JP4968947B2 - 光学フィルムの製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、光学フィルムの製造方法及び光学フィルムに係り、特に、連続搬送される帯状のベースフィルム上に硬化性塗布液を塗布し、該塗布層を加熱風乾燥した後に、該塗布層を硬化させる光学フィルムの製造方法及び光学フィルムに関する。
近年、液晶表示装置に用いる様々な光学フィルムが必要とされている。この中でも、液晶表示装置の視野角特性を改善するために、一対の偏光板と液晶セルとの間に位相差板として用いる位相差フィルム、液晶表示装置の視野性を向上させる反射防止フィルムの需要が増している。位相差フィルムは、液晶表示装置のコントラスト比や画面輝度の向上に伴い、ムラをより少なくすることが強く求められている。また、反射防止フィルムもクリアー化、表示画面の高精細化に伴い、ムラをより少なくすることが強く求められている。
このムラの発生要因としては、乾燥風等による塗布膜の乾燥ムラであったり、透明フィルムあるいは硬化性塗布液に含まれる低分子量化合物が気化することにより生した結露が塗布膜を乾燥する乾燥ゾーンや塗布膜を光や熱で硬化する硬化ゾーンを汚染し、その結露が塗布膜あるいは透明フィルム裏面に付着することによる汚れであったりする。
これらの対策方法としては、例えば、特許文献1ではウエブの塗布面に接する乾燥風の風向きや風速の乱れを管理することで塗布膜の乾燥ムラの発生を防止する方法が提案されている。そして、例えば、特許文献2では、溶液製膜法におけるフィルムの製造工程であるが、乾燥ゾーン内でフィルムを乾燥させる際、気化した低分子量化合物による乾燥ゾーン壁面の汚染を防止する方法が提案されている。
特開2004−361015号公報 特開2001−198934号公報
しかしながら、特許文献1及び2の方法では、帯状フィルム上に硬化性塗布液を塗布した後に、乾燥ゾーンで該塗布層を乾燥させ、硬化ゾーンで前記乾燥させた塗布層を硬化させる光学フィルムの製造方法において、上記のようなムラを抑制できるものではない。
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、ムラを抑制できる光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
本発明は前記目的を達成するために、連続搬送される帯状のベースフィルム上に、硬化性塗布液を塗布し、乾燥ゾーンで塗布層を加熱風で乾燥させた後、硬化ゾーンで該塗布層を硬化させる光学フィルムの製造方法において、前記乾燥ゾーンと前記硬化ゾーンとの間に仕切を介して中間ゾーンを設けるとともに、該中間ゾーンの温度を前記乾燥ゾーンの温度と前記硬化ゾーンの温度の何れよりも低くなるように制御し、前記中間ゾーンの内圧が前記乾燥ゾーンの内圧より低く、且つ、前記中間ゾーンの内圧が前記硬化ゾーンの内圧より低く制御し、前記中間ゾーンに新鮮風を供給することを特徴とする光学フィルムの製造方法を提供する。
また、本発明は前記目的を達成するために、連続搬送される帯状のベースフィルム上に、硬化性塗布液を塗布し、乾燥ゾーンで塗布層を加熱風で乾燥させた後、硬化ゾーンで該塗布層を硬化させる光学フィルムの製造方法において、前記乾燥ゾーンと前記硬化ゾーンとの間に仕切を介して中間ゾーンを設けるとともに、該中間ゾーンの温度を前記乾燥ゾーンの温度と前記硬化ゾーンの温度の何れよりも低くなるように制御し、前記中間ゾーンの内圧が前記乾燥ゾーンの内圧より低く、且つ、前記中間ゾーンの内圧が前記硬化ゾーンの内圧より低く制御し、前記中間ゾーンにおける気化した低分子量化合物の雰囲気濃度を1ppb以下に制御することを特徴とする光学フィルムの製造方法を提供する。
ここで、仕切りを介して連続するとは、隣り合うゾーン同士がベースフィルムが搬送される開口を有する仕切りを介して連続していることをいう。また、ゾーンの温度とは、ゾーン内の雰囲気温度をいい、低分子量化合物とは、分子量が1000以下のものをいう。
従来技術のように、中間ゾーンを有しないで乾燥ゾーンから直に硬化ゾーンに塗布層が搬送されると、乾燥ゾーンで加熱されたベースフィルム及び塗布層から気化した低分子量化合物が乾燥ゾーンよりも温度の低い硬化ゾーンにおいて結露することがあり、結露により析出した析出物がベースフィルム裏面及び塗布膜面に付着して汚染する。また、硬化ゾーンの壁面等で結露した析出物がベースフィルム裏面及び塗布膜面に落下付着して汚染する。
これに対して、本願発明のように、乾燥ゾーンと硬化ゾーンとの間に中間ゾーンを設け、中間ゾーンの温度が硬化ゾーンの温度よりも低くなるように温度制御を行うので、硬化ゾーンで結露する可能性のある気化した低分子量化合物は硬化ゾーンよりも温度の低い中間ゾーンで結露するので、硬化ゾーンでの結露を防止する。また、結露抑制手段で、中間ゾーンで蒸発した低分子量化合物が結露するのを防止する。
これにより、乾燥ゾーン、中間ゾーン、硬化ゾーンを搬送されるベースフィルム裏面及び塗布膜面が気化した低分子量化合物の結露物した析出物で汚染されることを防止できる。
また、従来のように乾燥ゾーンと硬化ゾーンが隣接していると、隣接近傍では互いのゾーンで吹き出された加熱風同士が往来して乾燥ムラや硬化ムラを発生する。
これに対して、本願発明では乾燥ゾーンと硬化ゾーンとの間に、加熱風の緩衝ゾーンである中間ゾーンを設けたので、乾燥ムラや硬化ムラを抑制できる。
また、本発明は、前記乾燥ゾーンの内圧をP1、前記中間ゾーンの内圧をP2、前記硬化ゾーンの内圧をP3で表したとき、P2とP1の内圧差ΔP21が、0〔Pa〕>ΔP21>−10〔Pa〕の関係を満たすように制御するとともに、P3とP2の内圧差ΔP32が5〔Pa〕以下であるように制御することが好ましい。
圧差ΔP21(即ち、P2−P1)が、0〔Pa〕>ΔP21>−10〔Pa〕の関係を満たすように制御するとともに、内圧差ΔP32が5〔Pa〕以下であるように制御することで、中間ゾーンで気化しきれなかった低分子量化合物が硬化ゾーンで気化したとしても、気化した低分子量化合物を含む風が中間ゾーンに流れて除かれる。また、中間ゾーンで除き切れなかった気化した低分子量化合物を含む風が乾燥ゾーンに流れ込んでも、乾燥ゾーンは雰囲気温度が一番高いので結露することがない。これにより、低分子量化合物が気化した低分子量化合物の結露物でベースフィルム裏面及び塗布膜面が汚染されることを確実に防止できる。
また、硬化ゾーンから中間ゾーンを介して乾燥ゾーンに流れる風は、ΔP32を5Pa以下にすることで極めて微風であるので、この微風により塗布層に乾燥ムラが発生することもない。更には、中間ゾーンから硬化ゾーンへの風の流れが起きないことで、硬化ゾーンにおける塗布膜の膜面温度が不安定になることを防止することができるので、硬化の際に生じるムラを抑制できる。
本発明は、中間ゾーンでの気化した低分子量化合物の雰囲気濃度を1ppb以下にすることで、気化した低分子量化合物が中間ゾーンで結露することを抑制でき、ベースフィルム裏面及び塗布膜面の汚れを更に確実に防止することができる。尚、具体的な一例としては、中間ゾーンへ該ゾーンに近似する温度を有する新鮮風を供給することにより実現することができる。
本発明によれば、気化した低分子量化合物の結露物がベースフィルム及び塗布膜に付着することによる汚れムラのない光学フィルムの製造方法を提供できる。
以下、添付図面により本発明の光学フィルムの製造方法及び光学フィルムの好ましい実施の形態について詳説する。尚、本実施形態では光学フィルムが光学補償フィルムの場合について説明するが、光学フィルムは光学補償フィルムに限られず、帯状のベースフィルム上に硬化性塗布液を塗布した後に乾燥ゾーンで加熱風により塗布層を乾燥させ、硬化ゾーンで乾燥させた塗布層を硬化させる各種光学フィルム、例えば、防眩フィルム、反射防止フィルム等の製造方法にも適用できる。
図1は、本発明を実施するための光学補償フィルムの製造装置10の概略構成を示す模式図である。
図1に示すように、予め配向膜形成用の透明樹脂層が形成された帯状ベースフィルム14が、送り出し機12から送り出される。帯状ベースフィルム14は、ガイドローラ16によってガイドされながら下流側に配されたラビング処理装置18に送りこまれ、ラビングローラ20によって透明樹脂層がラビング処理される。これにより、配向膜が形成される。
ラビング処理装置18では、ラビングロール20が帯状ベースフィルム14の連続搬送工程内にある2つの搬送用ロール間に配されている。そして、帯状ベースフィルム14が回転するラビングロール20にラップされて搬送されることにより、連続的にラビング処理される。この場合、ラビングロール20は、その回転軸が帯状ベースフィルム14の搬送方向に対して傾くように配されてもよい。
ラビング処理装置18の下流側には除塵機22が配されており、帯状ベースフィルム14表面に付着した塵が取り除かれる。さらに、除塵機22の下流側にはグラビア塗布装置24が配され、液晶性化合物を含む塗布液が帯状ベースフィルム14の配向膜上に塗布される。液晶性化合物としては、架橋性官能基を有する液晶性ディスコティック化合物が好ましく用いられる。
グラビア塗布装置24は、グラビアローラ26と、該グラビアローラ26の下方に配され、液晶性化合物を含む塗布液が満たされた液受けパン28と、を備えており、グラビアローラ26の約下半分は塗布液に浸漬されている。また、グラビアローラ26の約10時の位置にブレード29が配されている。これにより、グラビアローラ26表面のセルに塗布液が供給され、ブレード29で余分な塗布液が掻き落とされた後、ウエブ14表面に塗布される。塗布液の塗布量は、10mL/m以下であることが好ましい。
上流ガイドローラ17及び下流ガイドローラ19は、グラビアローラ26と略平行な状態で配されている。また、上流ガイドローラ17及び下流ガイドローラ19は、その両端部が図示しない軸受部材(ボール軸受等)により回動自在に支持され、駆動機構を有していないことが好ましい。グラビア塗布装置24は、クリーンルーム等の清浄な雰囲気に設けられることが好ましい。清浄度は、クラス1000以下が好ましく、クラス100以下がより好ましく、クラス10以下が更に好ましい。
塗布装置としては、図1では、グラビア塗布装置24の例を示したが、これに限定されない。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法等の方法を適宜使用することができる。帯状ベースフィルム14の搬送速度は、5〜200m/分が好ましい。また、帯状ベースフィルム14に形成される塗布層の幅は、0.5〜3mであることが好ましい。
液晶性化合物を含む塗布層が形成された帯状ベースフィルム14は、すぐ下流側に設けられた初期乾燥ゾーン30により乾燥される。さらに、初期乾燥ゾーン30の下流側には乾燥ゾーン32が設けられ、乾燥された帯状ベースフィルム14の塗布層が更に乾燥される。そして、乾燥ゾーン32の下流側には硬化ゾーン36が設けられ、乾燥された帯状ベースフィルム14の塗布層は硬化される。
しかしながら、中間ゾーン34を有しないで乾燥ゾーン32から直に硬化ゾーン36に塗布層が搬送されると、乾燥ゾーン32で加熱された帯状ベースフィルム14及び塗布膜から蒸発した低分子量化合物が乾燥ゾーン32よりも温度の低い硬化ゾーン36において結露することがあり、結露により析出した析出物(結露物)が帯状ベースフィルム裏面及び塗布膜面に付着して汚染する。また、硬化ゾーン36の壁面等で結露した結露物が帯状ベースフィルム裏面及び塗布膜面に落下付着して汚染する。尚、ここで、低分子量化合物とは、分子量が1000以下のものをいう。光学補償フィルムの製造において、この低分子量化合物としては、例えば、可塑剤として、トリフェニル・フォスフェイト(TPP)、ビフェニル・ジフェニル・フォスフェイト(BPP)が、硬膜剤として、イルガキュア184、シランカプリング剤として、アクロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等がある。
そこで、本発明は、連続搬送される帯状ベースフィルム14上に、硬化性塗布液を塗布し、乾燥ゾーン32で塗布層を加熱風で乾燥させた後、硬化ゾーン36で該塗布層を硬化させる光学フィルムの製造方法において、乾燥ゾーン32と硬化ゾーン36との間に仕切を介して中間ゾーン34を設けるとともに、該中間ゾーン34の温度を乾燥ゾーン32の温度と硬化ゾーン36の温度の何れよりも低くなるように制御し、且つ、結露抑制手段で乾燥ゾーン32及び硬化ゾーン36で発生する気化した低分子量化合物の結露を防止するようにした。
ここで、仕切りを介して連続するとは、隣り合うゾーン同士が帯状ベースフィルム14が搬送される開口を有する仕切りを介して連続していることをいう。また、ゾーンの温度とは、ゾーン内の雰囲気温度をいい、低分子量化合物とは、分子量が1000以下のものをいう。
本願発明のように、乾燥ゾーン32と硬化ゾーン36との間に中間ゾーン34を設け、温度制御工程では、中間ゾーン34の温度が硬化ゾーン36の温度よりも低くなるように温度制御を行うので、硬化ゾーン36で結露する可能性のある低分子量化合物は硬化ゾーン36よりも温度の低い中間ゾーン34で結露するので、硬化ゾーン36での結露を防止する。また、結露抑制手段で、中間ゾーン34で気化した低分子量化合物が結露するのを防止できる。
これにより、乾燥ゾーン32、中間ゾーン34、硬化ゾーン36を搬送される帯状ベースフィルム14の裏面及び塗布面が気化した低分子量化合物の結露物で汚染されることを防止できる。
また、従来のように乾燥ゾーン32と硬化ゾーン36が隣接していると、隣接近傍では互いのゾーンで吹き出された加熱風同士が往来して乾燥ムラや硬化ムラを発生する。
これに対して、本願発明では乾燥ゾーン32と硬化ゾーン36との間に、加熱風の緩衝ゾーンである中間ゾーン34を設けたので、乾燥ムラや硬化ムラを抑制できる。
結露制御手段は、気化した低分子量化合物が中間ゾーン34へ流入するのを防止するために、乾燥ゾーン32の内圧をP1、中間ゾーン34の内圧をP2、硬化ゾーン36の内圧をP3で表したとき、内圧差(P2−P1)(以下、ΔP21と記す)が、0Pa>ΔP21>−10Paの関係を満たすとともに、内圧差(P3−P2)(以下、ΔP32と記す)が5Pa以下であるように制御する。こうすることで、硬化ゾーン36から中間ゾーン34、中間ゾーン34から乾燥ゾーン32という風の流れが生じるがその風は微風である。従って、気化した低分子量化合物が中間ゾーン34に溜まることがなく、気化した低分子量化合物を含む風が比較的気化した低分子量化合物の濃度の低い乾燥ゾーン32へ流れているので、中間ゾーン34においても結露することがなくなり、低分子量化合物の結露物が塗布膜面に付着することによる塗布膜の汚れを更に防止することができる。そして、微風で塗布層が乾燥されることで乾燥ムラも防止することができる。また、中間ゾーン34から硬化ゾーン36への風の流れが起きないことで、硬化ゾーンにおける塗布膜の膜面温度が不安定になることを防止することができるので、硬化の際に生じるムラを抑制できる。
また、結露抑制手段としては、中間ゾーン34における気化した低分子量化合物の雰囲気濃度を1ppb以下に制御することが好ましい。
中間ゾーン34での気化した低分子量化合物の濃度を1ppb以下にすることで、低分子量化合物が中間ゾーン34で結露することを抑制でき、塗布膜面の汚れを更に確実に防止することができる。ここで、中間ゾーン34での気化した低分子量化合物の濃度測定は、例えば、気化した低分子量化合物を含む気体をサンプリングし、フィルターに吸着後、有機溶剤で抽出して、GC−MSで定量化する方法を好適に使用できる。また、具体的な結露制御手段の一例としては、中間ゾーンへ該ゾーンに近似する温度を有する新鮮風を供給することにより実現することができる。
更に、中間ゾーン34における帯状ベースフィルム14への幅方向の乾燥風成分の風速が0.7m/秒以下であることが好ましい。塗布層のムラは、特に帯状ベースフィルム14の塗布層近傍に生じる幅方向の乾燥風成分により乱れやすい。帯状ベースフィルム14の塗布層近傍における幅方向の乾燥風成分の風速を0.7m/秒以下にすることで、風による乱れが塗布層面に固定されるのを抑制できるので、光学フィルムのムラを低減できる。尚、ここで、幅方向の乾燥風成分とは、帯状ベースフィルム14の塗布層から40mm以内の範囲における風速をいう。
風速の計測は、幅方向の乾燥風成分の風速を測定できるものであれば、特に限定されないが、例えば、日本カノマックス社製の「クリモマスター風速計」を使用することができ、特に、風向の指向性のある「クリモマスター風速計6531型又は6541型」を好適に使用できる。これにより、風速計での測定結果に基づいて、乾燥ゾーン32や硬化ゾーン36での乾燥風の風量を調節することで、中間ゾーンにおける帯状ベースフィルムへの幅方向の乾燥風成分の風速を0.7m/秒以下にすることができる。
中間ゾーン34を出た帯状ベースフィルム14は、その下流側に設けられた硬化ゾーン36を通過することにより、連続的に光照射されてディスコティック液晶が硬化される。硬化ゾーン36には、帯状ベースフィルム14の塗布層に紫外線を照射する紫外線照射手段(不図示)を備えている。紫外線照射手段は、公知のものが使用でき、例えば紫外線ランプ等が使用できる。更に、乾燥風により、硬化ゾーン36内を適度な温度とすることで、熱硬化を促進する。
ここで、乾燥ゾーン32から硬化ゾーン36における紫外線照射が終了するまでの工程においては、正常な配列状態に固定される。
そして、配向膜上に液晶性化合物を含む塗布層が形成された帯状ベースフィルム14は、巻取り機38に巻き取られる。
尚、本実施形態では、硬化ゾーン36で塗布層を紫外線照射する例で説明したが、塗布液によっては塗布層を加熱して硬化することも考えられる。
以上のように、本発明に係る光学補償フィルムの製造方法によって、塗布膜の乾燥ムラや低分子量化合物の蒸発物が塗布膜に付着することによる汚れムラのない光学補償フィルムを得ることができる。
次に、本発明に使用される各種材料について説明する。
本実施形態で用いられるディスコティック化合物(液晶性化合物)としては、特開平7−267902号、特開平7−281028号、特開平7−306317号の各公報に記載のものが使用できる。これらによると、光学異方層(液晶性化合物を含む塗布層)は、ディスコティック構造単位を有する化合物から形成される層である。すなわち、光学異方層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物層、又は重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合(硬化)により得られるポリマー層である。
ディスコティック(円盤状)化合物としては、例えば、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.71巻、111頁(1981年)に記載されているベンゼン誘導体、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.122巻、141頁(1985年)、Physics lett,A,78巻、82頁(1990)に記載されているトルキセン誘導体、B.Kohneらの研究報告、Angew.Chem.96巻、70頁(1984年)に記載されたシクロヘキサン誘導体及びJ.M.Lehnらの研究報告、J.Chem.Commun.,1794頁(1985年)、J.Zhangらの研究報告、J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁(1994年)に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクル等が挙げられる。
上記ディスコティック(円盤状)化合物は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであれば上記記載に限定されるものではない。また、前記公報において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合又は架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。さらに、ディスコティックネマティック相又は一軸性の柱状相を形成し得る、円盤状化合物の少なくとも一種を含有し、かつ光学異方性を有する化合物を用いることが好ましい。また、円盤状化合物がトリフェニレン誘導体であることが好ましい。ここで、トリフェニレン誘導体が、特開平7−306317号公報に記載の(化2)で表される化合物であることが好ましい。
配向膜層の支持体となるウエブ14としては、セルロースアシレートフィルムが好ましく用いられる。具体的には、特開平9−152509号公報に詳細に記載されているものが使用できる。すなわち、配向膜はセルロースアシレートフィルム上又はそのセルロースアシレートフィルム上に塗設された下塗層上に設けられる。配向膜は、その上に設けられる液晶性ディスコティック化合物の配向方向を規定するように機能する。ここで配向膜は、光学異方層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。
配向膜の好ましい例としては、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、及びマイクログルーブを有する層、更にω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド及びステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法(LB膜)により形成される累積膜、或いは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。
配向膜用の有機化合物としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸/メタクリル酸共重合体、スチレン/マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、スチレン/ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル/塩化ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビルアルコール及びアルキル基(炭素原子数6以上が好ましい)を有するアルキル変性ポリビルアルコールが挙げられる。
中でも、アルキル変性のポリビニルアルコールは特に好ましく、液晶性ディスコティック化合物を均一に配向させる能力に優れている。これは、配向膜表面のアルキル鎖とディスコティック液晶のアルキル側鎖との強い相互作用のためと推察される。また、アルキル基は、炭素原子数6〜14が好ましく、更に、−S−、−(CH3)C(CN)−又は−(C25 )N−CS−S−を介してポリビニルアルコールに結合していることが好ましい。上記アルキル変性ポリビニルアルコールは、未端にアルキル基を有するものであり、ケン化度80%以上、重合度200以上が好ましい。また、上記側鎖にアルキル基を有するポリビニルアルコールは、クラレ(株)製のMP103、MP203、R1130などの市販品を利用することができる。
また、液晶表示装置(LCD)の配向膜として広く用いられているポリイミド膜(好ましくはフッ素原子含有ポリイミド)も有機配向膜として好ましい。これは、ポリアミック酸(例えば、日立化成(株)製のLQ/LXシリーズ、日産化学(株)製のSEシリーズ等)をウエブ面に塗布し、100〜300℃で0.5〜1時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
さらに、セルロースアシレートフィルムに適用される配向膜は、上記ポリマーに反応性基を導入することにより、或いは上記ポリマーをイソシアネート化合物及びエポキシ化合物などの架橋剤と共に使用して、これらのポリマーを硬化させることにより得られる硬化膜であることが好ましい。
配向膜に用いられるポリマーと、光学異方層の液晶性化合物とが、これらの層の界面を介して化学的に結合していることが好ましい。配向膜のポリマーが、ビニル部分、オキシラニル部分又はアジリジニル部分を有する基で、少なくとも1個のヒドロキシル基が置換されたポリビニルアルコールから形成されていることが好ましい。ビニル部分、オキシラニル部分又はアジリジニル部分を有する基が、エーテル結合、ウレタン結合、アセタール結合又はエステル結合を介してポリビニルアルコール誘導体のポリマー鎖に結合していることが好ましい。ビニル部分、オキシラニル部分又はアジリジニル部分を有する基が、芳香族環を持たないことが好ましい。上記ポリビニルアルコールが、特開平9−152509号公報に記載の(化22)であることが好ましい。
前記ラビング処理は、LCDの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。すなわち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、SiOを代表とし、TiO、ZnO等の金属酸化物、又はMgF等のフッ化物、Au、Al等の金属が挙げられる。なお、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として使用でき、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。ウエブを固定して蒸着するか、又は長尺ウエブを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成できる。配向膜を使用せずに光学異方層を配向させる方法として、ウエブ上の光学異方層を、ディスコティック液晶層を形成し得る温度に加熱しながら、電場又は磁場を付与する方法が挙げられる。
セルロースアシレートフィルム上に光学異方層が形成された光学補償フィルムの液晶表示装置への適用方法としては、偏光板の片側に上記光学補償フィルムを粘着剤を介して貼り合わせる、もしくは、偏光素子の片側に保護フィルムとして、上記光学補償フィルムを接着剤を介して貼り合わせることが好ましい。光学異方素子は、少なくともディスコティック構造単位(ディスコティック液晶が好ましい)を有することが好ましい。
また、上記ディスコティック構造単位の円盤面が、セルロースアシレートフィルム面に対して傾いており、且つディスコティック構造単位の円盤面とセルロースアシレートフィルムとのなす角度が光学異方層の深さ方向において変化していることが好ましい。
また、上記光学補償フィルムは、特に透過型液晶表示装置に好ましく用いられる。透過型液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。光学補償フィルムは、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置される。液晶セルのモードは、VAモード、TNモード、又はOCBモードであることが好ましい。
図1に示した光学補償フィルムの製造装置10を用いて、表1の条件で光学フィルムの製造を行った。即ち、実施例1〜15では、乾燥ゾーン32と硬化ゾーン36との間に仕切を介して中間ゾーン34を設け製造を行った。比較例1〜5では、中間ゾーン34を設けずに製造を行った。
帯状ベースフィルム14としては、厚さ80μmのトリアセチルセルロース(フジタック、富士フイルム(株)製)を使用した。そして、帯状ベースフィルム14の表面に、長鎖アルキル変性ポバール(MP−203、クラレ(株)製)の2重量パーセント溶液をフィルム1m当り25ml塗布後、60°Cで1分間乾燥させて形成した配向膜用樹脂層を形成したウエブ14を、30m/分で搬送させながら、配向膜用樹脂層表面にラビング処理を行って配向膜を形成した。
そして、配向膜用樹脂層をラビング処理して得られた配向膜上に、塗布液としては、ディスコティック化合物TE−8の(3)とTE−8の(5)の重量比で4:1の混合物に、光重合開始剤(イルガキュア907、日本チバガイギー(株)製造)を前記混合物に対して1重量パーセント添加した混合物の40重量%メチルエチルケトン溶液とする液晶性化合物を含む塗布液を使用した。帯状ベースフィルム14を、30m/分で走行させながら、この塗布液を配向膜上に塗布液量が帯状ベースフィルム1m当り5mL〜7mLになるようにグラビア塗布装置24で塗布した。そして、塗布後に、135°Cに調整された乾燥ゾーン32で乾燥させた。その後、実施例1〜7及び比較例1、2では中間ゾーン34を介し、比較例3、4では直後に帯状ベースフィルム14を連続搬送し硬化ゾーン36の紫外線ランプにより紫外線を照射した。中間ゾーン34の温度は60℃、硬化ゾーン36の温度は95℃とした。
ここで、乾燥ゾーンと中間ゾーンの内圧差ΔP21と、中間ゾーンと硬化ゾーンの内圧差ΔP32と、を表1に記載のように設定した。内圧差は、ライン運転状態において、微差圧計(山本電機製作所 FR51)により測定した。そして、中間ゾーン34の低分子量化合物の雰囲気濃度(TPP濃度)を表1に記載の値にした。TPP濃度は、フィルターにガス流を通して、TPPを付着させ、その後フィルターに付着しているTPPをアセトンで抽出し、GC−MS(ガス質量分析装置)で定量した。また、製造された光学補償フィルム(光学フィルム)の汚れの程度について判定を行った。判定は、以下の基準により行った。即ち、目視検査に基づき、品質上問題のないものを○、TV用途等の高品位用途では品質上問題があるものを△、品質上問題のあるものを×とした。
Figure 0004968947
表1の判定結果から分かるように、乾燥ゾーンと硬化ゾーンとの間に仕切を介して中間ゾーンを設けるとともに、中間ゾーンの温度を乾燥ゾーンの温度と硬化ゾーンの温度の何れよりも低くなるように制御し、且つ、結露抑制手段で乾燥ゾーン及び前記硬化ゾーンで発生する気化した低分子量化合物の結露を防止した実施例1〜15では、良い結果が得られた。
また、実施例1〜15の中でも、露抑制手段によって、内圧差ΔP21を0〔Pa〕>ΔP21>−10〔Pa〕を満たすように制御するとともに内圧差ΔP32を5〔Pa〕以下に制御し、中間ゾーンにおける気化した低分子量化合物の雰囲気濃度を1ppb以下に制御した実施例1〜13では、TV用途等の高品位用途でも品質上問題のない高品質な光学フィルムを得ることが出来た。
本発明に係る光学補償フィルムの製造装置の概略構成を示す模式図である。
符号の説明
10…光学補償フィルムの製造装置、14…帯状ベースフィルム、32…乾燥ゾーン、34…中間ゾーン、36…硬化ゾーン

Claims (3)

  1. 連続搬送される帯状のベースフィルム上に、硬化性塗布液を塗布し、乾燥ゾーンで塗布層を加熱風で乾燥させた後、硬化ゾーンで該塗布層を硬化させる光学フィルムの製造方法において、
    前記乾燥ゾーンと前記硬化ゾーンとの間に仕切を介して中間ゾーンを設けるとともに、
    該中間ゾーンの温度を前記乾燥ゾーンの温度と前記硬化ゾーンの温度の何れよりも低くなるように制御し、
    前記中間ゾーンの内圧が前記乾燥ゾーンの内圧より低く、且つ、前記中間ゾーンの内圧が前記硬化ゾーンの内圧より低く制御し、
    前記中間ゾーンに新鮮風を供給することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
  2. 連続搬送される帯状のベースフィルム上に、硬化性塗布液を塗布し、乾燥ゾーンで塗布層を加熱風で乾燥させた後、硬化ゾーンで該塗布層を硬化させる光学フィルムの製造方法において、
    前記乾燥ゾーンと前記硬化ゾーンとの間に仕切を介して中間ゾーンを設けるとともに、
    該中間ゾーンの温度を前記乾燥ゾーンの温度と前記硬化ゾーンの温度の何れよりも低くなるように制御し、
    前記中間ゾーンの内圧が前記乾燥ゾーンの内圧より低く、且つ、前記中間ゾーンの内圧が前記硬化ゾーンの内圧より低く制御し、
    前記中間ゾーンにおける気化した低分子量化合物の雰囲気濃度を1ppb以下に制御することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
  3. 前記乾燥ゾーンの内圧をP1、前記中間ゾーンの内圧をP2、前記硬化ゾーンの内圧をP3で表したとき、P2とP1の内圧差ΔP21が、0〔Pa〕>ΔP21>−10〔Pa〕の関係を満たすように制御するとともに、P3とP2の内圧差ΔP32が5〔Pa〕以下であるように制御することを特徴とする請求項1又は2に記載の光学フィルムの製造方法。
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