JP2003033702A

JP2003033702A - 塗布方法及び塗布装置

Info

Publication number: JP2003033702A
Application number: JP2001225441A
Authority: JP
Inventors: Seiji Ishizuka; 誠治石塚; Tomonari Ogawa; 朋成小川; Hidetomo Ito; 秀知伊藤; Toshio Shibata; 敏夫柴田
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-07-26
Filing date: 2001-07-26
Publication date: 2003-02-04

Abstract

(57)【要約】【課題】塗布液の物性や塗布液の溶媒の種類を変更す
ることなく、高速で塗布液をウェブに塗布する。【解決手段】バックアップ１６上を回転するワイヤー
バー１１と接触しながら走行しているウェブ２７に塗布
液１３を塗布する。塗布ヘッド１２には、ウェブ２７の
上流側である１次側マニホールド２３にスロット２５を
介して液溜め２６を堰２８により設ける。液溜め２６の
長さＬ１（ｍｍ）が、１０≦Ｌ１≦５０であることが、
塗布液１３の渦の発生が抑制され、高速塗布が可能にな
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、塗布方法及び塗布
装置に係り、特に、回転するバーと接触しながら走行し
ている支持体の接触部の直前に液溜まりが形成されるよ
うに塗布液を供給し、前記バーにより前記支持体に塗布
液を塗布するバー塗布方式により可撓性状支持体（以
下、ウェブと称する）に塗布するバーの塗布方法及び装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置において視野角特性を改善
するために、一対の偏光板と液晶セルとの間に位相差板
として光学補償シートを設けている。長尺状の光学補償
シートの製造法は特開平９−７３０８１号公報に開示さ
れており、長尺状の透明フイルムの表面に配向膜形成用
樹脂を含む塗布液が塗布された後に乾燥されてラビング
処理で配向する工程、液晶性ディスコティック化合物を
含む塗布液をその上にワイヤーバーにより塗布する工程
等が開示されている。

【０００３】従来のワイヤーバー型塗布装置６０は、図
６に示すように、ワイヤーバー６１が設けられた塗布ヘ
ッド６２とオーバーフローした塗布液６３を回収する液
受け６４とを備えている。塗布ヘッド６２には、塗布液
６３が供給される１次側及び２次側マニホールド６５，
６６が設けられている。また、液受け６４には排出口６
７が取り付けられ、塗布液６３が排出される。この塗布
液６３は、循環再生装置（図示しない）に送られ、粘度
の調整などが行われた後に、再び塗布液６３として塗布
装置６０に供給される。塗布装置６０は、走行するウェ
ブ６８にワイヤーバー６１を直接または塗布液６３を介
して接触することにより、塗布液６３をその表面に塗布
する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、ワイヤーバー
型塗布装置は、塗布速度を上げると、１次側液溜め６９
（図６参照）に規則的な渦が発生し、ウェブに塗布され
た塗布液に塗布スジが発生するという問題がある。

【０００５】本発明は、塗布液の物性や塗布液の溶媒の
種類を変更することなく、高速で塗布液をウェブに塗布
することができるバーによる塗布方法及び装置を提供す
ることを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の塗布方法は、回
転するバーと接触しながら走行している支持体の接触部
の直前に液溜まりが形成されるように塗布液を供給し、
前記バーにより前記支持体に塗布液を塗布する塗布方法
において、前記接触部に対して前記支持体送り方向の上
流側に堰を設けて、前記接触部と前記堰との間に前記液
溜まりを構成し、前記堰から前記塗布液の一部を前記支
持体の幅方向に渡って均一にオーバーフローさせたか
ら、前記液溜まりに塗布液の渦が発生することなく高速
塗布が可能である。

【０００７】前記液溜まりにおける前記支持体走行方向
における長さＬ１（ｍｍ）を１０≦Ｌ１≦５０とするこ
とが好まく、より好ましくは２５≦Ｌ１≦３５である。
また、前記堰と前記支持体との隙間Ｌ２（ｍｍ）を０．
２≦Ｌ２≦４．０とすることが好まく、より好ましくは
０．５≦Ｌ２≦４．０である。さらに、前記塗布液の塗
布量Ｑ１に対する送液量Ｑ２の比（Ｑ２／Ｑ１）を、１
０＜（Ｑ２／Ｑ１）＜５０とするが好ましい。

【０００８】また、本発明には、回転するバーと接触し
ながら走行している支持体の接触部の直前に液溜まりが
形成されるように塗布液を供給し、前記バーにより前記
支持体に塗布液を塗布する塗布方法において、前記液溜
まりにおける前記支持体走行方向における長さＬ１（ｍ
ｍ）を１０≦Ｌ１≦５０とする塗布方法も含まれる。こ
の場合において、前記塗布液の塗布量Ｑ１に対する送液
量Ｑ２の比（Ｑ２／Ｑ１）を、１０＜（Ｑ２／Ｑ１）＜
５０とすることが好ましい。

【０００９】さらに、本発明には、回転するバーと接触
しながら走行している支持体の接触部の直前に液溜まり
が形成されるように塗布液を供給し、前記バーにより前
記支持体に塗布液を塗布する塗布方法において、前記塗
布液の塗布量Ｑ１に対する送液量Ｑ２の比（Ｑ２／Ｑ
１）を、１０＜（Ｑ２／Ｑ１）＜５０とする塗布方法も
含まれる。

【００１０】前記塗布液が液晶性化合物を成分として含
み、前記塗布液から形成される塗布膜が、光学補償シー
トの液晶層であることが好ましい。

【００１１】本発明の塗布装置は、回転するバーと、こ
の回転するバーに塗布液を供給する液溜まりと、前記回
転するバーに塗布液を介して接触するように支持体を送
る支持体搬送手段と、前記塗布液を循環させる塗布液循
環手段とを備えた塗布装置において、前記液溜まりを構
成するために、前記バーに対して前記支持体送り方向の
上流側に設けられ、前記塗布液の一部を前記支持体の幅
方向に渡って均一にオーバーフローさせるための堰を備
えているから、前記液溜まりに塗布液の渦が発生するこ
となく高速塗布が可能である。

【００１２】前記バーと前記堰との間の液溜まりにおけ
る前記支持体走行方向における長さＬ１（ｍｍ）が、１
０≦Ｌ１≦５０となるように、前記堰を設けることが好
ましく、より好ましくは２５≦Ｌ１≦３５である。ま
た、前記堰と前記支持体との隙間Ｌ２（ｍｍ）を０．２
≦Ｌ２≦４．０として前記堰の高さを設定することが好
ましく、より好ましくは０．５≦Ｌ２≦４．０である。
さらに、前記塗布液の塗布量Ｑ１に対する送液量Ｑ２の
比（Ｑ２／Ｑ１）を、１０＜（Ｑ２／Ｑ１）＜５０とす
ることが好ましい。さらには、前記塗布液が液晶性化合
物を成分として含み、前記塗布液から形成される塗布膜
が、光学補償シートの液晶層であることが好ましい。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図面により本発明に係る塗
布方法及び装置の好ましい実施形態について詳説する。
図１は、本発明に係る塗布装置の要部断面図を示し、図
２には本発明に係る塗布装置の概略図を示す。また、図
３及び図４には、本発明に係る他の実施形態の塗布装置
の要部断面図を示す。

【００１４】図１に示すように本発明のワイヤーバー塗
布装置（以下、塗布装置と称する）１０は、ワイヤーバ
ー１１が設けられた塗布ヘッド１２とオーバーフローし
た塗布液１３を回収する液受け１４，１５とを備えてい
る。ワイヤーバー１１は、両端がベアリング（図示しな
い）で支持され、そのベアリングの間にある部分はバッ
クアップ１６で支持されている。また、液受け１４，１
５には、オーバーフローした塗布液１３を排出する排出
口１７，１８がそれぞれ取り付けられている。

【００１５】回収された塗布液１３は、図２に示すよう
に粘度調整室１９で、塗布液や必要によっては溶媒を加
えることにより粘度等が調整される。さらに、ポンプ２
０でフィルタ２１に送液され、ろ過される。また、フィ
ルタ２１の上流側には、密度計２２が設けられており、
密度計２２で測定された塗布液の密度に基づいて、粘度
調整室１９で粘度の調整が行われる。ろ過された塗布液
は、再度塗布液１３として塗布装置１０に供給される。
塗布液１３は、塗布装置１０に設けられた１次側（上流
側）マニホールド２３と２次側（下流側）マニホールド
２４に供給される。

【００１６】１次側マニホールド２３内に一定流量で供
給された塗布液１３は、狭隘なスロット２５を介して液
溜め２６にウェブ２７の幅方向に均一に押し出される。
堰２８が取り付けられることで、ワイヤーバー１１と堰
２８との間に液溜め２６に塗布液１３が溜まることがで
きる。本発明において、液溜め２６のサイズは、ウェブ
２７の走行方向において、ワイヤーバー１１がウェブ２
７に接触する位置と堰２８との間隔Ｌ１（ｍｍ）が、１
０≦Ｌ１≦５０であることが好ましい。１０ｍｍより短
い場合には渦流を完全に消去することができず、５０ｍ
ｍより長い場合には、ウェブ２７と塗布液１３の接触時
間が長くなることによって、塗布液１３中の溶媒によっ
てウェブ２７が膨潤して変形したり、ウェブ中の成分の
塗布液中へ抽出したりするなどの弊害が生ずる。

【００１７】液溜め２６内の塗布液１３は、ワイヤーバ
ー１１によってウェブ２７に塗布される。また、過剰な
塗布液１３は、ウェブ２７と堰２８の隙間であるオーバ
ーフロー部３０よりオーバーフローして流れ、液受け１
４を通って排出口１７から排出され、図２に示した装置
により再生される。なお、本発明において、ウェブ２７
と堰２４の隙間Ｌ２（ｍｍ）は、０．２≦Ｌ２≦４．０
であることが好ましい。０．２ｍｍより狭いとウェブと
接触し、ウェブが損傷してしまう。一方、４．０ｍｍよ
り広いと必要とする液溜まりを均一に形成することが難
しくなる。

【００１８】２次側マニホールド２４には、回転してい
るワイヤーバー１１とバックアップ１６との間に空気を
巻き込まないように，狭隘なスロット２９を介して塗布
液１３を供給する。塗布液１３の一部は、オーバーフロ
ーして液受け１５に流れ、排出口１８を通り、図２に示
した装置により再生される。なお、本発明において、塗
布液１３のマニホールド２３，２４への供給は、中央か
らの給液でも、サイドからの給液など公知のいずれの供
給装置を用いることができる。

【００１９】塗布液１３の送液量Ｑ２は、ウェブ２７に
塗布される量Ｑ１に対して、１０＜（Ｑ２／Ｑ１）＜５
０であることが、堰２４から塗布液１３の一部を均一に
オーバーフローさせることができるため好ましく、より
好ましくは１２＜（Ｑ２／Ｑ１）＜４０である。（Ｑ２
／Ｑ１）が１０以下ではウェブ２７の幅方向において、
均一にオーバーフローが十分出来ず渦流を解消できない
ため、塗布スジの発生が抑えられない。また、５０倍以
上では塗布装置１０からのオーバーフロー量が多すぎて
装置を汚し、製品に悪影響を与える等の弊害を生ずる。
また、ウェブ２７のツレシワ等による変形の影響を受
け、幅方向のオーバーフローが不均一になる場合があ
る。この場合には、堰２８上のオーバーフロー部３０に
接しているウェブ２７の裏面にバックアップロール３１
を設けることで、塗布液１３をウェブ２７の幅方向に均
一にオーバーフローさせることができる。なお、ツレシ
ワとは、ウェブの長手方向に張力をかけるとウェブが幅
方向に座屈し、シワになる。通常は搬送中にはシワに見
えるが、塑性変形までには至っていない現象を意味して
いる。

【００２０】次に、図１及び図２に示した塗布装置の作
用を説明する。従来の塗布装置６０（図６参照）は、回
転するワイヤーバー６１と接触しながら走行しているウ
ェブ６８の接触部の直前に液溜め６９が強制的に形成さ
れるように塗布液６３を供給し、供給された塗布液６３
の一部がワイヤーバー６１とウェブ６８との隙間を通過
して塗布していた。しかしながら、塗布速度を上げてい
くと液溜め６９での液流動が活発になり渦流を生ずる。
この渦流を解消する方法として本発明の塗布装置１０
（図１参照）のように、液溜め２６を強制的に大きくす
ることによって、渦流を乱すことができる。しかし、こ
れだけでは渦流を完全に解消することができない。そこ
で、完全に解消するために、堰２８を乗り越えて塗布液
１３の一部をオーバーフローさせることによって渦流を
解消できると共に、塗布スジの発生を抑えることができ
る。

【００２１】［ウェブ］本発明で使用されるウェブとし
ては、一般に幅０．３〜５ｍ、長さ４５〜１００００
ｍ、厚さ５〜２００μｍのポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−２，６ナフタレート、セルロースダ
イアセテート、セルローストリアセテート、セルロース
アセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミ
ド等のプラスチックフイルムなどが挙げられる。また、
紙および紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン
ブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフ
ィン類を塗布又はラミネートしたものも挙げられる。さ
らに、アルミニウム、銅、錫等の金属箔等も挙げられ
る。そして、これらウェブの表面には、予備的な加工層
を形成させたものを用いても良い。さらに、ウェブに
は、光学補償シート塗布液、反射防止フイルム塗布液、
磁性塗布液、写真感光性塗布液、表面保護、帯電防止あ
るいは滑性用塗布液等がその表面に塗布され、乾燥され
た後、所望する長さ及び幅に裁断されるものも含まれ
る。これらの代表例としては、光学補償シート、反射防
止フイルム、各種写真フイルム、印画紙、磁気テープ等
が挙げられる。

【００２２】［塗布液］本発明に用いることができる塗
布液は、ウェブ上に塗布膜を形成するためのものであれ
ば、公知のいずれの塗布液を用いることができる。しか
しながら、本発明においては、液晶を含有している溶液
を塗布液に用いることが好ましい。より好ましくは、光
学補償シートを製造するために用いられるディスコネマ
ティック相である液晶を用いることである。この液晶か
ら形成された層は、配向膜上に形成される。本発明の液
晶層は、液晶性ディスコティック（円盤状）化合物を配
向後冷却固化させる、あるいは重合性の液晶性ディスコ
ティック化合物の重合（硬化）により得られる負の複屈
折を有する層である。

【００２３】前述したディスコティック化合物の例とし
ては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃ
ｒｙｓｔ．、７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載さ
れているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研
究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．、１２２巻、１４１頁
（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ．、Ａ，７８
巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘
導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈ
ｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシク
ロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、
Ｊ．Ｃｈｅｍ．、Ｃｏｍｍｕｎ．、１７９４頁（１９８
５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｓｏｃ．、１１６巻、２６５５頁（１９９４年）
に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン
系マクロサイクルなどを挙げることができる。

【００２４】ディスコティック化合物は、一般的にこれ
らを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキ
シ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射
線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的に
ディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただ
し、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与で
きるものであれば上記記載に限定されるものではない。
また、本発明において、円盤状化合物から形成したと
は、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、
例えば、前記低分子ディスコティツク液晶が熱、光等で
反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応によ
り重合または架橋し、高分子化合物になるのもであって
も良い。

【００２５】なお、本発明に係る塗布装置を図１に示し
が、本発明は図示した形態に限定されない。本発明の塗
布装置を構成する塗布ヘッドの他の実施形態の具体例を
図３及び図４に示して説明する。

【００２６】図３の塗布ヘッド４０は、１次側マニホー
ルド４１にスロット４２を介して設けられた堰４３の側
断面が、図１に示した塗布ヘッド１２と異なり、略長方
形でないものを示した。この場合においても、液溜め４
４の長さＬ１（ｍｍ）が、１０≦Ｌ１≦５０であれば、
図１に示した塗布装置１０と同様の効果が得られる。

【００２７】図４に示す塗布ヘッド４６には、１次側マ
ニホールドを設けずに、液溜め４７に直接に塗布液（図
示しない）を供給する。また、液溜め４７は、連通管４
８を介して２次側マニホールド４９と接続されること
で、塗布液供給装置（図示しない）を１つ用いること
で、塗布ヘッド４６に塗布液を供給できる。この場合に
おいても、液溜め４７の長さＬ１（ｍｍ）が、１０≦Ｌ
１≦５０であれば、図１に示した塗布装置１０と同様の
効果が得られる。

【００２８】図５は、本発明の塗布装置１０を用いて構
成された光学補償シートの製造ラインを示す。送り出し
機５０からは、あらかじめ配向膜形成用のポリマー層が
形成されたウェブ２７が送り出される。ウェブ２７は、
ロール５１によって支持されながらラビング処理装置５
２に送り込まれ、ラビングロール５３によってポリマー
層がラビング処理される。次に、除塵機５４により、ウ
ェブ２７の表面に付着した塵が取り除かれる。そして、
本発明の塗布装置１０によりディスコネマティック液晶
を含む塗布液が塗布された後に、乾燥ゾーン５５、加熱
ゾーン５６を通り液晶層が形成される。さらに、紫外線
ランプ５７をウェブ２７の表面に形成された液晶層に照
射して、液晶を架橋させることで所望のポリマーを形成
する。ポリマーが形成されたウェブ２７は、巻き取り機
５８により巻き取られる。なお、本発明に係る塗布装置
及び塗布方法は、図４に示した製造ライン以外にも適用
可能である。

【００２９】

【実施例】以下に実施例を挙げるが、本発明はこれらに
限定される訳ではない。実施例として、液溜めの長さを
変更した実験１（実施例１〜３）、１次側マニホールド
への塗布液の送液量を変更し実験２（実施例４〜７）を
行った。また、従来の塗布装置を用いて比較例として実
験３（比較例１〜５）を行った。さらに、ウェブと堰の
隙間を変更した実験４（実施例８〜１３）も行った。な
お、実験条件は、実施例１で詳細に説明し、その他の実
施例および比較例では、同じ条件については省略した。

【００３０】［実験１］（実施例１）ウェブ２７には、厚さ１００μｍのトリア
セチルセルロース（フジタック、富士写真フイルム
（株）製）を使用し、あらかじめ、その表面に長鎖アル
キル変性ポバール（ＭＰ−２０３、クラレ（株）製）の
２重量パーセント溶液をフイルム１ｍ²当たり２５ｍｌ
塗布した後に、６０℃で１分間乾燥させて配向膜用樹脂
層を形成した。

【００３１】図５に示した製造ラインを用いて、ウェブ
２７を５０ｍ／分で搬送しながら、樹脂層表面にラビン
グ処理を行って配向膜を形成した。ラビング処理におけ
るラビングロール５３の押しつけ圧力は、配向膜樹脂層
の１ｃｍ²当たり１０ｋｇｆ／ｃｍ²とすると共に、回
転周速を５．０ｍ／ｓｅｃとした。

【００３２】そして、配向膜用樹脂層をラビング処理し
て得られた配向膜上に、図１に示した本発明に係る塗布
装置１０を使用して塗布液１３を塗布した。塗布液１３
には、下記に示すディスコティック化合物ＴＥ−８のＲ
（１）とＴＥ−８のＲ（２）の重量比で４：１の混合物
に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイ
ギー（株）製）を前記混合物に対して１重量パーセント
添加した混合物の４０重量％メチルエチルケトン溶液と
する液晶性化合物を含む塗布液を使用した。ウェブ２７
を走行速度２４ｍ／分で走行させながら、この塗布液１
３を塗布ヘッド１２から幅６８０ｍｍの配向膜上に、塗
布液量がウェブ２７について１ｍ²当たり５ｍｌになる
ように塗布した。すなわち、塗布量は、０．０８１６Ｌ
／分（Ｑ１）とした。送液量は１次側マニホールド２３
には１分間当たり２．０Ｌを送り、２次側マニホールド
２４には１分間当たり０．５Ｌ送った。この際の液溜め
の長さＬ１は、３０ｍｍとした。また、塗布液１３が塗
布されたウェブ２７は、１００℃に調整された乾燥ゾー
ン５５及び、１３０℃に調整された加熱ゾーン５６を通
過させてネマチック相を形成した後に、この配向膜及び
液晶性化合物相が塗布されたウェブ２７を連続搬送しな
がら、液晶層の表面に紫外線ランプ５７により紫外線を
照射し、ポリマーを形成した。

【００３３】

【化１】

【００３４】（実施例２および実施例３）実施例２で
は、液溜めの長さＬ１を２０ｍｍとした以外は、実施例
１と同じ条件で実験した。また、実施例３では、液溜め
の長さＬ１を５０ｍｍとした以外は、実施例１と同じ条
件で実験した。

【００３５】上記各実験結果においてそれぞれ作成され
たサンプルについて、塗布スジの評価を目視で行った。
塗布スジの評価は、○は塗布スジが発生しない、△はス
ジは発生したが製品によっては使用可能である、×はス
ジが発生し、製品として使用不可能である、の３段階評
価で行った。また、ウェブの平面性も目視で確認し、○
は平面性は良好、△は平面性に若干の不良が生じている
が製品によっては使用可能、×は平面性不良で製品とし
て使用不可能の３段階評価を行った。結果については、
表１にまとめて示す。

【００３６】

【表１】

【００３７】表１より、液溜めの長さＬ１（図１参照）
は、１０〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは２５〜
３５ｍｍであることがわかる。

【００３８】［実験２］実験２では、１次側マニホール
ド２３（図１参照）への塗布液の送液量を変更した実験
を行った。

【００３９】（実施例４）実施例４では、液溜めの長さ
Ｌ１を３０ｍｍに設定して、２次側マニホールド２４へ
の塗布液１３の送液量を１分間当たり０．５Ｌに固定し
た。また、１次側マニホールド２３への塗布液１３の送
液量（Ｑ２）を、２．０Ｌ／分とした以外は、実施例１
と同じ条件で実験を行った。

【００４０】（実施例５ないし実施例７）実施例５で
は、１次側マニホールド２３への塗布液１３の送液量
は、３．０Ｌ／分とした以外は、実施例４と同じ条件で
実験を行った。また、実施例６では、１次側マニホール
ド２３への塗布液１３の送液量は、４．０Ｌ／分とした
以外は、実施例４と同じ条件で実験を行った。さらに、
実施例７では、１次側マニホールド２３への塗布液１３
の送液量は、１．０Ｌ／分とした以外は、実施例４と同
じ条件で実験を行った。

【００４１】上記各実験においてそれぞれ作成されたサ
ンプルについて、塗布スジの評価を目視で行った。塗布
スジの評価は、前述した表１と同じ３段階評価で行っ
た。また、製造ラインの汚染も目視で確認し、○は製造
ラインの汚染が抑制された、△はラインは若干汚染され
たがサンプルの製造は続行できた、×はラインが汚染さ
れ、製造の続行が不可能であった、の３段階評価を行っ
た。その結果を、まとめて表２に示す。

【００４２】

【表２】

【００４３】表２より、１次側マニホールドへの送液量
は０．４〜４．０Ｌ／分が好ましく、より好ましくは
２．０〜３．０Ｌ／分であることがわかる。また、塗布
量（０．０８１６Ｌ／分）Ｑ２に対する送液量Ｑ１の比
が、１０＜（Ｑ２／Ｑ１）＜５０が好ましく、より好ま
しくは１２＜（Ｑ２／Ｑ１）＜４０である。

【００４４】［実験３］塗布装置に図６に示した従来の
ものを用いて実験３を行った。比較例１ないし５は、そ
れぞれ塗布速度とワイヤーバーの回転速度を同速度とし
て、それぞれ１５ｍ／分、１８ｍ／分、２１ｍ／分、２
４ｍ／分、２７ｍ／分として行った。それぞれ作成され
たサンプルについて、塗布スジの評価を目視で行った。
塗布スジの評価は、前述した表１と同じ３段階評価で行
った。また、液溜めにおける渦の発生状況も目視で確認
し、○は渦の発生もなく塗布面状は良好、△は渦の発生
が見られ、塗布スジの発生も見られるが製品としては問
題とならない、×は渦の発生が見られし、塗布スジの発
生も見られ、塗布面状としては不良で製品としては使用
不可、の３段階評価を行った。その結果を、まとめて表
３に示す。

【００４５】

【表３】

【００４６】表３より、従来の塗布装置を用いて、高速
塗布を行うと液溜めでの渦発生及び塗布スジが悪化する
ことがわかる。

【００４７】［実験４］実験４では、ウェブと堰の隙間
Ｌ２（図１参照）を変更した実験を行った。

【００４８】（実施例８）実施例８では、液溜めの長さ
Ｌ１を３０ｍｍに設定して、ウェブと堰の隙間Ｌ２を
０．２ｍｍとした以外は、実施例１と同じ条件で実験を
行った。

【００４９】（実施例９ないし実施例１３）実施例９で
は、ウェブと堰の隙間Ｌ２を０．５ｍｍとした以外は、
実施例８と同じ条件で実験を行った。また、実施例１０
では、ウェブと堰の隙間Ｌ２を１ｍｍとした以外は、実
施例８と同じ条件で実験を行った。さらに、実施例１１
ないし１３では、ウェブと堰の隙間Ｌ２を２ｍｍ、３ｍ
ｍ、４ｍｍとした以外は、実施例８と同じ条件でそれぞ
れ実験を行った。

【００５０】上記各実験においてそれぞれ作成されたサ
ンプルについて、塗布スジの評価を前述した表１と同じ
３段階評価で行った。また、ウェブと堰の隙間Ｌ２の間
隔を短くした場合に、ウェブが堰と接触して発生するウ
ェブ表面の掻き傷についても、目視で確認し、○はウェ
ブ表面に掻き傷は見られなかった、△はウェブ表面に若
干の掻き傷が見られるが製品によっては使用可能、×は
ウェブ表面に掻き傷が見られ製品として使用不可能、の
３段階評価を行った。その結果を、まとめて表４に示
す。

【００５１】

【表４】

【００５２】表４より、ウェブと堰の隙間Ｌ２（図１参
照）は、０．２〜４ｍｍが好ましく、より好ましくは
０．５〜３ｍｍであることがわかる。

【００５３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の塗布方法
は、回転するバーと接触しながら走行している支持体の
接触部の直前に液溜まりが形成されるように塗布液を供
給し、前記バーにより前記支持体に塗布液を塗布する塗
布方法において、前記接触部に対して前記支持体送り方
向の上流側に堰を設けて、前記接触部と前記堰との間に
前記液溜まりを構成し、前記堰から前記塗布液の一部を
前記支持体の幅方向に渡って均一にオーバーフローさせ
ることにより、高速塗布時における渦の発生が抑制され
るため、塗布スジの発生を抑制でき均一な塗布面状を得
ることができる。

【００５４】また、本発明の塗布装置は、回転するバー
と、この回転するバーに塗布液を供給する液溜まりと、
前記回転するバーに塗布液を介して接触するように支持
体を送る支持体搬送手段と、前記塗布液を循環させる塗
布液循環手段とを備えた塗布装置において、前記液溜ま
りを構成するために、前記バーに対して前記支持体送り
方向の上流側に設けられ、前記塗布液の一部を前記支持
体の幅方向に渡って均一にオーバーフローさせるための
堰を備えているから、速塗布時における渦の発生が抑制
されるため、塗布スジの発生を抑制でき均一な塗布面状
を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る塗布装置の要部断面図である。

【図２】本発明に係る塗布装置の概略図である。

【図３】本発明に係る塗布装置を構成する塗布ヘッドの
一実施形態を示した図である。

【図４】本発明に係る塗布装置を構成する塗布ヘッドの
他の実施形態を示した図である。

【図５】本発明の塗布装置を用いて構成された光学補償
シートの製造ラインを示した図である。

【図６】従来の塗布装置の要部断面図である。

【符号の説明】

１０ワイヤーバー塗布装置１１ワイヤーバー１２塗布ヘッド１３塗布液１４，１５液受け１７，１８排出口１９粘度調整室２０ポンプ２１フィルタ２２密度計２３１次側マニホールド２４２次側マニホールド２５，２９スロット２６液溜め２７ウェブ２８堰３０オーバーフロー部３１バックアップロールＬ１液溜め長さＬ２隙間

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ (72)発明者伊藤秀知神奈川県小田原市扇町２−12−１富士写真フイルム株式会社内 (72)発明者柴田敏夫神奈川県南足柄市中沼210番地富士写真フイルム株式会社内Ｆターム(参考） 2H088 EA47 FA18 FA30 HA16 MA20 4D075 AB04 AB12 AB32 AB41 AB52 AB54 AB56 AC22 AC53 AC54 AC72 AC80 AC84 AC92 AC93 AC94 CA48 DA04 DB06 DB07 DB18 DB33 DB38 DB48 DB53 DC24 EA07 EB19 EC07 4F040 AA22 AB04 AC01 BA29 BA35 CB22 CB35 CB36 CC02 CC09 CC14 CC19 DA12 DA14 DB22 4F042 AA22 BA03 BA12 CA01 CB02 CB20 DD03 DD09 DD10 DD18 DD27 DD46

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】回転するバーと接触しながら走行してい
る支持体の接触部の直前に液溜まりが形成されるように
塗布液を供給し、前記バーにより前記支持体に塗布液を
塗布する塗布方法において、前記接触部に対して前記支持体送り方向の上流側に堰を
設けて、前記接触部と前記堰との間に前記液溜まりを構
成し、前記堰から前記塗布液の一部を前記支持体の幅方向に渡
って均一にオーバーフローさせることを特徴とする塗布
方法。
【請求項２】前記液溜まりにおける前記支持体走行方
向における長さＬ１（ｍｍ）を１０≦Ｌ１≦５０とする
ことを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
【請求項３】前記堰と前記支持体との隙間Ｌ２（ｍ
ｍ）を０．２≦Ｌ２≦４．０とすることを特徴とする請
求項１または２に記載の塗布方法。
【請求項４】前記塗布液の塗布量Ｑ１に対する送液量
Ｑ２の比（Ｑ２／Ｑ１）を、１０＜（Ｑ２／Ｑ１）＜５０とすることを特徴とする請
求項１ないし３のいずれか１つに記載の塗布方法。
【請求項５】回転するバーと接触しながら走行してい
る支持体の接触部の直前に液溜まりが形成されるように
塗布液を供給し、前記バーにより前記支持体に塗布液を
塗布する塗布方法において、前記液溜まりにおける前記支持体走行方向における長さ
Ｌ１（ｍｍ）を１０≦Ｌ１≦５０とすることを特徴とす
る塗布方法。
【請求項６】前記塗布液の塗布量Ｑ１に対する送液量
Ｑ２の比（Ｑ２／Ｑ１）を、１０＜（Ｑ２／Ｑ１）＜５０とすることを特徴とする請
求項５に記載の塗布方法。
【請求項７】回転するバーと接触しながら走行してい
る支持体の接触部の直前に液溜まりが形成されるように
塗布液を供給し、前記バーにより前記支持体に塗布液を
塗布する塗布方法において、前記塗布液の塗布量Ｑ１に対する送液量Ｑ２の比（Ｑ２
／Ｑ１）を、１０＜（Ｑ２／Ｑ１）＜５０とすることを特徴とする塗
布方法。
【請求項８】前記塗布液が液晶性化合物を成分として
含み、前記塗布液から形成される塗布膜が、光学補償シートの
液晶層であることを特徴とする請求項１ないし７のいず
れか１つに記載の塗布方法。
【請求項９】回転するバーと、この回転するバーに塗
布液を供給する液溜まりと、前記回転するバーに塗布液
を介して接触するように支持体を送る支持体搬送手段
と、前記塗布液を循環させる塗布液循環手段とを備えた
塗布装置において、前記液溜まりを構成するために、前記バーに対して前記
支持体送り方向の上流側に設けられ、前記塗布液の一部
を前記支持体の幅方向に渡って均一にオーバーフローさ
せるための堰を備えたことを特徴とする塗布装置。
【請求項１０】前記バーと前記堰との間の液溜まりに
おける前記支持体走行方向における長さＬ１（ｍｍ）
が、１０≦Ｌ１≦５０となるように、前記堰を設けたこ
とを特徴とする請求項９に記載の塗布装置。
【請求項１１】前記堰と前記支持体との隙間Ｌ２（ｍ
ｍ）を０．２≦Ｌ２≦４．０として前記堰の高さを設定
したことを特徴とする請求項９または１０に記載の塗布
装置。
【請求項１２】前記塗布液の塗布量Ｑ１に対する送液
量Ｑ２の比（Ｑ２／Ｑ１）を、１０＜（Ｑ２／Ｑ１）＜５０としたことを特徴とする請
求項９ないし１１のいずれか１つに記載の塗布装置。
【請求項１３】前記塗布液が液晶性化合物を成分とし
て含み、前記塗布液から形成される塗布膜が、光学補償シートの
液晶層であることを特徴とする請求項９ないし１２のい
ずれか１つに記載の塗布装置。