JP2003211052A - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 スロットダイコーターでの薄層塗布における
段状ムラを改善する。 【解決手段】 上流側リップランド１８ａのランド長さ
を１ｍｍ、下流側リップランド１８ｂのランド長さを５
０μｍ、前記両リップランドのオーバーバイト長さ５０
μｍとしたスロットダイ１３で、ウエブ１２上に塗布液
１４を塗布し、湿潤膜厚５μｍの薄膜塗布を実施した。
ウエブ１２にはセルローストリアセテート基材を用い、
塗布液１４には液晶性化合物のメチルエチルケトン溶液
を使用した。塗布は減圧度１７００Ｐａにて可能であ
り、形成されるビード１４ａの状態は良好であった。段
状ムラは認められなかった。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、スロットダイを用
いる塗布装置及び塗布方法に関するものであり、特に写
真感光乳化剤、磁性液、反射防止や防眩性などを付与す
る液、視野角拡大効果を付与する液、カラーフィルター
用顔料液、表面保護液等の塗布液で、湿潤膜厚が２０μ
ｍ以下の薄層をなす塗布液を、プラスチックフィルムや
紙、金属箔等の可撓性支持体（以下、ウェブと称する）
に塗布して、高機能性薄層フィルムを製造するための装
置及び方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】前記したような高機能性薄層フィルム
は、スロットダイを用いるコーターにより塗布液をウェ
ブ上に塗布させ、積層させて製造されており、近年は高
機能性フィルムの製造において所望の機能を発現させる
ために、従来よりも薄い湿潤膜厚である２０μｍ以下の
領域の塗布方法に対する要求が高まっている。このよう
な高機能性フィルムは、求められる塗布膜厚精度及び塗
膜性状が厳しく、高精度な薄層塗布技術が求められる。
塗布の実施においては、様々な外乱で、一般には段状の
ムラと呼ばれるフィルム長手方向に不均一な塗布膜厚現
象が発生し、この現象は一般に湿潤膜厚が薄い塗布ほど
顕著にあらわれやすい。

【０００３】上記段状のムラは、塗布液送液ポンプの脈
動やその他送液系が原因となることでのダイへの塗布液
供給量の不均一化、バックアップロールによるウェブの
搬送速度ムラ、バックアップロールの偏心による、前記
ウェブ進行方向側のスロット先端部とバックアップロー
ルとの間の隙間の周期的な変化などが原因となっている
ことは既に知られている。ここで、バックアップロール
の偏心は、バックアップロールの芯がでていないこと
や、バックアップロールが厳密には真円ではないことが
その発生原因のひとつである。

【０００４】段状ムラのそのほかの原因としては、ビー
ド形成における減圧状態を維持するために設置している
減圧室の、装置やウェブとの各種接触線における隙間が
周期的に変化することもあげられる。これは、各隙間の
大きさの変化により、その周辺の空気の漏れ量が変化し
て減圧度が一定せず、ビードが振動してしまい、塗膜の
段状ムラを招くものである。塗布工程におけるこれらの
問題の本質的な解決方法は、各要因を可能な限りそれぞ
れ低減することであるが、技術面及びコスト面から、す
べてを完全に解決するには至っていない。

【０００５】段状ムラの解決手段として、本出願人は、
例えば、特願２００１−３６８１１３号では、ウェブ進
行方向逆側（以下、上流側と称する）の先端リップの端
部を１００°以下の角度で屈曲させた塗布装置を用い、
ビードのウェブ進行方向とは逆側のメニスカスを、上流
側の先端リップの同方向側の端にピン（固定）させるこ
とでビードの安定化を図るという提案をしている。上記
提案の方法では、同様の外乱を製造工程のなかのいずれ
かの工程に与えたとしても、前記のようにピンさせたビ
ード形状の方がその応答、つまり塗布への影響が小さ
く、結果として段状ムラ解消に対する効果が得られる。

【０００６】一方で、減圧度に関しては、上昇させると
これが原因となり、ビードの不安定化やフィルム耳部変
形の発生が懸念されることから、可能な限り低く設定し
てビードをピンさせることが重要であるということも、
既に知られており、これまでのところ、所定の減圧度で
フィルム幅方向に耳部が広がらないように、特開２００
１−１７０５４２号公報にあるような、一般にはスペー
サーと呼ばれる幅規制板の形状を変更するという対策が
とられる場合もある。

【０００７】薄膜塗布においては、スロットダイのウェ
ブ進行方向側（以下、下流側と称する）の先端リップ
（以下、下流側リップと称する）の位置を、湿潤膜厚の
薄さに応じてウェブとの隙間が小さくなるように設定し
なければならないが、上流側の先端リップ（以下、上流
側リップと称する）に関してはこうした制約はない。従
って、ビードの上流側の圧力損失を下げるために上流側
リップとウェブの間の隙間を大きくすること、薄膜塗布
実現のために下流側リップとウェブの間の隙間をできる
だけ小さくさせるという２つの条件を満足するために、
スロットダイのオーバーバイト形状化が提案されてい
る。オーバーバイト形状とは、塗布位置にセットしたス
ロットダイにおいて、下流側リップが、断面でみたとき
ウェブ側につきでた形をいう。特表平９−５１１６８２
号公報では、ビードを上流側の下流端にピンさせること
で安定させる機能をもつ、前記オーバーバイト形状に関
する提案がなされている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
たようにビードの上流側のメニスカスをスロットダイの
上流側リップの下流端にピンさせることは、塗布の不安
定化につながり、経時でビードが破断することでスジ発
生を招きやすい問題がある。

【０００９】さらに、オーバーバイト形状に関しては、
以下のような現象があり、最適な状態が存在する。例え
ば、上流側リップと下流側リップのウェブとの隙間の差
が小さすぎると、低い減圧度でビードをピンさせること
が困難になるし、反対に大きすぎるとほんのわずかな減
圧度で上流側にピンしすぎるという問題がある。

【００１０】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、ウェブ上への連続的な薄膜塗布、特に湿潤膜厚
２０μｍ以下の薄膜を形成するための塗布装置及び塗布
方法を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の塗布装置は、バックアップロールによって
支持されて連続走行するウェブの表面に、スロットダイ
のランド部を有する先端リップを近接させて、前記先端
リップのスロットから塗布液を塗布する方法において、
下流側リップの、ウェブ走行方向におけるランド長さ
（以下これを単に、ランド長さと称する）を３０μｍ以
上１００μｍ以下とするスロットダイを使用し、前記ス
ロットダイを塗布位置にセットしたときに、上流側リッ
プとウェブとの隙間を、下流側リップとウェブとの隙間
よりも、大きくなるように設置することを特徴として構
成されている。

【００１２】前記したように、薄膜塗布のための下流側
リップの設定位置の制約と、少ない減圧度でビードをピ
ンさせるための上流リップの好ましい設定位置という２
つの因子から、オーバーバイト形状については、ピンさ
せるのに必要十分で、また過度でない減圧度を実現する
ために、上流側リップと下流側リップのウェブとの隙間
の大きさの差は３０μｍ以上１２０μｍ以下が好まし
い。

【００１３】さらに減圧チャンバーを、そのバックプレ
ートとウェブ間の隙間が、スロットダイの先端リップと
ウェブ間の隙間よりも大きくなるように設置することが
好ましい。

【００１４】本発明による塗布方法に適用する塗布系と
しては、公知の各種ウェブ上に湿潤膜厚が２０μｍ以下
の塗布膜を形成する系が特に好ましい。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明の塗布方法では、公知の各
種溶媒を用いた塗布液を使用することができる。例えば
水、各種ハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル、
エステル、ケトンなどを単独あるいは複数混合して使用
することができる。

【００１６】また、可撓性支持体としては公知の各種ウ
ェブを用いることができる。一般的にはポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、
セルロースダイアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイ
ミド、ポリアミド等の公知の各種プラスチックフィル
ム、紙、紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン
ブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフ
ィン類を塗布またはラミネートした各種積層紙、アルミ
ニウム、銅、スズ等の金属箔等、帯状基材の表面に予備
的な加工層を形成させたもの、あるいはこれらを積層し
た各種複合材料が含まれる。さらに前記のウェブには、
光学補償シート塗布液、反射防止フィルム塗布液、磁性
塗布液、写真感光性塗布液、表面保護、帯電防止あるい
は滑性用塗布液等がその表面に塗布され、乾燥された
後、所望する長さ及び幅に裁断される場合も含まれ、こ
の代表例としては、光学補償シート、反射防止フィルム
等が挙げられるが、これらに限定されない。

【００１７】また、本発明は湿潤膜厚が２５μｍ以下の
薄膜塗布を行う場合であれば有効であるが、特に２０μ
ｍ以下の精密塗布を行う系が好ましく、単層の１回塗布
のみならず、重層逐次塗布に対しても、特に各層の湿潤
膜厚が２５μｍ以下の薄膜塗布の場合に有効である。塗
布液の粘度が０．５〜１００ｍＰａ・ｓ、また表面張力
としては２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲が好ましい。塗布速
度は、概ね１００ｍ／分以下の領域で適用可能である。
また、一般には塗布するのが困難といわれる領域や湿潤
膜厚がより薄い系、塗布粘度の高い系ほど効果が大き
い。

【００１８】図１は本発明を実施したスロットダイを用
いたコーターの断面図である。コーター１０はバックア
ップロール１１に支持されて連続走行するウェブ１２に
対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４
ａにして塗布することにより、ウェブ１２上に塗膜１４
ｂを形成する。

【００１９】スロットダイ１３の内部にはポケット１
５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、
その断面が曲線及び直線で構成されており、例えば図１
に示すような略円形でもよいし、あるいは半円形でもよ
い。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその
断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、そ
の有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするの
が一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給
は、スロットダイ１３の側面から、あるいはスロット開
口部１６ａとは反対側の面中央から行う。また、ポケッ
ト１５には塗布液１４が漏れ出ることを防止する栓が設
けられている。

【００２０】スロット１６は、ポケット１５からウェブ
１２への塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様
にスロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウ
ェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない
幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さ
の幅になるように調整する。このスロット１６のスロッ
ト先端における、バックアップロール１１のウェブ走行
方向の接線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ま
しい。

【００２１】スロット１６の開口部１６ａが位置するス
ロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成され
ており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１８とされ
ている。このランド１８であって、スロット１６に対し
てウェブ１２の進行方向の上流側を上流側リップランド
１８ａ、下流側を下流側リップランド１８ｂと称する。

【００２２】図２は、スロットダイ１３の断面形状を従
来のものと比較して示すもので、（Ａ）は本発明のスロ
ットダイ１３を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０
を示している。従来のスロットダイ３０では、上流側リ
ップランド３１ａと下流側リップランド３１ｂのウェブ
との距離は等しい。なお、符号３２はポケット、３３は
スロットを示している。これに対して、本発明のスロッ
トダイ１３では、下流側リップランド長さＩ_LOが短くさ
れており、これによって、湿潤膜厚が２０μｍ以下の塗
布を精度良くおこなうことができる。

【００２３】上流側リップランド１８ａのランド長さＩ
_UPは特に限定はされないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲
で好ましく用いられる。下流側リップランド１８ｂのラ
ンド長さＩ_LOは３０μｍ以上１００μｍ以下であり、好
ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下、さらに好ましくは
３０μｍ以上６０μｍ以下である。下流側リップのラン
ド長さＩ_LOが３０μｍよりも短い場合は、先端リップの
エッジあるいはランドが欠けやすく、塗膜にスジが発生
しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、
下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流
側で広がりやすくなるという問題も発生する。この下流
側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味
し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題に
つながることが従来より知られている。一方、下流側リ
ップのランド長さＩ_LOが１００μｍよりも長い場合は、
ビードそのものを形成することができないために、薄層
塗布を行うことは不可能である。

【００２４】さらに、下流側リップランド１８ｂは、上
流側リップランド１８ａよりもウェブ１２に近接したオ
ーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げること
ができて薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下
流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａの
ウェブ１２との距離の差（以下、オーバーバイト長さＬ
Ｏと称する）は３０μｍ以上１２０μｍ以下が好まし
く、さらに好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下、も
っとも好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下である。ス
ロットダイ１３がオーバーバイト形状のとき、先端リッ
プ１７とウェブ１２の隙間Ｇ_L とは、下流側リップラン
ド１８ｂとウェブ１２の隙間を示す。

【００２５】図３は、本発明を実施した塗布工程のスロ
ットダイ及びその周辺を示す斜視図である。ウェブ１２
の進行方向側とは反対側に、ビード１４ａに対して十分
な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャン
バー４０を設置する。減圧チャンバー４０は、その作動
効率を保持するためのバックプレート４０ａとサイドプ
レート４０ｂを備えており、バックプレート４０ａとウ
ェブ１２の間、サイドプレート４０ｂとウェブ１２の間
にはそれぞれ隙間Ｇ_B 、Ｇ_S が存在する。図４及び図５
は、近接している減圧チャンバー４０とウェブ１２を示
す断面図である。サイドプレートとバックプレートは図
４のようにチャンバー本体と一体のものであってもよい
し、図５のように適宜隙間を変えられるようにチャンバ
ーにネジ４０ｃなどで留められている構造でもよい。い
かなる構造でも、バックプレート４０ａとウェブ１２の
間、サイドプレート４０ｂとウェブ１２の間に実際にあ
いている部分を、それぞれ隙間Ｇ_B 、Ｇ_S と定義する。
減圧チャンバー４０のバックプレート４０ａとウェブ１
２との隙間Ｇ_B とは、減圧チャンバー４０を図３のよう
にウェブ１２及びスロットダイ１３の下方に設置した場
合、バックプレート４０ａの最上端からウェブ１２まで
の隙間を示す。

【００２６】バックプレート４０ａとウェブ１２との隙
間Ｇ_B をスロットダイ１３の先端リップ１７とウェブ１
２との隙間Ｇ_L よりも大きくして設置するのが好まし
く、これによりバックアップロール１１の偏心に起因す
るビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。例
えば、スロットダイ１３の先端リップ１７とウェブ１２
との隙間Ｇ_L が３０μｍ以上１００μｍ以下のとき、バ
ックプレート４０ａとウェブ１２の間の隙間Ｇ_B は１０
０μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。

【００２７】

【実施例】〔実施例１〕既存の光学補償シート製造工程
に、本発明の塗布装置及び塗布方法を組み入れ実施し
た。光学補償シート製造工程では、ウェブは送出機によ
り送られ、ガイドロールによって支持されながらラビン
グ処理ロールを経るが、この後、本発明の塗布工程を組
み入れる。その後、乾燥ゾーン、加熱ゾーン、紫外線ラ
ンプを通過し、巻き取り機によって巻き取るのが基本工
程である。

【００２８】スロットダイ１３は、上流側リップランド
長Ｉ_UPが１ｍｍ、下流側リップランド長Ｉ_LOが５０μｍ
で，スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長
さが１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのもの
を使用した。上流側リップランド１８ａとウェブ１２の
隙間を、下流側リップランド１８ｂとウェブ１２の隙間
よりも５０μｍ長くし（以下、オーバーバイト長さ５０
μｍと称する）、下流側リップランド１８ｂとウェブ１
２との隙間Ｇ_L を５０μｍに設定した。また、減圧チャ
ンバー４０のサイドプレート４０ｂとウェブ１２との隙
間Ｇ_S 、及びバックプレート４０ａとウェブ１２との隙
間Ｇ_B はともに１００μｍとした。

【００２９】ウェブ１２には、厚み１００μｍのセルロ
ーストリアセテート基材（商品名；フジタック、富士写
真フイルム（株）製）を用い、塗布液を塗布する前に長
鎖アルキル変性ポバール（商品名；ＭＰ−２０３、クラ
レ（株）製）の２重量％溶液を２５ｍｌ／ｍ² で塗布
し、６０℃で１分間乾燥して配向膜用樹脂層を形成し
た。配向膜用樹脂層をあらかじめ形成したウェブ１２を
送り、配向膜用樹脂層の表面にラビング処理を施して配
向膜を形成し、そのまま塗布工程へ搬送して塗布を実施
した。なお、ラビング処理におけるラビングローラの回
転周速を５．０ｍ／秒とし、ウェブ１２に対する押しつ
け圧力を９．８×１０^-3Ｐａに設定した。

【００３０】塗布液１４には、ディスコティック化合物
ＴＥ−（１）とＴＥ−（２）の重量比率４：１の混合物
に、光重合開始剤（商品名；イルガキュア９０７、日本
チバガイギー（株）製）を１重量％添加した４０重量％
メチルエチルケトン溶液である、液晶性化合物を含む溶
液を用い、湿潤膜厚５μｍとなるように、５０ｍ／分で
搬送させたウェブ１２に対して塗布した。塗布液１４を
塗布したウェブ１２を、１００℃に設定した乾燥ゾー
ン、及び１３０℃に設定した加熱ゾーンを通過させ、そ
の表面の液晶層に紫外線ランプ（１６０Ｗ空冷メタルハ
ライドランプ、アイグラフィックス（株）製）を用いて
紫外線を照射した。巻き取ったあと塗膜１４ｂの段状ム
ラを目視検査した。この結果、本実施例１では、塗布は
可能であり、このとき、ビード１４ａが上流側上端部に
ピンするのに必要な減圧度は１７００Ｐａであった。塗
布幅については、所定幅どおりに塗布することができ
た。乾燥したあと塗膜１４ｂの段状ムラを目視検査した
ところ、段状ムラは認められず、塗膜状態は良好であっ
た。

【００３１】

【化１】

【００３２】〔実施例２〕オーバーバイト長さＬＯを１
００μｍとしたほかは、実施例１と同様に実施した。塗
布は可能であり、このときの減圧度は１７００Ｐａであ
った。塗布幅については、所定幅どおりに塗布すること
ができた。段状ムラは認められず、塗膜状態は良好であ
った。

【００３３】〔実施例３〕減圧チャンバー４０のバック
プレート４０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_B を３００μｍ
とした他は実施例１と同様に実施した。塗布は、減圧度
が１７００Ｐａで可能であり、所定幅どおりに塗布する
ことができた。段状ムラは認められず、塗膜状態は非常
に良好であった。

【００３４】〔比較例１〕オーバーバイト長さＬＯを０
μｍとしたほかは実施例１と同様に実施した。塗布は、
減圧度２５００Ｐａで可能であったが、塗布幅に関して
は、耳部が広がり、所定幅を超えた。また段状ムラが認
められた。

【００３５】〔比較例２〕オーバーバイト長さＬＯを２
００μｍとした以外は、実施例１と同様に実施した。塗
布は、減圧度１５００Ｐａで短時間可能で、塗布幅も所
定幅どおりであったが、１分程経過後にビード１４ａが
切断して不可能になった。

【００３６】〔比較例３〕下流側リップランド長Ｉ_LOを
２００μｍにしたほかは、実施例１と同様に実施した。
ビード１４ａは形成できず、塗布不可能であった。

【００３７】〔比較例４〕減圧チャンバー４０のバック
プレート４０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_B を５０μｍと
したほかは実施例１と同様に実施した。塗布は、減圧度
が１７００Ｐａで可能であったが、段状のムラが認めら
れた。

【００３８】以上実施例１、２及び比較例１〜３の結果
より、２０μｍ以下の薄膜塗布には、下流側リップラン
ド長Ｉ_LOは３０μｍ以上１００μｍ以下であることが重
要で、また、スロットダイ１３のオーバーバイト長さＬ
Ｏは大きいほど上流側上端部にピンしやすく、安定した
ビード１４ａを形成してきわめて微妙な段状ムラを抑制
するには３０μｍ以上１００μｍ以下が好ましいことが
わかる。また実施例１、３及び比較例４の結果より、減
圧チャンバー４０のバックプレート４０ａとウェブ１２
の隙間Ｇ_B の大きさを変化させることにより、段状ムラ
を抑制する効果がさらに大きくなることがわかる。

【００３９】〔実施例４〕ウェブ１２として、膜厚８０
μｍのセルローストリアセテート（商品名；フジタッ
ク、富士写真フイルム（株）製）を使用し、塗布液を塗
布する前に、ウェブ１２の表面に、紫外線硬化性ハード
コート組成物（商品名；デソライトＺ−７５２６、７２
重量％、ＪＳＲ（株）製）２５０ｇをメチルエチルケト
ン６２ｇ及びシクロヘキサン８８ｇの混合溶媒に溶解し
た液を８．６ｍｌ／ｍ² で塗布した。これを１２０℃で
５分間乾燥させ、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライド
ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線
を照射することにより前記紫外線硬化性組成物を硬化さ
せ、ウェブ１２の表面に厚さ２５μｍのハードコート層
を形成した。

【００４０】塗布液１４として、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
９１ｇと酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布
液（デソライトＺ−７４０１、ＪＳＲ（株）製）２１８
ｇを、メチルエチルケトンとシクロヘキサンの重量比率
が４：６である混合溶液５２ｇに溶解し、この溶液に光
重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー
（株）製）１０ｇを加えたものを使用して、走行速度３
０ｍ／分で走行させるハードコート層を形成したウェブ
１２の上に４．２ｍｌ／ｍ² で塗布した。下流側リップ
ランド１８ｂとウェブ１２との隙間Ｇ_L を４０μｍ、オ
ーバーバイト長さＬＯを７５μｍとし、上流側リップラ
ンド長さＩ _UP、下流側リップランド長さＩ_LO、減圧チャ
ンバー４０のバックプレート４０ａとウェブ１２間の隙
間Ｇ_B 及びサイドプレート４０ｂとウェブ１２間の隙間
Ｇ_Sについては実施例１と同様に実施した。塗布は、減
圧度が１７００Ｐａで可能であり，塗布広がりもなく、
塗膜面は段状ムラがほとんど認められず良好であった。

【００４１】〔実施例５〕減圧チャンバー４０のバック
プレート４０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_B を３００μｍ
にしたほかは、実施例４と同様に実施した。塗布は、減
圧度が１７００Ｐａで可能であり、塗布広がりもなかっ
た。塗膜面は段状ムラが全く認められず、非常に良好で
あった。

【００４２】〔比較例５〕オーバーバイト長さＬＯを０
μｍとしたほかは、実施例４と同様に実施した。塗布は
可能であったが、２５００Ｐａまで減圧をしなければ安
定して行うことができず、段状ムラが認められた。

【００４３】〔比較例６〕減圧チャンバー４０のバック
プレート４０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_B を４０μｍと
したほかは実施例４と同様に実施した。塗布は、減圧度
が１７００Ｐａで可能であったが、段状のムラが認めら
れた。

【００４４】以上実施例４、５及び比較例５、６の結果
から、他の塗布系に対してもスロットダイ１３のオーバ
ーバイト長さＬＯは、３０μｍ以上１００μｍ以下が好
ましく、さらに、減圧チャンバー４０のバックプレート
４０ａとウェブ１２の隙間Ｇ _B の設定により、段状ムラ
を抑制する効果がさらに大きくなることがわかる。

【００４５】

【発明の効果】以上のように、本発明の塗布装置及び塗
布方法により、様々な塗布系で良好なビードを形成する
ことが可能になり、塗膜に段状ムラが発生することな
く、精密薄膜塗布を連続的に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を実施したスロットダイコーターの断面
図である。

【図２】（Ａ）は本発明を実施したスロットダイの断面
図であり、（ｂ）は従来のスロットダイの断面図であ
る。

【図３】本発明を実施したスロットダイ及び周辺装置の
斜視図である。

【図４】本発明を実施した塗布装置のウェブ及び減圧チ
ャンバーの断面図である。

【図５】本発明の別の実施形態である塗布装置のウェブ
及び減圧チャンバーの断面図である。

【符号の説明】

１２ ウェブ １３ スロットダイ １７ 先端リップ １８ａ 上流側リップランド １８ｂ 下流側リップランド ４０ 減圧チャンバー ４０ａ バックプレート Ｉ_UP 上流側リップランド長さ Ｉ_LO 下流側リップランド長さ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D075 AC02 AC72 AC80 AC92 AC93 BB92Y CA02 CA09 CA22 CA24 CB02 DA03 DA04 DB01 DB06 DB07 DB18 DB31 DB33 DB34 DB36 DB38 DB40 DB48 DB53 DB63 DC24 DC27 DC28 EA07 EA19 EA21 EA45 4F041 AA02 AB02 BA12 CA02 CA03 CA13 CA22 CA25

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 バックアップロールによって支持されて
   連続走行するウェブの表面に、スロットダイの先端リッ
   プのランドを近接させて、前記先端リップのスロットか
   ら塗布液を塗布する方法において、前記ウェブの進行方
   向側の先端リップのウェブ走行方向におけるランド長さ
   を３０μｍ以上１００μｍ以下とするスロットダイを使
   用し、前記スロットダイを塗布位置にセットしたとき
   に、前記ウェブの進行方向とは逆側の先端リップとウェ
   ブとの隙間を、前記ウェブ進行方向側の先端リップとウ
   ェブとの隙間よりも、大きくなるように設置することを
   特徴とする塗布装置。
2. 【請求項２】 前記スロットダイのウェブ進行方向側の
   先端リップとウェブの間の距離と、前記スロットダイの
   進行方向とは逆側の先端リップとウェブの間の距離にお
   いて、その差を３０μｍ以上１２０μｍ以下とする請求
   項１記載の塗布装置。
3. 【請求項３】 バックプレートをもつ減圧チャンバーを
   スロットダイからウェブに塗布液を吐出して形成される
   ビード付近に設置したとき、減圧チャンバーの前記バッ
   クプレートとウェブとの隙間の長さが、スロットダイの
   先端リップとウェブとの隙間の長さよりも長くなるよう
   に設置することを特徴とする請求項１または２記載の塗
   布装置を用いる塗布方法。
4. 【請求項４】 前記ウェブ上に塗布する塗膜の湿潤膜厚
   が２０μｍ以下となるように塗布することを特徴とす
   る、請求項１または２記載の塗布装置を用いて塗布する
   方法、あるいは請求項３記載の塗布方法。