JP2007245024A - 塗布方法、装置、及び光学フィルムの製造方法 - Google Patents

塗布方法、装置、及び光学フィルムの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】塗布液の送液脈動を有効に抑制することにより、薄層で均一な塗布膜を得ることができる塗布方法、装置、及び光学フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】塗布液14を供給するポケット18と、ポケットと連通し塗布液を外部に吐出させるスロット20と、を内部に備えるスロットダイ12を使用して連続走行する支持体W上に塗布液を塗布する塗布方法である。ポケットの内部又はポケットの給液口にオリフィス70を設ける。
【選択図】 図7

Description

本発明は、塗布方法、装置、及び光学フィルムの製造方法に係り、特に、薄膜の安定した塗布に好適な塗布方法、装置、及び光学フィルムの製造方法に関する。
反射防止フィルム等の光学フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような様々な画像表示装置に使用されている。また、眼鏡やカメラのレンズにも、反射防止フィルムが使用されている。
このような反射防止フィルムとしては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が、従来から普通に用いられている。複数の透明薄膜を用いる理由は、可視域でなるべく広い波長領域での光の反射を防止するためである。これら金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタリング法により形成されるが、これらに代えて、塗布法により形成する場合もある。
このような塗布法により塗布膜を形成する塗布装置として、バーコータ、リバースロールコータ、グラビアロールコータ、エクストルージョンコータ等の装置がある。特に、エクストルージョンコータは他と比較して、高速、薄層の塗布が可能であることから多用されている。
このようなエクストルージョンコータを使用した、薄層塗布による反射防止フィルムの製造では、膜厚の均一性が製品の性能を大きく左右するために、非常にシビアな条件が求められる。特に、近年、この薄層塗布技術において、所望の機能を発現させるために、従来よりも薄い湿潤膜厚である20μm以下の領域の塗布技術に対する要求が高まっている。
すなわち、このような高機能フィルムは、塗布膜厚精度及び塗膜性状が厳しく、高精度な薄層塗布技術が必要とされる。特に光学フィルムにおいては微小な膜厚変動により、所望の機能が発揮されなくなるからである。
ところで、エクストルージョンコータ(スロットダイ)を使用した高精度な薄層塗布を実現させるためには、スロットダイとウェブの間に形成される塗布液ビードが安定かつ均一に形成される必要がある。このビードが安定しなくなる原因としては、スロットダイや周辺機器の振動、減圧変動等が挙げられるが、特に、塗布液をスロットダイに供給する際の送液脈動が大きな原因となると考えられる。
この送液脈動は、スロットダイからの塗布液の吐出量変動に直接つながり、ビードの形状変化をもたらす。その結果、ウェブの塗布面には段ムラと呼ばれる面状故障を引き起こすこととなり、このようなウェブは製品としては使用できない。
この塗布液の送液脈動の原因は、塗布液を供給するポンプの脈動、送液ライン内に配置された脱泡装置等の影響、配管ラインの振動など、様々なものに起因しており、解決は非常に困難なものである。
この塗布液の送液脈動の問題を解決すべく、これまでに各種の提案がなされている(特許文献1〜特許文献5等参照)。
このうち特許文献1の提案は、エクストルージョンコータに脈動吸収装置を使用して磁気材の塗布を行う旨の内容である。特許文献2の提案は、光学フィルムの塗布に関するもので、口金ノズルによる毛管塗布で脈動をなくす旨の内容である。特許文献3の提案は、光学フィルムの塗布に関するもので、ポンプ使用せずにタンク圧送により脈動をなくす旨の内容である。
特許文献4の提案は、ポンプ使用せずにタンク加圧で塗布液を脈動なくエクストルージョンコータに供給する旨の内容である。特許文献5の提案は、エクストルージョンコータに塗布液を供給するとともに、その一部を引き抜いて脈動なく塗布を行う旨の内容である。
特開平5−31434号公報 特開2003−340355号公報 特開2004−351291号公報 特開2003−10761号公報 特開2002−45761号公報
しかしながら、上記特許文献1〜特許文献5等による提案では、塗布液の脈動による不具合が完全には解決されていないのが現状である。すなわち、従来の提案では、送液ライン内に脈動を吸収するためのバッファー等を入れることにより問題を解決しようとしているが、バッファー自体が振動した場合や、それより下流部で振動や脈動が発生した場合には、これらの効果を得ることができない。特に薄層化が進むにつれ、その要求精度はより高いものとなり、上記提案のものは最適な装置とはいえない。
たとえば、特許文献1では、脈動吸収装置をエクストルージョンコータの送液ラインに入れて無脈動化を図るとあるが、その装置自体がどの様なものかの説明が乏しく、具体的な方法がよく解らない。
特許文献2では、毛細管現象を利用し、液を口金ノズルから送ることにより脈動をなくすとしているが、液物性のバラツキ(濃度変化等)が起これば、結局、脈動と同じ現象を生じるので、必ずしも有効とは考えられない。
特許文献3では、塗布液タンクをスロットダイより上部に配し、液の圧力(ヘッド)で送液を行うことにより、ポンプを使用せずに塗布を行い無脈動化を図っている。また、送液ラインに防振材を使用することにより、振動防止を行っている。しかし、この方法では、流量を変化させることが困難であり、送液のオン・オフも迅速に行うことができない。また、振動の強度、周波数により防振材を使い分けなければ共振等を引き起こすので、コストや時間も非常に多大となる。
特許文献4では、タンクに圧力をかけることにより、ポンプを使用せず無脈動の実現を図っているが、タンクの加圧変動が脈動につながるので有効ではない。
特許文献5では、引き抜き方法を行うのでポンプが2台必要になり、コストがかかり、また、設備も大型化するので望ましくない。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、塗布液の送液脈動を有効に抑制することにより、薄層で均一な塗布膜を得ることができる塗布方法、装置、及び光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
前記目的を達成するために、本発明は、塗布液を供給するポケットと、該ポケットと連通し前記塗布液を外部に吐出させるスロットと、を内部に備えるスロットダイを使用して連続走行する支持体上に前記塗布液を塗布する塗布方法において、前記ポケットの内部又は前記ポケットの給液口にオリフィスを設けることを特徴とする塗布方法及び装置を提供する。
本発明者は、各種検討を重ねた結果、スロットダイを使用した塗布において、ポケットの内部又はポケットの給液口にオリフィスを設けることにより、塗布液の送液脈動を有効に抑制でき、これにより、薄層で均一な塗布膜を得ることができることを見出した。この詳細については後述する。
なお、「オリフィス」(orifice)とは、一般的には、管路の途中に挿入して流路を絞り、変化した圧力を検出して流量を測定するための孔のあいた円板を指すが、本明細書においては、流量の測定ではなく、流量の制御に適用するものである。
また、本発明は、塗布液を供給するポケットと、該ポケットと連通し前記塗布液を外部に吐出させるスロットと、を内部に備えるスロットダイを使用して連続走行する支持体上に前記塗布液を塗布する塗布方法において、前記スロットダイへの給液配管の前記ポケットの給液口より500mm以内の距離にオリフィスを設けることを特徴とする塗布方法を提供する。
本発明者は、同様に、スロットダイへの給液配管にオリフィスを設けることによっても、塗布液の送液脈動を有効に抑制でき、これにより、薄層で均一な塗布膜を得ることができることを見出した。
本発明において、前記オリフィスの孔断面積と前記オリフィスの上流側の流路の断面積との面積比を0.1以下とすることが好ましい。このような面積比とすることにより、本発明の効果が一層得られる。この詳細については、実施例等において後述する。
また、本発明において、前記オリフィスに複数の孔を設けることが好ましい。このように、オリフィスに複数の孔を設けても本発明の効果が得られる。
また、本発明において、前記オリフィスにテーパ孔を設けることが好ましい。このように、オリフィスにテーパ孔を設けても本発明の効果が得られる。
また、本発明は、前記の塗布方法を使用したことを特徴とする光学フィルムの製造方法を提供する。このような本発明によれば、塗布液の送液脈動を有効に抑制でき、これにより、薄層で均一な塗布膜を得ることができる。
以上説明したように、本発明によれば、塗布液の送液脈動を有効に抑制でき、これにより、薄層で均一な塗布膜を得ることができる。
以下、添付図面に従って、本発明に係る塗布方法、装置、及び光学フィルムの製造方法の好ましい実施の形態について詳説する。
図1は、発明に係る塗布方法、装置、及び光学フィルムの製造方法が適用される反射防止フィルムの製造ラインの塗布工程10を示す構成図である。この反射防止フィルムの製造ラインは、ロール状の支持体フィルム(以下、「ウェブ」と称する)Wを連続的に送り出す工程と、ウェブWを巻き取る工程との間に、塗布工程と乾燥工程(他に、塗布膜を硬化する工程)等を適宜必要な数だけ設置したものである。
図1に示される塗布工程10は、塗布位置においてウェブWを巻き掛けるバックアップローラ11に相対するように、スロットダイ12が設けられている。このスロットダイ12には塗布液14が供給されるようになっている。
すなわち、スロットダイ12は塗布液14を貯留する塗布液タンク40と給液配管42で連結されている。給液配管42には、上流側より順に、送液ポンプ46、第2の圧力指示計48、濾過フィルタ50、膜脱気装置52、第1の圧力指示計54、流量計56が接続されている。
給液配管42としては、内径を15mm以下とし、ストレート形状のフッ素樹脂又は内周部が研磨された金属部材とすることが好ましい。このように、小径の給液配管42にストレート形状のフッ素樹脂(たとえば、商標名:「テフロン」)又は内周部が研磨された金属部材を使用すれば、配管内の塗布液14の流れが良好となり、気泡の排除に有効である。
また、送液ラインより送液脈動を排除するためにも、オリフィス70手前の給液配管42は振動の伝播を少なくすることが望ましいので、1)配管自身を剛性の低いフッ素樹脂(たとえば、商標名:「テフロン」)のものにする、2)肉厚の小さいベローズ状の配管にする、3)防振材を配する、等の構成が好ましい。
送液ポンプ46としては、公知の各種タイプのポンプ(ギアポンプ等)が使用できるが、ダイアフラムポンプが好ましく使用できる。すなわち、本発明のように、スロットダイ12内部、及び給液配管42内に加圧状態を発生させる場合、塗布液14を送る送液ポンプ46はダイヤフラムポンプであることが好ましい。
ギアポンプでは、種類によっては「すり抜け」と称される現象により、塗布液14を良好に送れなくなる場合もある。また、塗布液14中の分子が大きい場合(たとえば、1μm以上)、ギアのかみ合わせによって分子のせん断、又はギアの破損を引き起こす可能性がある。
第1の圧力指示計54及び第2の圧力指示計48しては、公知の各種タイプの圧力計が使用できる。
濾過フィルタ50及び膜脱気装置52は、塗布液の組成等に応じて適宜の仕様のものが採用できる。
流量計56としては、公知の各種タイプの流量計が使用できるが、コリオリ式流量計が好ましく使用できる。
図2は、スロットダイ(塗布ヘッド)12の一部を切断して示す斜視図であり、図3は、スロットダイ12の先端部分とウェブWとの位置関係を示す概略断面図である。
図2及び図3に示されるように、スロットダイ12には、塗布液を供給できるような下記の液供給系が設けられている。すなわち、スロットダイ12の本体16には、長手方向(ウェブWの幅方向)に延びたポケット(液溜め部)18と、ポケット18と連通するとともに、長手方向(ウェブWの幅方向)においてウェブWと対向し、開口部より塗布液を塗出するスロット20と、ポケット18へ塗布液を供給する液供給口22と、を備えている。
ポケット18は、「液溜め部」又は「マニホールド」とも称され、その断面が略円形をなし、図2に示されるように、ウェブWの幅方向に略同一の断面形状をもって延長された液溜め機能を有する空洞部である。その有効長さは、通常、塗布幅と同等又は若干長く設定される。ポケット18の貫通した両端開口部は、図2に示されるように、本体16の両端部に取付けられる閉鎖板26、28により閉止されている。なお、既述の液供給口22は閉鎖板26に設けられている。
スロット20は、ポケット18からウェブWに向け、500μm以下、好ましくは300μm以下、より好ましくは150μm以下の開口幅(スロットクリアランス)をもってスロットダイ12の本体16内部を貫通し、かつポケット18と同じようにウェブWの幅方向に延長された比較的狭隘な流路であり、ウェブWの幅方向の開口長さは塗布幅と略同等に設定される。
スロット20の、ポケット18との境界部から開口部までの距離(ウェブWに向けた流路の長さ)は、スロット20のウェブWの幅方向の開口長さ、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得る。すなわち、塗布液がウェブWの幅方向に均一な流量と液圧分布をもって層流状にスロット20から供給できればよい。なお、スロット20のウェブWの幅方向の開口長さが1000〜1200mm程度の場合には30〜80mmの範囲が好ましく採用できる。
スロット20は、スロットダイ12の本体16のフロントエッジ30とバックエッジ32とにより形成される。スロットダイ12の本体16の上面(ウェブWと対向する面)には、上流側より、フロントエッジ面30a、バックエッジ面32aがそれぞれ形成されている。
図2に示されるように、フロントエッジ面30aは断面が略直線状に、バックエッジ面32aは、断面が山型に形成されている。また、フロントエッジ面30aの後端エッジ部30bとバックエッジ面32aの先端エッジ部32bとには所定の段差が設けられ、塗布液14の所定厚さの膜が形成できるようになっている。
なお、図2に示されるフロントエッジ面30a、バックエッジ面32aの断面形状は一例であり、他の断面形状、たとえば円弧状、放物線状等、各種の形状が採用できる。
次に、スロットダイ12の先端部分について、図3を参照しながら説明する。なお、図3においては、フロントエッジ面30a、バックエッジ面32aの断面形状が図2のものと異なって形成されている。
図3に示される塗布工程10において、バックアップローラ11に支持されて連続走行するウェブWに対して、スロットダイ12から塗布液14をビード14aにして塗布することにより、ウェブW上に塗膜14bを形成できるようになっている。
このスロット20のスロット先端における、バックアップローラ11のウェブ走行方向の接線とのなす角は、30°以上90°以下が好ましい。
スロット20の開口部20aが位置するスロットダイ12のフロントエッジ30及びバックエッジ32の、フロントエッジ面30aは、平坦状に形成されており、バックエッジ面32aは、先細り状に形成されている。
以上のスロットダイ12は、精度良く塗布するために振動対策が施されていることが好ましい。このため、基礎部を独立に構成するなどして振動の影響を最小限にすることが好ましい。また、スロットダイ12の重量を大きくして安定した構造とすることができる。
次に、本発明の特徴部分であるオリフィスについて説明する。図4〜図6は、いずれもスロットダイ12の斜視図であり、オリフィス70の配設位置を説明する図である。
このオリフィス70は、図4に示されるように、スロットダイ12のポケット18の内部に設けられたり、又は、図5に示されるように、ポケット18の給液口に設けられたりするものであるが、図6に示されるように、ポケット18への給液配管に設けることもできる。
なお、図4〜図6において、ポケット18の両端部のうち、液供給口22の反対側の端部にはポケット栓72が設けられており、ポケット18を封止している。また、図4〜図6において、スロット20の幅が両端部分のスペーサ20A、20Bにより規制されている。
このように、送液ラインより送液脈動を排除するためにオリフィス70を導入するのであるが、オリフィス70自体が振動等の影響を受けてしまっては脈動を消すことができない。そのため、オリフィス70はできる限り、振動の影響を受けない場所に設置することが望まれる。そこで、本発明者は、オリフィス70をスロットダイ12のポケット18の内部、又は、ポケット18の給液口に設けることとした。なお、オリフィス70を、給液配管42のポケット18の給液口より500mm以内の距離に設けることによっても、所定の効果が得られる。
既述したように、「オリフィス」(orifice)とは、一般的には、管路の途中に挿入して流路を絞り、変化した圧力を検出して流量を測定するための孔のあいた円板を指すが、本明細書においては、流量の測定ではなく、流量の制御に適用するものである。
以下、オリフィス70の詳細について、図7により説明する。このうち、(A)は、オリフィス70の斜視図であり、(B)は、オリフィス70の断面図である。このオリフィス70は、厚さLのスリット板Fに1の孔が設けられたタイプのものである。
図7(B)において、Sは、給液配管42の断面積であり、Sdは、スリット板Fの孔断面積であり、Aは、オリフィス70(スリット板F)への進入波の振幅であり、Bは、進入後の波の振幅である。また、このオリフィス70による透過損失TLは、以下の式1で表される。
Figure 2007245024
ここで、mは、給液配管42の断面積Sとスリット板Fの孔断面積Sdとの比であり、kは、給液配管42の内部の物質に依存する項であり、fは、音波の周波数であり、cは、媒質中の音速であり、媒質の粘度や密度に依存する値である。
また、このオリフィス70による透過損失TLは、図7(B)の値A及びBにより、以下の式2でも表される。
Figure 2007245024
上記の式1及び式2からも解るように、オリフィス70を通過後の波の伝播は、周波数fやスリット板Fの孔断面積Sdを小さくすることに伴って減衰することが解る。したがって、オリフィス70を導入することにより、塗布液の送液脈動を有効に抑制できる。
また、上記の式1において、オリフィス70の孔断面積Sdと、オリフィス70の上流側の給液配管42のの断面積Sとの面積比(1/m)を0.1以下とすることが好ましい。
なお、以上説明したオリフィス70の具体的な効果については、後述する実施例において示される。
次に、上記の塗布工程10による塗布方法について説明する。
反射防止フィルム等の光学フィルムに用いるウェブWとしては、透明なプラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−4,4' −ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタクチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン)、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンが含まれる。
特に、トリアセチルセルロースが好ましく用いられる。トリアセチルセルロースフィルムとしては、TAC−TD80U(富士写真フィルム(株)製)等の公知のもの、公開技報番号2001−1745にて公開されたものが好ましく用いられる。
ウェブWの光透過率は、80%以上であることが好ましく、86%以上であることが更に好ましい。ウェブWのヘイズは、2.0%以下であることが好ましく、1.0%以下であることが更に好ましい。ウェブWの屈折率は、1.4〜1.7であることが好ましい。
ウェブWの厚さは特に限定されないが、30〜150μmが好ましく、40〜130μmがより好ましく、70〜120μmが更に好ましい。
塗布液用分散媒としては、特に限定されない。単独でも2種以上を混合して使用してもよい。
好ましい分散媒体は、トルエン、キシレン、スチレン等の芳香族炭化水素類、クロルベンゼン、オルトージクロルベンゼン等の塩化芳香族炭化水素類、モノクロルメタン等のメタン誘導体、モノクロルエタン等のエタン誘導体等を含む塩化脂肪族炭化水素類、メタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、エチルエーテル、1,4 −ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、エチレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、ノルマルヘキサン等の脂肪族炭化水素類、脂肪族又は芳香族炭化水素の混合物等が該当する。
これら溶媒の中でも、ケトン類の単独又は2種以上の混合により作成される塗布用分散媒が特に好ましい。
本発明の塗布方式は、液物性により塗布可能な上限の速度が大きく影響を受けるため、塗布する瞬間の液物性、特に粘度及び表面張力を制御する必要がある。
粘度については0.01Pa・s以下であることが好ましく、0.005Pa・s以下がより好ましく、0.002Pa・s以下が更に好ましい。
塗布液によっては、せん断速度により粘度が変化するものもあるため、上記の値は塗布される瞬間のせん断速度における粘度を示している。塗布液にチキソトロピー剤を添加して、高せん断のかかる塗布時は粘度が低く、塗布液にせん断が殆どかからない乾燥時は粘度が高くなると、乾燥時のムラが発生しにくくなり、好ましい。
また、液物性ではないが、ウェブに塗布される塗布液の量も、塗布可能な上限の速度に影響を与える。ウェブに塗布される塗布液の量は2.0〜5.0ml/mであることが好ましい。ウェブに塗布される塗布液の量を増やすと、塗布可能な上限の速度が上がるため好ましいが、ウェブに塗布される塗布液の量を増やしすぎると、乾燥にかかる負荷が大きくなるため、液処方・工程条件によって最適なウェブに塗布される塗布液の量を決めることが好ましい。
表面張力については、15〜36mN/mの範囲にあることが好ましい。レベリング剤を添加するなどして表面張力を低下させることは、乾燥時のムラが抑止されるため好ましい。一方、表面張力が下がりすぎると、塗布可能な上限の速度が低下してしまうため、17〜32mN/mの範囲がより好まく、19〜26mN/mの範囲が更に好ましい。
光学フィルムの代表例としての光干渉による多層構成の反射防止膜製造は、以下のように行われる。
ウェブWが巻回されたロールからウェブWがクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、ウェブWに帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きウェブW上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布工程10で塗布液がウェブW上に塗布され、塗布されたウェブWは乾燥室に送られて乾燥される。
乾燥した塗布層を有するウェブWは、乾燥室から放射線硬化室へ送り出され、放射線が照射されて塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。更に、放射線により硬化した層を有するウェブWは熱硬化部へ送られ、加熱されて硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するウェブWは巻き取られてロール状となる。
上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−放射線硬化部−熱硬化室を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能であるが、生産性の観点から各層の形成を連続的に行う事が好ましい。
以下、塗布液を塗布する工程について説明する。
塗布液タンク40より送液ポンプ46により圧送された塗布液14は、第2の圧力指示計48、濾過フィルタ50、膜脱気装置52、第1の圧力指示計54、流量計56を経て給液配管42によりスロットダイ12に供給される。このスロットダイ12のポケット18の内部、ポケット18の給液口、又は、ポケット18への給液配管にオリフィス70が設けられているので、塗布液の送液脈動を有効に抑制できる。
そして、バックアップローラ11に支持されて連続走行するウェブWに対して、スロットダイ12から塗布液14をビード14aにして塗布することにより、ウェブW上に塗膜14bが形成される。この際、スロットダイ12において塗布液の送液脈動が抑制されているので、送液脈動による面状欠陥がなく、膜厚均一性が高い塗布が実施できる。
特に、流量が少ない、粘度が低いといった薄層塗布の基本的な条件とオリフィス70とを組み合わせることにより、送液脈動を有効に抑制でき良好な塗布状態を維持できる。
すなわち、図1に示される塗布工程10により、塗布液14を塗布したところ、スジ欠陥が少なく、膜厚均一性が向上した。したがって、本実施の形態によれば、送液脈動による面状欠陥がなく、膜厚均一性が高い反射防止フィルム等の光学フィルムを製造することができる。
以上、本発明に係る塗布方法、装置、及び光学フィルムの製造方法の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
たとえば、本実施形態において、オリフィス70としてスリット板Fに1の孔が設けられたタイプのものが採用されているが、これ以外の各種の態様が採り得る。この例を図8に示す。図8(A)は、オリフィス70に複数の孔が設けられているタイプのものである。図8(B)は、オリフィス70に1のテーパ孔が設けられているタイプのものである。このように、オリフィス70が多孔状のものであっても、テーパ形状のものであっても、本実施形態と同様の効果を得ることができる。
また、本実施形態では、スロットダイ12のフロントエッジ面30a及びバックエッジ面32aの形状が2種類(図2及び図3)例示されているが、これ以外の各種の態様が採り得る。
また、本実施形態では、スロットダイ12の一端に液供給口22が設けられているが、これ以外の態様、たとえば、スロットダイ12の中央に液供給口22が設けられる態様も採り得る。
以下に、実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例全般において次の塗布液を使用した。
[塗布液]
実施例全般において次の調合による塗布液(反射防止膜用の塗布液)を使用した。屈折率が1.42である、熱架橋性含フッ素ポリマーを6重量%含むメチルエチルケトン溶液(JN−7228、JSR(株)製)93gに、MEK−ST(平均粒径10nm〜20nm、固形分濃度30重量%のSiOゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学(株)製)を8g、メチルエチルケトンを94g、及びシクロヘキサノンを6gを添加し、攪拌した後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルタ(PPE−01)で濾過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
塗布液の粘度及び表面張力を、それぞれ、0.7mN.s/m(0.7cp)、23mN/m(23dyn)とした。
[塗布条件]
図1に示される塗布工程10を使用して塗布液の塗布を行った。塗布液の塗布速度(ウェブWの走行速度)を30m/分とし、塗布量(湿潤状態)を5ml/mとした。スロット20の開口幅(スロットクリアランス)は、150μmに設定した。ウェブWの幅は、1500mmであり、塗布幅を1400mmとした。
[脈動の測定]
送液脈動の測定は、ポケット18のポケット栓72の位置(すなわち、液供給口22の反対側の端部)に微差圧計を配置して測定した。この微差圧計として、コスモ計器社製の圧力トランジューサーを使用し、これをキーエンス(KYENCE)社製のデータレコーダー(型番:NR2000)に接続して送液脈動を測定した。
脈動率は、脈動圧力波の強度のピークtoピークを絶対値で割ったものを使用し、オリフィス70の前後で測定した。
[塗布面状の測定]
塗布面状の測定には、光干渉型膜厚測定器(大塚電子社製の瞬間マルチ測光システム(MCPD)を使用した。膜厚の幅方向の分布として、測定した値の(最大値−最小値)/平均値を求め分布値とした。この測定を、ウェブWの長手方向(走行方向)に亘り2mm間隔で200点で行った。
[オリフィスの条件]
オリフィスの条件を各種変更して、膜圧分布(塗布面状)、オリフィス前の脈動、及びオリフィス後の脈動を評価した。オリフィスの各条件及び評価結果を図9の表に纏める。
このうち、試料No1は、オリフィスのない条件である。試料No2〜試料No13は、1孔で厚さが10mmのオリフィスを使用した条件である。試料No2〜試料No13のうち、試料No2、試料No6、及び試料No10は、給液配管42を内部がテフロン(登録商標)のフレキシブルホース状の配管としたものであり、オリフィスをポケット入り口から距離500mm以内の配管内に配したものである。
試料No3、試料No7、及び試料No11は、給液配管42をストレート状の配管(ステンレス鋼製)としたものであり、オリフィスをポケット入り口から距離500mm以内の配管内に配したものである。
試料No4、試料No8、及び試料No12は、オリフィスを給液口に設けたものであり、オリフィスをポケット入り口から距離200mm以内の配管内に配したものである。
試料No5、試料No9、及び試料No13は、オリフィスをポケット栓に設けたものである。
試料No14、試料No15、及び試料No16は、いずれも1孔のオリフィスをポケット栓に設けたものであり、試料No14は、厚さが10mmであり、試料No15は、厚さが1mmであり、試料No16は、厚さが50mmである。
試料No17、及び試料No18は、いずれも多孔のオリフィスをポケット栓に設けたものである。試料No19は、1孔でテーパ状のオリフィスをポケット栓に設けたものである。
[オリフィスの効果]
以上の図9の表の各条件において、オリフィスの脈動抑制、面状均一化の効果を確認した。
オリフィス径が小さくなるほど、脈動抑制効果の大きいことが解った。また、所望の面状レベルを得るためには断面積比は0.01程度必要なことが解った。また、オリフィス形状に拘らず、脈動抑制効果は開口面積比によることが解った。
以上、オリフィスの効果により脈動が減衰し均一な面状を得られることが確認できた。
なお、製品としての許容範囲として、膜厚分布は長手方向の分布として2%以下が望まれる。
本発明に係る塗布方法、装置、及び光学フィルムの製造方法が適用される反射防止フィルムの製造ラインの塗布工程を示す構成図 エクストルージョン塗布装置の塗布ヘッドの一部を切断して示す斜視図 塗布ヘッドの先端部分とウェブとの位置関係を示す概略断面図 オリフィスの配設位置を説明するスロットダイの斜視図 オリフィスの配設位置を説明するスロットダイの斜視図 オリフィスの配設位置を説明するスロットダイの斜視図 オリフィスの詳細を説明する断面図等 オリフィスの他の例を示す斜視図 実施例の条件及び結果を示す表
符号の説明
10…塗布工程、11…バックアップローラ、12…スロットダイ、14…塗布液、14a…ビード、14b…塗膜、18…ポケット、20…スロット、40…塗布液タンク、42…給液配管、46…送液ポンプ、70…オリフィス、W…可撓性支持体(ウェブ)

Claims (7)

  1. 塗布液を供給するポケットと、該ポケットと連通し前記塗布液を外部に吐出させるスロットと、を内部に備えるスロットダイを使用して連続走行する支持体上に前記塗布液を塗布する塗布方法において、
    前記ポケットの内部又は前記ポケットの給液口にオリフィスを設けることを特徴とする塗布方法。
  2. 塗布液を供給するポケットと、該ポケットと連通し前記塗布液を外部に吐出させるスロットと、を内部に備えるスロットダイを使用して連続走行する支持体上に前記塗布液を塗布する塗布方法において、
    前記スロットダイへの給液配管の前記ポケットの給液口より500mm以内の距離にオリフィスを設けることを特徴とする塗布方法。
  3. 前記オリフィスの孔断面積と前記オリフィスの上流側の流路の断面積との面積比を0.1以下とする請求項1又は2に記載の塗布方法。
  4. 前記オリフィスに複数の孔を設ける請求項1、2又は3に記載の塗布方法。
  5. 前記オリフィスにテーパ孔を設ける請求項1、2又は3に記載の塗布方法。
  6. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の塗布方法を使用したことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
  7. 塗布液を供給するポケットと、該ポケットと連通し前記塗布液を外部に吐出させるスロットと、を内部に備えるスロットダイにより連続走行する支持体上に前記塗布液を塗布する塗布装置において、
    前記ポケットの内部又は前記ポケットの給液口にオリフィスが設けられていることを特徴とする塗布装置。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009112940A (ja) * 2007-11-06 2009-05-28 Toppan Printing Co Ltd ダイヘッド、塗布装置、光学フィルムの製造方法
US20100075030A1 (en) * 2008-09-24 2010-03-25 Fujifilm Corporation Liquid sending method and system
JP2010078004A (ja) * 2008-09-24 2010-04-08 Fujifilm Corp 送液方法、及び塗布方法
JP2011143348A (ja) * 2010-01-14 2011-07-28 Fujifilm Corp 塗布装置及びそれを用いた光学フィルムの製造方法
JPWO2017047449A1 (ja) * 2015-09-18 2018-07-05 Necエナジーデバイス株式会社 塗工装置および塗工方法
JP2021133299A (ja) * 2020-02-26 2021-09-13 古河電気工業株式会社 供給装置及び供給方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10192766A (ja) * 1997-01-06 1998-07-28 Tdk Corp 塗布装置
JP2003033715A (ja) * 2001-07-25 2003-02-04 Fuji Photo Film Co Ltd 給液装置及び塗布方法並びにダイ接続ノズル
JP2005205397A (ja) * 2003-12-24 2005-08-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd 流体供給ノズル、基板処理装置及び基板処理方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10192766A (ja) * 1997-01-06 1998-07-28 Tdk Corp 塗布装置
JP2003033715A (ja) * 2001-07-25 2003-02-04 Fuji Photo Film Co Ltd 給液装置及び塗布方法並びにダイ接続ノズル
JP2005205397A (ja) * 2003-12-24 2005-08-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd 流体供給ノズル、基板処理装置及び基板処理方法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009112940A (ja) * 2007-11-06 2009-05-28 Toppan Printing Co Ltd ダイヘッド、塗布装置、光学フィルムの製造方法
US20100075030A1 (en) * 2008-09-24 2010-03-25 Fujifilm Corporation Liquid sending method and system
JP2010075792A (ja) * 2008-09-24 2010-04-08 Fujifilm Corp 送液方法、及び送液システム
JP2010078004A (ja) * 2008-09-24 2010-04-08 Fujifilm Corp 送液方法、及び塗布方法
US8420178B2 (en) * 2008-09-24 2013-04-16 Fujifilm Corporation Liquid sending method and system
JP2011143348A (ja) * 2010-01-14 2011-07-28 Fujifilm Corp 塗布装置及びそれを用いた光学フィルムの製造方法
US8846139B2 (en) 2010-01-14 2014-09-30 Fujifilm Corporation Coating apparatus and film production method using the same
JPWO2017047449A1 (ja) * 2015-09-18 2018-07-05 Necエナジーデバイス株式会社 塗工装置および塗工方法
US10906060B2 (en) 2015-09-18 2021-02-02 Envision AESC Enerev Devices Ltd. Coating device and coating method
JP2021133299A (ja) * 2020-02-26 2021-09-13 古河電気工業株式会社 供給装置及び供給方法
JP7470530B2 (ja) 2020-02-26 2024-04-18 古河電気工業株式会社 供給装置及び供給方法

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