JP6413266B2 - Ｅｌ素子、照明装置、ディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置、およびｅｌ素子の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、ＥＬ素子（エレクトロ・ルミネッセンス素子）、照明装置、ディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置、およびＥＬ素子の製造方法に関する。

従来、例えば、照明装置、ディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置における表示用光源あるいは照明用光源として、ＥＬ素子を用いた装置が知られている。
このようなＥＬ素子として、例えば、蛍光有機化合物を含む発光層を陽極と陰極との間に挟んだ発光構造を透光性基板の片面上に設けて構成された有機ＥＬ素子が用いられることが多い。このような有機ＥＬ素子は、陽極と陰極の間に直流電圧を印加し、発光層に電子および正孔を注入して再結合させることにより励起子を生成し、この励起子が失活する際の光の放出を利用して発光する。
しかし、このようなＥＬ素子では、発光層から放出された光が透光性基板から外部に射出する際に、一部の光が透光性基板の表面上で全反射されてしまい、内部反射を繰り返すうちに減衰するなどして、光量損失が生じるという問題があった。この場合、光の外部取り出し効率（以下、光取り出し効率という）は一般に２０％程度と言われている。
このように光取り出し効率が低いと、必要な輝度を得るために、より多くの投入電力が必要となる。また、投入電力が増大されることで、ＥＬ素子に対する負荷が増大して素子自体の信頼性を低下させることにもなる。
このような問題に関し、ＥＬ素子における光取り出し効率を向上させる目的で透光性基板に微細な凹凸を形成し、全反射することでロスしている光線の一部を外部に取り出すようにしたＥＬ素子が提案されている。例えば、特許文献１には、透光性基板の一方の面に複数のマイクロレンズエレメントを平面的に配列してなるマイクロレンズアレイを形成することが提案されている。

特開２００２−２６０８４５号公報

しかしながら、上記のような従来技術には、以下のような問題があった。
特許文献１に記載の技術のように、透光性基板の表面にマイクロレンズエレメントを設ける場合、マイクロレンズエレメントへの入射角によっては、発光層側に反射される光成分がある。このような光成分はＥＬ素子の内部に戻ることにより光量損失を起こしやすいという問題がある。
したがって、特許文献１に記載の技術では、マイクロレンズエレメントを有しない場合に比べれば、光取り出し効率を向上できるものの、さらに光取り出し効率を向上することが強く求められていた。

本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、光取り出し効率を向上することができるＥＬ素子およびＥＬ素子の製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、このようなＥＬ素子を備えることにより省電力性能を向上することができる、照明装置、ディスプレイ装置、および液晶ディスプレイ装置を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するために、本発明の第１の態様のＥＬ素子は、透明電極、発光層、および対向電極がこの順に積層されたＥＬ発光部と、前記発光層で発生した光を外部に出射するため、凹凸形状を有する光学シートが表面に配置された透光性基板と、光散乱粒子を含んで構成され、前記ＥＬ発光部と前記透光性基板との間に配置された光散乱層と、を備え、前記光散乱層は、前記ＥＬ発光部の前記透明電極に向いた第１表面では、前記光散乱粒子の凝集体による凹凸形状が形成され、前記透光性基板に向いた第２表面では、密集状態の前記光散乱粒子が、前記第１表面の凹凸形状に比べて滑らかな面に沿って整列しており、前記光散乱層の前記光散乱粒子は、前記第１表面における粒子密度に比べて、前記第２表面における粒子密度の方が高く、前記光散乱粒子の前記第１表面における平均粒子径は１００ｎｍ以上であり、前記光散乱粒子の前記第２表面における平均粒子径は１００ｎｍ未満である構成とする。

上記ＥＬ素子では、前記光散乱層は、前記第１表面における前記凹凸形状を覆う平滑な接合面を形成する光透過性の平滑化層を介して、前記透明電極と接合されていることが好ましい。

上記ＥＬ素子では、前記透光性基板において前記光散乱層に向いた表面に、接合層を介して接合された、透光性を有するシート状の基材をさらに備え、前記第２表面における前記光散乱粒子は、前記基材における前記接合層が設けられた表面の反対側の表面に沿って整列していることが好ましい。

上記ＥＬ素子では、前記第２表面における前記光散乱粒子は、前記透光性基板の前記光学シートが配置された表面と反対側の表面に沿って整列していることが好ましい。

本発明の第２の態様の照明装置は、上記ＥＬ素子を発光手段として備える構成とする。

本発明の第３の態様のディスプレイ装置は、上記ＥＬ素子を備え、該ＥＬ素子の前記ＥＬ発光部は、独立に駆動可能な複数の画素を有する構成とする。

本発明の第４の態様の液晶ディスプレイ装置は、液晶を用いた画像表示素子と、該画像表示素子の背面に配置された上記ＥＬ素子と、を備える構成とする。

本発明の第５の態様の液晶ディスプレイ装置は、液晶を用いた画像表示素子と、該画像表示素子の背面に配置された上記照明装置と、を備える構成とする。
本発明の第６の態様のＥＬ素子の製造方法は、透明電極、発光層、および対向電極がこの順に積層されたＥＬ発光部と、前記発光層で発生した光を外部に出射するため、凹凸形状を有する光学シートが表面に配置された透光性基板と、光散乱粒子を含んで構成され、前記ＥＬ発光部と前記透光性基板との間に配置された光散乱層と、を備えるＥＬ素子の製造方法であって、前記透光性基板に、平均粒子径が１００ｎｍ未満の第２光散乱粒子とバインダーとが混合された第２光散乱粒子塗液を塗布することと、前記第２光散乱粒子塗液を乾燥させることによって第２光散乱層を形成することと、前記第２光散乱層に、平均粒子径が１００ｎｍ以上の第１光散乱粒子とバインダーとが混合された第１光散乱粒子塗液を塗布することと、前記第１光散乱粒子塗液を乾燥させることによって第１光散乱層を形成することと、前記第１光散乱層上に前記ＥＬ発光部の前記透明電極を積層することと、
を含み、前記第１光散乱粒子塗液における前記第１光散乱粒子の粒子濃度よりも、前記第２光散乱粒子塗液における前記第２光散乱粒子の粒子濃度を低くすることで、前記光散乱層における前記透明電極に向いた第１表面において前記第１光散乱粒子の凝集体による凹凸形状を形成し、前記透光性基板に向いた第２表面において密集状態の前記第２光散乱粒子を前記第１表面の凹凸形状に比べて滑らかな面に沿って整列させる方法とする。

本発明のＥＬ素子およびＥＬ素子の製造方法によれば、透明電極に向いた第１表面と透光性基板に向いた第２表面とで、光散乱粒子の配置を変えた光散乱層を備えるため、光取り出し効率を向上することができるという効果を奏する。
また、本発明の照明装置、ディスプレイ装置、および液晶ディスプレイ装置によれば、本発明のＥＬ素子を備えるため、省電力性能を向上することができるという効果を奏する。

本発明の実施形態の液晶ディスプレイ装置およびＥＬ素子の構成を示す模式的な断面図である。 図１におけるＡ部の模式的な部分拡大図である。 図２におけるＣ部およびＤ部の模式的な部分拡大図である。 本発明の実施形態のＥＬ素子の製造工程の一例を示す模式的な工程説明図である。 本発明の実施形態の第１変形例のＥＬ素子の主要部の構成を示す模式的な断面図である。

以下では、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。
本発明の実施形態のＥＬ素子およびこれを備える液晶ディスプレイ装置について説明する。
図１は、本発明の実施形態の液晶ディスプレイ装置およびＥＬ素子の構成を示す模式的な断面図である。図２は、図１におけるＡ部の模式的な部分拡大図である。図３（ａ）、（ｂ）は、それぞれ図２におけるＣ部およびＤ部の模式的な部分拡大図である。
なお、各図は模式図のため、形状や寸法は誇張されている（以下の図面も同様）。

図１に示すように、本実施形態の液晶ディスプレイ装置５０は、液晶パネル１１（画像表示素子）、および本実施形態のＥＬ素子１０を備える。なお「ＥＬ」はエレクトロ・ルミネッセンスを表す。

液晶パネル１１は、液晶を用いた画像表示素子であり、詳細構成の図示は省略するが、公知の種々の構成を採用することができる。
液晶パネル１１に好適な構成の例としては、例えば、平面視矩形状に配列された画素における光透過率を、偏光板に挟まれた液晶層の偏光状態を画素ごとに独立して制御することにより変化させて、画像表示を行う構成が可能である。この場合、液晶層の偏光状態は、画素ごとに配置された図示略の電極によって、画像信号に応じた電界を印加することにより制御される。

ＥＬ素子１０は、本実施形態では、液晶パネル１１の背面に配置され、液晶パネル１１を背面から照明するための発光手段であり、液晶ディスプレイ装置５０における照明装置を構成している。
このため、ＥＬ素子１０は、均一な照明光を液晶パネル１１に照射できればよいが、本実施形態では、独立に発光可能な複数の発光画素を有している。図１には、一発光画素における構成を示しており、このため、ＥＬ素子１０では、図示のような構成が、図示の左右方向および図示奥行き方向に複数隣接して形成されている。

ＥＬ素子１０の概略構成は、対向基板１、発光構造体５（ＥＬ発光部）、光散乱層６、透光性基板７、および光指向性フィルム９がこの順に積層された構成を備える。
発光構造体５は、液晶パネル１１に照射する照明光をＥＬ発光によって発生する装置部分である。
本実施形態では、発光構造体５で発生した光Ｂ０は、光散乱層６、透光性基板７、および光指向性フィルム９を透過して、光Ｂ１として外部に出射され、液晶パネル１１に照射される。
本明細書において、「透光性」とは、特に断らない限り、発光構造体５で発生した光Ｂ０の波長光に関する透光性を意味する。

対向基板１および透光性基板７は、互いの間に発光構造体５および光散乱層６を挟むため、互いに対向して配置された板状またはシート状の部材である。
対向基板１は、本実施形態では、ＥＬ素子１０の厚さ方向の一方の外表面を形成している。
対向基板１は、特に透光性を必要とはしないため、発光構造体５を積層可能な適宜の材質、例えば、合成樹脂、ガラス、金属などを用いることが可能である。
本実施形態では、一例として、後述する透光性基板７と同様の材質を採用している。

透光性基板７の光透過率は、全光線透過率として、５０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
透光性基板７に用いる材料としては、種々のガラス材料を用いることができる他に、ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル樹脂）、ポリカーボネート、ポリスチレン、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート樹脂）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート樹脂）等の合成樹脂材料を用いることができる。
合成樹脂材料を用いる場合、特に好ましい材料はシクロオレフィン系のポリマーである。このポリマーは、加工性及び耐熱性、耐水性、光学透光性等の材料特性の全てにおいて優れたものである。

発光構造体５は、透明電極４、発光層３、および対向電極２がこの順に積層され、対向電極２が対向基板１に向いた状態で、対向基板１上に配置されている。
発光構造体５は、透明電極４と対向電極２とに電圧を印加することにより発光層３が発光するものであり、従来公知のさまざまな構成を採用することができる。

透明電極４は、発光層３に電圧を印加するための一方の電極であり、光Ｂ０を透過させることができる材質からなる。このような透光性を有する電極材料としては、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）などの例を挙げることができる。

対向電極２は、発光層３に電圧を印加するための他方の電極である。対向電極２の材質は、透明電極４と同様の材質を採用することもできる。しかし、本実施形態では、対向電極２は透光性の有無や程度は問わないため、導電性が良好な適宜の金属材料、例えば、アルミニウム、銀、銅などを採用することもできる。
本実施形態では、なるべく多くの光Ｂ０を光指向性フィルム９から出射するため、対向電極２は、良好な光反射機能を有する材料を採用することが好ましい。対向電極２の光反射率としては、５０％以上１００％以下とすることが好ましい。
対向電極２として、光反射率が低いかあるいは透明な材質を用いる場合には、対向電極２から対向基板１までの間に、光反射層を設けることが好ましい。この光反射層は、対向電極２と対向基板１との中間に設けてもよいし、対向基板１あるいは対向電極２に積層して設けたり、対向基板１の内部に設けたりすることも可能である。
また、対向基板１自体を、光反射性の材質で製作することにより、対向基板１が光反射層を兼ねる構成とすることも可能である。

透明電極４および対向電極２の極性は特に限定されないが、本実施形態では、一例として、透明電極４を陽極、対向電極２を陰極として用いている。

発光層３は、例えば、白色発光層とすることができる。この場合には、透明電極４をＩＴＯ、対向電極２をアルミニウムとし、透明電極４側から対向電極２に向かって、ＣｕＰｃ（銅フタロシアニン）／α−ＮＰＤにルブレン１％ドープ／ジナクチルアントラセンにペリレン１％ドープ／Ａｌｑ３／フッ化リチウムが、この順に積層された構成を採用することができる。
ただし、発光層３の構成は、これに限定されるものではなく、発光層３から射出する光線の波長をＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）とすることのできる適宜材料を用いた任意の構成を採用することが可能である。
また、液晶ディスプレイ装置５０をフルカラーディスプレイ用途で使用する場合には、例えば、発光層３を、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応した３種類の発光材料に塗り分けた構成や、白色発光層上にカラーフィルターを重ねた構成を採用することができる。

本実施形態では、ＥＬ素子１０の発光が発光画素ごとに制御されるため、発光構造体５は、各発光画素に対応して形成され、各発光画素の透明電極４、対向電極２には、図示略の駆動部に配線されている。

光散乱層６は、発光層３で発生し、透明電極４に入射した光を透光性基板７側に透過させるとともに、散乱して光の進行方向を変化させる層状部であり、１種類以上の光散乱粒子を含んで構成される。
光散乱層６は、層厚方向に、光散乱粒子の粒子密度を変えることで、透明電極４から入射する光Ｂ０が透過しやすく、透光性基板７側から入射する光を透光性基板７の方に反射しやすくなる構成としている。
具体的には、図２に模式的に示すように、光散乱層６は、第１表面６ａと第２表面６ｂとの間に、第１光散乱層６Ａと、第２光散乱層６Ｂとが形成されている。
図２は模式図のため、第１光散乱層６Ａと第２光散乱層６Ｂとの間に境界面Ｓを図示しているが、境界面Ｓに、物理的な界面が形成されることは必須ではない。例えば、第１光散乱層６Ａから第２光散乱層６Ｂに、光散乱粒子の粒子密度が連続的に変化し、物理的が界面が形成されない構成が可能である。
本実施形態では、境界面Ｓは、製法上の光散乱粒子の粒子密度を切り替えた境界の位置を示しており、必ずしも物理的な界面にはなっていない。

第１光散乱層６Ａは、透明電極４に第１表面６ａが向くように配置された層状部である。本実施形態では、第１光散乱層６Ａは、平滑化層１２を介して透明電極４の表面４ａに接合されている。

図３（ａ）に示すように、第１光散乱層６Ａは、光散乱粒子１６Ａがバインダー１９Ａ中に分散された構成を有する。
光散乱粒子１６Ａとしては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化チタン、硫酸バリウム等の無機系粒子、アクリル、スチレン、アクリル／スチレン共重合体、メラミン等の有機系粒子、あるいはこれらの粒子から選ばれた２種類以上の粒子を混合したものを採用することができる。
光散乱粒子１６Ａの平均粒子径としては、５０ｎｍ〜１０００ｎｍが好ましく、１００ｎｍ〜３００ｎｍがより好ましい。なお、粒子径は、ＳＡＬＤ−７１００（商品名；島津製作所製）を用いて測定できる。
第１光散乱層６Ａの第１表面６ａは、光散乱粒子１６Ａが塊状に凝集して形成された凝集体１７が分布することによって凹凸形状が形成されている。この凹凸形状は、凝集体１７により形成されるため、規則性を有しておらず、凹凸ピッチや深さは、ばらついている。第１表面６ａの凹凸の大きさとしては、隣接する凹凸の高低差が、０．２μｍ〜３μｍ程度であることが好ましい。
１つの凸部を形成する凝集体１７の粒子数としては、光散乱粒子１６Ａの粒径分布にもよるが、例えば、２個〜１０個程度が好ましい。

第１光散乱層６Ａにおいて、光散乱粒子１６Ａの粒子密度は、第１表面６ａから境界面Ｓに向かうにつれて増大することが好ましい。ただし、後述する第２光散乱層６Ｂにおける光散乱粒子１６Ｂの粒子密度に比べて低いことが好ましい。

バインダー１９Ａは、その屈折率が光散乱粒子１６Ａの屈折率と屈折率差を有する適宜の透明樹脂材料で構成される。
バインダー１９Ａのバインダーマトリックス材料としては、例えば、電離放射線硬化型または熱硬化型の合成樹脂、例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂、アクリル／スチレン系の共重合樹脂を使用することができる。
電離放射線として紫外線を用いる場合、バインダーマトリックス材料に光散乱粒子１６Ａを混合したハードコート層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤は、公知の光重合開始剤を用いることができるが、用いるバインダーマトリックス形成材料にあったものを用いることが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメチルケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテル類等を用いることができる。光重合開始剤の使用量は、バインダーマトリックス形成材料に対して０．５重量部以上２０重量部以下である。好ましくは１重量部以上５重量部以下である。

平滑化層１２は、第１光散乱層６Ａを覆う平滑な接合面１２ａを形成するとともに、第１光散乱層６Ａを透明電極４に接合するための層状部であり、光透過性を有する合成樹脂からなる。
平滑化層１２の材質としては、バインダー１９Ａに好適な上記の合成樹脂のうちから適宜の樹脂材料を選択することが可能である。
ただし、平滑化層１２の屈折率は、光Ｂ０が表面４ａで全反射されないか、または全反射される量を低減できるような屈折率とする。すなわち、平滑化層１２の屈折率は、透明電極４の屈折率以上、または透明電極４の屈折率未満の場合に透明電極４の屈折率に近い屈折率を有する。透明電極４の屈折率未満の場合の屈折率差は、０．４以下であることが好ましく、０．２以下であることがより好ましい。

一般に、透明電極４に用いる材料の屈折率は、高屈折率であること多いため、これに応じて平滑化層１２を高屈折率化するため、上述のバインダー１９Ａと同様の樹脂材料に高屈折微粒子を添加した構成も可能である。
例えば、高屈折率微粒子としては、例えば、ジルコニア、チタニア、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、酸化亜鉛等の金属酸化物のうち１種を単体で、または２種以上を混合して用いることができる。この中でも特に、ジルコニアおよびチタニアは、屈折率が高く、化学的安定性に優れ、可視光域における光の透過率が高く、粒径が揃え易い等の性質を備えるため好ましい。
またこれらの高屈折微粒子は、表面が修飾されていてもよい。

このような平滑化層１２を介して、透明電極４に第１光散乱層６Ａを接合することにより、透明電極４を透過して、表面４ａに到達した光Ｂ０は、略全反射されることなく（すべて全反射される場合も含む）平滑化層１２に入射して、第１表面６ａに到達する。
また、平滑化層１２を備えることにより、透明電極４を平滑な接合面１２ａ上に形成することができるため、透明電極４の層厚のバラツキを抑制することができる。
例えば、第１表面６ａ上に、直に透明電極４を形成すると、第１表面６ａの凹凸形状に応じて、透明電極４の層厚にバラツキが生じる。透明電極４の層厚がばらつくと、輝度ムラが生じたり、電流のショートが発生したりする問題が生じる可能性があるが、本実施形態ではこれらの発生を防止できる。

第２光散乱層６Ｂは、図３（ｂ）に示すように、境界面Ｓにおいて第１光散乱層６Ａと積層され、透光性基板７に第２表面６ｂが向くように配置された層状部である。本実施形態では、図２に示すように、第２光散乱層６Ｂは、基材１３に積層された状態で、接合層１４を介して透光性基板７の入射側表面７ａに接合されている。

図３（ｂ）に示すように、第２光散乱層６Ｂは、光散乱粒子１６Ｂがバインダー１９Ｂ中に分散された構成を有する。
光散乱粒子１６Ｂとしては、上述した光散乱粒子１６Ａに好適な粒子材料のうちから適宜の１種以上の粒子材料を選択することができる。光散乱粒子１６Ｂの種類は、光散乱粒子１６Ａと同じでもよいし、異なっていてもよい。
光散乱粒子１６Ｂの平均粒子径は、光散乱粒子１６Ａと同様の平均粒子径を採用することが可能である。ただし、後述する層状整列部１８を形成する一手段として、光散乱粒子１６Ｂの平均粒径を小径にする場合には、光散乱粒子１６Ａよりも平均粒子径が小さい光散乱粒子１６Ｂを採用することもできる。
このため、光散乱粒子１６Ｂの平均粒子径としては、例えば、５０ｎｍ〜３００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍがより好ましい。

また、バインダー１９Ｂは、その屈折率が光散乱粒子１６Ｂの屈折率と屈折率差を有する適宜の透明樹脂材料で構成される。具体的には、上述したバインダー１９Ａに好適な材料のうちから、光散乱粒子１６Ｂの屈折率に応じて、適宜の樹脂材料を選択して用いることができる。バインダー１９Ｂの種類は、バインダー１９Ａと同じでもよいし、異なっていてもよい。

図２に示すように、基材１３は、光散乱層６を積層して、シート状の組立体１５を形成するシート状部材である。
基材１３の材質としては、透光性を有する樹脂フィルムを採用することができる。例えば、セルローストリアセテート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリメタアクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂からなる延伸フィルムまたは未延伸フィルムを採用することができる。
基材１３の透過率としては、例えば、９０％以上であることが好ましい。

接合層１４は、接合層１４を透光性基板７に接合することができ、透光性を有する適宜の粘着剤または接着剤を採用することができる。
接合層１４として好適な材料としては、例えば、アクリル系、ウレタン系、ゴム系、シリコーン系等の各種の粘着剤、接着剤が挙げられる。
いずれの場合も、接合層１４は、高温となる発光構造体５に隣接されているため、１００℃で貯蔵弾性率Ｇ’が１．０×１０^＋４（Ｐａ）程度以上のもの用いることが望ましい。
貯蔵弾性率Ｇ’がこれより低いと、使用中に基材１３と透光性基板７との間に位置ずれが生じてしまう可能性がある。このような位置ずれは、発光構造体５の発光画素と、光指向性フィルム９との間の位置ずれにつながり、このような位置ずれは、後述する光指向性フィルム９による光取り出し効率の低下につながるおそれがある。

なお、基材１３と透光性基板７との間の離間寸法を安定的に確保するために、接合層１４の中に、例えば、ビーズ等の透明の微粒子を混ぜるようにしてもよい。この場合、透明な微粒子の屈折率と、接合層１４のベースとなる材料の屈折率との差は、０．０１未満にすることが好ましい。このような屈折率差を満たすことで、透明の微粒子を混ぜても、微粒子と接合層１４のベース材料との屈折率差による光の散乱が発生しにくくなり、微粒子を混ぜても、微粒子とベース材料との屈折率差による光の散乱が抑制されるため、透過光が基材１３内ではほぼ直進する（完全に直進する場合を含む）。このため、接合層１４を透明な状態に維持することが可能となる。
また、接合層１４を構成する粘着剤や接着剤は両面テープ状のものでもよいし、単層のものでもよい。

また、基材１３、接合層１４、および透光性基板７の屈折率は、それぞれの界面において、全反射が起こりにくいように、略等しい（等しい場合を含む）屈折率にすることが好ましい。基材１３、接合層１４、および透光性基板７の屈折率は、例えば、隣接する部材間の屈折率差が、０．１以下であることが好ましい。

第２光散乱層６Ｂは、第１光散乱層６Ａに、透明電極４側から入射して、散乱されつつ進んで入射する光Ｂ０を、散乱させつつ光Ｂ２として基材１３を通して透光性基板７の方に出射するとともに、透光性基板７の方から基材１３を通して入射する光Ｂ３は、光Ｂ４のように透光性基板７に向かって反射しやすい構成を有する。
具体的には、第２光散乱層６Ｂにおける光散乱粒子１６Ｂの粒子密度が、第１光散乱層６Ａの粒子密度以上になっており、かつ、粒子密度が、基材１３の入射側表面１３ａに隣接する第２表面６ｂで最も高くなるように構成されている。
このため、第２光散乱層６Ｂの第２表面６ｂでは、密集状態の光散乱粒子１６Ｂが、第１表面６ａの凹凸形状に比べて滑らかな面である基材１３の入射側表面１３ａに沿って整列しており、入射側表面１３ａの近傍に層状整列部１８が形成されている。層状整列部１８は、光散乱粒子１６Ｂが密集しているため、入射光はほとんど、光散乱粒子１６Ｂを通ることになる。
これに対して、層状整列部１８と境界面Ｓの間の領域の第２光散乱層６Ｂは、層状整列部１８に比べて光散乱粒子１６Ｂの粒子密度が低い領域であり、光散乱粒子１６Ｂの間には、バインダー１９Ｂが充填された隙間が形成されている、

以上説明したように、本実施形態のＥＬ素子１０は、対向基板１と透光性基板７との間に、対向電極２、発光層３、透明電極４、第１光散乱層６Ａ、第２光散乱層６Ｂ、基材１３、および接合層１４が、対向基板１側からこの順に積層されている。

本実施形態のＥＬ素子１０では、図１に示すように、透光性基板７における入射側表面７ａと反対側の出射側表面７ｂに、接合層８を介して光指向性フィルム９が接合されている。

光指向性フィルム９は、発光構造体５で発生し、透光性基板７を透過した光を透光性基板７の法線方向である正面方向を中心とする指向性を付与して外部に出射させるため、表面に凹凸形状を有する光学シートである。
光指向性フィルム９は、シート状の透光性材料からなる基材部９Ａの一方の表面に、凹凸形状を有する光指向性構造層部９Ｂが設けられている。

基材部９Ａは、発光層３から出射される光Ｂ０の波長に対して光透過性を有する各種の材料を使用することができ、例えば、光学部材用の合成樹脂材料等を使用することができる。
このような合成樹脂材料の例として、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネ−ト樹脂、ポリスチレン樹脂、ＭＳ（アクリルとスチレンの共重合体）樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、シクロオレフィンポリマー等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
その他の例としては、例えば、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等のオリゴマーまたはアクリレート系等からなる電離放射線硬化性樹脂等を挙げることができる。

光指向性構造層部９Ｂは、基材部９Ａの表面に多角形状の断面が一方向に延ばされた単位プリズムレンズ９ｂを互いに交差するように２軸方向に配列したものである。
このため、光指向性構造層部９Ｂの表面形状は、平坦面９ａの組み合わせからなり、光指向性構造層部９Ｂの頂部の加工上の微小丸みの湾曲面以外には、曲面を有しない。
このように、光指向性構造層部９Ｂの表面に、曲面でなく平坦面９ａを備えることより、光指向性構造層部９Ｂを透過する光、反射する光の透過率、反射率の入射角度に対する角度依存性を強くすること可能となる。このため、光指向性構造層部９Ｂを透過する光の角度が絞られるため、光の指向性を大きくすることが可能となる。

なお、単位プリズムレンズ９ｂが配列される２軸方向は、特には限定されないが、２軸方向の交差角度は８０°以上９０°以下であることが好ましい。本実施形態では、一例として、交差角度は９０°としている。図１は、断面図であるため、紙面左右方向に配列された単位プリズムレンズ９ｂが図示され、紙面奥行き方向に配列された単位プリズムレンズ９ｂの図示は省略されている。

単位プリズムレンズ９ｂの断面形状は、多角形状の一例として、平坦面９ａが頂角θをなす二等辺三角形状に形成された場合の例を図示しいている。頂角θは、８０°以上１００°以下が好ましい。
ただし、光指向性構造層部９Ｂにおける光再分配効果を高め、光指向性フィルム９から出射される光Ｂ１の指向性を強くするためには、２軸方向における各単位プリズムレンズ９ｂの頂角θを同じ値にすることが好ましい。この場合、指向性の低い角度の方向のブリズムで光が散乱されにくくなる。
単位プリズムレンズ９ｂの高さは、すべて同一でもよいし、適宜変化されていてもよい。
光指向性構造層部９Ｂの材質は、基材部９Ａと同一の材質を採用することができる。

このような構成の光指向性フィルム９は、例えば、上記の材料を予め形成した金型に流し込み凝固させることで成形することができる。この金型は、単位プリズムレンズ９ｂの断面形状と同様の形状を有するダイヤモンドバイトを用い、銅メッキを施した金型母材に対して、単位プリズムレンズ９ｂの外形に対応する凹形状を切削加工することで製造できる。
また、光指向性フィルム９は、上記のような流し込み凝固により成形する方法の他、熱可塑性樹脂を用いた押出し成形または射出成形や、例えば、紫外線硬化型樹脂等の電離放射線硬化性樹脂を用いた電離放射線成形法などで成形することもできる。その際、基材部９Ａおよび光指向性構造層部９Ｂの形状を、一体的に成形してもよいし、例えば、基材部９Ａ、光指向性構造層部９Ｂをそれぞれ分割して成形し、その後に組み立てるようにしてもよい。
また、いずれの場合にも、光指向性フィルム９を形成する材料に光拡散機能を発揮するフィラー等の拡散剤を分散させて成形することができる。
さらに、光指向性フィルム９には、帯電防止剤として導電性微粒子のアンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）や、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）等の超微粒子を分散させてもよい。帯電防止剤を分散することで、光指向性フィルム９の防汚性を向上させることができる。

光指向性フィルム９において、例えば、基材部９Ａ上に、電離放射線成形法などにより光指向性構造層部９Ｂを成形する場合には、基材部９Ａとして、例えば、セルローストリアセテート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリメタアクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂からなる延伸又は未延伸の透明なフィルムを使用することもできる。
この場合、基材部９Ａの厚さは、用いる材料の剛性等の特性にもよるが、５０μｍ〜３００μｍとすることが、加工性および取扱いの面から見て好ましい。

このような光指向性フィルム９を、出射側表面７ｂに接合する接合層８は、透光性を有する適宜の粘着剤または接着剤を採用することができる。
接合層８の材料としては、上述した接合層１４と同様な材料、構成を採用することができる。ただし、接合層８は、接合層１４とまったく同様の材料、構成とする必要はなく、例えば、接合対象の材質の相違や使用時の温度条件の相違などに応じて、上述の材料、構成のうちから接合層１４と異なる適宜材料、構成を選択することが可能である。
接合層８では、透光性基板７の出射側表面７ｂから出射された光が、その出射角度分布を保って光指向性フィルム９に入射てきるようにすることが、光指向性フィルム９による指向性を所定の範囲に収めるためには特に重要である。
このため、接合層８は、層厚の安定が確保され、かつ接合層８の透過光の散乱が抑制されるような透明な構成が特に好ましい。具体的には、例えば、接合層８のベース材料との屈折率差が少ないビーズ等の微粒子を混ぜた構成などが特に好ましい。また、接合層８は光指向性フィルム９や透光性基板７との間の屈折率であればそれぞれとの界面での反射が抑えられるため、好ましい。

このようなＥＬ素子１０を製造するには、例えば、透光性基板７の入射側表面７ａに、接合層１４を介して組立体１５を貼り付け、光散乱層６の第１表面６ａに平滑化層１２を設けてから、平滑化層１２の上に発光構造体５を形成する。
そして、発光構造体５上に対向基板１を貼り合わせる。次に、透光性基板７の入射側表面７ａに接合層８を介して、上述のようにして成形された光指向性フィルム９を貼り合わせる。

ここで、組立体１５の製造方法について詳しく説明する。
図４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の実施形態のＥＬ素子の製造工程の一例を示す模式的な工程説明図である。

まず、図４（ａ）に示すように、基材１３を形成する。基材１３の入射側表面１３ａおよび出射側表面１３ｂは、いずれも平坦面になっている。
このとき、図示略の接合層１４は、予め出射側表面１３ｂ上に塗工しておいてもよいし、以下に説明する光散乱層６を形成した後に塗工してもよい。

次に、入射側表面１３ａ上に、第２光散乱層６Ｂを形成するため、光散乱粒子塗液６０Ｂを塗布する（図４（ｂ）参照）。
塗布方法としては、例えば、スピンコート、ダイコート、カーテンコートなど公知の塗布方法から適宜選択することができる。

光散乱粒子塗液６０Ｂは、未硬化のバインダー１９Ｂに光散乱粒子１６Ｂを必要な粒子密度が得られるように混合したものである。第２光散乱層６Ｂにおいては少なくとも入射側表面１３ａに沿って光散乱粒子１６Ｂが整列する必要がある。
このような構成は、バインダー１９Ｂ内で、光散乱粒子１６Ｂが沈降する傾向を有することで、ある程度は自然に形成される。
このような構成をより確実に形成するには、例えば、微小粒径の光散乱粒子１６Ｂを高濃度に含む光散乱粒子塗液６０Ｂを用いるとよい。この場合、混合の過程で、小粒径の光散乱粒子１６Ｂが大粒径の光散乱粒子１６Ｂの隙間に入り込んで行くため、入射側表面１３ａの近傍に光散乱粒子１６Ｂが整列しやすくなる。
例えば、光散乱粒子１６Ｂが酸化チタン、バインダー１９Ｂがアクリルの場合、粒径が１００ｎｍ未満の酸化チタンを、アクリルに５０ｗｔ％含んだ光散乱粒子塗液６０Ｂを厚さ０．５μｍ〜１μｍとなるように塗布することが好適である。
また、光散乱粒子１６Ｂの粒径が大きい場合には、自重による沈降効果が高まるため、光散乱粒子塗液６０Ｂにおける光散乱粒子１６Ｂの濃度を低めに設定するとよい。
例えば、上記と同様の材料、塗布厚さの場合、粒径が１００ｎｍ程度の酸化チタンを、アクリルに５０ｗｔ％含んだ光散乱粒子塗液６０Ｂが好適である。

光散乱粒子塗液６０Ｂを塗布後、乾燥、硬化させて、第２光散乱層６Ｂが形成されたら、図４（ｃ）に示すように、境界面Ｓとなる第２光散乱層６Ｂの上面に、第１光散乱層６Ａを形成するため、光散乱粒子塗液６０Ａを塗布する。
塗布方法としては、光散乱粒子塗液６０Ｂの塗布方法と同様の方法を採用することができる。

光散乱粒子塗液６０Ａは、光散乱粒子１６Ａを必要な粒子密度が得られるように、未硬化のバインダー１９Ａに光散乱粒子１６Ａを混合したものである。第１光散乱層６Ａにおいては、少なくとも、第１表面６ａにおいて、凝集体１７による凹凸形状が形成される必要がある。
このような構成は、バインダー１９Ａに低濃度の微粒子からなる光散乱粒子１６Ａを含む場合に、ある程度は自然に形成される。
好適となる凹凸形状をより確実に形成するには、例えば、大きめの粒径の光散乱粒子１６Ａを高濃度に含む光散乱粒子塗液６０Ａを用いるとよい。この場合、混合の過程で発生する凝集によって形成される凝集体１７の径が大きくなるため、例えば、０．２μｍ〜０．８μｍ程度の好ましい凹凸形状が容易に得られる。
例えば、光散乱粒子１６Ａが酸化チタン、バインダー１９Ａがアクリルの場合、粒径が１００ｎｍを超える酸化チタンを、アクリルに３０ｗｔ％含んだ光散乱粒子塗液６０Ａを厚さ０．５μｍ〜１μｍとなるように塗布することが好適である。
また、光散乱粒子１６Ａの粒径がそれほど大きくない場合には、光散乱粒子塗液６０Ａにおける濃度を、適宜の塊状に凝集しやすい濃度に設定するとよい。
例えば、上記と同様の材料、塗布厚さの場合、粒径が１００ｎｍ程度の酸化チタンを、アクリルに２０ｗｔ％含んだ光散乱粒子塗液６０Ａが好適である。

光散乱粒子塗液６０Ａを塗布後、乾燥、硬化させると、バインダー１９Ａが収縮して表面に凝集体１７が露出し、凹凸形状を有する第１表面６ａが形成された第１光散乱層６Ａが得られる。
このような第１光散乱層６Ａは、内部でも光散乱粒子１６Ａが凝集し、これら離間した凝集体１７の間に、バインダー１９Ａが充填された状態になっている。
このようにして、基材１３上に光散乱層６が形成される。なお、予め基材１３に接合層１４を塗工しなかった場合には、接合層１４を塗工する。
このようにして組立体１５が製造される。

このような組立体１５は、例えば、連続シートなどとして、予め製造しておき、ＥＬ素子１０を製造する際に、必要な大きさに切断して、貼り付けることができるため生産効率が高くなり好ましい。

次に、ＥＬ素子１０の作用について説明する。
図１に示すように、発光層３で発生した光Ｂ０は、透明電極４の表面４ａに到達する。
光Ｂ０は、発光層３から種々の方向に放射されるため、所定の配光分布を有している。
本実施形態では、図２に示すように、表面４ａと接して、透明電極４の屈折率と近い（一致する場合も含む）屈折率を有する平滑化層１２が設けられている。
このため、光Ｂ０は、それぞれ進路を略直進して（直進する場合を含む）、表面４ａで略全反射されることなく（完全に全反射されない場合も含む）平滑化層１２に入射して略直進し、第１表面６ａに到達する。
このため、光Ｂ０は、配光分布が略変わることなく、平滑化層１２内を進んで、第１表面６ａに達する。

第１表面６ａは、図３（ａ）に示すように、光散乱粒子１６Ａの凝集体１７によって凹凸形状が形成されているため、平滑化層１２側への戻り光が低減され、光Ｂ０は、効率的に第１光散乱層６Ａ内に入射する。
すなわち、光散乱粒子１６Ａにより散乱されて平滑化層１２内に戻る光は、凝集体１７の表面から満遍なく外部に出射されるため、凸部の側方から散乱された光は、透明電極４に向かうことなく隣り合う凝集体１７の凸部に再入射する。
これに対して、例えば、第１表面６ａにおいて、光散乱粒子１６Ａが密集して平面上に整列して構成されているとすると、このような光散乱粒子１６Ａは散乱反射面として機能するため、平滑化層１２側に出射される散乱光は、すべていったん平滑化層１２に入射して透明電極４に向かう。このため、第１表面６ａが凹凸形状に形成されている場合に比べて光散乱層へ再入射する確率が低下する。
また、第１表面６ａがバインダー１９Ａのみによる平坦面として形成されているとすると、平滑化層１２は、バインダー１９Ａの屈折率に比べて高屈折率であるため、光Ｂ０の入射角によっては全反射が起こる。このため、平滑化層１２への戻り光が多くなる。
本実施形態のような第１表面６ａによれば、凹凸形状により、これらのような戻り光の発生が抑制されるため、光Ｂ０が効率的に第１光散乱層６Ａに入射する。

第１光散乱層６Ａに入射した光Ｂは、光散乱粒子１６Ａによって散乱されて、進行方向を変化させながら、第２光散乱層６Ｂに到達する。
光Ｂ０は、第２光散乱層６Ｂ内で、光散乱粒子１６Ｂにより散乱されて種々の方向に偏向しつつ進むため、全体として光の進行方向が多様化する。
そして、図３（ｂ）に示すように、第２表面６ｂから、入射側の配光分布よりも広範囲に放射される光Ｂ２として、透光性基板７に入射していく。

図１に示すように、透光性基板７に入射した光Ｂ２のうち、例えば、斜め方向に進むＢ２’は、透光性基板７、接合層８、光指向性フィルム９の内部を略直進して、単位プリズムレンズ９ｂの平坦面９ａに到達する。
平坦面９ａは、出射側表面７ｂに対して傾斜しているため、光Ｂ２’は、平坦面９ａに対する入射角に応じて屈折され、ＥＬ素子１０の正面方向に近い方向に偏向された光Ｂ５として出射される。

一方、光Ｂ２のうち、入射側表面７ａから垂直に近い方向に放射される光Ｂ２’’は、対をなす平坦面９ａによって、全反射されるため、光Ｂ３のように、略同様の角度で、入射側表面７ａに戻る。
このように戻る光Ｂ３は、光散乱層６がない場合には、透光性基板７を出射後に直接的に、透明電極４に入射して、発光構造体５の内部で減衰してしまう。
しかし、本実施形態では、図３（ｂ）に示すように、基材１３を介して、第２光散乱層６Ｂが設けられているため、入射側表面７ａから透明電極４側に向かう光Ｂ３は、基材１３を透過して、第２光散乱層６Ｂの第２表面６ｂに到達する。
第２表面６ｂには、平坦な入射側表面１３ａに沿って密集して整列しているため光Ｂ０に対して散乱反射面として機能する層状整列部１８が形成されている。このため、光Ｂ３は、光Ｂ４のように散乱反射されて、光Ｂ２と同様に、光指向性フィルム９に向かう光となる。その際、光Ｂ４は、散乱反射されることにより配光分布をもつため、大部分が平坦面９ａによって全反射されない方向に反射される。この結果，光Ｂ４が平坦面９ａに到達すると、その入射角度分布に応じて外部に出射される。

すなわち、ＥＬ素子１０では、透明電極４を透過した光Ｂ０は、光散乱層６によって散乱されつつ透過するため、光Ｂ２’のように、光指向性フィルム９から外部に出射される光成分が、光散乱層６を有しない場合に比べて増える。
また、例えば、光Ｂ２’’のように、単位プリズムレンズ９ｂの平坦面９ａで全反射される場合にも、光散乱層６の第２光散乱層６Ｂが層状整列部１８（図３（ｂ）参照）を備えるため、図１に白抜き矢印で示すように、単位プリズムレンズ９ｂと層状整列部１８との間で反射を繰り返し、層状整列部１８で散乱反射されることにより、次第に光Ｂ２’と同様に外部に出射させる成分が増えていく。
このため、層状整列部１８を有しない場合のように、光Ｂ３が透明電極４に戻って光量損失となる成分が低減される。

このように、ＥＬ素子１０では、透明電極４に向いた第１表面６ａと透光性基板７に向いた第２表面６ｂとで、光散乱粒子の配置を変えた光散乱層６を備えるため、光取り出し効率を向上することができる。
また、液晶ディスプレイ装置５０は、このようなＥＬ素子１０を備えるため、必要な輝度を得るためのＥＬ素子１０の電力消費量が低減されて、省電力な装置となる。

［第１変形例］
次に、本実施形態の第１変形例のＥＬ素子について説明する。
図５は、本発明の実施形態の第１変形例のＥＬ素子の主要部の構成を示す模式的な断面図である。

本変形例のＥＬ素子２０は、上記実施形態のＥＬ素子１０の基材１３および接合層１４を削除し、光散乱層６の第２表面６ｂを透光性基板７の入射側表面７ａに形成したものである。
ＥＬ素子２０は、上記実施形態のＥＬ素子１０に代えて、液晶ディスプレイ装置５０における照明装置として用いることができる。
以下、上記実施形態と異なる点を中心に説明する。

このようなＥＬ素子２０は、図４（ｂ）、（ｃ）に示すように、透光性基板７の入射側表面７ａ上に、第２光散乱層６Ｂを形成してから、上記実施形態と同様に第１光散乱層６Ａを形成する以外は、上記実施形態と同様にして製造することができる。

ＥＬ素子２０によれば、透明電極４と透光性基板７との間に、上記実施形態と同様の光散乱層６を備えるため、上記実施形態と同様に、光取り出し効率を向上することができる。
その際、本変形例では、基材１３および接合層１４が削除されている。このため、これらによる反射や吸収による光量損失がなくなるため、上記実施形態に比べて、さらに光取り出し効率を向上することができる。
また、基材１３および接合層１４を削除することができるため、製造コストをより低減することができる。

なお、上記実施形態および第１変形例の説明では、第１光散乱層６Ａの第１表面６ａを覆う平滑な接合面１２ａを形成する場合の例で説明したが、平滑化層１２を設けなくても、輝度ムラやショートなどが発生しないような層厚の透明電極４を形成することができる場合には、平滑化層１２を省略することができる。

上記実施形態および第１変形例の説明では、光散乱層６が、第１光散乱層６Ａと第２光散乱層６Ｂとの二層からなる場合の例で説明したが、層状整列部１８や凹凸形状の第１表面６ａを形成できれば、一定の層厚内で光散乱粒子の配置や粒子密度が変化する一層構造としてもよい。また、３層以上の多層構造としてもよい。

上記実施形態および第１変形例の説明では、ＥＬ素子１０、２０が、液晶ディスプレイ装置５０の画像表示素子の背面に配置して用いられた照明装置になっている場合の例で説明したが、ＥＬ素子１０、２０は、画像表示素子以外の対象を照明する照明装置として用いることが可能である。
また、ＥＬ素子１０、２０は、画素駆動可能であるため、画像信号に基づいて各発光画素を発光させることにより、例えば、画像、文字情報、絵柄パターンなどを表示するディスプレイ装置として用いることも可能である。

上記実施形態および第１変形例の説明では、ＥＬ素子１０、２０の発光画素が、独立に駆動可能な複数が画素を構成している場合の例で説明したが、照明の用途によっては、画素駆動することは必須ではない。
例えば、各発光層を同時に駆動して面発光光源を構成することも可能である。

上記実施形態および第１変形例の説明では、光指向性構造層部９Ｂの単位プリズムレンズ９ｂの断面が三角形等の多角柱状のプリズムレンズの場合の例で説明したが、単位プリズムレンズ９ｂは、多角錘状のプリズムレンズとすることが可能である。
また、光指向性構造層部９Ｂの凹凸形状は、これら以外にも、公知の種々の凹凸形状を採用することができる。例えば、光指向性構造層部９Ｂは、単位プリズムレンズを有さず、大きさや形状が異なる複数の凹凸形状によって形成されていてもよい。

上記の実施形態、第１変形例に説明したすべての構成要素は、本発明の技術的思想の範囲で適宜組み合わせを代えたり、削除したりして実施することができる。

３ 発光層
４ 透明電極
４ａ 表面
５ 発光構造体（ＥＬ発光部）
６ 光散乱層
６Ａ 第１光散乱層
６Ｂ 第２光散乱層
６ａ 第１表面
６ｂ 第２表面
７ 透光性基板
７ａ 入射側表面
８、１４ 接合層
９ 光指向性フィルム（光学シート）
９Ｂ 光指向性構造層部
９ａ 平坦面
９ｂ 単位プリズムレンズ
１０、２０ ＥＬ素子（照明装置、ディスプレイ装置）
１１ 液晶パネル（画像表示素子）
１２ 平滑化層
１２ａ 接合面
１３ 基材
１５ 組立体
１６Ａ、１６Ｂ 光散乱粒子
１７ 凝集体
１８ 層状整列部
１９Ａ、１９Ｂ バインダー
５０ 液晶ディスプレイ装置
Ｂ０、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ２’、Ｂ２’’Ｂ３、Ｂ４、Ｂ５ 光

Claims (9)

1. 透明電極、発光層、および対向電極がこの順に積層されたＥＬ発光部と、
   前記発光層で発生した光を外部に出射するため、凹凸形状を有する光学シートが表面に配置された透光性基板と、
   光散乱粒子を含んで構成され、前記ＥＬ発光部と前記透光性基板との間に配置された光散乱層と、
   を備え、
   前記光散乱層は、
   前記ＥＬ発光部の前記透明電極に向いた第１表面では、前記光散乱粒子の凝集体による凹凸形状が形成され、
   前記透光性基板に向いた第２表面では、密集状態の前記光散乱粒子が、前記第１表面の凹凸形状に比べて滑らかな面に沿って整列しており、
   前記光散乱層の前記光散乱粒子は、
   前記第１表面における粒子密度に比べて、前記第２表面における粒子密度の方が高く、
   前記光散乱粒子の前記第１表面における平均粒子径は１００ｎｍ以上であり、
   前記光散乱粒子の前記第２表面における平均粒子径は１００ｎｍ未満である、
   ＥＬ素子。
2. 前記光散乱層は、
   前記第１表面における前記凹凸形状を覆う平滑な接合面を形成する光透過性の平滑化層を介して、前記透明電極と接合されている
   ことを特徴とする、請求項１に記載のＥＬ素子。
3. 前記透光性基板において前記光散乱層に向いた表面に、接合層を介して接合された、透光性を有するシート状の基材をさらに備え、
   前記第２表面における前記光散乱粒子は、
   前記基材における前記接合層が設けられた表面と反対側の表面に沿って整列している
   ことを特徴とする、請求項１または２に記載のＥＬ素子。
4. 前記第２表面における前記光散乱粒子は、
   前記透光性基板における前記光学シートが配置された表面と反対側の表面に沿って整列している
   ことを特徴とする、請求項１または２に記載のＥＬ素子。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載のＥＬ素子を発光手段として備える、照明装置。
6. 請求項１〜４のいずれか１項に記載のＥＬ素子を備え、
   該ＥＬ素子の前記ＥＬ発光部は、独立に駆動可能な複数の画素を有する、ディスプレイ装置。
7. 液晶を用いた画像表示素子と、
   該画像表示素子の背面に配置された請求項１〜４のいずれか１項に記載のＥＬ素子と、を備える、液晶ディスプレイ装置。
8. 液晶を用いた画像表示素子と、
   該画像表示素子の背面に配置された請求項５に記載の照明装置と、
   を備える、液晶ディスプレイ装置。
9. 透明電極、発光層、および対向電極がこの順に積層されたＥＬ発光部と、前記発光層で発生した光を外部に出射するため、凹凸形状を有する光学シートが表面に配置された透光性基板と、光散乱粒子を含んで構成され、前記ＥＬ発光部と前記透光性基板との間に配置された光散乱層と、を備えるＥＬ素子の製造方法であって、
   前記透光性基板に、平均粒子径が１００ｎｍ未満の第２光散乱粒子とバインダーとが混合された第２光散乱粒子塗液を塗布することと、
   前記第２光散乱粒子塗液を乾燥させることによって第２光散乱層を形成することと、
   前記第２光散乱層に、平均粒子径が１００ｎｍ以上の第１光散乱粒子とバインダーとが混合された第１光散乱粒子塗液を塗布することと、
   前記第１光散乱粒子塗液を乾燥させることによって第１光散乱層を形成することと、
   前記第１光散乱層上に前記ＥＬ発光部の前記透明電極を積層することと、
   を含み、
   前記第１光散乱粒子塗液における前記第１光散乱粒子の粒子濃度よりも、前記第２光散乱粒子塗液における前記第２光散乱粒子の粒子濃度を低くすることで、前記光散乱層における前記透明電極に向いた第１表面において前記第１光散乱粒子の凝集体による凹凸形状を形成し、前記透光性基板に向いた第２表面において密集状態の前記第２光散乱粒子を前記第１表面の凹凸形状に比べて滑らかな面に沿って整列させる、
   ＥＬ素子の製造方法。

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