TWI453110B - 光學薄膜之製法及光學薄膜 - Google Patents

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Description

光學薄膜之製法及光學薄膜
本發明係關於一種光學薄膜之製法及光學薄膜，尤其，關於將硬化性塗布液塗布於所連續搬送之帶狀基底薄膜上，熱風乾燥該塗布層之後，使該塗布層予以硬化的光學薄膜之製法及光學薄膜。
近年來，用於液晶顯示裝置的各式各樣之光學薄膜已成為必要。其中，為了改善液晶顯示裝置之視野角特性，於一對之偏光板與液晶胞之間，作為相位差板使用之相位差薄膜、使液晶顯示裝置之視野性予以提高的抗反射薄膜之需求逐漸增加。隨著液晶顯示裝置之對比或畫面亮度之提高，相位差薄膜強烈需求進一步減少不均。另外，隨著抗反射薄膜之透明化、顯示畫面之高精細化，也強烈需求進一步減少不均。
此不均發生之主因係因乾燥風等所造成之塗布膜的乾燥不均，或是藉由透明薄膜或硬化性塗布液中所含之低分子量化合物氣化所生成之凝結汙染了乾燥塗布膜之乾燥區或利用光或熱以硬化塗布膜之硬化區，因該凝結附著於塗布膜或透明薄膜背面所造成之汙染。
此等之對策方法，例如於專利文獻1中，有人提案藉由管理接觸於帶狀薄膜(web)塗布面的乾燥風之風向或風速的紊亂而防止塗布膜乾燥不均發生之方法。而且，例如於專利文獻2中，溶液製膜法中之薄膜製程，使乾燥區內之薄膜予以乾燥之際，防止因氣化的低分子量化合物所造成之乾燥區壁面汙染之方法。
專利文獻1：日本專利特開2004-361015號公報
專利文獻2：日本專利特開2001-198934號公報
然而，於專利文獻1及2之方法中，其係將硬化性塗布液塗布於帶狀薄膜上之後，在乾燥區，使該塗布層予以乾燥；在硬化區，使該乾燥後之塗布層予以硬化的光學薄膜之製法中，並非能夠抑制如上述不均之方法。
本發明係有鑑於如此之課題所完成，其目的係提供一種能夠抑制不均的光學薄膜之製法。
本發明之申請專利範圍第1項係為了達成該目的，提供一種光學薄膜之製法，其係在連續所搬送之帶狀基底薄膜上，塗布硬化性塗布液，在乾燥區，利用熱風以使塗布層乾燥之後，在硬化區，使該塗布層硬化；其特徵為：使間隔介於該乾燥區與該硬化區之間而設置中間區的同時，也使該中間區之溫度成為較該乾燥區之溫度與該硬化區之溫度中任一溫度為低的方式來加以控制，並且，利用凝結抑制手段以防止在該乾燥區與該硬化區所發生氣化之低分子量化合物的凝結。
其中，所謂使間隔介於中間而連接，其係指相鄰的彼此區域隔著具有基底薄膜所搬送之開口的間隔而連接。另外，所謂區域之溫度係指區域內之氣體環境溫度；所謂低分子量化合物係指分子量為1000以下之物。
如習用技術，若無中間區而直接將塗布層從乾燥區搬送至硬化區時，從在乾燥區所加熱之基底薄膜及塗布層所氣化之低分子量化合物可能於較乾燥區為低溫的硬化區中凝結，因凝結所析出之析出物將附著於基底薄膜背面及塗布膜面而汙染。另外，在硬化區之壁面等所凝結之析出物將滴下附著於基底薄膜背面及塗布膜面而汙染。
針對於此，如本發明申請案，因為將中間區設置於乾燥區與硬化區之間，使中間區之溫度變得較硬化區之溫度為低的方式來進行溫控，且因為具有在硬化區凝結可能性的已氣化低分子量化合物將在較硬化區為低溫的中間區凝結，防止在硬化區之凝結。另外，利用凝結抑制手段以防止在中間區所蒸發之低分子量化合物凝結。
藉此，能夠防止所搬送之基底薄膜背面及塗布膜面所氣化之低分子量化合物形成凝結物之析出物汙染乾燥區、中間區、硬化區。
另外，如習知方式，若乾燥區與硬化區鄰接時，於鄰接附近，相互區域所吹出之熱風彼此往來而發生乾燥不均或硬化不均。
針對於此，於本發明中，因為在乾燥區與硬化區之間設置熱風緩衝區之中間區，能夠抑制乾燥不均或硬化不均。
申請專利範圍第2項係於申請專利範圍第1項中，以P1表示該乾燥區之內壓、P2表示該中間區之內壓、P3表示該硬化區之內壓時，該凝結抑制手段係使P2與P1之內壓差ΔP21符合0[Pa]>ΔP21>-10[Pa]關係的方式來加以控制的同時，也使P3與P2之內壓差ΔP32為5[Pa]以下的方式來加以控制。
若根據專利範圍第2項，藉由使內壓差ΔP21(亦即，P2-P1)符合0[Pa]>ΔP21>-10[Pa]關係的方式來加以控制的同時，也使內壓差ΔP32為5[Pa]以下的方式來加以控制，從硬化區至中間區、從中間區至乾燥區之風的流動將發生，此風為微風。
因而，在中間區未被完全氣化之低分子量化合物即使在硬化區氣化，含有氣化後的低分子量化合物之風流入中間區而被去除。另外，含有在中間區未被完全去除之低分子量化合物的風即使流入乾燥區，因為乾燥區係氣體環境溫度最高，也不會凝結。藉此，能夠確實防止因低分子量化合物所氣化之低分子量化合物的凝結物汙染基底薄膜背面及塗布膜面。
另外，從硬化區，隔著中間區而流入乾燥區的風係藉由使ΔP32成為5[Pa]以下，因為係非常微弱之風，藉此微風也不會於塗布層中發生乾燥不均。再者，藉由不引起從中間區向硬化區之風的流動，因為能夠防止硬化區中之塗布膜的膜面溫度變得不穩定，能夠抑制於硬化之際產生的不均。
申請專利範圍第3項係於申請專利範圍第1或2項中，該凝結抑制手段係使該中間區中之該氣化的低分子量化合物之氣體環境濃度控制於1ppb以下。
若根據專利範圍第3項，藉由使在中間區之氣化的低分子量化合物之氣體環境濃度控制於1ppb以下，能夠抑制氣化的低分子量化合物凝結於中間區，故能夠更確實防止薄膜背面及塗布膜面之汙染。還有，具體之凝結控制手段之一例係藉由將具有溫度接近於該區域之新鮮風供應至中間區而能夠加以實現。
申請專利範圍第4項係於申請專利範圍第1至3項中任一項中，吹向該中間區中之該帶狀薄膜寬度方向之乾燥風成分的風速為0.7m/秒以下。
塗布層之不均係特別藉由在帶狀薄膜之塗布層附近所產生之寬度方向的乾燥風成分，使紊亂容易被固定。若根據專利範圍第4項，使帶狀薄膜之塗布層附近中之寬度方向的乾燥風成分之風速成為0.7m/秒以下。藉此，因為能夠抑制因風所造成之紊亂被固定於塗布層面，故能夠減低光學薄膜之不均。還有，其中所謂的寬度方向之乾燥風成分係指從帶狀薄膜之塗布層起40mm以內範圍中之風速。
申請專利範圍第5項係一種光學薄膜，其係利用如申請專利範圍第1至4項中任一項之光學薄膜之製法所製造。
若根據申請專利範圍第5項，能夠得到一種光學薄膜，其不會發生塗布膜之乾燥不均，或是因低分子量化合物之蒸發物附著於塗布膜所造成之汙染不均。
若根據本發明，能夠提供一種光學薄膜之製法，其不會發生因氣化的低分子量化合物之凝結物附著於基底薄膜及塗布膜所造成之汙染不均。
 [發明之實施形態]
以下，茲將參照附隨的圖式，針對本發明光學薄膜之製法及光學薄膜之較佳實施形態詳加說明。還有，於本實施形態中，針對光學薄膜為光學補償膜之情形加以說明，但是光學薄膜並不受限於光學補償膜，也能夠適用於各種光學薄膜，例如，防眩薄膜、抗反射薄膜等之製法，其係將硬化性塗布液塗布於帶狀基底薄膜上之後，在乾燥區，藉由利用熱風而使塗布層予以乾燥，在硬化區所乾燥之塗布層予以硬化。
第1圖係顯示為了實施本發明之光學補償膜之製造裝置10之概略構造的示意圖。
如第1圖所示，預先從送出機12送出配向膜形成用之透明樹脂層所形成之帶狀基底薄膜14。帶狀基底薄膜14係藉導輥16予以導引的同時，送入在下流測所配置之平磨處理裝置18中，藉平磨輥20而將透明樹脂層予以平磨處理。藉此，配向膜將予以形成。
於此平磨處理裝置18中，平磨輥20係配置於帶狀基底薄膜14之連續搬送步驟內的某二個搬送用輥之間。然後，帶狀基底薄膜14係被旋轉中的平磨輥20所平磨而予以搬送，再予以連續性平磨處理。此情形下，平磨輥20也可以使其旋轉軸相對於帶狀基底薄膜14之搬送方向傾斜的方式來予以配置。
在平磨處理裝置18之下游側配置有除塵機22，附著於帶狀基底薄膜14表面之塵埃將被去除。再者，在除塵機22之下游側配置有凹版塗布裝置24，含有液晶性化合物之塗布液被塗布於帶狀基底薄膜14之配向膜上。液晶性化合物較佳使用具有交聯性官能基之液晶性碟狀化合物。
凹版塗布裝置24係具備凹版輥26、於該凹版輥26下方所配置之充滿含有液晶性化合物之塗布液的盛液盤28；凹版輥26之約下半部分已被浸漬於塗布液中。另外，在凹版輥26之約10點鐘之位置配置有刮刀29。藉此，塗布液被供應至凹版輥26表面之槽中，利用刮刀29以刮掉多餘的塗布液之後，在帶狀薄膜14表面予以塗布。塗布液之塗布量較佳為10mL/m2 以下。
上游導輥17及下游導輥19係以約略平行於凹版輥26之狀態下予以配置。另外，上游導輥17及下游導輥19較佳為其兩端部係藉未以圖示之軸承構件(球軸承等)旋轉自由地被支撐，並無驅動機構。凹版塗布裝置24較佳為設置於潔淨室等乾淨之氣體環境中。潔淨度較佳為等級1000以下，更佳為等級100以下，進一步更佳為等級10以下。
於第1圖中，塗布裝置係顯示凹版塗布裝置24之例子，並不受此例所限定。例如，能夠適當使用浸漬塗布法、氣刀塗布法、簾幕塗布法、輥塗布法、線纜塗布法、微型凹版法或擠壓塗布法等之方法。帶狀基底薄膜14之搬送速度較佳為5～200m/分鐘。另外，在帶狀基底薄膜14所形成之塗布層的寬度較佳為0.5～3m。
含有液晶性化合物之塗布層所形成之帶狀基底薄膜14係藉很接近於下游側所設置之初期乾燥區30予以乾燥。再者，在初期乾燥區30之下游側設置有乾燥區32，所乾燥之帶狀基底薄膜14的塗布層將進一步被乾燥。而且，在乾燥區32之下游側設置有硬化區36，所乾燥之帶狀基底薄膜14的塗布層將被硬化。
然而，由於無中間區34，若直接將塗布層從乾燥區32搬送至硬化區36時，從在乾燥區32所加熱之帶狀基底薄膜14及塗布膜所蒸發之低分子量化合物可能在較乾燥區32為低溫之硬化區36中凝結。因凝結所析出之析出物(凝結物)將附著於帶狀基底薄膜背面及塗布膜面而汙染。另外，在硬化區36中之壁面等所凝結之凝結物將滴下附著於基底薄膜背面及塗布膜面而汙染。還有，此處所謂低分子量化合物係指分子量為1000以下之物。於光學補償膜之製造中，此低分子量化合物，例如，可塑劑可列舉：三苯基亞磷酸鹽(TPP)、聯苯二苯基亞磷酸鹽(BPP)；硬膜劑可列舉：IRUGACURE 184；矽烷耦合劑可列舉：丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷等。
還有，本發明係在所連續搬送之帶狀積層薄膜14上，塗布硬化性塗布液，在乾燥區32，利用熱風以使塗布層予以乾燥後，在硬化區36，使該塗布層予以硬化的光學薄膜之製法中，使間隔介於乾燥區32與硬化區36之間而設置中間區34的同時，也使該中間區34之溫度成為較乾燥區32之溫度與硬化區36之溫度中任一溫度為低的方式來加以控制，並且，利用凝結抑制手段以防止在乾燥區32與硬化區36所發生氣化之低分子量化合物的凝結。
其中，所謂使間隔介於中間而連接，其係指相鄰的彼此區域隔著具有基底薄膜14所搬送之開口的間隔而連接。另外，所謂區域之溫度係指區域內之氣體環境溫度；所謂低分子量係指分子量為1000以下之物。
如本發明申請案，在乾燥區32與硬化區36之間設置中間區34，於溫控步驟中，因為使中間區34之溫度變得較硬化區36之溫度為低的方式來進行溫控，且因為具有在硬化區36凝結之可能性的低分子量化合物，其在較硬化區36之溫度為低的中間區34凝結，防止在硬化區36之凝結。另外，利用凝結抑制手段，能夠防止在中間區34所氣化之低分子量化合物凝結。
藉此，能夠防止所搬送之被帶狀基底薄膜14之背面及塗布面所氣化之低分子量化合物的凝結物汙染乾燥區32、中間區34、硬化區36。
另外，如習知方式，若乾燥區32與硬化區36鄰接時，於鄰接附近，相互區域所吹出之熱風彼此往來而發生乾燥不均或硬化不均。
針對於此，於本發明申請案中，因為在乾燥區32與硬化區36之間設置熱風緩衝區的中間區34，能夠抑制乾燥不均或硬化不均。
凝結抑制手段係用以防止所氣化之低分子量化合物流入中間區34，以P1表示乾燥區32之內壓、P2表示中間區34之內壓、P3表示硬化區36之內壓時，使內壓差(P2-P1)(以下，標示為ΔP21)符合0Pa>ΔP21>-10Pa關係的同時，也使內壓差(P3-P2)(以下，標示為ΔP32)為5Pa以下的方式來加以控制。藉由如此方式，從硬化區36至中間區34、從中間區34至乾燥區32之風的流動將發生，此風係微風。因而，所氣化之低分子量化合物不會積留於中間區34，因為含有氣化的低分子量化合物之風將流入氣化的低分子量化合物之濃度較低的乾燥區32，於中間區34凝結將變得不會發生，能夠進一步防止因低分子量化合物之凝結物附著於塗布膜面所造成之塗布膜汙染。而且，藉由以微風而使塗布層予以乾燥，也能夠防止乾燥不均。另外，藉由不引起風從中間區34流向硬化區36，因為能夠防止硬化區中之塗布膜的膜面溫度變得不穩定，所以能夠抑制於硬化之際產生的不均。
另外，凝結抑制手段較佳使中間區34中之氣化的低分子量化合物之氣體環境濃度控制於1ppb以下。
藉由使在中間區34之氣化的低分子量化合物之濃度控制於1ppb以下，能夠抑制低分子量化合物凝結於中間區34中，能夠更確實防止塗布膜面之汙染。其中，在中間區34中之氣化的低分子量化合物之濃度測定能夠適合使用如下之方法：取樣含有所氣化的低分子量化合物之氣體，經過濾器吸附後，利用有機溶劑萃取，再藉GC-MS加以定量化。另外，具體之凝結控制手段之一例係藉由將具有溫度接近於該區域之新鮮風供應至中間區而能夠加以實現。
再者，吹向中間區34中之帶狀基底薄膜14寬度方向的乾燥風成分之風速較佳為0.7m/秒以下。塗布層之不均特別因生成於帶狀基底薄膜14之塗布層附近的寬度方向之乾燥風成分而容易紊亂。藉由使帶狀薄膜14之塗布層附近之寬度方向的乾燥風成分之風速成為0.7m/秒以下，因為能夠抑制因風所造成之紊亂被固定於塗布層面，故能夠減低光學薄膜之不均。還有，於此所謂的寬度方向之乾燥風成分係指從帶狀薄膜14之塗布層起40mm以內範圍之風速。
風速之量測若為能夠測定寬度方向之乾燥風成分的風速之物的話，雖然並未予以特別限定，例如，能夠使用日本Kanomax公司製之「Climomaster風速計」，特別適合使用具有風向指向性之「Climomaster風速計6531型或6541型」。藉此，根據利用風速計的測定結果，藉由調節在乾燥區32或硬化區36中之乾燥風的風量，能夠使中間區中之對帶狀基底薄膜之寬度方向的乾燥風成分之風速成為0.7m/秒以下。
輸出中間區34之帶狀基底薄膜14係藉由通過設置於其下游側之硬化區36，予以連續性光照射而使碟狀液晶硬化。於硬化區36中，具備將紫外線照射於帶狀基底薄膜14之塗布層的紫外線照射手段(未以圖示)。紫外線照射手段能夠使用習知之物，例如能夠使用紫外線燈泡等。進一步藉由利用乾燥風，將硬化區36內設為適度之溫度而加速熱硬化。
其中，從乾燥區32起，直到硬化區36中之紫外線照射結束為止之步驟中，予以固定於正常之配列狀態。
然後，在配向膜上形成含有液晶性化合物之塗布層的帶狀基底薄膜14係被捲取機38所捲取。
還有，於本實施形態中，以在硬化區36紫外線照射塗布層為例加以說明，也可以考慮藉塗布液，加熱塗布層而加以硬化。
如上所述，藉與本發明有關之光學補償薄膜之製法，能夠得到一種光學補償薄膜，其不會發生塗布膜之乾燥不均或因低分子量化合物之蒸發物附著於塗布膜所造成之汙染不均。
接著，針對本發明所使用之各種材料加以說明。
於本實施形態中所使用之碟狀化合物(液晶性化合物)能夠使用揭示於日本專利特開平7-267902號、特開平7-281028號、特開平7-306317號之各公報中之物。若根據此等化合物，光學異方向層(含有液晶性化合物之塗布層)係一種由具有碟狀構造單位之化合物所形成之層。亦即，光學異方向層係一種藉單體等之低分子量的液晶性碟狀化合物層，或藉聚合性之液晶性碟狀化合物的聚合(硬化)所得之聚合物層。
碟狀(圓盤狀)化合物，例如，可列舉：於C. Destrades等之研究報告、Mol. Cryst. 71卷、111頁(1981年)所揭示之苯衍生物；C. Destrades等之研究報告、Mol. Cryst. 122卷、141頁(1985年)、Physics Lett.,A,78卷、82頁(1990年)所揭示之三亞蘊(truxenl)衍生物；B. Kohne等之研究報告、Angew. Chem.96卷、70頁(1984年)所揭示之環己烷衍生物；及J. M. Lehn等之研究報告、J. Chem. Commun.,1794頁(1985年)、J. Zhang等之研究報告、J. Am. Chem. Soc. 116卷、2655頁(1994年)所揭示之氮雜冠醚系或苯基乙炔系巨環等。
一般而言，上述碟狀(圓盤狀)化合物係以此等化合物作為分子中心之母核，以直鏈之烷基或烷氧基、取代苯醯氧基等作為其直鏈而被取代成放射線狀之構造，顯示液晶性，一般而言，包含所謂碟狀液晶之化合物。但是，若為分子本身具有負的單軸性、能夠賦與一定配向之物的話，並不受上述揭示之化合物所限定。另外，於該公報中，所謂從碟狀化合物形成，最終形成物並無為該化合物之必要，例如，該低分子碟狀液晶具有藉熱、光等加以反應之基，其結果，含有藉熱、光等，經由反應而聚合或交聯，高分子量化而失去液晶性之物。再者，較佳使用可形成碟狀向列相或單軸性之柱狀相，含有碟狀化合物之至少一種，並且具有光學異方向性之化合物。另外，碟狀化合物較佳為三伸苯基衍生物，其中，三伸苯基衍生物較佳為日本專利特開平7-306317號公報揭示之(化2)所示之化合物。
成為配向膜層支撐體之帶狀薄膜14，較佳為醯化纖維素薄膜。具體而言，於日本專利特開平9-152509號公報所詳細揭示之物。亦即，配向膜係設置在醯化纖維素薄膜上或是醯化纖維素薄膜上所塗設之下塗層上。配向膜係規定在其上而設置的液晶碟狀性化合物之配向方向的方式來發揮功能。其中，配向膜若為能夠將配向性賦與光學異方向層之薄膜的話，可以為任意之層。
配向膜之較佳例，可列舉：有機化合物(較佳為聚合物)的被平磨處理之層、無機化合物之斜方蒸鍍層、及具有微型槽之層，再者，藉ω-二十三酸、氯化二(十八甲基)銨及硬脂酸甲酯等之Langmuir-Blodgett法(LB膜)所形成之累積膜，或者藉賦與電場或磁場而使介電體予以配向之層。
作為配向膜用之有機化合物，例如，可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸/甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯/順丁烯二醯亞胺共聚物、聚乙烯醇、聚(N-羥甲基丙烯醯胺)、苯乙烯/乙烯甲苯共聚物、氯碸化聚乙烯、硝基纖維素、聚氯乙烯、氯化聚烯烴、聚酯、聚醯亞胺、醋酸乙烯/氯乙烯共聚物、乙烯/醋酸乙烯共聚物、羧甲基纖維素、聚乙烯、聚丙烯及聚碳酸酯等之聚合物及矽烷耦合劑等之化合物。較佳聚合物之例子，可列舉：聚醯亞胺、聚苯乙烯、苯乙烯衍生物之聚合物、明膠、聚乙烯醇及具有烷基(較佳為碳原子數6以上)之烷基改性聚乙烯醇。
其中，烷基改性聚乙烯醇特別理想，具優越之使液晶性碟狀化合物予以均勻配向的能力。推測此係由於配向膜表面之烷鏈與碟狀液晶之烷基側鏈之強的作用所致。另外，烷基較佳為碳原子數6～14，進一步更佳為使-S-、-(CH3 )C(CN)-或-(C2 H5 )N-CS-S-介於中間而鍵結於聚乙烯醇。上述烷基改性聚乙烯醇係末端具有烷基之物，皂化度較佳為80%以上，聚合度較佳為200以上。另外，上述側鏈中具有烷基之聚乙烯醇系能夠利用Kuraray(股份)製之MP103、MP203、R1130等之市售品。
另外，作為液晶顯示裝置(LCD)之配向膜廣泛被使用之聚醯亞胺膜(較佳為含氟原子之聚醯亞胺)也較佳作為有機配向膜。此係將聚醯胺酸(例如，日本日立化成(股份)製之LQ/LX系列、日本日產化學(股份)製之SE系列等)塗布於帶狀薄膜面，於100～300℃燒結0.5～1小時之後，藉由加以平磨而可以得到。
再者，醯化纖維素薄膜所適用之配向膜較佳為藉由將反應性基導入上述之聚合物中，或是將上述聚合物與異氰酸酯化合物及環氧化物等之交聯劑一起使用，再藉由使此等聚合物予以硬化所得之硬化膜。
較佳為使此等層之界面介於中間而化學鍵結用於配向膜之聚合物與光學異方向層之液晶性化合物。配向膜之聚合物較佳為利用乙烯部分、環氧乙烷部分或氮雜環丙基部分之基，由至少一個羥基所取代之聚乙烯醇所形成。具有乙烯部分、環氧乙烷部分或氮雜環丙基部分之基較佳為使醚鍵、胺甲酸酯鍵、乙縮醛鍵或酯鍵介於中間而鍵結於聚乙烯醇衍生物之聚合物鏈。具有乙烯部分、環氧乙烷部分或氮雜環丙基部分的基較佳為不具有芳香族環。上述聚乙烯醇較佳為揭示於日本專利特開平9-152509號公報之(化22)。
該平磨處理能夠利用作為LCD之液晶配向處理步驟而廣泛被採用之處理方法。亦即，藉由使用紙或綿布、毛氈、橡膠或耐綸、聚酯纖維等沿著一定方向摩擦配向膜之表面而能夠得到配向之方法。一般而言，藉由使用平均植毛長度及寬度均一之纖維的布等以進行約數次之平磨而予以實施。
另外，無機斜方蒸鍍膜之蒸鍍物質，可列舉：以SiO為代表，TiO2 、ZnO2 等之金屬氧化物；或MgF2 等之氟化物；Au、Al等之金屬。還有，金屬氧化物若為高介電常數的話，能夠作為斜方蒸鍍物質使用，並不受上述所限定。無機斜方蒸鍍膜能夠使用蒸鍍裝置而形成。藉由固定帶狀薄膜而加以蒸鍍，或是使長條形帶狀薄膜予以移動而加以連續蒸鍍，能夠形成無機斜方蒸鍍膜。不使用配向膜而使光學異方向層予以配向之方法，可列舉：使帶狀薄膜上之光學異方向層加熱至可形成碟狀液晶層之溫度的同時，也賦與電場或磁場之方法。
對於在醯化纖維素薄膜上形成有光學異方向層之光學補償膜的液晶顯示裝置之適用方法，較佳為使黏著劑介於中間而將上述光學補償薄膜貼合於偏光板之單側。或是，在偏光元件之單側形成保護薄膜，其係使黏著劑介於中間而貼合上述光學補償薄膜。光學異方元件較佳為至少具有碟狀構造(較佳為碟狀液晶)。
另外，上述碟狀構造單位之圓盤面較佳為相對於醯化纖維素薄膜而傾斜，並且碟狀構造單位之圓盤面與醯化纖維素薄膜的夾角於光學異方向層之深度方向改變。
另外，上述光學補償膜特別適用於穿透型液晶顯示裝置。穿透型液晶顯示裝置係由液晶胞及其兩側所配置之二片偏光板所構成。液晶胞係於二片電極基板之間載持液晶。光學補償膜係於液晶胞與一側偏光板之間予以配置一片，或是於液晶胞與二側偏光板之間配置二片。液晶胞之模式較佳為VA模式、TN模式、或OCB模式。
【實施例】
使用顯示於第1圖之光學補償膜之製造裝置10，利用表1之條件以進行光學薄膜之製造。亦即，於實施例1～15中，使間隔介於中間，於乾燥區32與硬化區36之間設置中間區34而進行製造。於比較例1～5中，不設置中間區34而進行製造。
帶狀基底薄膜14係使用厚度80μm之三乙醯纖維素(Fujitac，日本富士Film(股份)製)。然後，將長鏈烷基改性Poval(MP-203，Kuraray(股份)製)之2重量%溶液，以每1m2 薄膜25mL的方式，塗布於帶狀基底薄膜14的表面上之後，於60℃予以乾燥1分鐘而形成的配向膜用樹脂層的帶狀薄膜14，以30m/分鐘搬送所形成之帶狀薄膜14的同時，在配向膜用樹脂層表面進行平磨處理而形成配向膜。
然後，在平磨處理配向膜用樹脂層後所得之配向膜上，塗布液係使用作成含有下列上液晶性化合物的塗布液：於碟狀化合物TE-8之(3)與TE-8之(5)的重量比4：1之混合物中，相對於該混合物1重量%添加光聚合引發劑(Irugacure 907，日本Ciba Geigy(股份)製造)之混合物的40重量%甲基乙基酮溶液。使帶狀基底薄膜14以30m/分鐘予以行進的同時，使在配向膜上之塗布液量成為以每1m2 帶狀積層薄膜5mL～7mL的方式，來利用凹版塗布裝置24以塗布此塗布液。然後，於塗布後，在已調整至135℃之乾燥區32予以乾燥。其後，於實施例1～7及比較例1、2中，便中間區34介於中間，而於比較例3、4中，緊接著連續搬送帶狀基底薄膜14，藉硬化區36之紫外線燈泡以照射紫外線。中間區34之溫度係設為60℃，硬化區36之溫度係設為95℃。
其中，如表1所揭示，設定乾燥區與中間區之內壓差ΔP21，中間區與硬化區之內壓差ΔP32。內壓差係於管線運轉狀態中，藉微差壓計(日本山本電機製作所FR51)加以測定。然後，使中間區34之低分子量化合物的氣體環境濃度(TPP濃度)成為表1揭示之值。TPP濃度係使氣流通入濾膜中，使TPP附著，其後利用丙酮以萃取附著於濾膜之TPP，藉GC-MS(氣體質量分析裝置)加以定量。另外，針對所製造之光學補償膜(光學薄膜)之汙染程度進行判定。判定係依照下列之基準進行。亦即，根據目視檢查，品質上無問題者判定為○；TV用途等之高品質用途之情形，品質上有問題者判定為△；品質上具有問題者判定為×。
由表1之判定結果，可得知：使間隔介於乾燥區與硬化區之間而設置中間區的同時，使中間區之溫度較乾燥區溫度與硬化區溫度中任一溫度為低的方式來加以控制，而且，利用凝結抑制手段以防止在乾燥區及該硬化區所發生之氣化的低分子量化合物凝結的實施例1～15中，可以得到良好之結果。
另外，於實施例1～15中，藉凝結抑制手段以使內壓差ΔP21符合0[Pa)>ΔP21>-10[Pa)關係的方式來加以控制的同時，也使內壓差ΔP32成為5[Pa)以下來加以控制，使中間區中之氣化的低分子量化合物的氣體環境濃度控制於1ppb以下的實施例1～13中，即使TV用途等之高品質用途上，也能夠得到品質上無問題之高品質光學薄膜。
10．．．光學補償膜之製造裝置
12．．．送出機
14．．．帶狀基底薄膜
16．．．導輥
17．．．上游導輥
18．．．平磨處理裝置
19．．．下游導輥
20．．．平磨輥
22．．．除塵機
24．．．凹版塗布裝置
26．．．凹版輥
28．．．盛液盤
29．．．刮刀
30．．．初期乾燥區
32．．．乾燥區
34．．．中間區
36．．．硬化區
38．．．捲取機
第1圖係顯示有關本發明之光學補償膜之製造裝置概略構造的示意圖。
10．．．光學補償膜之製造裝置
12．．．送出機
14．．．帶狀基底薄膜
16．．．導輥
17．．．上游導輥
18．．．平磨處理裝置
19．．．下游導輥
20．．．平磨輥
22．．．除塵機
24．．．凹版塗布裝置
26．．．凹版輥
28．．．盛液盤
29．．．刮刀
30．．．初期乾燥區
32．．．乾燥區
34．．．中間區
36．．．硬化區
38．．．捲取機

Claims (4)

  1. 一種光學薄膜之製法，其係在連續所搬送之帶狀基底薄膜上，塗布硬化性塗布液，在乾燥區，利用熱風以使塗布層乾燥之後，在硬化區，使該塗布層硬化；其特徵為：使間隔介於該乾燥區與該硬化區之間而設置中間區的同時，也使該中間區之溫度成為較該乾燥區之溫度與該硬化區之溫度中任一溫度為低的方式來加以控制，並且，控制該中間區的內壓低於該乾燥區的內壓，且控制該中間區的內壓低於該硬化區的內壓，並對該中間區供給新鮮風。
  2. 一種光學薄膜之製法，其係在連續所搬送之帶狀基底薄膜上，塗布硬化性塗布液，在乾燥區，利用熱風以使塗布層乾燥之後，在硬化區，使該塗布層硬化；其特徵為：使間隔介於該乾燥區與該硬化區之間而設置中間區的同時，也使該中間區之溫度成為較該乾燥區之溫度與該硬化區之溫度中任一溫度為低的方式來加以控制，並且，控制該中間區的內壓低於該乾燥區的內壓，且控制該中間區的內壓低於該硬化區的內壓，使該中間區中之氣化的分子量為1000以下之低分子量化合物之氣體環境濃度控制於1ppb以下。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜之製法，其中以P1表示該乾燥區之內壓、P2表示該中間區之內壓、P3 表示該硬化區之內壓時，使P2與P1之內壓差△P21符合0Pa>△P21>-10Pa關係的方式來加以控制的同時，也使P3與P2之內壓差△P32為0Pa<△P32≦5Pa的方式來加以控制。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜之製法，其中吹向該中間區中之該帶狀薄膜寬度方向之乾燥風成分的風速為0.7m/秒以下。
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