JP2007237128A - 塗布方法及び装置 - Google Patents

Abstract

【課題】低粘度の塗布液を低塗布量で塗布する際に耳部で塗布欠陥が発生することを抑制でき、製品ロスとなる耳部の切除幅を減少させることのできる塗布方法及び装置を提供する。
【解決手段】塗布装置１０は、連続走行するウエブ１２にダイ１４の先端から塗布液を押し出して塗布を行う。ダイ１４のスロット２８は、その幅寸法が先端にかけて連続して狭くなるように形成される。
【選択図】 図２

Description

本発明は塗布方法及び装置に係り、特に、エクストルージョン塗布法による塗布方法及び装置に関する。

写真感光液、磁性液、溶剤塗料など水や溶剤を溶媒とする塗布液をウエブ（帯状支持体）に塗布する装置として、エクストルージョン型の塗布装置が一般に用いられている。この塗布装置は、塗布ヘッド内のポケット部に送液した塗布液を、ポケット部に連通するスロット部を介して外部に押し出すことによって、連続走行するウエブに塗布する構成になっている。

エクストルージョン型の塗布装置では、塗布幅をウエブ幅に応じて変更する必要があり、一般にスロットの両端位置に塗布幅規制板（スペーサ）を液密状態で挿入配置することによって幅規制を行っている。たとえば特許文献１には、塗布幅規制板として、平面三角形のガイドを有するデッケル（スペーサ）をスロットの端部に挿入したことが記載されている。この特許文献１によれば、スロット幅はデッケルによってスロット出口付近で広がりながら塗布幅に規制される。同様に、特許文献２に記載の塗布ヘッドは、スロットの出口付近においてスロット幅が広がるように構成されている。また、特許文献３の塗布ヘッドは、スロット幅が二段階で広がるように構成されている。

上記の特許文献１〜３は、スロット幅がスロット出口付近において広がるように構成されるため、スロット出口付近での塗布液の流速が低下する。したがって、特許文献１〜３によれば、幅方向の端部（以下、耳部という）での厚塗りを防止できるとされている。
特開平７−６８２０７号公報 特開昭６２−２４１５７４号公報 特開２００３−７１３５７号公報

しかしながら、特許文献１〜３の塗布装置は、１０ｍＰａ・ｓ以下の低粘度の塗布液をウェット膜厚５〜３０μｍの低塗布量で塗布した際に、ビード（すなわち塗布ヘッドの先端とウエブとの間に形成される塗布液溜まり）が耳部において不安定になり、耳切れと呼ばれる未塗布の欠陥が生じるという問題があった。また、特許文献１〜３の塗布装置は、低粘度の塗布液を低塗布量で塗布した際に、スロット部の出口付近の耳部で塗布液の流速が低下し、耳落ちと呼ばれる膜厚低下が発生するという問題があった。

このため、従来の塗布装置で低粘度の塗布液を低塗布量で塗布した場合は、塗布後のウエブの耳部を３０ｍｍと非常に大きな範囲で切除しなければならず、製品ロスが大きいという問題があった。

本発明はこのような事情に鑑みて成されたもので、低粘度の塗布液を低塗布量で塗布する際に耳部で塗布欠陥が発生することを抑制でき、製品ロスとなる耳部の切除幅を減少させることのできる塗布方法及び装置を提供することを目的とする。

請求項１に記載の発明は前記目的を達成するために、エクストルージョン型の塗布ヘッドのスロット部の先端から、粘度１０ｍＰａ・ｓ以下の塗布液を吐出することによって、走行するウエブにウェット膜厚５〜３０μｍの塗布膜を形成する塗布方法において、前記スロット部の幅がその先端にかけて連続的に減少する塗布ヘッドを用いて塗布を行うことを特徴とする。

請求項２に記載の発明は請求項１の発明において、前記ウエブの速度を４０〜６０ｍ／ｍｉｎの範囲に設定し、前記スロット部の先端での塗布液の平均流速Ｖｍ／ｓ、前記スロット部の幅の減少面積をＳｍｍ^２とした際に、（１００／１．５）＜（−Ｓ／（Ｖ−３））＜（７００／１．５）、の関係式を満たすことを特徴とする。

請求項３に記載の発明は請求項１又は２の発明において、前記塗布液の表面張力が１５〜３０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする。

請求項４に記載の発明は前記目的を達成するために、ウエブを連続走行させるウエブ走行手段と、前記ウエブに塗布液を押し出すとともに、その先端にかけてスロット幅が連続的に減少するスロット部を備えたエクストルージョン型の塗布ヘッドと、を備えたことを特徴とする。

請求項５に記載の発明は請求項４の発明において、前記スロット部は、幅方向の側面が平面状に形成され、前記スロット幅が一定の割合で減少することを特徴とする。

請求項６に記載の発明は請求項４の発明において、前記スロット部は、幅方向の側面が円弧状に形成され、前記スロット幅の減少率が先端にかけて大きくなることを特徴とする。

請求項７に記載の発明は請求項４〜６のいずれか１において、前記ウエブ走行手段は前記ウエブを４０〜６０ｍ／ｍｉｎの速度範囲で走行させ、前記塗布ヘッドは、粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下の塗布液をウェット膜厚５〜３０μｍで塗布するとともに、前記スロット部の先端での塗布液の平均流速Ｖｍ／ｓと、前記スロット幅の減少面積Ｓｍｍ^２が、（１００／１．５）＜（−Ｓ／（Ｖ−３））＜（７００／１．５）、の関係式を満たすように構成されることを特徴とする。

本発明の発明者は、低粘度の塗布液を低塗布量で塗布した際に耳部の塗布欠陥が生じる原因は、スロット部の先端の耳部で塗布液の流れが不安定になるためであり、スロット幅を先端にかけて減少させて耳部での塗布液の流れを安定させることによって、耳部での塗布欠陥を抑制できるという知見を得た。さらに、本発明の発明者は、塗布試験を繰り返し行ってデータを集めることにより、ウエブの速度が４０〜６０ｍ／ｍｉｎの範囲で、且つ、塗布液の粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下、ウェット膜厚が５〜３０μｍの場合は、スロット部先端での塗布液の平均流速Ｖｍ／ｓと、スロット幅の減少面積Ｓｍｍ^２が、次式：（１００／１．５）＜（−Ｓ／（Ｖ−３））＜（７００／１．５）、を満たすことによって、耳部での塗布欠陥を防止できるという知見を得た。

本発明はこのような事情に鑑みて成されたものであり、スロット部の幅がその先端にかけて連続的に減少する塗布ヘッドを用いて塗布を行うようにしたので、スロット部の耳部での塗布液の流れを安定させることができ、耳部での塗布欠陥を抑制することができる。したがって、低粘度の塗布液を低塗布量で塗布した場合であっても、製品ロスとなる切除幅を減少させることができる。

また、本発明によれば、ウエブの速度が４０〜６０ｍ／ｍｉｎの範囲において、スロット部先端での塗布液の平均流速Ｖｍ／ｓ、スロット幅の減少面積Ｓｍｍ^２が、次式：（１００／１．５）＜（−Ｓ／（Ｖ−３））＜（７００／１．５）、を満たすようにしたので、耳部での塗布欠陥をより確実に防止することができる。なお、スロット幅の減少面積とは、スロット幅が先端から一定幅で形成された場合に比べて減少した面積をいう。

本発明によれば、スロット幅がその先端にかけて連続的に減少する塗布ヘッドを用いて塗布を行うので、スロット部の耳部での塗布液の流れを安定させることができ、耳部での塗布欠陥を抑制することができる。

以下添付図面に従って本発明に係る塗布方法及び装置の好ましい実施形態について説明する。

図１は本発明に係る塗布装置１０の構成を模式的に示す断面図である。同図に示す塗布装置１０は、１０ｍＰａ・ｓ以下の低粘度の塗布液を帯状支持体（ウエブ）１２の上に塗布し、ウェット膜厚５〜３０μｍである薄い塗膜を形成するエクストルージョン型の塗布装置である。

ウエブ（帯状支持体）としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエチレン、ポリトリフロロエチレン、（ＴＡＣなどの）セルロース系フィルム、ナイロンフィルム等の各種のプラスチックフィルムを挙げることができる。更にこれらの二種以上からなる複合材料も使用することができる。支持体の厚さは、２〜５００μｍが好ましく、平面均一性の優れていることが求められる。支持体は長尺支持体であることが好ましい。本発明の感光性転写シートを製造する際に使用する長尺支持体の長さは任意に決めればよいが、たとえば１０ｍ〜２００００ｍの長さのものが使用可能である。

図１に示すように、塗布装置１０は主として、ダイ（塗布ヘッド）１４、バックアップローラ１６、及び、減圧チャンバ１８で構成される。バックアップローラ１６は、たとえば鉄等の金属の表面にＨＣｒメッキ等を施すことによって製造される。このバックアップローラ１６には、矢印方向に連続して走行するウエブ１２が巻きかけられて支持されており、バックアップローラ１６は、このウエブ１２と同じ方向に同じ速度で回転するようになっている。なお、ウエブ１２は、不図示の走行手段（たとえばサクションローラやニップローラ等のフィードローラ）によって走行するように構成される。

減圧チャンバ１８は、ウエブ１２の走行方向に対してダイ１４の上流側に設けられる。また、減圧チャンバ１８は、たとえばステンレス等の金属材によって、上面が開口された箱型に形成される。この減圧チャンバ１８は、バックアップローラ１６に巻きかけ支持されたウエブ１２に対して、接触せず、且つ、隙間が小さくなるように配置されている。減圧チャンバ１８には、吸引管２０が接続されており、吸引管２０を介して真空ポンプ等の負圧発生源（不図示）に接続されている。この負圧発生源を駆動させることによって、減圧チャンバ１８内が所定の減圧度に制御される。これにより、ダイ１４の先端から塗布液を吐出した際に、ダイ１４の先端とウエブ１２との間に形成されるビードを安定させることができる。なお、減圧チャンバ１８は、たとえばダイ１４の架台２２に固定されている。

ダイ１４は、ステンレス等の金属材から成る上部本体２４と下部本体２６とを組み合わせることによって構成される。上部本体２４と下部本体２６との間には、ダイ１４の幅方向にスリット状の隙間（以下、スロット２８）が形成されている。スロット２８の幅方向の両端部には、図２に示すスペーサ３０、３０が設けられており、スペーサ３０、３０によってスロット２８が液封される。このスペーサ３０、３０によってスロット２８の幅寸法が規制されており、その幅寸法はスロット２８の先端（すなわち、バックアップローラ１６側の端部であり、塗布液の吐出口となる端部）において塗布幅と略等しい寸法に設定される。

上部本体２４と下部本体２６との間には、スロット２８に連続するポケット３２が形成されている。ポケット３２は、ダイ１４の幅方向に形成された塗布液の液溜空間であり、その断面形状は台形に形成される。なお、ポケット３２の断面形状は台形に限定するものではなく、たとえば円形や楕円形であってもよい。

図２に示すように、ポケット３２の幅方向の一方側端部には、塗布液の供給ライン３４が接続された栓部材３８が液密状態で取りつけられ、他方側端部には栓部材３６が液密状態で取りつけられている。なお、塗布液の供給ライン３４の接続位置は、ダイ１４の側面側に限定されるものではなく、ダイ１４の幅方向の中央部において後端側（スロット２８の反対側）に接続するようにしてもよい。この場合にはポケット３２の幅方向の両端部に、対称形状の栓部材を液密状態で設けるとよい。

上記の如く構成されたダイ１４は、その先端がバックアップローラ１６に対して所定のリップクリアランス、たとえば１３０〜５００μｍの位置に配置され、架台２２に固定される。

上記の如く構成された塗布装置１０によれば、ダイ１４のスロット２８の先端から塗布液を吐出することによって、ダイ１４とウエブ１２との間にビードと呼ばれる塗布液溜まりが形成され、ウエブ１２に塗布液が転移して塗膜が形成される。

次に本発明の特徴部分であるスロット２８及びスペーサ３０の形状について説明する。図２に示すように、スロット２８の両端部には、台形のスペーサ３０、３０が設けられている。スペーサ３０は、スロット２８の先端になるほど、スロット２８の内側に突出する傾斜面３０Ａ、３０Ａを有している。したがって、スロット２８の幅寸法は、傾斜面３０Ａ、３０Ａに規制され、先端側にかけて連続的に且つ一定の割合で小さくなるように構成される。すなわち、スロット２８の先端の幅寸法Ｗ１は後端の幅寸法Ｗ２よりも小さくなっている。なお、スロット２８の先端の幅寸法Ｗ１は、塗布幅に設定される。ここで、スロット２８を一定幅Ｗ１で形成する場合（図２に二点鎖線で示す場合）と比べて、スペーサ３０が減少した三角形部分を欠損部２８Ｓと称し、その面積を欠損面積Ｓｍｍ^２とする。欠損面積Ｓは、スロット２８の先端での塗布液の平均流速をＶｍ／ｍｉｎとした際に、次式を満たすように設定される。
(１００／１．５)＜(−Ｓ／(Ｖ−３))＜(７００／１．５)・・・式（１）

欠損面積Ｓと平均流速Ｖが式（１）を満たすことによって、耳部での塗布欠陥（耳落ちと呼ばれる膜厚低下、耳厚と呼ばれる膜厚増加、耳ぶれと呼ばれる耳端位置のふれ）が発生することを防止できる。

図２に示すように、ポケット３２の幅方向端部に設けた栓部材３６は、隣接するスペーサ３０に対して逆の傾斜が設けられている。すなわち、ポケット３２の幅寸法は先端側にかけて徐々に大きくなるように形成される。これにより、栓部材３６の反対側の供給ライン３４から供給された塗布液が栓部材３６の付近で滞留することを防止でき、塗布液を先端側のスロット２８にスムーズに送液することができる。なお、スロット２８の側面（傾斜面３０Ａ）とポケット３２の側面は、図２に示すように連続して形成することが好ましいがこれに限定するものではなく、不連続であってもよい。たとえば図３（Ａ）に示すようにポケット３２の側面をスロット２８の側面位置の外側に配置したり、図３（Ｂ）に示すようにポケット３２の側面をスロット２８の側面位置の内側に配置したりしても良い。ただし、図３（Ａ）のようにポケット部よりもスペーサーが液流路を塞ぐ場合は、エアー溜まり部になりやすく塗布直後に泡起因の故障が発生するケースがみられるため、ダイ装置への受液時は十分な注意が必要になる。

また、図２には、スロット２８の側面（傾斜面３０Ａ）が平面で構成された例を示したが、スロット２８（スペーサ３０）の形状はこれに限定するものではない。たとえば、図４（Ａ）に示すように、スペーサ３０の側面の先端部のみに傾斜面３０Ｂを設けることにより、欠損部２８Ｓを台形状に形成し、スロット２８の幅寸法が先端側で急激に狭くなるようにしてもよい。また、図４（Ｂ）に示すように、スペーサ３０の先端側の側面を円弧状の曲面３０Ｃとすることによって、スロット２８の幅寸法が先端側で急激に狭くなるようにしてもよい。さらに、図４（Ｃ）に示すように、スペーサ３０の側面に二段階の傾斜面３０Ｄ、３０Ｅを設け、スロット２８の幅寸法が先端にかけて二段階で狭くなるように構成してもよい。

なお、上述した図１の塗布装置１０は、バックアップローラ１６に巻きかけ支持されたウエブ１２に塗布を行う例であるが、塗布装置の構成はこれに限定するものではなく、エクストルージョン塗布法を用いた装置構成であればよい。したがって、図５に示すように、押圧ローラ４０、４０にガイドされたウエブ１２に塗布を行うようにしてもよい。図５に示す塗布装置は、一定の間隔で平行に配置された押圧ローラ４０、４０を備え、この押圧ローラ４０、４０に走行中のウエブ１２が巻きかけられて支持されている。塗布ヘッド１６は、その先端部が押圧ローラ４０、４０間のウエブ１２に押圧された状態になるように配置される。このような塗布装置の場合にも、図２または図４（Ａ）〜図４（Ｃ）に記載されるように、スロット２８の先端部においてスロット２８の幅寸法が先端にかけて徐々に減少するように構成することによって、以下に示す効果が得られる。

次に上記の如く構成された塗布装置１０の作用について、本発明の発明者が行った塗布試験の結果に基づいて説明する。

図６は、塗布後のウエブ１２の耳部において膜厚を測定した結果であり、横軸は塗布耳端からの位置を示し、縦軸は膜厚の測定値を平均膜厚で割った値を示している。

同図において、実施例は、上述したダイ１４を用いた場合（具体的には後述の試験例３０）であり、従来例はスロット幅が一定であるダイ（すなわち欠損部２８Ｓがなく欠損面積０ｍｍ^２であるダイ）を用いた塗布試験の結果を示している。この試験では塗布条件として、ウェット膜厚を７．６μｍ、塗布液の粘度を１．３ｍＰａ・ｓ、塗布液の表面張力を２１ｍＮ／ｍ、塗布液の比重を０．８９６ｇ／ｍｌ、塗布ダイスロットクリアランスを１５０μｍとした。

図６に示すように、スロット幅が一定である従来例は、耳端から２〜３ｍｍのところで膜厚が大きく低下し、耳端から１５μｍまでの範囲では膜厚比が１％の許容誤差を超えるという結果になった。このため、従来の場合、製品とする際に、少なくとも耳端から約２０μｍまでの範囲を切除しなければならず、製品ロスが大きいという問題があった。

これに対して、スロット幅が先端にかけて減少する実施例は、耳端付近での膜厚の低下を減少させることができ、さらに、膜厚比１％の許容誤差内にすぐに収束させることができた。これは、スロット幅をスロット先端にかけて連続的に狭くしたことによって、スロット先端の耳部における塗布液の流速が増加し、ビードが耳部で安定するためであると考えられる。したがって、本実施の形態の塗布装置１０によれば、低粘度の塗布液を低塗布液で塗布する場合にも耳部の塗布欠陥の発生を抑制することができ、切除が必要となる耳部の製品ロスを狭くする（たとえば耳端から約５μｍまでの範囲とする）ことができる。よって、本発明によれば、製品ロスを少なくすることができ、コストを削減することができる。

図７〜図１２は、上述した塗布装置１０において様々な塗布条件（ウェット膜厚、塗布スピード（ウエブのスピード）、ダイスリットクリアランス、塗布液の比重、粘度、表面張力、ダイ先端での塗布液の平均速度Ｖ、欠損面積Ｓ）を変えて塗布試験を行った結果であり、塗布後の塗膜耳部について、耳落ち（耳部での膜厚の低下）、耳厚塗り（耳部での膜厚の増加）、耳ぶれ（塗布液ビードの不安定による耳端位置のふれの発生）の面で評価を行った。

図７の試験例１〜８は、Ｖを１．５ｍ／ｍｉｎ（ウェット膜厚を１５μｍ）で固定して欠損面積Ｓを変化させた結果である。試験例１、２はＳが小さいために耳落ちや耳ぶれの欠陥が発生し、反対に試験例８はＳが大きいために耳厚塗りが発生した。

試験例９〜２６はＶ（ウェット膜厚）を変更して同様の試験を行った結果である。すなわち、試験例９〜１７はＶを１．８ｍ／ｍｉｎ（ウェット膜厚を１８μｍ）で固定し欠損面積Ｓを変化させ、試験例１８〜２６はＶを２．３０ｍ／ｍｉｎ（ウェット膜厚を２３μｍ）で固定して欠損面積Ｓを変化させた。この結果から分かるように、欠損面積Ｓが小さい試験例９、１０、１８、１９、２０は耳落ちや耳ぶれが発生し、反対に欠損面積Ｓが大きい試験例１７、２６は、耳厚塗りが発生した。

さらに、同様の試験をダイスリットクリアランスを小さくすることによりＶ（ウェット膜厚）を変更して行った。すなわち、試験例２７〜３３は平均速度Ｖを２．５３ｍ／ｍｉｎ（ウェット膜厚を７．６μｍ）で固定して欠損面積Ｓを変化させ、試験例４０〜４６はＶを１．９２ｍ／ｍｉｎ（ウェット膜厚を５μｍ）で固定して欠損面積Ｓを変化させた。この結果から分かるように、欠損面積Ｓが小さい試験例２７、２８は耳落ちや耳ぶれが発生し、反対に、欠損面積Ｓが大きい試験例３９、４６は耳厚塗りが発生した。

試験例３４〜３９は、ウェット膜厚が２３μｍを超えた場合の試験結果である。この結果から分かるように、ウェット膜厚が２３μｍを超えた場合には、欠損面積Ｓが０であっても、耳落ちや耳ぶれ故障は発生しない。したがって、ウェット膜厚が２３μｍ以下において本発明の効果が得られる。

図８は上記の試験に対して塗布スピードを５０ｍ／ｍｉｎから４０ｍ／ｍｉｎ、６０ｍ／ｍｉｎに変更して同様の試験を行った結果である。図８から分かるように、塗布スピードを変えた場合にも同じように、Ｓが小さい試験例４７、５３、５９、６４で耳落ちや耳ぶれが発生し、Ｓが大きい試験例５２、５８、６３、６９で耳厚塗りが発生するという結果になった。

図９は上記の試験に対して塗布液の物性（粘度、表面張力）を変更して塗布試験を行った結果である。試験例７０〜７２から分かるように、従来には耳部の塗布欠陥が生じていたような１０ｍＰａ・ｓ以下の低粘度の塗布液の場合にも耳部の塗布欠陥を発生させることなく塗布を行うことができる。また、試験例７４〜７７に示すように、表面張力が１５〜３０ｍＮ／ｍの範囲においては耳部の塗布欠陥のない塗布を行うことができた。

図１０、図１１、図１２はそれぞれ、塗布幅（スペーサによる幅規制位置）、ダイへの塗布液供給位置（供給ラインの接続位置）、スロットの形状（スペーサの形状）を変えて試験を行った結果である。これらの図に示すように、塗布幅、塗布液供給位置、スロット形状を変えた場合にも、耳部の塗布欠陥のない塗布を行うことができた。

図１３は、上述の試験例１〜８６の結果から求めた欠損面積Ｓと塗布液速度Ｖとの関係を示したものである。同図に示す境界線Ａよりも右側（あるいは上側）では耳厚塗りが発生し、境界線Ｂよりも左側（あるいは下側）では、耳落ちや耳ぶれが発生した。そして、境界線Ａと境界線Ｂに挟まれる領域において、耳部の塗布欠陥の発生を防止することができた。この関係を式に表すと、ＳとＶが、
(１００／１．５)＜(−Ｓ／(Ｖ−３))＜(７００／１．５)・・・式（１）
を満たす場合に、耳部の塗布欠陥を防止できるという効果が得られた。したがって、上述した塗布装置１０によれば、式（１）を満たすようにＳとＶを設定したので、耳部の塗布欠陥を防止することができ、耳部での製品ロスを減少させることができる。

以下は、上記の試験で用いた塗布液について説明である。粘度、表面張力変更には、溶媒量、界面活性剤量などを調整した。
・ＣＦＰ−ＦＦ−７７５Ｂ（Ｃ．Ｉ．ＰＢ１５：６分散液 富士フイルムエレクトロマテリアル（株）製） ４．５０部
・ＣＦＰ−ＦＦ−２９３Ｙ（Ｃ．Ｉ．ＰＹ１３９分散液 富士フイルムエレクトロマテリアル（株）製） ３．３７部
・ＣＦＰ−ＦＦ−８０２Ｖ（Ｃ．Ｉ．ＰＶ２３分散液 富士フイルムエレクトロマテリアル（株）製） ４．１６部
・ＣＦＰ−ＦＦ−９４９Ｋ（カーボンブラック分散液 富士フイルムエレクトロマテリアル（株）製） １１．９部
・ＭＭＰＧ−ＡＣ（プロピレングリコール モノメチルエーテルアセテート） １８．９部
・メチルエチルケトン ５２．０部
・ヒドロキノンモノメチルエーテル ０．００２２部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ４．８５部
・ビス〔４−〔Ｎ−〔４−（４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル〕カルバモイル〕フェニル〕セバケート ０．２３８部
・共重合体 （メチルイエルケトン３０質量％溶液） ０．０６５部

本発明に係る塗布装置の構成を模式的に示す断面図 スロット位置におけるダイの断面図 図２と異なるスロット形状を有するダイの断面図 図２と異なるスロット形状を有するダイの部分断面図 図１と異なる構成の塗布装置を示す断面図 本発明の作用を示す説明図 本発明の作用を説明する試験結果を示す表図 本発明の作用を説明する試験結果を示す表図 本発明の作用を説明する試験結果を示す表図 本発明の作用を説明する試験結果を示す表図 本発明の作用を説明する試験結果を示す表図 本発明の作用を説明する試験結果を示す表図 塗布液のダイ先端での平均流速と欠損面積との関係図

符号の説明

１０…塗布装置、１２…ウエブ、１４…ダイ、１８…減圧チャンバ、２４…上部本体、２６…下部本体、２８…スロット、３０…スペーサ、３２…ポケット

Claims (7)

1. エクストルージョン型の塗布ヘッドのスロット部の先端から、粘度１０ｍＰａ・ｓ以下の塗布液を吐出することによって、走行するウエブにウェット膜厚５〜３０μｍの塗布膜を形成する塗布方法において、
   前記スロット部の幅がその先端にかけて連続的に減少する塗布ヘッドを用いて塗布を行うことを特徴とする塗布方法。
2. 前記ウエブの速度を４０〜６０ｍ／ｍｉｎの範囲に設定し、
   前記スロット部の先端での塗布液の平均流速Ｖｍ／ｓ、前記スロット部の幅の減少面積をＳｍｍ^２とした際に、
   （１００／１．５）＜（−Ｓ／（Ｖ−３））＜（７００／１．５）、
   の関係式を満たすことを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
3. 前記塗布液の表面張力が１５〜３０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布方法。
4. ウエブを連続走行させるウエブ走行手段と、
   前記ウエブに塗布液を押し出すとともに、その先端にかけてスロット幅が連続的に減少するスロット部を備えたエクストルージョン型の塗布ヘッドと、
   を備えたことを特徴とする塗布装置。
5. 前記スロット部は、幅方向の側面が平面状に形成され、前記スロット幅が一定の割合で減少することを特徴とする請求項４に記載の塗布装置。
6. 前記スロット部は、幅方向の側面が円弧状に形成され、前記スロット幅の減少率が先端にかけて大きくなることを特徴とする請求項４に記載の塗布装置。
7. 前記ウエブ走行手段は前記ウエブを４０〜６０ｍ／ｍｉｎの速度範囲で走行させ、
   前記塗布ヘッドは、粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下の塗布液をウェット膜厚５〜３０μｍで塗布するとともに、
   前記スロット部の先端での塗布液の平均流速Ｖｍ／ｓと、前記スロット幅の減少面積Ｓｍｍ^２が、
   （１００／１．５）＜（−Ｓ／（Ｖ−３））＜（７００／１．５）、
   の関係式を満たすように構成されることを特徴とする請求項４〜６のいずれか１に記載の塗布装置。

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