JP2003236434A

JP2003236434A - 塗布方法及び装置

Info

Publication number: JP2003236434A
Application number: JP2002037196A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiko Tokimasa; 泰彦時政; Yoshinobu Katagiri; 良伸片桐
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2002-02-14
Filing date: 2002-02-14
Publication date: 2003-08-26
Anticipated expiration: 2022-02-14
Also published as: JP3941857B2

Abstract

(57)【要約】【課題】スロットダイコーター及びスライドビードコ
ーターでの高精度塗布における段状ムラを改善する。【解決手段】上流側リップランド長さが１ｍｍ、下流
側リップランド長さが５０μｍのスロットダイ１３で、
ウエブ１２上に塗布液を塗布し、湿潤膜厚５μｍの塗布
を実施した。ウエブ１２にはセルローストリアセテート
基材を用い、塗布液には液晶性化合物のメチルエチルケ
トン溶液を使用した。スロットダイ１３の先端リップ１
７とウェブ１２との隙間を５０μｍ、減圧チャンバー３
０のバックプレート３０ａとウェブ１２との隙間、及び
サイドプレート３０ｂとウェブ１２との隙間をともに１
００μｍ、減圧度を１６００Ｐａに設定した。ビード形
成時の減圧度の変動幅は８０Ｐａで、塗膜１４ｂに段状
ムラは認められなかった。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ダイを用いる塗布
方法及び装置に関するものであり、特に写真感光乳化
剤、磁性液、反射防止や防眩性などを付与する液、視野
角拡大効果を付与する液、カラーフィルター用顔料液、
表面保護液等の塗布液を、プラスチックフィルムや紙、
金属箔等の可撓性支持体（以下、ウェブと称する）に塗
布して、高機能性積層膜を製造するための塗布方法及び
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】高機能性積層膜は、スロットダイコータ
ーやスライドビードコーターにより塗布液をウェブ上に
塗布させ、積層させて製造されている。近年は高機能性
積層膜の製造において、所望の機能を発現させるため
に、積層膜を構成する各層の高精度膜厚制御塗布技術に
対する要求が高まっている。塗布の実施においては、様
々な外乱で、一般には段状のムラと呼ばれるフィルム長
手方向に不均一な塗布膜厚現象が発生し、この現象は一
般に、求められる膜厚精度が厳しくなるほど重大な問題
となりやすい。

【０００３】上記段状のムラは、塗布液送液ポンプの脈
動やその他送液系が原因となることでのダイへの塗布液
供給量の不均一化、バックアップロールによるウェブの
搬送速度ムラ、バックアップロールの偏心による、前記
ウェブ進行方向側のダイの先端部とバックアップロール
との間の隙間の周期的な変化などが原因となっているこ
とは既に知られている。ここで、バックアップロールの
偏心は、バックアップロールの芯がでていないことや、
バックアップロールが厳密には真円ではないことに起因
する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ダイとバッ
クアップロールとの間には、安定的にビードを形成する
ために減圧チャンバーが設けられている。前記バックア
ップロールの偏心は、減圧チャンバーのウェブあるいは
バックアップロールとの隙間が周期的に変化することに
つながる。この隙間の変化により、その周辺の空気の漏
れ量が周期的に変化して減圧度が一定せず、ビードが振
動してしまい、その結果として塗膜の段状ムラが発現す
る。

【０００５】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、ウェブ上への連続的な塗布、特に段状ムラのな
い塗膜を形成するための塗布方法及び装置を提供するこ
とを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記段状のムラの原因で
あるポンプの脈動とウェブの搬送速度ムラに関しては、
塗布設備の基本的設計に関わる問題であり、塗布工程に
おける塗布条件の設定のみでこれを解決するのには限界
がある。そこで本発明者らは、塗布工程のみで均一な膜
厚を得るために、バックアップロールの偏心による減圧
度変動に着目した。

【０００７】上記目的を達成するために、本発明の塗布
方法は、ウェブに近接させたスロットダイコーターまた
はスライドビードコーターのダイの先端リップからウェ
ブにかけてビードを形成し、前記ビード近傍を、バック
プレートを有する減圧チャンバーにより減圧して、バッ
クアップロール上の前記ウェブに塗布液を塗布する方法
において、前記バックプレートと前記ウェブとの隙間
を、前記先端リップと前記ウェブとの隙間よりも大きく
なるように、減圧チャンバーを設置することを特徴とし
て構成されている。

【０００８】さらに、前記減圧チャンバーはサイドプレ
ートを有し、このサイドプレートが前記ウェブに対向す
るように減圧チャンバーを設置するときに、サイドプレ
ートとウェブとの隙間を、バックプレートとウェブとの
隙間以上に大きくすることが好ましい。あるいは、サイ
ドプレートが、ウェブをその上に有しないバックアップ
ロール部分に対向するように減圧チャンバーを設置して
いる場合には、サイドプレートとバックアップロールと
の隙間を、バックプレートとウェブとの隙間以上に大き
くすることが好ましい。さらに、バックプレートとウェ
ブとの隙間の大きさを１００μｍ以上１ｍｍ以下とする
ことが好ましい。

【０００９】そのほかに、塗布装置として、先端リップ
とウェブとの間、サイドプレートとウェブあるいはバッ
クアップロールとの間、バックプレートとウェブとの間
の隙間による開口総面積よりも大きな面積をもつ開口を
減圧設備中に設けたものが好ましい。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の塗布方法では、公知の各
種溶媒を用いた塗布液を使用することができる。例えば
水、各種ハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル、
エステル、ケトンなどを単独あるいは複数混合して使用
することができる。

【００１１】また、可撓性支持体としては公知の各種ウ
ェブを用いることができる。一般的にはポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、
セルロースダイアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイ
ミド、ポリアミド等の公知の各種プラスチックフィル
ム、紙、紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン
ブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフ
ィン類を塗布またはラミネートした各種積層紙、アルミ
ニウム、銅、スズ等の金属箔等、帯状基材の表面に予備
的な加工層を形成させたもの、あるいはこれらを積層し
た各種複合材料が含まれる。さらに前記のウェブには、
光学補償シート塗布液、反射防止フィルム塗布液、磁性
塗布液、写真感光性塗布液、表面保護、帯電防止あるい
は滑性用塗布液等がその表面に塗布され、乾燥された
後、所望する長さ及び幅に裁断される場合も含まれ、こ
の代表例としては、光学補償シート、反射防止フィルム
等が挙げられるが、これらに限定されない。

【００１２】塗布液は、塗布時の温度において、粘度が
０．５〜１００ｍＰａ・ｓ、表面張力は２０〜７０ｍＮ
／ｍの範囲が好ましい。塗布速度は、概ね５００ｍ／分
以下の領域で適用可能である。

【００１３】まず本発明の詳細についてスロットダイコ
ーターを例にあげて説明するが、以下の内容はスライド
ビードコーターにもそのままあてはまる。図１は本発明
を実施したスロットダイを用いたコーターの断面図であ
る。コーター１０はバックアップロール１１に支持され
て連続走行するウェブ１２に対して、スロットダイ１３
から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することによ
り、ウェブ１２上に塗膜１４ｂを形成する。

【００１４】スロットダイ１３の内部にはポケット１
５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、
その断面が曲線及び直線で構成されており、例えば図１
に示すような略円形でもよいし、あるいは半円形でもよ
い。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその
断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、そ
の有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするの
が一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給
は、スロットダイ１３の側面から、あるいはスロット開
口部１６ａとは反対側の面中央から行う。また、ポケッ
ト１５の両端部には塗布液１４が漏れ出ることを防止す
る栓が設けられている。

【００１５】スロット１６は、ポケット１５からウェブ
１２への塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様
にスロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウ
ェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない
幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さ
の幅になるように調整する。このスロット１６の先端に
おける、バックアップロール１１のウェブ走行方向の接
線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。

【００１６】スロット１６の開口部１６ａが位置するス
ロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成され
ており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１８とされ
ている。このランド１８であって、スロット１６に対し
てウェブ１２の進行方向の上流側を上流側リップランド
１８ａ、下流側を下流側リップランド１８ｂと称する。

【００１７】また、先端リップの下方にはバックプレー
トとサイドプレートをもつ減圧チャンバーを設けてい
る。図２は、本発明を実施した塗布工程のスロットダイ
及びその周辺を示す斜視図である。減圧チャンバー３０
は、ウェブ１２の進行方向側とは反対側に、ビード１４
ａ（図１参照）に対して十分な減圧調整を行えるよう、
接触しない位置に設置する。減圧チャンバー３０は、そ
の作動効率を保持するためのバックプレート３０ａとサ
イドプレート３０ｂを備えており、バックプレート３０
ａとウェブ１２の間、サイドプレート３０ｂとウェブ１
２の間にはそれぞれ隙間が存在する。

【００１８】減圧チャンバー３０を金属配管３１あるい
はフレキシブルホースによりブロア３２に接続して、減
圧チャンバー３０の内部の空気を連続的に吸引すること
により減圧を行う。減圧チャンバー３０とブロア３２と
の間には、減圧度を調整するバルブ３３を設置してもよ
いし、ブロア３２の回転数を制御することで減圧度を調
整してもよい。また、減圧チャンバー３０とブロア３２
の間にはバッファ３４を設けて圧力変動の影響を低減し
てもよい。そのバッファ３４に図示しないバルブを設け
ることで減圧度を調整することも可能である。いずれに
せよ、本発明の効果は減圧チャンバー３０の周辺の隙間
により一意的に決まるものであり、上記減圧度を実現す
るための上記減圧設備にはその効果を左右されない。

【００１９】図３の（Ａ）、（Ｂ）はともに、近接して
いる減圧チャンバー３０とウェブ１２を示す断面図であ
る。バックプレート３０ａは、（Ａ）のようにチャンバ
ー本体と一体のものであってもよいし、（Ｂ）のように
適宜隙間を変えられるようにチャンバーにネジ３０ｃな
どで留められている構造でもよい。いかなる構造でも、
バックプレート３０ａとウェブ１２の間にあいている部
分を隙間Ｇ_Bと定義する。つまり、減圧チャンバー３０
を図２のようにウェブ１２及びスロットダイ１３の下方
に設置した場合、バックプレート３０ａの最上端からウ
ェブ１２までの隙間を示す。

【００２０】またサイドプレート３０ｂは、図３
（Ａ）、（Ｂ）のように減圧チャンバー本体と一体のも
のであってもよいし、あるいは減圧チャンバー本体へネ
ジ留めされ、ウェブおよびバックアップロールとの隙間
Ｇ_S1，Ｇ_S2が調節可能なものであってもよい。両側端の
サイドプレート間の距離がウェブの幅よりも小さいとき
は、サイドプレート３０ｂがウェブ１２と対向している
ので、サイドプレート３０ｂとウェブ１２の間に実際に
あいている部分を隙間Ｇ_S1とする。また、両側端のサイ
ドプレート間の距離がウェブ１２の幅よりも大きいとき
は、サイドプレート３０ｂはウェブ１２ではなくバック
アップロール１１と対向するので、この場合はサイドプ
レート３０ｂとバックアップロール１１の間にあいてい
る部分を隙間Ｇ _S2と定義する。

【００２１】減圧チャンバー３０のバックプレート３０
ａとウェブ１２との隙間Ｇ_Bが、先端リップ１７とウェ
ブ１２との隙間Ｇ_Lよりも大きくなるように設定するこ
とが好ましい。この２つの隙間は、バックアップロール
１１の偏心に対して直接的に応答するため、偏心よる隙
間の変動幅が、隙間の総面積に対して小さくなるほど好
ましい。ただし、先端リップ１７の位置は、ビード１４
ａの形成に対し、最も大きな作用因子であるので、ウェ
ブ１２からの距離には限界がある。したがって、隙間の
大きさの調節をするには、この２つのうち、塗布性に直
接影響を及ぼさない、バックプレート３０ａで行うこと
が好ましく、以上のことから、バックプレート３０ａと
ウェブ１２との隙間Ｇ_Bが、先端リップ１７とウェブ１
２との隙間Ｇ_Lよりも大きくすることがバックアップロ
ール１１の偏心への対策として有効となる。ただし、バ
ックプレート３０とウェブ１２との隙間Ｇ_Bを広げすぎ
ると減圧チャンバー３０の減圧能力が低くなるために、
おのずと広げる限界が生まれる。それぞれの隙間の大き
さは、先端リップ１７とウェブ１２との隙間Ｇ_Lが３０
μｍ以上１００μｍ以下のとき、バックプレート３０ａ
とウェブ１２の間の隙間Ｇ_Bは１００μｍ以上５００μ
ｍ以下が好ましく、また、先端リップ１７とウェブ１２
との隙間Ｇ_Lが１００μｍ以上５００μｍ以下のとき、
バックプレート３０ａとウェブ１２の間の隙間Ｇ_Bは２
００μｍ以上８００μｍ以下が好ましい。

【００２２】一方、減圧チャンバー３０のサイドプレー
ト３０ｂは、バックアップロール１１の外周面にそった
円弧形状であるので、サイドプレート３０ｂとバックア
ップロール１１の上のウェブとの隙間Ｇ_S1の変動幅はバ
ックアップロール１１の偏心に対して、上記のバックプ
レート３０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_B、あるいは先端
リップ１７とウェブ１２との隙間Ｇ_Lほど直接的な応答
を示さない。したがって、サイドプレート３０ｂとウェ
ブ１２との隙間Ｇ_S1が、ほかの部位に存在する隙間以上
の大きさにすることにより、サイドプレート３０ｂとウ
ェブ１２との隙間Ｇ_S1が減圧度の変動に及ぼす影響を大
きくすることができ、有効である。ここで、ほかの部位
に存在する隙間とは、バックプレート３０ａとウェブ１
２との隙間Ｇ_B、先端リップ１７とウェブ１２との隙間
Ｇ_Lをいう。

【００２３】バックプレート３０ａとウェブ１２との隙
間Ｇ_Bが１００μｍ以上５００μｍ以下で、先端リップ
１７とウェブ１２との隙間Ｇ_Lが３０μｍ以上１００μ
ｍ以下のとき、サイドプレート３０ｂとウェブ１２との
隙間Ｇ_S1の大きさは１００μｍ以上８００μｍ以下が好
ましく、また、バックプレート３０ａとウェブ１２との
隙間Ｇ_Bが２００μｍ以上８００μｍ以下で、先端リッ
プ１７とウェブ１２との隙間Ｇ_Lが１００μｍ以上５０
０μｍ以下のとき、サイドプレート３０ｂとウェブ１２
との隙間Ｇ_S1の大きさは２００μｍ以上１０００μｍ以
下が好ましい。

【００２４】さらに、この方法は、サイドプレート３０
ｂの位置が、ウェブ１２ではなくバックアップロール１
１と対向している場合であっても適用できる。つまり、
サイドプレート３０ｂとバックアップロール１１との隙
間Ｇ_S2の減圧度変動に及ぼす影響を大きくするために、
その隙間を、上記のほかの部位に存在する隙間以上の大
きさにするとよい。

【００２５】バックプレート３０ａとウェブ１２との隙
間Ｇ_Bが１００μｍ以上５００μｍ以下で、先端リップ
１７とウェブ１２との隙間Ｇ_Lが３０μｍ以上１００μ
ｍ以下のとき、サイドプレート３０ｂとバックアップロ
ール１１との隙間Ｇ_S2の大きさは１００μｍ以上８００
μｍ以下が好ましく、また、バックプレート３０ａとウ
ェブ１２との隙間Ｇ_Bが２００μｍ以上８００μｍ以下
で、先端リップ１７とウェブ１２との隙間Ｇ_Lが１００
μｍ以上５００μｍ以下のとき、サイドプレート３０ｂ
とバックアップロール１１との隙間Ｇ_S2の大きさは２０
０μｍ以上１０００μｍ以下が好ましい。

【００２６】バックプレート３０ａに関しては、ウェブ
１２の適正な搬送を阻害しない範囲で、つまりウェブ１
２への引っ掛かりを起こさない位置に設置することが必
要であるので、必然的にウェブ１２との距離はある程度
制限される。この制限のなかで、塗布液１４の粘度及び
表面張力とウェブ１２の搬送速度、塗布液１４のウェブ
１２に対する濡れ等を考慮し、減圧度を設定する。した
がって、塗布系での減圧度に依存して、バックプレート
３０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_Bを設定する必要があ
る。工業生産における実用的な設定値としては、１００
μｍ以上１ｍｍ以下が好ましい。１ｍｍ以上の場合、あ
る程度の減圧度を実現するためには、減圧を行うのに使
用するブロア３２の能力を上げる必要がある。したがっ
て、工業生産においては現実的ではなく、またそのよう
な大量の空気をスロットダイ１３の周辺で吸引すること
により塗布部周りの空気をより乱して風を生じ、これが
塗布面状に悪影響を及ぼすことから適当ではない。

【００２７】バックアップロール１１の偏心による減圧
度の変動を抑制するためのほかの方法を図４をもとに説
明する。先端リップ１７とウェブ１２との隙間Ｇ_L、バ
ックプレート３０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_B、サイド
プレート３０ｂとウェブ１２との隙間Ｇ_S1以外の箇所に
開放口４０を設ける。開放口４０の大きさを自由に設定
できるように可動式の板４０ａを設ける。可動式の板４
０ａは図のようにネジ４０ｂで固定するものでもよい
が、開放口４０での減圧度調節が満足に行えるものであ
ればこれに限定されない。サイドプレート３０ｂの位置
が、ウェブ１２とではなくバックアップロール１１と対
向しているときの、サイドプレート３０ｂとバックアッ
プロール１１との隙間Ｇ_S2の場合も同様である。

【００２８】新たに設ける開放口４０が図のように１箇
所の場合にはその面積が、また複数設ける場合にはその
面積の和が、前記３箇所の隙間による開口総面積よりも
大きくなるようにする。ただし、ビード形成に影響のな
い減圧度を保持できる範囲内で面積を設定しなければな
らない。つまり、開放口４０の面積と隙間から流入する
空気量は比例するものとして考える。空気の隙間を介し
て流入する空気量は、図示はしないが開放口の近傍に風
速計を設置して空気の流入速度を測定し、その値と開放
口４０の面積の積で求めるとよい。また、開放口４０を
スロットダイ１３の近くに設置することは、スロットダ
イ１３の周辺でわざわざ無用の風を生じさせることにな
るのでできるだけ避けるようにしたい。そのためこの開
放口４０をブロア３２と減圧チャンバー３０の間の配管
３１に設置してもよいし、またブロア３２と減圧チャン
バー３０の間にバッファ３４を設置している場合はその
バッファ３４に設置してもよい。

【００２９】以上の方法は、スロットダイコーターを用
いる塗布方法以外の、減圧下で塗布を実施するすべての
塗布方式に効果があり、特にスライドビードコーターに
よる塗布にも効果がある。

【００３０】

【実施例】〔実施例１〕既存の光学補償シート製造工程
に、本発明の塗布装置及び塗布方法を組み入れ実施し
た。光学補償シート製造工程では、ウェブは送出機によ
り送られ、ガイドロールによって支持されながらラビン
グ処理ロールを経るが、この後、本発明の塗布工程を組
み入れる。その後、乾燥ゾーン、加熱ゾーン、紫外線ラ
ンプを通過し、巻き取り機によって巻き取るのが基本工
程である。

【００３１】スロットダイ１３は、上流側リップランド
長さが１ｍｍ、下流側リップランド長さが５０μｍで，
スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さが
１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使
用した。先端リップ１７とウェブ１２との隙間Ｇ_Lを５
０μｍに設定した。また、減圧チャンバー３０のバック
プレート３０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_B、及びサイド
プレート３０ｂとウェブ１２との隙間Ｇ_S1はともに１０
０μｍとした。

【００３２】ウェブ１２には、厚み１００μｍのセルロ
ーストリアセテート基材（商品名；フジタック、富士写
真フイルム（株）製）を用い、塗布液を塗布する前に長
鎖アルキル変性ポリビニルアルコール（商品名；ポバー
ルＭＰ−２０３、クラレ（株）製）の２重量％溶液を２
５ｍｌ／ｍ²で塗布し、６０℃で１分間乾燥して配向膜
用樹脂層を形成した。配向膜用樹脂層をあらかじめ形成
したウェブ１２を送り、配向膜用樹脂層の表面にラビン
グ処理を施して配向膜を形成し、そのまま塗布工程へ搬
送して塗布を実施した。なお、ラビング処理におけるラ
ビングローラの回転周速を５．０ｍ／秒とし、ウェブ１
２に対する押しつけ圧力を９．８×１０ ^-3Ｐａに設定し
た。

【００３３】塗布液１４には、ディスコティック化合物
ＴＥ−（１）とＴＥ−（２）の重量比率４：１の混合物
に、光重合開始剤（商品名；イルガキュア９０７、日本
チバガイギー（株）製）を１重量％添加した４０重量％
メチルエチルケトン溶液である、液晶性化合物を含む溶
液を用い、湿潤膜厚５μｍとなるように、５０ｍ／分で
搬送させたウェブ１２に対して塗布した。減圧度は１６
００Ｐａに設定し、デジタルマノメーターでその変動幅
を測定した。塗布液１４を塗布したウェブ１２を、１０
０℃に設定した乾燥ゾーン、及び１３０℃に設定した加
熱ゾーンを通過させ、その表面の液晶層に紫外線ランプ
（１６０Ｗ空冷メタルハライドランプ、アイグラフィッ
クス（株）製）を用いて紫外線を照射した。巻き取った
あと塗膜１４ｂの段状ムラを目視検査した。この結果、
本実施例では、減圧度の変動幅は８０Ｐａで、塗膜１４
ｂに段状ムラは認められず、塗膜状態は良好であった。

【００３４】

【化１】

【００３５】〔実施例２〕減圧チャンバー３０のバック
プレート３０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_Bを２００μｍ
としたほかは実施例１と同様に実施した。この結果、本
実施例２では、減圧度の変動幅は６０Ｐａで、塗膜１４
ｂに段状ムラは認められず、塗膜状態は良好であった。

【００３６】〔実施例３〕減圧チャンバー３０のサイド
プレート３０ｂとウェブ１２との隙間Ｇ_S1を３００μｍ
とした他は実施例１と同様に実施した。この結果、本実
施例３では、減圧度の変動幅は５０Ｐａで、塗膜１４ｂ
に段状ムラは認められず、塗膜状態は非常に良好であっ
た。

【００３７】〔実施例４〕減圧チャンバー３０のバック
プレート３０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_B、サイドプレ
ート３０ｂとウェブ１２との隙間Ｇ_S1をともに３００μ
ｍとした他は実施例１と同様に実施した。この結果、本
実施例４では、減圧度の変動幅は１０Ｐａで、塗膜１４
ｂに段状ムラは認められず、塗膜状態は良好であった。

【００３８】〔実施例５〕減圧チャンバー３０の両側に
位置するサイドプレート３０ｂの間の距離がウェブ１２
の幅より大きく、サイドプレート３０ｂがバックアップ
ロール１１に対向している場合について実施した。サイ
ドプレート３０ｂとバックアップロール１１との隙間Ｇ
_S2は１００μｍに設定した。その他の条件については実
施例１と同様に実施した。この結果、減圧度の変動幅は
８０Ｐａで、塗膜１４ｂに段状ムラは認められず、塗膜
状態は良好であった。

【００３９】〔比較例１〕減圧チャンバー３０のバック
プレート３０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_B、及びサイド
プレート３０ｂとウェブ１２との隙間Ｇ_S1をともに５０
μｍとした他は実施例１と同様に実施した。この結果、
本比較例１では、減圧度の変動幅が１００Ｐａで、塗布
１４ｂには段状ムラがあった。

【００４０】〔比較例２〕減圧チャンバー３０のバック
プレート３０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_B、サイドプレ
ート３０ｂとウェブ１２との隙間Ｇ_S1をともに９００μ
ｍとした他は実施例１と同様に実施した。この結果、本
比較例では、減圧度を１６００Ｐａに設定することがで
きず、塗布が不可能であった。

【００４１】以上実施例１〜５及び比較例１、２の結果
より、バックプレートとウェブとの隙間を先端リップと
ウェブとの隙間よりも大きく設定することに加え、サイ
ドプレートとウェブあるいはバックアップロールとの隙
間をバックプレートとウェブとの隙間以上の大きさにす
ることが、減圧度の変動幅を抑え、塗膜の段状ムラを抑
制するのに効果があることがわかる。さらにバックプレ
ートとウェブとの隙間は、ビード形成に不利でない範囲
で、１００μｍ以上に設定することが重要であることが
わかる。

【００４２】〔実施例６〕ウェブ１２として、膜厚８０
μｍのセルローストリアセテート（商品名；フジタッ
ク、富士写真フイルム（株）製）を使用し、塗布液を塗
布する前に、ウェブ１２の表面に、紫外線硬化性ハード
コート組成物（商品名；デソライトＺ−７５２６、７２
重量％、ＪＳＲ（株）製）２５０ｇをメチルエチルケト
ン６２ｇ及びシクロヘキサン８８ｇの混合溶媒に溶解し
た液を８．６ｍｌ／ｍ²で塗布した。これを１２０℃で
５分間乾燥させ、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライド
ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線
を照射することにより前記紫外線硬化性組成物を硬化さ
せ、ウェブ１２の表面に厚さ２５μｍのハードコート層
を形成した。

【００４３】塗布液１４として、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
９１ｇと酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布
液（デソライトＺ−７４０１、ＪＳＲ（株）製）２１８
ｇを、メチルエチルケトンとシクロヘキサンの重量比率
が４：６である混合溶液５２ｇに溶解し、この溶液に光
重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー
（株）製）１０ｇを加えたものを使用して、走行速度３
０ｍ／分で走行させるハードコート層を形成したウェブ
１２の上に４．２ｍｌ／ｍ²で塗布した。用いたスロッ
トダイ１３、先端リップ１７とウェブ１２との隙間
Ｇ_L、バックプレート３０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_B
及びサイドプレート３０ｂとウェブ１２間の隙間Ｇ_S1に
ついては実施例１と同様に実施した。減圧度は１６００
Ｐａに設定し、デジタルマノメーターでその変動幅を測
定した。この結果、本実施例５では、減圧度の変動幅は
８０Ｐａで、塗膜１４ｂに段状ムラは認められず、塗膜
状態は良好であった。

【００４４】〔実施例７〕減圧チャンバー３０のバック
プレート３０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_Bを２００μｍ
としたほかは実施例５と同様に実施した。この結果、本
実施例では、減圧度の変動幅が６０Ｐａで、塗膜１４ｂ
に段状ムラは認められず、塗膜状態は良好であった。

【００４５】〔実施例８〕減圧チャンバー３０のサイド
プレート３０ｂとウェブ１２との隙間Ｇ_S1を３００μｍ
とした他は実施例５と同様に実施した。この結果、本実
施例では、減圧度の変動幅が５０Ｐａで、塗膜１４ｂに
段状ムラは認められず、塗膜状態は非常に良好であっ
た。

【００４６】〔実施例９〕減圧チャンバー３０のバック
プレート３０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_B、サイドプレ
ート３０ｂとウェブ１２との隙間Ｇ_S1をともに３００μ
ｍとした他は実施例５と同様に実施した。この結果、本
実施例では、減圧度の変動幅が１０Ｐａで、塗膜１４ｂ
に段状ムラは認められず、塗膜状態は良好であった。

【００４７】〔比較例３〕減圧チャンバー３０のバック
プレート３０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_B、サイドプレ
ート３０ｂとウェブ１２との隙間Ｇ_S1をともに５０μｍ
とした他は実施例５と同様に実施した。この結果、本比
較例では、減圧度の変動幅が１００Ｐａで、塗布１４ｂ
には段状ムラがあった。

【００４８】〔比較例４〕減圧チャンバー３０のバック
プレート３０ａとウェブ１２との隙間Ｇ_B、サイドプレ
ート３０ｂとウェブ１２との隙間Ｇ_S1をともに９００μ
ｍとした他は実施例５と同様に実施した。この結果、本
比較例では、減圧度を１６００Ｐａに設定することがで
きず、塗布が不可能であった。

【００４９】以上実施例６〜９及び比較例３、４の結果
から、他の塗布系に対しても、バックプレートとウェブ
との隙間を、先端リップとウェブとの隙間よりも大きく
設定することに加え、サイドプレートとウェブとの隙間
をバックプレートとウェブとの隙間以上の大きさにする
ことで、減圧度の変動幅を抑え、塗膜の段状ムラを抑制
する効果を発揮することがわかる。さらにバックプレー
トとウェブとの隙間は、ビード形成に不利でない減圧度
を保持しながら、１００μｍ以上に設定することが重要
であることがわかる。

【００５０】〔実施例１０〕図４に示すような開放口４
０をサイドプレート３０ｂにひとつ設けた。減圧度を１
６００Ｐａ、開放口の隙間面積は６０ｍｍ²に設定し、
開放口における空気の流入速度は１２０００ｍｍ³／秒
であった。用いたスロットダイ１３及びウェブ１２、ス
ロットダ１３の設置位置、減圧チャンバー３０のバック
プレート３０ａとウェブ１２との隙間、サイドプレート
と３０ｂウェブ１２との隙間等、その他の条件について
は実施例１と同様に実施した。なお、先端リップ１７と
ウェブ１２、バックプレート３０ａとウェブ１２、サイ
ドプレート３０ｂとウェブ１２の隙間の面積の和は５５
ｍｍ²であった。減圧度の変動幅は５０Ｐａであり、得
られた塗膜１４ｂには段状のムラが認められず、良好で
あった。

【００５１】実施例１０より、先端リップとウェブ、バ
ックプレートとウェブ、サイドプレートとウェブの間に
それぞれ存在する隙間の面積の和よりも大きな面積をも
つ隙間を新たに設けることによって、減圧度を安定させ
ることができる。その結果、段状ムラのない塗膜を得る
ことができることがわかる。

【００５２】

【発明の効果】以上のように、本発明の塗布装置及び方
法により、様々な塗布系で塗膜に段状ムラが発生するこ
となく、塗布を連続的に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を実施したスロットダイコーターの断面
図である。

【図２】本発明を実施したスロットダイ及び周辺装置の
斜視図である。

【図３】（Ａ），（Ｂ）ともに、本発明を実施した塗布
装置のウェブ及び減圧チャンバーの断面図である。

【図４】本発明のほかの実施形態であるスロットダイ及
び周辺装置の斜視図である。

【符号の説明】

１１バックアップロール１２ウェブ１３スロットダイ１７先端リップ３０減圧チャンバー３０ａバックプレート３０ｂサイドプレート４０開放口Ｇ_B バックプレートとウェブとの隙間Ｇ_L 先端リップとウェブとの隙間Ｇ_S1 サイドプレートとウェブとの隙間Ｇ_S2 サイドプレートとバックアップロールとの隙間

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4D075 AC02 AC16 AC72 AC78 AC80 AC93 BB56Y CA47 CA48 DA04 DB01 DB02 DB07 DB18 DB31 DB33 DB36 DB38 DB48 DB53 DB63 DB64 DC24 DC27 DC28 EA05 EA21 EA45 EB19 4F041 AA11 AB01 BA12 BA21 BA56 CA02 CA03 CA13 CA22 CA25 5D112 CC01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ウェブに近接させたスロットダイコータ
ーまたはスライドビードコーターのダイの先端リップか
らウェブにかけてビードを形成し、前記ビード近傍を、
バックプレートを有する減圧チャンバーにより減圧し
て、バックアップロール上の前記ウェブに塗布液を塗布
する方法において、前記バックプレートと前記ウェブとの隙間を、前記先端
リップと前記ウェブとの隙間よりも大きくなるように、
前記減圧チャンバーを設置することを特徴とする塗布方
法。
【請求項２】前記減圧チャンバーはサイドプレートを
有し、このサイドプレートが前記ウェブに対向するよう
に減圧チャンバーを設置するときに、前記サイドプレー
トと前記ウェブとの隙間を、前記バックプレートと前記
ウェブとの隙間以上に大きくすることを特徴とする請求
項１記載の塗布方法。
【請求項３】前記減圧チャンバーはサイドプレートを
有し、このサイドプレートが前記ウェブをその上に有し
ない前記バックアップロール部分に対向するように減圧
チャンバーを設置するときに、前記サイドプレートと前
記バックアップロールとの隙間を、前記バックプレート
と前記ウェブとの隙間以上に大きくすることを特徴とす
る請求項１記載の塗布方法。
【請求項４】前記バックプレートと前記ウェブとの隙
間を１００μｍ以上１ｍｍ以下とすることを特徴とす
る、請求項１ないし３いずれかひとつ記載の塗布方法。
【請求項５】ウェブに近接させたスロットダイコータ
ーまたはスライドビードコーターのダイの先端リップか
らウェブにかけてビードを形成し、前記ビード近傍を、
バックプレート及びサイドプレートを有する減圧チャン
バーを含む減圧設備により減圧して、バックアップロー
ル上の前記ウェブに塗布液を塗布する装置において、前記先端リップと前記ウェブとの間、前記サイドプレー
トと前記ウェブあるいは前記バックアップロールとの
間、前記バックプレートと前記ウェブとの間に存在する
隙間による開口総面積よりも大きな面積をもつ開口を上
記減圧設備中に設けることを特徴とする塗布装置。