備えるものが用いられており、通常、センサガラスの前面側（タッチ面側）に、粘着層を介してガラス板（以下、カバーガラスということがある）が積層されている。また、カバーガラスの破損や破片の飛散を防止するために、カバーガラスの前面側またはカバーガラスの裏面側にさらに保護フィルムシートが貼付される。

タッチパネルは、通常、粘着剤を用いて表示装置の前面に取り付けられるが、特に表示装置が大型の場合、コストの点から、タッチパネルの外縁部のみ粘着剤で固定することがある。
一例として、図２に、従来の静電容量式タッチパネルを外縁部のみ粘着剤で表示装置の前面に固定した静電容量式タッチパネル付き表示装置３００の構成を説明する概略断面図を示す。静電容量式タッチパネル付き表示装置３００は、最前面に偏光板３１２が配置された液晶ディスプレイ３１１と、静電容量式タッチパネル３２１とを備える。静電容量式タッチパネル３２１は、基材層３０３と、基材層３０３の裏面側に形成された凹凸層３０６と、基材層３０３の前面側に形成された導電層３０２ｙと、導電層３０２ｙの前面側に設けられた粘着層３０７と、粘着層３０７の前面側に設けられた導電層３０２ｘと、導電層３０２ｘの前面側のカバーガラス３０１と、印刷層３０５とを備える。導電層３０２ｘは、カバーガラス３０１の裏面側に形成されており、導電層３０２ｘは、粘着層３０７により導電層３０２ｙに固定されている。静電容量式タッチパネル３２１は、液晶ディスプレイ３１１の前面に、液晶ディスプレイ３１１との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着層３３１で液晶ディスプレイ３１１に固定されている。これにより、液晶ディスプレイ３１１の前面と静電容量式タッチパネル３２１の裏面との間に空間が形成されている。

光学フィルムの分野では、フィルム等の部材が他の部材（例えば、ガラス板又は他のフィルム）と接触する際に、グレアやニュートンリング、ブロッキング等の問題が生じることがある。これらの問題を防止するために、フィルムの表面に微細な凹凸形状を設けることが行われている。一般に、形成する凹凸の大きさは、要求される性能（アンチグレア、アンチニュートンリング、アンチブロッキング）に応じて設定され、アンチグレアの場合が最も大きく、アンチブロッキングの場合が最も小さい。このような凹凸形状の形成方法としては、ハードコート層に粒子を含有させる方法、および、特定の樹脂成分を相分離により析出させる方法などが用いられている（たとえば特許文献１〜８）。図２の静電容量式タッチパネル３２１には、アンチブロッキング性能を付与するために、凹凸形状を片側に有するフィルム（基材層３０３の片面に凹凸層３０６を形成したもの）が組み込まれている。

特開２０１０−４２６７１号公報 特開２０１０−６０６４３号公報 特開２０１１−３３９４８号公報 特開２０１２−２０６５０２号公報 特許５１８１７９３号 特開２００３−４５２３４号公報 特許４３９２０４８号 特開２００７−１８２５１９号公報

しかしながら、そのような凹凸を有する従来のフィルムは、ガラス等の平滑な面に対して応力により押し付けられた場合に、応力が開放された後にもニュートンリングが残存するというさらなる問題を有していた。この問題は、表示装置を取り付けたタッチパネルにおいて、使用者がタッチ操作をする時に該タッチパネルに対して応力を加え、タッチパネルと表示装置とが接触する際に生じる。図２の静電容量式タッチパネルにおいて、基材層３０３の裏面に凹凸層３０６を設けても、偏光板３１２の表面の平滑性が特に高い場合には、タッチパネル３２１が応力により押し付けられた場合に、応力が開放された後にもニュートンリングが残存し得る。さらに、この問題は、表示装置が大型化するほど顕著になる。また、このような問題は、タッチパネルが備えるガラス基板が１枚である場合にさらに顕著になる。ガラス基板が１枚であるタッチパネルは、たわみや歪みが生じやすく、中央付近で表示装置の前面の偏光板に接触したまま戻りにくくなるからである。

本発明は、上述した問題に鑑みてなされたものであって、タッチ面の明るさが良好である等の優れた光学的性能を有しながら、応力が開放された後にもニュートンリングが残らないアンチニュートンリング積層体およびそのアンチニュートンリング積層体を用いた静電容量式タッチパネルを提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討の結果、
少なくとも片面に凹凸の表面形状を有する第１の層と、少なくとも片面に凹凸の表面形状を有する第２の層とを備え、前記第１の層および第２の層の凹凸の表面形状はいずれもＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に基づいて測定される算術平均粗さが０．０１〜０．１μｍ、二乗平均平方根高さが０．０２〜０．２μｍであり、
前記第１の層の凹凸面および／または前記第２の層の凹凸面は粒子径２０ｎｍ以上２５０ｎｍ未満の無機又は有機微粒子を含有する凹凸樹脂層であり、
前記第１の層の凹凸の表面形状および前記第２の層の凹凸の表面形状は二乗平均平方根傾斜が０．０１〜０．０５であり、
前記第１の層の凹凸の表面形状と前記第２の層の凹凸の表面形状とが対向して該凹凸の表面形状が一部又は全部で互いに接触状態又は接触可能な状態で積層されていることを特徴とする積層体を用いることにより上記課題が解決されることを見出し、本発明を完成させた。
本発明は、以下の態様を有する。
［１］
少なくとも片面に凹凸の表面形状を有する第１の層と、少なくとも片面に凹凸の表面形状を有する第２の層とを備え、前記第１の層および第２の層の凹凸の表面形状はいずれもＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に基づいて測定される算術平均粗さが０．０１〜０．１μｍ、二乗平均平方根高さが０．０２〜０．２μｍであり、
前記第１の層の凹凸面および／または前記第２の層の凹凸面は粒子径２０ｎｍ以上２５０ｎｍ未満の無機又は有機微粒子を含有する凹凸樹脂層であり、
前記第１の層の凹凸の表面形状および前記第２の層の凹凸の表面形状は二乗平均平方根傾斜が０．０１〜０．０５であり、
前記第１の層の凹凸の表面形状と前記第２の層の凹凸の表面形状とが対向して該凹凸の表面形状が一部又は全部で互いに接触状態又は接触可能な状態で積層されていることを特徴とする積層体。
［２］
前記第１の層の凹凸面または前記第２の層の凹凸面が粒子径２０ｎｍ以上２５０ｎｍ未満の無機又は有機微粒子を含有する凹凸樹脂層であり、
前記第１の層の凹凸面および前記第２の層の凹凸面のうち、一方が粒子径２０ｎｍ以上２５０ｎｍ未満の無機又は有機微粒子を含有する凹凸樹脂層であり、他方が少なくとも２種類の成分を含有する樹脂組成物が相分離して形成された凹凸樹脂層である請求項［１］に記載の積層体。
［３］
前記第１の層の凹凸の表面形状と前記第２の層の凹凸の表面形状とが対向して該凹凸の表面形状が一部で互いに接触状態又は接触可能な状態で積層されており、外縁部においては接着剤又は粘着剤を介して互いに非接触状態で固定されている請求項［１］または［２］に記載の積層体。
［４］
請求項［１］〜［３］のいずれかに記載の積層体が組み込まれた表示装置。

また、本発明は、以下の態様を有していてもよい。
［５］
前記第１の層を構成する基材と前記第１の層の凹凸面を構成する層との間、及び／又は前記第２の層を構成する基材と前記第２の層の凹凸面を構成する層との間に、１層以上の屈折率調整層がさらに形成され、
前記屈折率調整層の屈折率が、１．２０〜１．４５または１．６０〜２．００である［１］〜［４］のいずれかに記載の積層体。
［６］
前記第１の層又は前記第２の層のいずれかに印刷層がさらに積層されている［１］〜［４］のいずれかに記載の積層体。
［７］
前記第１の層又は前記第２の層には、凹凸面と反対面に、粘着層がさらに積層されている［１］〜［４］のいずれかに記載の積層体。

ただし、本明細書および特許請求の範囲において、凹凸樹脂層の二乗平均平方根高さ等の表面特性は、下記測定方法により測定される値である。
マイクロレーザー顕微鏡（（株）ＫＥＹＥＮＣＥ製 測定部 ＶＫ−Ｘ１０５ コントローラー部 ＶＫ−Ｘ１００）を用い、倍率２００倍で各フィルムの表面観察を行い、画像の取り込みを行った。得られた画像について、測定エリアを１００μｍ×１００μｍとして前記走マイクロレーザー顕微鏡に付属の解析ソフトウェアを用いて、線粗さをＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に基づき二乗平均平方根高さＲｑおよび、二乗平均平方根傾斜ＲΔｑ、算術平均粗さＲａ、輪郭曲線要素の平均長さＲＳｍを算出した。
また、上記積層体の透明性は、ヘイズ値をＪＩＳ Ｋ ７１３６に基づき、日本電色社製のＮＤＨ４０００を用いて測定した。

本発明によれば、タッチ面の明るさが良好である等の優れた光学的性能を有しながら、応力が開放された後にもニュートンリングが残らないアンチニュートンリング積層体およびそのアンチニュートンリング積層体を用いた静電容量式タッチパネルを提供できる。

本発明のアンチニュートンリング積層体の一例を示す概略断面図である。 従来の静電容量式タッチパネル付き表示装置の構成を説明する概略断面図である。 本発明のアンチニュートンリング積層体を用いた一態様の静電容量式タッチパネル付き表示装置の構成を説明する概略断面図である。 本発明の第二の実施形態のアンチニュートンリング積層体を用いた静電容量式タッチパネル付き表示装置の構成を示す概略断面図である。

以下、本発明について、添付の図面を参照し、実施形態例を示して説明する。

図１は、本発明のアンチニュートンリング積層体１００を示す概略断面図である。アンチニュートンリング積層体１００は、第１の層１１０と、第２の層１２０とを有している。第１の層１１０は、基材１１１と、凹凸の表面形状１１２とを有している。基材１１１は、限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）等の樹脂層又はガラス板である。
凹凸の表面形状１１２は、表面粗さが０．０１μｍ〜０．４μｍである。凹凸の表面形状１１２は、より好ましくは、二乗平均平方根高さが０．０２〜０．２μｍであり、二乗平均平方根傾斜が０．０１〜０．１である。凹凸の表面形状１１２は、例えば、後述する硬化性樹脂組成物等の材料を基材１１１上に塗工して塗膜を形成し、該塗膜を硬化させることにより形成することができる。第２の層１２０は、基材１２１と、凹凸の表面形状１２２とを有している。基材１２１および凹凸の表面形状１２２の詳細は、基材１１１および凹凸の表面形状１１２の詳細と同様である。
凹凸の表面形状１１２と凹凸の表面形状１２２（第１の層１１０と第２の層１２０）は、接着剤又は粘着剤等により外縁部において互いに対して固定されていてもよい。あるいは、第１の層１１０と第２の層１２０とは、図示されていない固定具により、外縁部において互いに対して固定されていてもよい。
凹凸の表面形状１１２と凹凸の表面形状１２２とは、対向して配置されており、互いに接触するように積層されている。凹凸の表面形状１１２と凹凸の表面形状１２２とは、すべての部分が接触していなくてもよく、外縁部においては接着剤又は粘着剤等を介して互いに対して非接触状態で固定されており、中央部においては、接触状態又は接触可能な状態で積層されていてもよい。

基材１１１、１２１として用いることができるフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリプロピレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンナフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム等が挙げられる。
上記フィルムとしては、耐候性、耐溶剤性、剛度、コスト等の観点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
基材１１１、１２１は、光学用途に用いることが可能な程度に透明であることが好ましい。

基材１１１、１２１には、各種添加剤が含まれてもよい。添加剤としては、例えば、酸化防止剤、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、有機粒子、無機粒子、顔料、染料、帯電防止剤、核剤、カップリング剤等が挙げられる。
基材１１１、１２１は、凹凸の表面形状１１２、１２２との密着性を向上させるために、表面処理が施されていてもよい。表面処理としては、例えば、サンドブラスト処理や溶剤処理等の凹凸化処理、コロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理等の表面酸化処理などが挙げられる。
基材１１１、１２１の厚みは、基材１１１、１２１がフィルムである場合、強度の確保、カール防止等の観点から、１０〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましく、３５〜１３０μｍであることが特に好ましい。基材１１１、１２１の厚みは、基材１１１、１２１がガラスである場合、０．１ｍｍ以上が好ましく、０．２ｍｍ以上がより好ましい。

基材１１１、１２１は、ガラス製の偏光板又は樹脂製の偏光板であってもよい。例えば、後述する図３の静電容量式タッチパネル２００において、液晶ディスプレイ１１の最前面を構成する偏光板１２が基材１１１又は基材１２１の一方として機能し、基材３が基材１１１又は基材１２１の他方として機能することができる。図４の静電容量式タッチパネル２０１においても、同様に、液晶ディスプレイ１１の最前面を構成する偏光板１２が基材１１１又は基材１２１の一方として機能し、基材３ｂが基材１１１又は基材１２１の他方として機能することができる。

凹凸の表面形状１１２、１２２は、アンチニュートンリング性能等を付与するために設けられる。図３の静電容量式タッチパネル２００において、凹凸の表面形状４ａが凹凸の表面形状１１２に対応し、凹凸の表面形状４ｂが凹凸の表面形状１２２に対応する。また、図４の静電容量式タッチパネル２０１において、凹凸の表面形状４ａが凹凸の表面形状１１２に対応し、凹凸の表面形状４ｂが凹凸の表面形状１２２に対応する。
凹凸の表面形状１１２、１２２は、熱硬化性または活性エネルギー線硬化性の樹脂成分を含有するハードコート層形成用の塗工液を基材（基材１１１又は基材１２１）上に塗工して塗膜を形成し、該塗膜を硬化させることにより形成することができる。凹凸を形成する方法として具体的には、樹脂層形成用材料に粒子を配合する方法、樹脂層形成用材料に溶解性パラメーター（ＳＰ）値の異なる２つの樹脂成分を含有させ、塗工後、一方の樹脂成分を相分離により析出させる方法等が挙げられる。

本発明において、樹脂層形成用材料が実質的に相分離しない場合には、該樹脂層形成用材料は、粒子径２５０ｎｍ未満の無機又は有機微粒子を含有することが好ましい。また、樹脂層形成用材料が実質的に相分離する樹脂成分を含有する場合には、該樹脂層形成用材料は、粒子径２５０ｎｍ未満の無機又は有機微粒子を実質的に含有しないことが好ましい。これらのいずれかの樹脂層形成用材料を用いることにより、本発明のアンチニュートンリング積層体は、優れた光学的性能とアンチニュートンリング性能とを両立したものとなる。
なお、実質的に相分離しないとは、樹脂層形成用材料（組成物）に相分離する樹脂成分が実質的に含まれていないことを意味する。例えば、樹脂層形成用材料が、溶解性パラメーター（ＳＰ）値の異なる２つの樹脂成分からなる場合、２つの樹脂成分のＳＰ値の差が１．０以上であり、量が少ない方の樹脂成分の含有量は、樹脂層形成用材料の全質量を１００質量％としたとき、３質量％以下であることが好ましい。より好ましくは２質量％以下であり、さらに好ましくは１質量％以下であり、最も好ましくは０．１質量％以下である。
また、樹脂層形成用材料（組成物）が相分離するものである場合、樹脂層形成用材料の全質量を１００質量％としたとき、粒子径２５０ｎｍ未満の無機又は有機微粒子の含有量は、３質量％以下であることが好ましい。より好ましくは２質量％以下であり、さらに好ましくは１質量％以下であり、最も好ましくは０．１質量％以下である。

熱硬化性の樹脂成分としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。
活性エネルギー線硬化性の樹脂成分としては、活性エネルギー線の照射により重合可能な重合性不飽和基（たとえばエチレン性二重結合等の重合性不飽和結合を含む基）を有するモノマーを含有するものが挙げられる。活性エネルギー線硬化性の樹脂成分には、必要に応じて、光重合開始剤等が配合される。

凹凸の表面形状１１２、１２２は、特に、多官能（メタ）アクリルモノマーおよび粒子を含有する樹脂層形成用組成物（以下、樹脂層形成用組成物（Ｘ）という。）を活性エネルギー線で硬化した硬化物であることが好ましい。かかる硬化物は、母材（粒子以外の部分）が、架橋構造を有する硬質のアクリル系重合体を含有することから、表面硬度、透明性、擦傷性等に優れる。また、アンチニュートンリング積層体１００は、凹凸の表面形状１１２および凹凸の表面形状１２２が粒子を含有することによって、樹脂層形成用組成物（Ｘ）を硬化させた時の積層体の収縮が抑制される。

「多官能」は、重合性不飽和基を２つ以上有することを意味し、「（メタ）アクリルモノマー」は、重合性不飽和基として少なくとも（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることを示す。
多官能（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（好ましくは質量平均分子量４００〜６００）ジ（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート等の２官能（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジベンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ポリエーテルトリ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等の３官能（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の４官能（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の５官能以上の（メタ）アクリレート；等が挙げられる。
これらの多官能（メタ）アクリルモノマーは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。

前記多官能（メタ）アクリルモノマーは、４官能以上（好ましくは５官能以上、より好ましくは６官能）の（メタ）アクリルモノマーを含有することが好ましい。４官能以上の（メタ）アクリルモノマーは硬度の向上に寄与する。
全多官能（メタ）アクリルモノマー中、４官能以上の（メタ）アクリルモノマーの割合は、５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上がさらに好ましく、８０質量％以上が最も好ましい。

樹脂層形成用組成物（Ｘ）が含有する粒子は無機粒子でも有機粒子でもよい。無機粒子としては、硬度が高いものが好ましく、例えば、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子、二酸化スズ粒子、五酸化アンチモン粒子、三酸化アンチモン粒子などの無機酸化物粒子を用いることができる。
無機粒子は、前記無機酸化物粒子をカップリング剤により処理した反応性無機酸化物粒子であってもよい。カップリング剤により処理することにより、アクリル系重合体との間の結合力を高めることができる。その結果、表面硬度や耐擦傷性を向上させることができ、さらに無機酸化物粒子の分散性を向上させることができる。
カップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシアルミニウム等が挙げられる。これらは１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
カップリング剤の処理量は、無機酸化物粒子１００質量部に対して、０．１〜２０質量部であることが好ましく、１〜１０質量部であることがより好ましい。

有機粒子としては、例えば、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリシロキサン、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリカーボネート、ポリアミドなどの樹脂粒子などを用いることができる。
有機粒子は、前記樹脂粒子をカップリング剤により処理した反応性樹脂粒子であってもよい。カップリング剤により処理することにより、アクリル系重合体との間の結合力を高めることができる。その結果、表面硬度や耐擦傷性を向上させることができ、さらに樹脂粒子の分散性を向上させることができる。
カップリング剤およびその処理量は、前記反応性無機酸化物粒子で挙げたカップリング剤およびその処理量と同様である。

粒子の粒子径は、充分なアンチニュートンリング性能と優れた光学的性能とを両立するために、２５０ｎｍ未満である。粒子の粒子径は、好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍであり、より好ましくは２０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、さらに好ましくは３０ｎｍ〜１００ｎｍである。 粒子の配合量は、樹脂層形成用組成物（Ｘ）の固形分中、１〜２０質量％が好ましく、３〜１５質量％がより好ましく、５〜１０質量％がさらに好ましい。粒子の配合量がこれらの好ましい範囲内であると、アンチニュートンリング性能がさらに向上する。また、１質量％以上であると、アンチニュートンリング性能が向上し、２０質量％以下であると、充分な量の多官能（メタ）アクリルモノマーを配合できるため、ハードコート性能が良好となる。
なお、固形分とは、溶剤を含まない場合は樹脂層形成用組成物（Ｘ）を構成する全成分の合計を示し、溶剤を含む場合は溶剤を除いた全成分の合計を示す。

樹脂層形成用組成物（Ｘ）は、硬化を促進させるために、前記多官能（メタ）アクリルモノマーおよび粒子とともに、光重合開始剤を含有することが好ましい。
光重合開始剤としては、公知のものが使用でき、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−２（ヒドロキシ−２−プロプル）ケトン、ベンゾフェノン、ｐ−フェニルベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、プロピオフェノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャリーブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、ｐ−ジメチルアミン安息香酸エステルなどが挙げられる。これら光重合開始剤は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
光重合開始剤の配合量は、樹脂層形成用組成物（Ｘ）の固形分中、０．５〜１０質量％が好ましく、２〜８質量％がより好ましい。０．５質量％以上であると硬化不良が生じにくい。１０質量％を超えて配合しても、配合量に見合った硬化促進効果は得られず、コストも高くなる。また、硬化物中に残留して黄変やブリードアウトなどの原因となるおそれがある。

光重合開始剤に加えて、光増感剤をさらに含有することもできる。光増感剤としては、たとえば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。

樹脂層形成用組成物（Ｘ）は、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、上記以外の他の成分を含有してもよい。たとえば凹凸樹脂層に耐擦傷性以外の他の機能（撥水性、撥油性、防汚性、塗工適性、帯電防止性、紫外線遮蔽性等）を付与するために用いられている公知の添加剤を含有させることができる。このような添加剤として、たとえば、フッ素系化合物、ポリシロキサン系化合物、金属酸化物微粒子、帯電防止樹脂、導電性高分子、紫外線吸収剤等が挙げられる。フッ素系化合物を添加することで、撥水・撥油性や、汚れが付着し難く且つ付着した汚れを拭き取りやすい防汚効果を付与することができる。また、ポリシロキサン系化合物を添加することで、撥水性や、汚れが付着し難く且つ付着した汚れを拭き取りやすい防汚効果の付与および塗工適性を向上させる。また、金属酸化物微粒子や帯電防止樹脂、導電性高分子を添加することで、帯電防止性を付与できる。また、金属酸化物微粒子や紫外線吸収剤を添加することで、紫外線遮蔽性を付与できる。

樹脂層形成用組成物（Ｘ）は、溶剤を含有してもよい。
溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ブチルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、エチルブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどが使用される。これらは１種以上を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
塗工ムラを軽減することを目的として、蒸発速度の異なる２種以上の溶剤を併用してもよい。例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルから選ばれる少なくとも２種を混合して使用するができる。

凹凸の表面形状１１２、１２２は、前記樹脂層形成用組成物（Ｘ）等の樹脂層形成用材料を基材１１１、１２１の表面に塗工して塗膜を形成し、該塗膜を硬化させることにより形成することができる。
樹脂層形成用材料の塗工方法としては、例えば、ブレードコーター、エアナイフコーター、ロールコーター、バーコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ロッドブレードコーター、リップコーター、ダイコーター、カーテンコーター、印刷機等を用いた方法が挙げられる。
樹脂層形成用材料の塗工量は、凹凸の表面形状１１２、１２２の厚みに応じて設定される。
凹凸の表面形状１１２、１２２の厚みは、１〜１０μｍであることが好ましく、２〜８μｍであることがより好ましい。該厚みが１μｍ以上であると充分なハードコート性能が得られる。
１０μｍ以下であると、透明性、基材密着性、耐カール性等に優れる。
なお、凹凸の表面形状１１２、１２２の最も薄い部分の厚み（凹凸の表面形状１１２、１２２に存在する凹部の底から、基材１１１、１２１側の表面までの距離）を凹凸の表面形状１１２、１２２の厚みとする。

凹凸の表面形状１１２、１２２は、塗膜を形成した後であって、該塗膜を硬化させる前に加熱乾燥に供されることが好ましい。加熱乾燥の条件は、例えば、６０℃〜１００℃、３０秒〜９０秒であることが好ましい。より好ましくは、７０℃〜９０℃、４５秒〜７５秒である。上記の好ましい範囲の条件で加熱乾燥を行うことにより、本発明の積層体は、優れた光学的性能と、充分なアンチニュートンリング性能とを兼ね備えたものとなる。

塗膜は、樹脂層形成用材料が、前記樹脂層形成用組成物（Ｘ）のように活性エネルギー線硬化性である場合は、活性エネルギー線の照射によって硬化させることができる。樹脂層形成用材料が熱硬化性である場合は、加熱炉や赤外線ランプ等を用いて加熱することによって硬化させることができる。
活性エネルギー線としては、紫外線、電子線、可視光線、γ線等の電離性放射線などが挙げられ、中でも、汎用性の点から、紫外線が好ましい。紫外線の光源としては、例えば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク、無電極紫外線ランプ等を使用できる。
電子線としては、例えば、コックロフトワルト型、バンデクラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線を使用できる。
活性エネルギー線の照射による硬化は、窒素等の不活性ガス存在下で行うことが好ましい。
硬化は、１段階で行ってもよく、予備硬化工程と本硬化工程の２段階に分けて行ってもよい。

本発明のアンチニュートンリング積層体１００は、全光線透過率が９０％以上であることが好ましい。また、上記積層体は、ヘイズが１．５％以下であるが、１．３％以下であることが好ましく、１．２％以下であることがより好ましく、１．１％以下であることがさらに好ましく、１．０％以下であることがさらにより好ましく、０．９％以下であることが最も好ましい。これらの要件を満たすと、タッチパネルや表示装置用の光学部材として有用である。
全光線透過率およびヘイズはそれぞれ、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１およびＪＩＳ Ｋ７１３６に準拠した方法で測定できる。

図３は、本発明のアンチニュートンリング積層体１００を用いた一態様の静電容量式タッチパネル付き表示装置２００の構成を説明する概略断面図である。
静電容量式タッチパネル付き表示装置２００は、凹凸の表面形状の層４ｂが形成された偏光板１２が最前面に配置された液晶ディスプレイ１１と、静電容量式タッチパネル２５とを備える。タッチパネル２５は、液晶ディスプレイ１１の前面に、液晶ディスプレイ１１との間に隙間を設けて配置され、外縁部が粘着層３１で液晶ディスプレイ１１に固定されている。これにより、液晶ディスプレイ１１の前面とタッチパネル２５の裏面との間に空間が形成されている。
タッチパネル２５は、ガラス基板１と、ガラス基板の裏面に形成された導電層２ｘと、粘着層７と、印刷層５と、基材３と、基材３の前面に形成された導電層２ｙと、基材３の裏面に形成された凹凸の表面形状４ａとを備える。ガラス基板１及び導電層２ｘは、粘着層７により、導電層２ｙの前面に密着されている。導電層２ｙの前面の外縁部には印刷層５が形成されている。
導電層２ｘは、横軸方向の位置を検出するための導電層であり、導電層２ｙは、縦軸方向の位置を検出するための導電層である。
凹凸の表面形状４ａ４は、液晶表示装置１１と対向している。
なお、本明細書および特許請求の範囲において、「前面」は、静電容量式タッチパネルまたはこれを取り付けた表示装置を使用する際に、使用者が視認、操作する側の面を意味し、「裏面」は、使用者が視認、操作する側とは反対側の面を意味する。タッチパネルの前面をタッチ面ということがある。

［液晶ディスプレイ１１］
液晶ディスプレイ１１としては、特に限定されず、凹凸の表面形状の層４ｂが表面に形成された偏光板１２を用いること以外は、公知の液晶ディスプレイを用いることができる。

［タッチパネル２５］
（ガラス基板１）
ガラス基板１としては、タッチパネル等に用いられている公知のガラス板が利用できる。
ガラス基板１の厚さは、０．１ｍｍ以上が好ましく、０．２ｍｍ以上がより好ましい。０．１ｍｍ以上であると、タッチパネル１１の強度も充分なものとなる。上限は特に限定されないが、３ｍｍを超えるとたわみや歪みがあまり生じず、ニュートンリングが生じにくくなることから、本発明の有用性の点で、また透明性にも優れることから、３ｍｍ以下が好ましく、２ｍｍ以下がより好ましい。

（導電層２ｘ、２ｙ）
導電層２ｘ及び２ｙは、透明な導電性の膜である。
導電層２ｘ及び２ｙは、表面型静電容量式タッチパネルなどに用いられる、実質的に均一な厚さで形成された均一層でもよいし、又は、投影型静電容量方式のタッチパネルなどに用いられる、位置検知のために形成された規則的なパターンを有する導電層であってもよい。なお、均一層の場合でも、タッチパネルの構成などに応じて、引き出し電極等形成のため、導電層２ｘ及び２ｙの一部がパターン化されていてもよい。

導電層２ｘ及び２ｙの材質としては、例えば、金、銀、白金、パラジウム、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、チタン、鉄、コバルト、錫、これらの合金等の金属；インジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ（ＩＴＯ））、インジウム−亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ（ＩＺＯ））、酸化亜鉛（Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ（ＺｎＯ））、亜鉛−スズ酸化物（Ｚｉｎｃ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ（ＺＴＯ））等の金属酸化物；ヨウ化銅等からなる他の金属化合物；ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ等の導電性樹脂；などが挙げられる。なお、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳは、ＰＥＤＯＴ（３，４−エチレンジオキシチオフェンのポリマー）とＰＳＳ（スチレンスルホン酸のポリマー）を共存させたポリマーコンプレックスである。
導電層２ｘ及び２ｙの厚みは、導電性、透明性等を考慮して設定される。導電層２ｘ及び２ｙの導電性は、タッチパネル用の電極板とするため、表面抵抗として１０５Ω／ｓｑ以下が好ましく、１０３Ω／ｓｑ以下がより好ましい。かかる表面抵抗は、通例、金属系の場合で３０〜６００Å、金属酸化物系の場合で８０〜５０００Åの厚さとすることで達成することができる。

導電層２ｘ及び２ｙは公知の方法により形成できる。
例えば導電層２が均一層である場合、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、スプレー熱分解法、化学メッキ法、電気メッキ法、塗布法、あるいはこれらの組合せ法などの薄膜形成法が挙げられる。膜の形成速度や大面積膜の形成性、生産性などの点より、真空蒸着法やスパッタリング法が好ましい。
規則的なパターンは、各種印刷方式などにより、ガラス基板１及び基材３の表面に予め部分的に導電層２ｘ及び２ｙを設ける方法で形成してもよいし、または、上記のように均一層を形成した後、その一部をエッチングなどにより除去して形成してもよい。
導電層２ｘ及び２ｙとガラス基板１及び基材３との密着性を高めるために、ガラス基板１及び基材３の表面に、コロナ放電処理、紫外線照射処理、プラズマ処理、スパッタエッチング処理、アンダーコート処理等の適宜な前処理を施してもよい。

（粘着層７）
粘着層７を構成する粘着剤としては、それぞれ、タッチパネル等の光学用途に用いられている公知の粘着剤が利用できる。粘着剤としては、例えば、天然ゴム系粘着剤、合成ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤などが挙げられる。粘着剤は、溶剤系、無溶剤系、エマルジョン系、水系のいずれであってもよい。なかでも、透明度、耐候性、耐久性、コスト等の観点から、アクリル系粘着剤、特に溶剤系のものが好ましい。
粘着剤には、必要に応じて他の助剤が添加されてもよい。他の助剤としては、酸化防止剤、粘着付与剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系化合物等の光安定剤、増粘剤、ｐＨ調整剤、バインダ、架橋剤、粘着性粒子、消泡剤、防腐防黴剤、顔料、無機充填剤、安定剤、濡れ剤、湿潤剤などが挙げられる。
粘着層７の厚みは、それぞれ、１０〜１００μｍであることが好ましく、２０〜８０μｍであることがより好ましい。１０μｍ以上であれば、充分な粘着性が得られる。粘着層７の厚みが１００μｍを超えると、薄型化、コストの面から不利である。

基材３の裏面には、凹凸の表面形状４ａが形成されている。偏光板１２の前面には、凹凸の表面形状４ｂが形成されている。
これらの凹凸の表面の表面粗さが０．０１μｍ〜０．４μｍであり、少なくとも一方の表面の二乗平均平方根高さが０．０２〜０．２μｍであり、二乗平均平方根傾斜が０．０１〜０．１であることによって、ガラス板１が液晶表示装置１１方向にたわんだ時に、凹凸の表面形状４ａが凹凸の表面形状４ｂに接触しても、接触面積が小さく、ニュートンリングが生じにくく、かつ、残存しにくい。
凹凸の表面形状４ａ及び凹凸の表面形状４ｂの両者が、二乗平均平方根高さが０．０２〜０．２μｍであり、二乗平均平方根傾斜が０．０１〜０．１であることがより好ましい。これにより、表面形状４ａと表面形状４ｂとの接触面積をさらに小さくすることができる。
該二乗平均平方根高さは、好ましくは、０．０２１〜０．１５μｍであり、より好ましくは、０．０２２〜０．１０μｍである。好ましい数値範囲を満たすことにより、本発明の積層体のアンチニュートンリング性能がさらに優れたものとなる。
上記二乗平均平方根傾斜は、好ましくは、０．０１１〜０．９であり、より好ましくは、０．０１２〜０．８であり、さらに好ましくは、０．０１３〜０．７である。好ましい数値範囲を満たすことにより、本発明の積層体のアンチニュートンリング性能がさらに優れたものとなる。 上記二乗平均平方根高さ及び上記二乗平均平方根傾斜を満たす凹凸の表面形状は、本明細書に記載の実施例及び比較例の材料及び条件等に従って得ることができる。

前記凹凸の表面形状４ａ及び４ｂは、輪郭曲線要素の平均長さが４０〜２００μｍであることが好ましい。この輪郭曲線要素の平均長さは、より好ましくは４５〜１５０μｍであり、さらに好ましくは５０〜１２０μｍであり、最も好ましくは５５〜１００μｍであり、最も好ましくは６０〜８０μｍである。この輪郭曲線要素の平均長さが上記の好ましい範囲内であることによって、本発明の積層体のアンチニュートンリング性能がさらに優れたものとなる。
上記輪郭曲線要素の平均長さを満たす凹凸の表面形状は、本明細書に記載の実施例及び比較例の材料及び条件等に従って得ることができる。

図４は、本発明のアンチニュートンリング積層体を用いた他の態様の静電容量式タッチパネル付き表示装置２０１の構成を説明する概略断面図である。
図４に示されている静電容量式タッチパネル付き表示装置２０１は、液晶ディスプレイ１１とタッチパネル２１とを備える。タッチパネル２１は、ガラス基板１と、粘着層７と、導電層２ｘと、第１の基材３ａと、粘着層１７と、導電層２ｙと、第２の基材３ｂと、第２の基材３ｂの裏面に形成された凹凸の表面形状４ａとを備える。
ガラス基板１の裏面と導電層２ｘの前面とは、粘着層７を介して密着している。第１の基材３ａの裏面と導電層２ｙの前面とは、粘着層１７を介して密着している。導電層２ｘの前面の外縁部には印刷層５が形成されている。
導電層２ｘは、横軸方向の位置を検出するための導電層であり、導電層２ｙは、縦軸方向の位置を検出するための導電層である。なお、導電層２ｘが、縦軸方向の位置を検出するための導電層であり、導電層２ｙが、横軸方向の位置を検出するための導電層であってもよい。粘着層１７は、絶縁性粘着層である。
凹凸の表面形状４ａは、凹凸の表面形状４ｂと対向している。凹凸の表面形状４ａ、４ｂの表面粗さが０．０１μｍ〜０．４μｍであり、少なくとも一方の表面の二乗平均平方根高さが０．０２〜０．２μｍであり、二乗平均平方根傾斜が０．０１〜０．１である。これらの数値範囲の好ましい範囲は、静電容量式タッチパネル付き表示装置２００のそれと同様である。

以上、本発明の導電フィルムシート及びそれを用いたタッチパネルを説明したが本発明はこれらに限定されるものではない。
たとえば、上記説明においては、表示装置として液晶ディスプレイを用いた例を示したが、本発明はこれに限定されない。たとえば、陰極線管（ＣＲＴ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ等の各種表示装置を用いることができる。

以下、実施例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明は、これらの例に限定されるものではない。なお、実施例３〜５は、参考例である。

（樹脂フィルムＡの作製）
多官能（メタ）アクリレートとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（６官能アクリレート、商品名 Ａ−ＤＰＨ、新中村化学株式会社製）を１００質量部、粒子径５０ｎｍのコロイダルシリカ分散液（オルガノシリカゾルＬタイプ、固形分濃度３０％、日産化学工業株式会社製）を２０質量部、光重合開始剤（商品名 ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＢＡＳＦ社製）を４質量部混合した。この混合物をメチルエチルケトンで固形分濃度５０％となるように希釈することによって樹脂層形成用組成物Ａを調製した。
基材として、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（商品名 Ａ４３００、東洋紡績株式会社製）を用いた。この基材上に、樹脂層形成用組成物Ａをバー塗工した。その後、その基材を８０℃６０秒間加熱乾燥した。その後、その基材に対して、高圧水銀ランプ紫外線照射機（アイグラフィックス社製）を用いて、１６０Ｗ／ｃｍ、ランプ高さ１３ｃｍ、ベルトスピード１０ｍ／ｍｉｎ、２ｐａｓｓ、窒素雰囲気下で紫外線を照射した。それにより、基材に塗工した組成物Ａは、硬化して厚さ５μｍの樹脂層となった。このようにして樹脂フィルムＡを得た。

（樹脂フィルムＢの作製）
多官能（メタ）アクリレートとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（６官能アクリレート、商品名 Ａ−ＤＰＨ、新中村化学株式会社製）を１００質量部、粒子径１００ｎｍコロイダルシリカ分散液（オルガノシリカゾルＺタイプ、固形分濃度３０％、日産化学工業株式会社製）２０質量部、光重合開始剤（商品名 ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＢＡＳＦ社製）を４質量部混合した。この混合物をメチルエチルケトンで固形分濃度５０％となるように希釈することによって樹脂層形成用組成物Ｂを調製した。
基材として、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（商品名 Ａ４３００、東洋紡績（株）製）を用いた。この基材上に、樹脂層形成用組成物Ｂをバー塗工した。その後、その基材を８０℃６０秒間加熱乾燥した。その後、その基材に対して、高圧水銀ランプ紫外線照射機（アイグラフィックス社製）を用いて、１６０Ｗ／ｃｍ、ランプ高さ１３ｃｍ、ベルトスピード１０ｍ／ｍｉｎ、２ｐａｓｓ、窒素雰囲気下で紫外線を照射した。それにより、基材に塗工した組成物Ｂは、硬化して厚さ５μｍの樹脂層となった。このようにして樹脂フィルムＢを得た。

（樹脂フィルムＣの作製）
相分離によって表面凹凸を形成する樹脂層形成用組成物Ｃ（商品名 ルシフラール ＮＡＢ−００７ 固形分濃度４０％ 日本ペイント株式会社製）を、基材（厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム、商品名 Ａ４３００、東洋紡績株式会社製）の表面に、バー塗工した。その後、その基材を８０℃６０秒間加熱乾燥した。その後、その基材に対して、高圧水銀ランプ紫外線照射機（アイグラフィックス社製）を用いて、１６０Ｗ／ｃｍ、ランプ高さ１３ｃｍ、ベルトスピード１０ｍ／ｍｉｎ、２ｐａｓｓ、窒素雰囲気下で紫外線を照射した。それにより、基材に塗工した組成物Ｃは、硬化して厚さ５μｍの樹脂層となった。このようにして樹脂フィルムＣを得た。

（樹脂フィルムＤの作製）
多官能（メタ）アクリレートとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（６官能アクリレート、商品名 Ａ−ＤＰＨ、新中村化学株式会社製）を１００質量部、１４００ｎｍのシリカ粒子（商品名サイリシア３１０、富士シリシア化学株式会社製）６質量部、光重合開始剤（商品名 ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＢＡＳＦ社製）を４質量部混合した。その混合物をメチルエチルケトンで固形分濃度５０％となるように希釈することによって樹脂層形成用組成物Ｄを調製した。
基材として、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（商品名 Ａ４３００、東洋紡績株式会社製）を用いた。この基材上に、樹脂層形成用組成物Ｂをバー塗工した。その後、その基材を８０℃６０秒間加熱乾燥した。その後、その基材に対して、高圧水銀ランプ紫外線照射機（アイグラフィックス社製）を用いて、１６０Ｗ／ｃｍ、ランプ高さ１３ｃｍ、ベルトスピード１０ｍ／ｍｉｎ、２ｐａｓｓ、窒素雰囲気下で紫外線を照射した。それにより、基材に塗工した組成物Ｄは、硬化して厚さ５μｍの樹脂層となった。このようにして樹脂フィルムＤを得た。

（樹脂フィルムＥの作製）
多官能（メタ）アクリレートとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（６官能アクリレート、商品名 Ａ−ＤＰＨ、新中村化学株式会社製）を１００質量部、４１００ｎｍのシリカ粒子（商品名サイリシア４３０、富士シリシア化学株式会社製）６質量部、光重合開始剤（商品名 ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＢＡＳＦ社製）を４質量部混合した。その混合物をメチルエチルケトンで固形分濃度５０％となるように希釈することによって樹脂層形成用組成物Ｅを調製した。
基材として、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（商品名 Ａ４３００、東洋紡績株式会社製）を用いた。この基材上に、樹脂層形成用組成物Ｂをバー塗工した。その後、その基材を８０℃６０秒間加熱乾燥した。その後、その基材に対して、高圧水銀ランプ紫外線照射機（アイグラフィックス社製）を用いて、１６０Ｗ／ｃｍ、ランプ高さ１３ｃｍ、ベルトスピード１０ｍ／ｍｉｎ、２ｐａｓｓ、窒素雰囲気下で紫外線を照射した。それにより、基材に塗工した組成物Ｅは、硬化して厚さ５μｍの樹脂層となった。このようにして樹脂フィルムＥを得た。

（樹脂フィルムＦの作製）
厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムの基材上に、屈折率１．６５の組成物（商品名ＯＰＳＴＡＲ○ＲＫＺ６７１９ 固形分２０％、ＪＳＲ株式会社製）をバー塗工した。その基材を８０℃６０秒間加熱乾燥させた。それによって、厚さ０．２μｍの高屈折層が形成された。さらに高屈折層上に樹脂層形成用組成物Ａを実施例1とバー塗工して樹脂フィルムＦを作製した。

（樹脂フィルムＧの作製）
多官能（メタ）アクリレートとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（６官能アクリレート、商品名 Ａ−ＤＰＨ、新中村化学株式会社製）１００質量部、および、光重合開始剤（商品名 ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＢＡＳＦ社製）４質量部を混合した。この混合物をメチルエチルケトンで固形分濃度５０％となるように希釈することによって樹脂層形成用組成物Ｇを調製した。
基材として、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（商品名 Ａ４３００、東洋紡績株式会社製）を用いた。この基材上に、樹脂層形成用組成物Ｅをバー塗工した。その後、その基材を８０℃６０秒間加熱乾燥した。その後、その基材に対して、高圧水銀ランプ紫外線照射機（アイグラフィックス社製）を用いて、１６０Ｗ／ｃｍ、ランプ高さ１３ｃｍ、ベルトスピード１０ｍ／ｍｉｎ、２ｐａｓｓ、窒素雰囲気下で紫外線を照射した。それにより、基材に塗工した組成物Ｇは、硬化して厚さ５μｍの樹脂層となった。このようにして樹脂フィルムＧを得た。

（樹脂フィルムＨの作製）
多官能（メタ）アクリレートとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（６官能アクリレート、商品名 Ａ−ＤＰＨ、新中村化学株式会社（株）製）１００質量部と、粒子径１０ｎｍのコロイダルシリカ分散液（オルガノシリカゾル標準タイプ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）株式会社製）１０質量部と、光重合開始剤（商品名 ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＢＡＳＦ社製）４質量部とを混合した。この混合物をメチルエチルケトンで固形分濃度５０％となるように希釈することによって樹脂層形成用組成物Ｈを調製した。
基材として、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（商品名 Ａ４３００、東洋紡績株式会社製）を用いた。この基材上に、樹脂層形成用組成物Ｆをバー塗工した。その後、その基材を８０℃６０秒間加熱乾燥した。その後、その基材に対して、高圧水銀ランプ紫外線照射機（アイグラフィックス社製）を用いて、１６０Ｗ／ｃｍ、ランプ高さ１３ｃｍ、ベルトスピード１０ｍ／ｍｉｎ、２ｐａｓｓ、窒素雰囲気下で紫外線を照射した。それにより、基材に塗工した組成物Ｈは、硬化して厚さ５μｍの樹脂層となった。このようにして樹脂フィルムＨを得た。

（表面粗さの測定方法）
マイクロレーザー顕微鏡（株式会社ＫＥＹＥＮＣＥ製 測定部 ＶＫ−Ｘ１０５ コントローラー部 ＶＫ−Ｘ１００）を用い、倍率２００倍で、各樹脂フィルムの表面観察と画像の取り込みを行った。得られた画像について、測定エリアを１００μｍ×１００μｍとして前記走マイクロレーザー顕微鏡に付属の解析ソフトウェアを用いて、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に基づき算術平均表面粗さＲａ、二乗平均平方根高さＲｑおよび、二乗平均平方根傾斜ＲΔｑを算出した。

＜ニュートンリング発生の評価＞
２枚のフィルムを用意し、各々の樹脂層同士を対向させた状態で置き樹脂層の反対面から指で押し付けた。その後応力を開放し、５秒後のニュートンリング発生の有無を目視で確認した。このとき、ニュートンリングが発生しない場合を○と評価した。また、ニュートンリングが発生する場合またはフィルム同士が貼りついている場合を×と評価した。

＜実施例１＞
樹脂フィルムＡを２枚用意し、各々の樹脂層が対向するように配置し、積層体を作製した。
＜実施例２＞
２枚の樹脂フィルムＡの両方を樹脂フィルムＢに変更した以外は実施例１と同様にして、積層体を作製した。
＜実施例３＞
２枚の樹脂フィルムＡの両方を樹脂フィルムＣに変更した以外は実施例１と同様にして、積層体を作製した。
＜実施例４＞
２枚の樹脂フィルムＡの両方を樹脂フィルムＤに変更した以外は実施例１と同様にして、積層体を作製した。
＜実施例５＞
２枚の樹脂フィルムＡの両方を樹脂フィルムＥに変更した以外は実施例１と同様にして、積層体を作製した。
＜実施例６＞
２枚の樹脂フィルムＡの両方を樹脂フィルムＦに変更した以外は実施例１と同様にして、積層体を作製した。
＜実施例７＞
２枚の樹脂フィルムＡの一方を樹脂フィルムＢに変更した以外は実施例１と同様にして、積層体を作製した。
＜実施例８＞
２枚の樹脂フィルムＡの一方を樹脂フィルムＣに変更した以外は実施例１と同様にして、積層体を作製した。

＜比較例１＞
２枚の樹脂フィルムＡの両方を樹脂フィルムＧに変更した以外は実施例１と同様にして、積層体を作製した。
＜比較例２＞
２枚の樹脂フィルムＡの両方を樹脂フィルムＨに変更した以外は実施例１と同様にして、積層体を作製した。
＜比較例３＞
２枚の樹脂フィルムＡの一方を樹脂フィルムＨに変更した以外は実施例１と同様にして、積層体を作製した。
＜比較例４＞
２枚の樹脂フィルムＢの一方を樹脂フィルムＨに変更した以外は実施例２と同様にして、積層体を作製した。

１…ガラス基板、２、２ｘ、２ｙ…導電層、３、３ａ、３ｂ…基材（透明フィルム）、４ａ、４ｂ…凹凸の表面形状、５…印刷層、７、１７…粘着層、１１…液晶ディスプレイ、１２…基材（偏光板）、２１、２２…静電容量式タッチパネル、３１…粘着層、１００…アンチニュートンリング積層体、１１０…第１の層、１１１…基材、１１２…凹凸の表面形状、１２０…第２の層、１２１…基材、１２２…凹凸の表面形状、２００、２０１…本発明のアンチニュートンリング積層体を用いた静電容量式タッチパネル付き表示装置、３００…従来の静電容量式タッチパネル付き表示装置

Claims (4)

1. 少なくとも片面に凹凸の表面形状を有する第１の層と、少なくとも片面に凹凸の表面形状を有する第２の層とを備え、前記第１の層および第２の層の凹凸の表面形状はいずれもＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に基づいて測定される算術平均粗さが０．０１〜０．１μｍ、二乗平均平方根高さが０．０２〜０．２μｍであり、
   前記第１の層の凹凸面および／または前記第２の層の凹凸面は粒子径２０ｎｍ以上２５０ｎｍ未満の無機又は有機微粒子を含有する凹凸樹脂層であり、
   前記第１の層の凹凸の表面形状および前記第２の層の凹凸の表面形状は二乗平均平方根傾斜が０．０１〜０．０５であり、
   前記第１の層の凹凸の表面形状と前記第２の層の凹凸の表面形状とが対向して該凹凸の表面形状が一部又は全部で互いに接触状態又は接触可能な状態で積層されていることを特徴とする積層体。
2. 前記第１の層の凹凸面または前記第２の層の凹凸面が粒子径２０ｎｍ以上２５０ｎｍ未満の無機又は有機微粒子を含有する凹凸樹脂層であり、
   前記第１の層の凹凸面および前記第２の層の凹凸面のうち、一方が粒子径２０ｎｍ以上２５０ｎｍ未満の無機又は有機微粒子を含有する凹凸樹脂層であり、他方が少なくとも２種類の成分を含有する樹脂組成物が相分離して形成された凹凸樹脂層である請求項１に記載の積層体。
3. 前記第１の層の凹凸の表面形状と前記第２の層の凹凸の表面形状とが対向して該凹凸の表面形状が一部で互いに接触状態又は接触可能な状態で積層されており、外縁部においては接着剤又は粘着剤を介して互いに非接触状態で固定されている請求項１または２に記載の積層体。
4. 請求項１〜３のいずれかに記載の積層体が組み込まれた表示装置。

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