JP4600741B2 - 塗布膜付きウエブの製造方法及び製造装置 - Google Patents

Description

本発明は塗布液の塗布方法及び装置に係り、特にスロットダイを使用して低粘度の有機溶剤塗布液を超薄膜塗布する塗布液の塗布方法及び装置に関する。

スロットダイ方式の塗布装置は、バックアップローラに巻きがけ支持されて連続走行するウエブ表面に、リップランドを近接配置させたスロットダイのスロット先端から塗布液を吐出してウエブとの間にビードを形成し、該ビードを介して塗布液をウエブに塗布する。また、ビードを安定化するために、ビードのウエブ上流側を減圧チャンバーで減圧することが一般的に行われている。

スロットダイを使用してウエブに塗布液を塗布する際の塗布幅は、スロット幅（塗布液の吐出幅）で決めているが、ウエブ幅方向端部（通称、耳部）における膜厚が中央部に比べて薄膜化する。これは、塗布液とウエブとの濡れにより、耳部において塗布液がウエブ幅方向に濡れ広がるためである。この薄膜化した塗布耳部は、製品にならないので裁断する必要があるが、通常の高粘度・厚膜塗布であれば裁断幅は１０〜２０ｍｍ程度に抑えることができる。

ところで、液晶表示装置等に使用される反射防止、防眩性、視野角拡大等の高機能性薄層フィルムの製造は、これらの機能を有する塗布液をウエブに塗布することにより製造される。そして、近年は、高機能性薄層フィルムに所望の機能を高精度に発現させるために、従来の塗布液に比べて低粘度で、超薄膜で塗布することが要求されている。

このように、低粘度・超薄膜塗布の場合には、スロットダイとバックアップローラとのクリアランスを１００μｍ以下にしなくては安定に塗りつかないが、クリアランスを狭くするほど毛細管現象による塗布液の濡れ広がりが拡大してしまう。例えば、クリアランスが１００μｍを超える大きさであれば、耳部の濡れ広がりは片側で１０ｍｍ程度、大きくても３０ｍｍ程度であるが、クリアランスが１００μｍ以下の場合には、耳部の濡れ広がりは片側で２０ｍｍ以上、ときには５０ｍｍ以上、さらには１００ｍｍ以上になることもある。また、濡れ広がりにより塗布膜の耳部が中央部（製品となる部分）の膜厚の平均値よりも３％以上薄膜化してしまう。乾膜厚み（乾燥後の塗布膜の厚み）が５μｍ以下で、その膜厚分布が３％未満が要求される高機能性薄層フィルムは、低粘度（例えば１０ｍＰａ・ｓ以下）で、超薄膜（例えば塗布量が１０ｃｃ／ｍ² 以下）であり、クリアランスも１００μｍ以下の塗布条件下で塗布しなくてはならず、濡れ広がりにより塗布耳部で膜厚分布が広い範囲で悪化してしまう。これにより、安定製造を行うことがきないと共に、製品幅が減少するので、生産性が低下するという問題がある。また、濡れ広がりにより塗布液がウエブの裏面に回り込み、塗布後の乾燥工程の例えばパスローラ等を汚染してしまう問題もある。

塗布液の濡れ広がりを防止する対策としては、特許文献１に見られるように、スロット両端に挿入するスペーサ先端をスロット先端よりも突き出す方法が提案されている。塗布量が１０ｃｃ／ｍ² を超え、上記したクリアランスが１００μｍを超える場合には、スペーサ先端を１０〜２００μｍ突き出すことで、濡れ広がりを抑制できる。
特開２００１−１７０５４２号公報

しかしながら、粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下の塗布液を、塗布量１０ｃｃ／ｍ² 以下で塗布する場合には、クリアランスを１００μｍ以下としなくてはならず、このような小さなクリアランスでスペーサ先端を突き出す方法を採用することは困難である。即ち、スロットダイを塗布ステーションに設置するごとに、クリアランスは０〜３０μｍ程度のバラツキが生じることがあり、またウエブの厚みもウエブ幅方向で均一ではなく、特に耳部の凸凹差が１００μｍ程度あることもある。従って、スペーサ先端を突き出す寸法を少しでも誤ると、スペーサ突出部が連続走行するウエブを傷つけるトラブルが発生し易くなるという問題がある。更には、クリアランスが狭いと、スペーサ突出部のビードに対する影響そのものが小さくなり、クリアランスが広いときほど濡れ広がりが抑制され難い。特に高機能性薄層フィルムのように低粘度・超薄膜の上に有機溶剤を溶媒とする塗布液の場合には、水系の塗布液よりも濡れ広がり易い。

このような背景から、低粘度・超薄膜塗布を行っても耳部の濡れ広がりを効果的に抑制でき、耳部の裁断幅を小さくすることのできる対策が要望されている。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、低粘度・超薄膜塗布を行っても耳部の濡れ広がりを効果的に抑制でき、耳部の裁断幅を小さくすることのできるので、生産性を向上することのできる塗布液の塗布方法及び装置を提供することを目的とする。

本発明の請求項１は前記目的を達成するために、バックアップローラに巻きがけ支持されて連続走行するウエブ表面に、リップランドを近接配置させたスロットダイのスロット先端から塗布液を吐出して前記ウエブとの間にビードを形成すると共に、該ビードのウエブ上流側を減圧チャンバーで減圧しながら前記ウエブ表面に塗布液を塗布する塗布膜付きウエブの製造方法において、前記塗布液の液粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下であり、前記リップランドのうちウエブ上流側の上流側リップランドが下流側リップランドよりも窪んだオーバーバイド形状に形成され、前記減圧チャンバーの減圧度が大気圧に対して−０．３ｋＰａよりも大きく、且つ２０ｍ／分よりも大きな塗布速度である条件下で塗布液を塗布すると共に、前記スロットダイのスロット幅方向両端部には塗布幅を規制する一対のスペーサが挿入されると共に前記減圧チャンバーのサイドプレートの厚みが３ｍｍ未満にならないように形成され、前記減圧チャンバーのウエブ幅方向の外幅をＡ（ｍｍ）とし、前記スロットの吐出幅をＢ（ｍｍ）としたときに、前記外幅Ａの中心と前記吐出幅Ｂの中心を一致させた状態で次式、Ｂ＋６（ｍｍ）＜Ａ≦Ｂ＋５０（ｍｍ）を満足するように前記ＡとＢとの関係を設定することを特徴とする。

ここで、減圧チャンバーのウエブ幅方向の外幅とは、減圧チャンバーの内幅に減圧チャンバーを形成するサイドプレートの板厚Ｌを足した寸法を言う。また、外幅Ａの中心と吐出幅Ｂの中心を一致させるとは、減圧チャンバーの両端がスロットの両端に対して均等（最大で２５ｍｍずつ）に外側に出っ張っていることを意味する。

減圧チャンバーは、スロットから吐出されてウエブに液架橋されて形成されるビードのウエブ上流側を吸引できるように、スロット幅よりも減圧チャンバーのウエブ幅方向の幅寸法を大きくすることが通常であった。このことから、従来、スロットダイに減圧チャンバーを取り付ける場合、減圧チャンバーのサイドプレートをスロットダイの側面に支持するように取り付けており、減圧チャンバーの外幅はスロットダイの幅寸法と略一致していた。また、スロットダイのスロット両端には、塗布幅規制のためのスペーサーを挿入することが通常であり、減圧チャンバーの外幅はスロットの吐出幅よりもスペースのスロット挿入寸法分だけ大きくなっていた。

しかし、発明者は耳部の濡れ広がりを防止するための対策を鋭意研究した結果、低粘度・超薄膜塗布のようにクリアランスを狭くせざるを得ない場合には、スロットの吐出幅Ｂよりも減圧チャンバーのウエブ幅方向の外幅Ａを大きくし過ぎると、ビードがウエブ幅方向に引っ張られる作用とクリアランスが狭いことによる毛細管現象との相乗効果により濡れ広がりが顕著に大きくなってしまうことが分かった。これを解決するには、減圧チャンバーのウエブ幅方向の外幅Ａをできるだけスロットの吐出幅Ｂに近づけることが必要であり、最大でもＡをＢ＋５０（ｍｍ）以下にすることが必要であることを見いだした。

本発明の請求項１によれば、減圧チャンバーのウエブ幅方向の外幅をＡ（ｍｍ）とし、スロットの吐出幅をＢ（ｍｍ）としたときに前記外幅の中心と前記吐出幅の中心を一致させた状態で次式、Ｂ＋６（ｍｍ）＜Ａ≦Ｂ＋５０（ｍｍ）を満足するように前記ＡとＢとの関係を設定したので、濡れ広がりが大きな条件下でも耳部の濡れ広がりを効果的に抑制できる。これにより、耳部の裁断幅を小さくして製品幅を大きくとれるので、生産性を向上することができる。
また、塗布速度を速くして生産性を上げるためには、減圧度をある程度大きくしてビードの安定化を図る必要があるが、減圧度を上げると濡れ広がりが大きくなる。しかし、本発明におけるＢ＋６（ｍｍ）＜Ａ≦Ｂ＋５０（ｍｍ）を満足することで、減圧チャンバーの圧力を、大気圧に対して０．３ｋＰａよりも大きくしても濡れ広がりを効果的に抑制でき、塗布速度を上げることが可能となる。

請求項２は請求項１において、前記減圧チャンバーのウエブ幅方向の外幅Ａは前記スロットダイの幅Ｗよりも狭いことを特徴とする。

これは、スロットの両端には、塗布幅を規制するためのスペーサーが挿入され、このスペーサーを狭くすることでＢ≦Ａ≦Ｂ＋５０（ｍｍ）を満足させることは可能であるが、スペーサーの幅は狭くしないことが好ましいからである。

請求項３は請求項１又は２において、前記リップランドと、前記バックアップローラに巻きがけ支持されるウエブとのクリアランスを１００μｍ以下とした条件下で、前記液粘度の有機溶剤塗布液を塗布量１０ｃｃ／ｍ² 以下で塗布することを特徴とする。

これは、クリアランス１００μｍ以下で、粘度１０ｍＰａ・ｓ以下の有機溶剤塗布液を塗布量１０ｃｃ／ｍ² 以下で塗布する場合のように、濡れ広がり易い塗布条件下であっても、濡れ広がりを効果的に抑制できる。

請求項４は請求項１〜３の何れか１において、前記塗布液は、反射防止フィルム製造用、防眩性フィルム製造用、又は視野角拡大フィルム製造用の塗布液であることを特徴とする。

この種のフィルムを製造する塗布液は、請求項２に示したような低粘度・超薄膜の有機溶剤塗布液を使用するので、本発明が特に有効だからである。

本発明の請求項５は前記目的を達成するために、バックアップローラに巻きがけ支持されて連続走行するウエブ表面に、リップランドを近接配置させたスロットダイのスロット先端から塗布液を吐出して前記ウエブとの間にビードを形成すると共に、該ビードのウエブ上流側を減圧チャンバーで減圧しながら前記ウエブ表面に塗布液を塗布する塗布膜付きウエブの製造装置において、前記塗布液の液粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下であり、前記リップランドのうちウエブ上流側の上流側リップランドが下流側リップランドよりも窪んだオーバーバイド形状に形成され、前記減圧チャンバーの減圧度が大気圧に対して−０．３ｋＰａよりも大きく、且つ２０ｍ／分よりも大きな塗布速度である条件下で塗布液を塗布すると共に、前記スロットダイのスロット幅方向両端部には塗布幅を規制する一対のスペーサが挿入されると共に前記減圧チャンバーのサイドプレートの厚みが３ｍｍ未満にならないように形成され、前記減圧チャンバーのウエブ幅方向の外幅をＡ（ｍｍ）とし、前記スロットの吐出幅をＢ（ｍｍ）としたときに前記外幅の中心と前記吐出幅の中心を一致させた状態で次式、Ｂ＋６（ｍｍ）＜Ａ≦Ｂ＋５０（ｍｍ）を満足するように前記減圧チャンバーが形成されていることを特徴とする。

請求項６は本発明を装置として構成したものである。

本発明の塗布液の塗布方法及び装置によれば、低粘度・超薄膜塗布を行っても耳部の濡れ広がりを効果的に抑制でき、耳部の裁断幅を小さくすることのできるので、生産性を向上することができる。従って、液晶表示装置等に使用される反射防止、防眩性、視野角拡大等の高機能性薄層フィルムを製造する際の塗布方法及び装置として好適である。

以下添付図面に従って本発明に係る塗布液の塗布方法及び装置の好ましい実施の形態について説明する。

図１は、本発明の塗布液の塗布方法を実施するためのスロットダイ方式の塗布装置の全体構成図である。また、図２は図１の塗布装置を側方向から見たときのクリアランス部分を拡大概念図であり、図３は図１の塗布装置全体を上から見たときの概念図である。

図１に示すように、塗布装置１０は、バックアップローラ１２に支持されて連続走行するウエブ１４表面に、リップランド１６を近接配置させたスロットダイ１８のスロット先端から塗布液を吐出してウエブ１４との間に液架橋してビード２０を形成すると共に、該ビード２０のウエブ上流側に配置した減圧チャンバー２６で減圧しながらウエブ１４表面に塗布液を塗布する。

スロットダイ１８の内部には、マニホールド２２とスロット２４とが形成されている。マニホールド２２は、スロットダイ１８に供給された塗布液をウエブ幅方向（塗布幅方向）に拡流する液溜め部であり、その断面が略円形でもよいし、あるいは半円形でもよい。マニホールド２２の両端部には塗布液が漏れ出ることを防止する栓２３（図３参照）が設けられていると共に、片側の栓を貫通して塗布液の供給配管２７が取り付けられる。これにより、供給配管２７から供給された塗布液は、マニホールド２２において塗布幅方向（ウエブ幅方向）に拡流されたあと、スロット２４内を流れてスロット開口から走行するウエブ１４に向けて吐出される。尚、マニホールド２２への塗布液の供給は、マニホールド２２の一端側から供給しても、マニホールド２２の中央部から供給してもよい。

スロット２４は、マニホールド２２からスロット先端に至る塗布液の狭隘な流路であり、スロット２４の両端部には、塗布幅を規制するスペーサー２５（図３参照）が挿入される。スロット２４の開口部２４Ａが位置するスロットダイ１８の先端部分は先細り状に形成されており、その先端はリップランド１６と呼ばれる平坦部が形成される。ここで、スロット２４に対してウエブ走行方向の上流側（図１の下側）のリップランドを上流側リップランド１６Ａ（図２の参照）と称し、下流側（図１の上側）のリップランドを下流側リップランド１６Ｂ（図２参照）と称する。この場合、図２に示すように、上流側リップランド１６Ａは下流側リップランド１６Ｂよりも凹んだオーバーバイト形状にすることが、安定したビードを形成する上で好ましい。

また、図１及び図２に示すように、スロットダイ１８の先端部分の下方には減圧チャンバー２６が設けられる。これにより、ビード２０のウエブ上流側が減圧される。尚、本実施のスロットダイ１８が横型の塗布装置１０の場合には、ビード２０のウエブ上流側とはビード２０下側であり、ビード２０のウエブ下流側とはビード上側である。図示しないが、縦型下向きの塗布装置の場合（図１を反時計回りに９０°回転させた状態）には、ビード２０のウエブ上流側とは、ビード右側であり、ビード２０のウエブ下流側とはビード左側である。減圧チャンバー２６は、その作動効率を保持するためのバックプレート２６Ａとサイドプレート２６Ｂを備えており、バックプレート２６ａとウエブ１４の間、サイドプレート２６Ｂとウエブ１４との間にはそれぞれ隙間Ｓが存在する。

減圧チャンバー２６は、エア配管２８を介してブロア３０に接続されると共に、エア配管２８の途中には減圧チャンバー２６内のサクションア圧を調整するバルブ３２と、減圧チャンバー２６内の圧力変動を小さくするバッファ装置３４が設けられる。減圧チャンバー２６内には、減圧チャンバ２６内の圧力（負圧）、即ちビード２０のウエブ上流側の圧力（負圧）を測定する圧力計３６が設けられると共に、圧力計３６で測定された圧力（負圧）はコントローラ３８に入力される。コントローラ３８は減圧チャンバー２６内が目標のサクション圧になるようにバルブ３２の開度を調整する。

そして、図３に示すように、減圧チャンバー２６は、該減圧チャンバー２６のウエブ幅方向の外幅をＡ（ｍｍ）とし、スロットの吐出幅をＢ（ｍｍ）としたときに外幅Ａの中心Ｏ₁ と吐出幅Ｂの中心Ｏ₂ を一致させた状態で次式（１）、
Ｂ≦Ａ≦Ｂ＋５０（ｍｍ）…（１）
を満足するように形成されている。より好ましくは次式（２）、
Ｂ≦Ａ≦Ｂ＋２５（ｍｍ）…（２）
を満足するように形成されている。

この場合、スペーサー２５のウエブ幅方向の幅ｄを狭くすることで、上記（１）式や（２）式を満足するように形成することは可能であるが、スペーサー２５の幅ｄは狭くせずに、減圧チャンバー２６のウエブ幅方向の外幅Ａをスロットダイ１８の幅Ｗよりも狭くすることで、上記（１）式や（２）式を満足することが好ましい。また、サイドプレート２６Ｂの板厚Ｌは３ｍｍ〜１０ｍｍの範囲が好ましく、５ｍｍ程度が特に好ましい。これは、サイドプレート２６Ｂの板厚Ｌを１０ｍｍ以下に薄くした方が耳部の濡れ広がりの抑制効果が一層大きくなるからであり、板厚Ｌが３ｍｍ未満では減圧チャンバー２６に強度的な問題が生じるためである。

ここで、減圧チャンバー２６のウエブ幅方向の外幅Ａとは、減圧チャンバー２６の内幅ａにサイドプレート２６Ｂの板厚Ｌを足した寸法を言う。また、外幅Ａの中心Ｏ₁ と吐出幅Ｂの中心Ｏ₂ を一致させるとは、減圧チャンバー２６の両端がスロット２４の両端に対して均等（最大で２５ｍｍずつ）に外側に出っ張っていることを意味する。

次に、上記の如く構成された塗布装置１０を使用した本発明の塗布方法を説明する。

尚、塗布条件としては、本発明の効果を特に発揮することのできる低粘度の有機溶剤塗布液を超薄膜塗布する例で説明する。

塗布前の準備として、スロットダイ１８とバックアップローラ１２の何れか一方を移動して、図３に示すように、スロットダイの下流側リップランド１６Ｂと、バックアップローラ１２に巻きがけ支持されるウエブ１４とのクリアランスＣＬを１００μｍ以下に設定する。また、上記（１）式又は（２）式を満足するように形成された減圧チャンバー２６のブロー３０を駆動すると共にバルブ３２の開度を調整して、減圧チャンバー２６内のエアを吸引して負圧にする。サクション圧（Ｐ）としては、大気圧＞Ｐ≧−２ｋＰａの範囲に設定することが好ましい。

この状態で、ウエブ１４を２０〜１００ｍ／分の塗布速度で連続走行させると共に、粘度１０ｍＰａ・ｓ以下の有機溶剤塗布液を塗布量１０ｃｃ／ｍ² 以下で塗布する。これにより、バックアップローラ１２に巻きがけ支持されて連続走行するウエブ１４表面に、リップランド１６を近接配置させたスロットダイ１８のスロット先端から塗布液を吐出してウエブ１４との間にビード２０を形成すると共に、該ビード２０のウエブ上流側を減圧チャンバー２６で減圧しながらウエブ表面に塗布液が塗布される。

ウエブ１４に塗布される塗布液としては、光学補償フィルム用塗布液、反射防止フィルム用塗布液、視野角拡大用塗布液のように低粘度・超薄膜塗布が必要な有機溶剤塗布液を好適に使用できる。

また、ウエブ１４としては公知の各種ウエブを用いることができる。一般的にはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等の公知の各種プラスチックフィルム、紙、紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布またはラミネートした各種積層紙、アルミニウム、銅、スズ等の金属箔等、帯状基材の表面に予備的な加工層を形成させたもの、あるいはこれらを積層した各種複合材料が含まれる。

かかる低粘度・超薄膜塗布のようにクリアランスＣＬが１００μｍ以下の場合には、従来の濡れ広がり抑制対策のように、スペーサー２５を突き出すことができないので、従来は減圧チャンバー２６のサクション圧を小さく抑えることで、ビード２０がウエブ幅方向に引っ張られる力を弱め、濡れ広がりを抑制していた。

しかし、従来の減圧チャンバーの外幅Ａは、装置設計の都合や作業性の観点から、図３に想像線で示すように、一対のサイドプレート２６’Ｂ、２６’Ｂの幅はスロットダイ幅Ｗと同じであり、従来の減圧チャンバーの外幅Ａとスロットの吐出幅Ｂとの関係は次式（３）の関係にあった。

Ｂ＋５０（ｍｍ）＜Ａ…（３）
このような関係にＡとＢとが設定された減圧チャンバーで、粘度１０ｍＰａ・ｓ以下の有機溶剤塗布液を塗布量１０ｃｃ／ｍ² 以下で塗布すると、ビード２０がウエブ幅方向に引っ張られる作用とクリアランスＣＬが狭いことによる毛細管現象との相乗効果により濡れ広がりが大きくなってしまう。これにより、製品幅が小さくなり、生産性が顕著に低減する。

これに対し本発明では、上記（１）式又は（２）式を満足するように減圧チャンバー２６のウエブ幅方向の外幅Ａとスロット２４の吐出幅Ｂとの関係を設定するようにしたので、上記のような低粘度・超薄膜塗布であっても耳部の濡れ広がりを効果的に抑制できる。これにより、耳部の裁断幅を小さくして製品幅を大きくとれるので、生産性を向上することができる。また、減圧チャンバー２６の圧力を、大気圧に対して−２ｋＰａまで減圧したが、このようにサクション圧を大きくしても、耳部の濡れ広がりを抑制できるので、塗布速度を速くすることが可能である。従って、製品幅を大きくとれることとあいまって生産性を更に向上できる。

尚、本発明の塗布装置１０は、クリアランスを１００μｍ以下とした条件下で、粘度１０ｍＰａ・ｓ以下の有機溶剤塗布液を塗布量１０ｃｃ／ｍ² 以下で塗布する場合のみに有効なだけでなく、クリアランスを１００μｍ以上とした条件下で、粘度１０ｍＰａ・ｓ以上の有機溶剤塗布液或いは水系の塗布液を塗布量１０ｃｃ／ｍ² 以上で塗布する場合にも、耳部の濡れ広がりを効果的に抑制することができる。従って、従来のように、塗布幅を規制するスペーサー２５をスロット先端から突き出させる必要がないので、塗布のための準備を簡易化できる。

以下に本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

試験は、減圧チャンバー２６の外幅Ａとスロット２４の吐出幅Ｂの寸法を色々変えることにより、上記したＢ≦Ａ≦Ｂ＋５０（ｍｍ）を満足する場合（実施例１〜７）と、満足しない場合（比較異１〜８）の塗布条件を形成してウエブ１４に塗布液を塗布し、引き続き塗布された塗布膜を乾燥装置で乾燥した。そして、乾燥後の塗布膜についてウエブ幅方向の膜厚を測定した。

減圧チャンバー２６の外幅Ａとスロット２４の吐出幅Ｂ以外の塗布条件は以下の通りである。

（塗布条件）
・クリアランスＣＬ：１００μｍ
・塗布液の塗布量 ：５ｃｃ／ｍ² 、８ｃｃ／ｍ² の２試験区
・塗布液の粘度 ：２ｍＰａ・ｓ、５ｍＰａ・ｓ、８ｍＰａ・ｓの３試験区
・塗布速度 ：２０ｍ／分
・減圧チャンバーのサクション圧：−０．１ｋＰａ、−０．３ｋＰａ、−０．５ｋＰａ、−１．０ｋＰａの４試験区
・ウエブ：８０μｍの厚さのセルローストリアセテートフィルム
（塗布膜の膜厚分布の測定）
膜厚分布の測定は、光学方式による膜厚測定器を使用して、ウエブ１４の幅方向に５ｍｍ間隔で膜厚を測定した。そして、測定結果を図４に示すように図示したときに、線４２で示す膜厚分布の平均値から膜厚比が１．５％低下（例えば反射防止膜の場合）した位置の外側を「耳ムラ幅」とした。また、スロット２４の吐出幅Ｂに対して実際に「塗布された幅」Ｄから前記した「耳ムラ幅（片側）×２」を引いた幅を製品幅Ｃとした。従って、反射防止膜の場合には３％以内の膜厚分布が望まれることから、膜厚分布の平均値から１．５％よりも下がると、製品とはならなくなる。

尚、膜厚分布が殆どない中央平坦部４０は実際にはもっと広幅に形成されるが、中央を省略する形で作図してある。また、高機能性薄層フィルムの種類によって、「耳ムラ幅」となる膜厚比の低下％は異なる。

（濡れ広がりの評価方法）
耳部の濡れ広がりがの評価として、スロット幅Ｂに対して得られる製品幅Ｃが大きいほど濡れ広がりが小さく、またスロット幅Ｂに対して実際に塗布される幅Ｄが小さいほど濡れ広がりが小さいと言える。そして、クリアランスを１００μｍ以下とした条件下で、粘度１０ｍＰａ・ｓ以下の有機溶剤塗布液を塗布量１０ｃｃ／ｍ² 以下で塗布する低粘度・超薄膜塗布であっても、製品幅を高粘度・厚膜塗布と同じように確保するには、Ｂ−Ｃが４０ｍｍ以下で、且つＤ−Ｂが５０ｍｍ以下の両方を満足することが必要である。従って、Ｂ−Ｃが４０ｍｍ以下で、且つＤ−Ｂが５０ｍｍ以下の両方を満足する場合を合格、満足しない場合を不合格として、濡れ広がりが小さいか大きいかを評価した。

（試験結果）
試験結果を表図５に示す。

表図５から分かるように、Ｂ≦Ａ≦Ｂ＋５０（ｍｍ）を満足するように減圧チャンバー２６のウエブ幅方向の外幅Ａとスロット２４の吐出幅Ｂを設定した実施例１〜７は、Ｂ−Ｃが４０ｍｍ以下で、且つＤ−Ｂが５０ｍｍ以下の両方を満足し、濡れ広がりが抑制されていた。特に、実施例２、５、６は、Ｂ−Ｃ及びＤ−Ｂのいずれも小さく良い結果であった。尚、表図５には示さなかったが、実施例３についてサクション圧を−１．０ｋＰａから−２．０ｋＰａまで負圧を大きくし、塗布速度を２０ｍ／分から５０ｍ／分まで速くしても、Ｂ−Ｃが４０ｍｍ以下、且つＤ−Ｂが５０ｍｍ以下で合格圏内であった。

これに対し、Ｂ≦Ａ≦Ｂ＋５０（ｍｍ）から外れるように減圧チャンバー２６のウエブ幅方向の外幅Ａとスロット２４の吐出幅Ｂを設定した比較例１〜８は、Ｂ−Ｃが４０ｍｍ以下とＤ−Ｂが５０ｍｍ以下の両方を満足しないか、一方を満足しない結果であり、濡れ広がりが大きかった。特に比較例ではＢ−Ｃが実施例に比べて大きく、スロット２４の吐出幅Ｂに対して製品として取れる製品幅Ｃが小さくなることが分かる。

本発明の塗布液の塗布装置の全体構成図 図１の塗布装置を側方向から見たときのクリアランス部分を示した拡大概念図 図１の塗布装置を上から見たときの概念図 スロットの吐出幅、耳ムラ幅（片側）、塗布された幅、製品幅を説明する説明図 本発明の実施例及び比較例の表図

符号の説明

１０…塗布装置、１２…バックアップローラ、１４…ウエブ、１６…リップランド、１６Ａ…上流側リップランド、１６Ｂ…下流側リップランド、１８…スロットダイ、２０…ビード、２２…マニホールド、２３…栓、２４…スロット、２５…スペーサー、２６…減圧チャンバー、２６Ａ…バックプレート、２６Ｂ…サイドプレート、２７…供給配管、２８…エア配管、３０…ブロア、３２…バルブ、３４…バッファ装置、３６…圧力計、３８…コントローラ、ＣＬ…クリアランス

Claims (5)

1. バックアップローラに巻きがけ支持されて連続走行するウエブ表面に、リップランドを近接配置させたスロットダイのスロット先端から塗布液を吐出して前記ウエブとの間にビードを形成すると共に、該ビードのウエブ上流側を減圧チャンバーで減圧しながら前記ウエブ表面に塗布液を塗布する塗布膜付きウエブの製造方法において、
   前記塗布液の液粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下であり、前記リップランドのうちウエブ上流側の上流側リップランドが下流側リップランドよりも窪んだオーバーバイド形状に形成され、前記減圧チャンバーの減圧度が大気圧に対して−０．３ｋＰａよりも大きく、且つ２０ｍ／分よりも大きな塗布速度である条件下で塗布液を塗布すると共に、
   前記スロットダイのスロット幅方向両端部には塗布幅を規制する一対のスペーサが挿入されると共に前記減圧チャンバーのサイドプレートの厚みが３ｍｍ未満にならないように形成され、前記減圧チャンバーのウエブ幅方向の外幅をＡ（ｍｍ）とし、前記スロットの吐出幅をＢ（ｍｍ）としたときに、前記外幅Ａの中心と前記吐出幅Ｂの中心を一致させた状態で次式、Ｂ＋６（ｍｍ）＜Ａ≦Ｂ＋５０（ｍｍ）を満足するように前記ＡとＢとの関係を設定することを特徴とする塗布膜付きウエブの製造方法。
2. 前記減圧チャンバーのウエブ幅方向の外幅Ａは前記スロットダイの幅Ｗよりも狭いことを特徴とする請求項１の塗布膜付きウエブの製造方法。
3. 前記リップランドと、前記バックアップローラに巻きがけ支持されるウエブとのクリアランスを１００μｍ以下とした条件下で、前記液粘度の有機溶剤塗布液を塗布量１０ｃｃ／ｍ² 以下で塗布することを特徴とする請求項１又は２の塗布膜付きウエブの製造方法。
4. 前記塗布液は、反射防止フィルム製造用、防眩性フィルム製造用、又は視野角拡大フィルム製造用の塗布液であることを特徴とする請求項１〜３の何れか１の塗布膜付きウエブの製造方法。
5. バックアップローラに巻きがけ支持されて連続走行するウエブ表面に、リップランドを近接配置させたスロットダイのスロット先端から塗布液を吐出して前記ウエブとの間にビードを形成すると共に、該ビードのウエブ上流側を減圧チャンバーで減圧しながら前記ウエブ表面に塗布液を塗布する塗布膜付きウエブの製造装置において、
   前記塗布液の液粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下であり、前記リップランドのうちウエブ上流側の上流側リップランドが下流側リップランドよりも窪んだオーバーバイド形状に形成され、前記減圧チャンバーの減圧度が大気圧に対して−０．３ｋＰａよりも大きく、且つ２０ｍ／分よりも大きな塗布速度である条件下で塗布液を塗布すると共に、
   前記スロットダイのスロット幅方向両端部には塗布幅を規制する一対のスペーサが挿入されると共に前記減圧チャンバーのサイドプレートの厚みが３ｍｍ未満にならないように形成され、前記減圧チャンバーのウエブ幅方向の外幅をＡ（ｍｍ）とし、前記スロットの吐出幅をＢ（ｍｍ）としたときに前記外幅の中心と前記吐出幅の中心を一致させた状態で次式、Ｂ＋６（ｍｍ）＜Ａ≦Ｂ＋５０（ｍｍ）を満足するように前記減圧チャンバーが形成されていることを特徴とする塗布膜付きウエブの製造装置。

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