CN101520576B - 光学薄膜的制造方法及光学薄膜 - Google Patents

光学薄膜的制造方法及光学薄膜 Download PDF

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Abstract

本发明涉及光学薄膜的制造方法及光学薄膜，其提供一种通过在基体薄膜背面及涂布膜面附着已气化的低分子量化合物来制造没有污染不均的光学薄膜的方法。该制造方法是在连续输送的带状基体薄膜(14)上涂布固化性涂布液，在干燥区(32)利用加热风干燥涂布层，然后在固化区(36)使该涂布层固化的光学薄膜的制造方法，其中，在干燥区(32)与固化区(36)之间隔着间隔设置中间区(34)，同时将中间区(34)的温度控制成低于干燥区(32)的温度和固化区(36)的温度的任意一方，而且，利用结露抑制机构防止在干燥区(32)及固化区(36)发生的已气化的低分子量化合物的结露。

Description

光学薄膜的制造方法及光学薄膜
技术领域
本发明涉及一种光学薄膜的制造方法及光学薄膜，尤其涉及在连续输送的带状基体薄膜上涂布固化性涂布液，在加热风干燥该涂布层之后使该涂布层固化的光学薄膜的制造方法及光学薄膜。
背景技术
近年来，在液晶显示装置中使用的各种光学薄膜已成为必需构件。其中，为了改善液晶显示装置的视角特性，在一对偏振板与液晶单元之间用作相位差板的相位差薄膜、提高液晶显示装置的视野性的防反射薄膜的需求正在增加。随着液晶显示装置的对比度比或画面亮度的提高，强烈需要进一步减少相位差薄膜的不均。另外，随着清晰(clear)化、显示画面的高精细化，也强烈需要进一步减少防反射薄膜的不均。
作为该不均的发生原因，主要包括干燥风等引起的涂布膜的干燥不均，或者，在透明薄膜或固化性涂布液中含有的低分子量化合物发生气化而产生的结露污染干燥涂布膜的干燥区或利用光或热固化涂布膜的固化区，该结露通过附着于涂布膜或透明薄膜背面而成为的污染。
作为它们的对策方法，例如在专利文献1中提出了通过管理与薄膜条(web)的涂布面接触的干燥风的风向或风速的紊乱来防止涂布膜的干燥不均的发生的方法。接着，例如在专利文献2中提出了在溶液制膜法中的薄膜的制造工序中，在干燥区内使薄膜干燥时，防止已气化的低分子量化合物引起的干燥区壁面的污染的方法。
专利文献1：特开2004-361015号公报
专利文献2：特开2001-198934号公报
但是，在专利文献1及2的方法中，在带状薄膜上涂布固化性涂布液之后，在干燥区使该涂布层干燥，在固化区使所述已干燥的涂布层固化的光学薄膜的制造方法中，不能抑制如上所述的不均。
发明内容
本发明正是鉴于如上所述的课题而提出的，其目的在于提供一种能够抑制不均的光学薄膜的制造方法。
本发明之1是为了实现所述目的而提供一种光学薄膜的制造方法，其是在连续输送的带状基体薄膜上涂布固化性涂布液，在干燥区利用加热风干燥涂布层，然后在固化区使该涂布层固化的光学薄膜的制造方法，其特征在于，在所述干燥区与所述固化区之间隔着间隔设置中间区，同时将该中间区的温度控制成低于所述干燥区的温度和所述固化区的温度的任意一方，而且，利用结露抑制机构防止在所述干燥区及所述固化区发生的已气化的低分子量化合物的结露。
在此，隔着间隔连续是指相邻的区之间隔着具有输送基体薄膜的开口的间隔连续。另外，区的温度是指区内的气氛温度，低分子量化合物是指分子量为1000以下的化合物。
如果像过去的技术那样，不具有中间区而将涂布层直接从干燥区输送至固化区，则在干燥区加热的基体薄膜及从涂布层气化的低分子量化合物有时会在温度低于干燥区的固化区发生结露，因结露析出的析出物附着于基体薄膜背面及涂布膜面而使其受污染。另外，在固化区的壁面等结露而成的析出物落下并附着于基体薄膜背面及涂布膜面而使其受污染。
与此相对，像本发明这样，在干燥区与固化区之间设置中间区，进行温度控制，使中间区的温度变得低于固化区的温度，所以可能在固化区结露的已气化的低分子量化合物在温度低于固化区的中间区发生结露，所以可以防止在固化区的结露。另外，可以利用结露抑制机构防止在中间区蒸发的低分子量化合物发生结露。
这样，可以防止在干燥区、中间区、固化区输送的基体薄膜背面及涂布膜面被已气化的低分子量化合物发生结露而成的析出物污染。
另外，如果像过去那样邻接干燥区和固化区，则在邻接附近，在彼此的区喷射的加热风之间发生交换，从而发生干燥不均或固化不均。
本发明之2是根据本发明之1，其特征在于，所述结露抑制机构在将所述干燥区的内压表示为P1、将所述中间区的内压表示为P2、将所述固化区的内压表示为P3时，将P2与P1的内压差ΔP21控制成满足0[Pa]＞ΔP21＞-10[Pa]的关系，同时将P3与P2的内压差ΔP32控制成5[Pa]以下。
如果利用本发明之2，则通过将P2与P1的内压差ΔP21控制成满足0[Pa]＞ΔP21＞-10[Pa]的关系，同时将P3与P2的内压差ΔP32控制成5[Pa]以下，发生从固化区到中间区、从中间区到干燥区的风的流动，该风为微风。
因而，不能在中间区完全气化的低分子量化合物也可以在固化区发生气化之后，含有已气化的低分子量化合物的风在中间区流动从而被除去。另外，即使含有不能在中间区完全除去的已气化的低分子量化合物的风流入干燥区，干燥区由于气氛温度最高而不会发生结露。这样，可以可靠地防止低分子量化合物气化而成的低分子量化合物的结露物污染基体薄膜背面及涂布膜面。
另外，通过使从固化区隔着中间区向干燥区流动的风的ΔP32为5[Pa]以下，而成为极微弱的风，所以不会由于该微风而在涂布层发生干燥不均。进而，由于没有从中间区向固化区流动的风，可以防止固化区中的涂布膜的膜面温度变得不稳定，所以可以抑制在固化时发生的不均。
本发明之3是根据本发明之1或2，其特征在于，所述结露抑制机构将所述中间区中的所述已气化的低分子量化合物的气氛浓度控制成1ppb以下。
如果利用本发明之3，通过使在中间区气化而成的低分子量化合物的气氛浓度成为1ppb以下，可以抑制已气化的低分子量化合物在中间区结露，从而可以更可靠地防止基体薄膜背面及涂布膜面的污染。另外，作为结露控制机构的一个具体例，可以通过向中间区供给具有与该区近似的温度的新鲜风来实现。
本发明之4是在本发明之1～3中任意一项中，其特征在于，所述中间区中的吹向所述带状薄膜的宽度方向的干燥风成分的风速为0.7m/秒以下。
在带状薄膜的涂布层附近产生的宽度方向的干燥风成分尤其容易固定涂布层的不均的紊乱。如果利用本发明之4，则可以使吹向带状薄膜的涂布层附近的宽度方向的干燥风成分的风速为0.7m/秒以下。这样，可以抑制风引发的紊乱被固定于涂布层面，所以可以减低光学薄膜的不均。另外，在此，宽度方向的干燥风成分是指距离带状薄膜的涂布层40mm以内的范围的风速。
本发明之5是一种光学薄膜，其特征在于，利用在本发明之1～4中任意一项所述的光学薄膜的制造方法制造。
如果利用本发明之5，则可以得到没有涂布膜的干燥不均或低分子量化合物的蒸发物附着于涂布膜引发的污染不均的光学薄膜。
如果利用本发明，则可以提供没有已气化的低分子量化合物的结露物附着于基体薄膜及涂布膜引发的污染不均的光学薄膜的制造方法。
附图说明
图1是表示本发明中的光学补偿薄膜的制造装置的概略结构的模式图。
图中，10-光学补偿薄膜的制造装置，14-带状基体薄膜，32-干燥区，34-中间区，36-固化区。
具体实施方式
以下利用附图对本发明的光学薄膜的制造方法及光学薄膜的优选实施方式进行详细说明。另外，在本实施方式中，对光学薄膜为光学补偿薄膜的情况进行了说明，但光学薄膜不限于光学补偿薄膜，也可以适用于在带状的基体薄膜上涂布固化性涂布液之后，在干燥区利用加热风使涂布层干燥，在固化区使已干燥的涂布层固化的各种光学薄膜例如防眩薄膜、防反射薄膜等的制造方法。
图1是表示用于实施本发明的光学补偿薄膜的制造装置10的概略结构的模式图。
如图1所示，从输出机12输出已预先形成有取向膜形成用的透明树脂层的带状基体薄膜14。边利用导片滑轮(guide roller)16引导带状基体薄膜14边送入配置于下游侧的摩擦(rubbing)处理装置18，利用摩擦辊20摩擦处理透明树脂层。这样，形成取向膜。
在摩擦处理装置18中，摩擦辊20被配置于位于带状基体薄膜14的连续输送工序内的2个输送用辊间。接着，带状基体薄膜14被旋转的摩擦辊20研磨而被输送，由此连续地进行摩擦处理。这种情况下，也可以相对带状基体薄膜14的输送方向倾斜地配置摩擦辊20的旋转轴。
在摩擦处理装置18的下游侧配置除尘机22，去除附着于带状基体薄膜14表面上的尘埃。进而，在除尘机22的下游侧配置凹版印刷(gravure)涂布装置24，含有液晶性化合物的涂布液被涂布到带状基体薄膜14的取向膜上。作为液晶性化合物，优选使用具有交联性官能团的液晶性盘状(discotic)化合物。
凹版印刷涂布装置24具备凹板印刷辊(gravure roll)26、配置于该凹板印刷辊26的下方的注满内含液晶性化合物的涂布液的受液锅28，凹板印刷辊26的约下半部分被浸渍于涂布液中。另外，在凹板印刷辊26的约10点位置配置刮刀(blade)29。这样，向凹板印刷辊26的表面的单元供给涂布液，在用刮刀29划落多余的涂布液之后，被涂布在薄膜条14表面。涂布液的涂布量优选为10mL/m2以下。
以与凹板印刷辊26大致平行的状态下配置上游导片滑轮17及下游导片滑轮19。另外，利用未图示的轴承构件(球轴承等)旋转自由地支撑上游导片滑轮17及下游导片滑轮19的两端部，优选不具有驱动机构。优选在无尘室(clean room)等清洁的气氛中设置凹版印刷涂布装置24。清洁度优选为1000级(class)以下，更优选为100级以下，进而优选为10级以下。
作为涂布装置，在图1中示出了凹版印刷涂布装置24的例子，但不限定于此。例如可以适当地使用浸涂(dip coat)法、气刮刀刮涂(knife coat)法、帘涂(curtain coat)法、辊涂(roller coat)法、拉丝锭涂敷(wire barcoat)法、微凹板印刷(microgravure)法或挤压涂敷(extrusion coat)法等方法。带状基体薄膜14的输送速度优选为5～200m/分。另外，在带状基体薄膜14上形成的涂布层的宽度优选为0.5～3m。
利用设置于紧挨着的下游侧的初期干燥区30干燥形成有内含液晶性化合物的涂布层的带状基体薄膜14。进而，在初期干燥区30的下游侧设置干燥区32，已被干燥的带状基体薄膜14的涂布层进一步被干燥。接着，在干燥区32的下游侧设置固化区36，已被干燥的带状基体薄膜14的涂布层被固化。
但是，如果不具有中间区34而将涂布层直接从干燥区32输送至固化区36，则在干燥区32加热的带状基体薄膜14及从涂布膜蒸发的低分子量化合物有时会在温度低于干燥区32的固化区36发生结露，因结露析出的析出物(结露物)附着于带状基体薄膜背面及涂布膜面而使其受污染。另外，在固化区36的壁面等结露而成的结露物落下并附着于带状基体薄膜背面及涂布膜面而使其受污染。另外，在此，低分子量化合物是指分子量为1000以下的化合物。在光学补偿薄膜的制造中，作为该低分子量化合物，例如，作为增塑剂，包括磷酸三苯酯(TPP)、磷酸联苯基二苯酯(BPP)，作为坚膜剂，包括Irgacure184，作为硅烷偶合剂，包括丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷等。
因此，本发明是在连续输送的带状基体薄膜14上涂布固化性涂布液，在干燥区32利用加热风使涂布层干燥，然后在固化区36使该涂布层固化的光学薄膜的制造方法，其特征在于，在干燥区32与固化区36之间隔着间隔设置中间区34，同时将该中间区34的温度控制成低于干燥区32的温度和固化区36的温度的任意一方，而且，利用结露抑制机构防止在干燥区32及固化区36发生的已气化的低分子量化合物的结露。
在此，隔着间隔连续是指相邻的区之间隔着具有输送基体薄膜14的开口的间隔连续。另外，区的温度是指区内的气氛温度，低分子量化合物是指分子量为1000以下的化合物。
像本发明这样，在干燥区32与固化区36之间设置中间区34，在温度控制工序中，将温度控制成使中间区34的温度变得低于固化区36的温度，所以可能在固化区36结露的低分子量化合物在温度低于固化区36的中间区34发生结露，所以可以防止在固化区36的结露。另外，可以利用结露抑制机构防止在中间区34气化的低分子量化合物发生结露。
这样，可以防止在干燥区32、中间区34、固化区36输送的带状基体薄膜14的背面及涂布面被已气化的低分子量化合物的结露物污染。
另外，如果像过去那样邻接干燥区32和固化区36，则在邻接附近，在不同的区喷射的加热风之间发生交换，从而发生干燥不均或固化不均。
与此相对，在本发明中，由于在干燥区32与固化区36之间设置作为加热风的缓冲区的中间区34，所以可以抑制干燥不均或固化不均。
结露控制机构为了防止已气化的低分子量化合物流入中间区34，而在将干燥区32的内压表示为P1、将中间区34的内压表示为P2、将固化区36的内压表示为P3时，将内压差(P2-P1)(以下简称为ΔP21)控制成满足0Pa＞ΔP21＞-10Pa的关系，同时将内压差(P3-P2)(以下简称为ΔP32)控制成5Pa以下。这样一来，虽然发生从固化区36到中间区34、从中间区34到干燥区36的风的流动，但该风为微风。因而，已气化的低分子量化合物不会积存于中间区34，内含已气化的低分子量化合物的风向已气化的低分子量化合物的浓度较低的干燥区32流动，所以也不会在中间区34发生结露，从而可以进一步防止低分子量化合物的结露物附着于涂布膜面引发的涂布膜的污染。接着，还可以通过利用微风干燥涂布层来防止干燥不均。另外，由于不发生风从中间区34向固化区36的流动，所以可以防止固化区中的涂布膜的膜面温度变得不稳定，因此可以抑制固化时发生的不均。
另外，作为结露抑制机构，优选将中间区34中的已气化的低分子量化合物的气氛浓度控制为1ppb以下。
通过使已气化的低分子化合物在中间区34的浓度成为1ppb以下，可以抑制低分子量化合物在中间区34发生结露，从而可以更可靠地防止涂布膜面的污染。在此，在中间区34的已气化的低分子量化合物的浓度测定例如可以优选使用如下方法，即：从含有已气化的低分子量化合物的气体中取样，在吸附到过滤器上之后，用有机溶剂萃取，利用GC-MS进行定量化的方法。另外，作为结露控制机构的一个具体例，可以通过向中间区供给具有与该区近似的温度的新鲜风来实现。
进而，优选中间区34中的吹向带状基体薄膜14的宽度方向的干燥风成分的风速为0.7m/秒以下。在带状基体薄膜14的涂布层附近产生的宽度方向的干燥风成分尤其容易搅乱涂布层的不均。通过使吹向带状基体薄膜14的涂布层附近的宽度方向的干燥风成分的风速为0.7m/秒以下，可以抑制风引发的紊乱被固定于涂布层面，所以可以减低光学薄膜的不均。另外，在此，宽度方向的干燥风成分是指距离带状基体薄膜14的涂布层40mm以内的范围的风速。
风速的计测只要能够测定宽度方向的干燥风成分的风速即可，没有特别限定，例如可以优选使用日本家野麦克斯(カノマツクス)公司制的“クリモマスタ-风速计”，特别优选使用风向具有指向性的“クリモマスタ-风速计6531型或6541型”。这样，通过基于利用风速计的测定结果，调节在干燥区32或固化区36的干燥风的风量，可以使中间区中的吹向带状基体薄膜的宽度方向的干燥风成分的风速为0.7m/秒以下。
从中间区34出来的带状基体薄膜14通过设置于其下游侧的固化区36，被连续地光照射，从而使盘状液晶固化。固化区36具备向带状基体薄膜14的涂布层照射紫外线的紫外线照射机构(未图示)。紫外线照射机构可以使用公知的机构，例如可以使用紫外线灯等。进而，利用干燥风使固化区36内成为适度的温度，从而促进热固化。
在此，在从干燥区32到在固化区36中的紫外线照射结束为止的工序中，被固定成正常的排列状态。
接着，将在取向膜上形成有含有液晶性化合物的涂布层的带状基体薄膜14卷绕到卷绕机38上。
另外，在本实施方式中，对在固化区36对涂布层照射紫外线的例子进行了说明，但也可以考虑利用涂布液加热、固化涂布层。
如上所述，利用本发明中的光学补偿薄膜的制造方法，可以得到没有涂布膜的干燥不均或低分子量化合物的蒸发物附着于涂布膜引发的污染不均的光学补偿薄膜。
接着，对在本发明中使用的各种材料进行说明。
作为在本实施方式中使用的盘状化合物(液晶性化合物)，可以使用在特开平7-267902号、特开平7-281028号、特开平7-306317号的各公报中记载的盘状化合物。这样，光学各向异性层(含有液晶性化合物的涂布层)为从具有盘状结构单元的化合物形成的层。即，光学各向异性层是单体等低分子量的液晶性盘状化合物层或利用聚合性的液晶性盘状化合物的聚合(固化)得到的聚合物层。
作为盘状(圆盘状)化合物，例如可以举出C.Destrade等的研究报告、Mol.Cryst.71卷、111页(1981年)中记载的苯衍生物，C.Destrade等的研究报告、Mol.Cryst.122卷、141页(1985年)、Physics lett，A，78卷、82页(1990)中记载的三亚茚衍生物，B.Kohne等的研究报告、Angew.Chem，96卷、70页(1984年)中记载的环己烷衍生物，及J.M.Lehn等的研究报告、J.Chem.Commun.，1794页(1985年)，J.Zhang等的研究报告、J.Am.Chem。Soc.116卷、2655页(1994年)中记载的氮杂冠(azacrown)系或苯乙炔系大环(macrocycle)等。
所述盘状(圆盘状)化合物通常为将它们作为分子中心的母核，被直链的烷基或烷氧基、取代苯甲酸基等放射线状地作为其直链取代而成的结构，包括显示液晶性、通常被称为盘状液晶的盘状化合物。不过，只要分子自身具有负的单轴性且能够赋予一定的取向即可，不被所述记载限定。另外，在所述公报中，从圆盘状化合物形成是指最终的产物不必为所述化合物，例如还包括所述低分子盘状液晶具有遇热、光等发生反应的基团，结果利用遇热、光等发生的反应来发生聚合或交联，从而高分子量化、失去液晶性的化合物。进而，优选使用含有可以形成盘状向列(discoticnematic)相或单轴性的柱状相的圆盘状化合物的至少一种而且具有光学各向异性的化合物。另外，圆盘状化合物优选为9，10-苯并菲衍生物。在此，9，10-苯并菲衍生物优选为在特开平7-306317号公报中记载的由(化2)表示的化合物。
作为成为取向膜层的支撑体的薄膜条14，优选使用乙酸纤维素薄膜。具体而言，可以使用在特开平9-152509号公报中详细记载的薄膜条。即，在乙酸纤维素薄膜上或涂设于该乙酸纤维素薄膜上的底涂层上设置取向膜。取向膜具有规定在其上设置的液晶性盘状化合物的取向方向的功能。在此，取向膜只要能够向光学各向异性层赋予取向性即可，可以为任意层。
作为取向膜的优选例，可以举出对有机化合物(优选为聚合物)进行了摩擦处理的层，无机化合物的斜方蒸镀层，及具有密纹(microgroove)的层，进而ω-括楼酸、二十八烷基甲基氯化铵及硬脂酸甲酯等利用Langmuir Blodgett法(LB膜)形成的累积膜，或者利用电场或磁场的赋予来使电介质取向的层。
作为取向膜用的有机化合物，例如可以举出聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸/甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯/马来酰亚胺共聚物、聚乙烯醇、聚(N-羟甲基丙烯酰胺)、苯乙烯/乙烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝基纤维素、聚氯乙烯、氯化聚烯烃、聚酯、聚酰亚胺、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、羧甲基纤维素、聚乙烯、聚丙烯及聚碳酸酯等的聚合物及硅烷偶合剂等化合物。作为聚合物的优选例，可以举出聚酰亚胺、聚苯乙烯、苯乙烯衍生物的聚合物、明胶、聚乙烯醇及具有烷基(优选碳原子数为6以上)的烷基改性聚乙烯醇。
其中，由于烷基改性的聚乙烯醇使液晶性盘状化合物均一地取向的能力出色，所以特别优选。推测这是由于取向膜表面的烷基链与盘状液晶的烷基侧链之间具有强的相互作用。另外，烷基优选碳原子数为6～14，进而优选借助-S-、-(CH3)C(CN)-或-(C2H5)N-CS-S-与聚乙烯醇结合。所述烷基改性聚乙烯醇在末端具有烷基，优选皂化度为80％以上、聚合度为200以上。另外，在所述侧链上具有烷基的聚乙烯醇可以利用可乐丽(株)制的MP103、MP203、R1130等市售品。
另外，被作为液晶显示装置(LCD)的取向膜广泛使用的聚酰亚胺膜(优选含氟原子的聚酰亚胺)也优选作为有机取向膜。其可以通过在薄膜条面上涂布聚酰胺酸(例如日立化成(株)制的LQ/LX系列，日产化学(株)制的SE系列等)，在以100～300℃烧成0.5～1小时之后进行摩擦而获得。
进而，适用于乙酸纤维素薄膜的取向膜优选为通过向所述聚合物导入反应性基或者通过与异氰酸酯化合物及环氧化合物等交联剂一起使用所述聚合物并使这些聚合物发生固化而获得的固化膜。
在取向膜中使用的聚合物优选借助光学各向异性层的界面与光学各向异性层的液晶性化合物化学地键合。取向膜的聚合物优选从利用具有乙烯基部分、环氧乙基(oxiranyl)部分或氮杂环丙基(aziridinyl)部分的基团取代至少1个羟基而成的聚乙烯醇形成。优选具有乙烯基部分、环氧乙基部分或氮杂环丙基部分的基团借助醚键、尿烷键、乙缩醛键或酯键与聚乙烯醇衍生物的聚合物链结合。具有乙烯基部分、环氧乙基部分或氮杂环丙基部分的基团优选不具有芳香族环。所述聚乙烯醇优选为特开平9-152509号公报中记载的(化22)。
所述摩擦处理可以利用被作为LCD的液晶取向处理工序广泛采用的处理方法。即，可以使用通过使用纸或纱布、毡、橡胶或尼龙、聚酯纤维等向一定方向擦取向膜的表面从而获得取向的方法。通常通过使用平均地栽长度及粗度均一的纤维而成的布等进行数次左右摩擦来实施。
另外，作为无机斜方蒸镀膜的蒸镀物质，可以举出以SiO为代表的TiO2、ZnO2等金属氧化物，或MgF2等氟化物，Au、Al等金属。此外，金属氧化物只要为高介电常数即可作为斜方蒸镀物质使用，不限定于所述。可以使用蒸镀装置形成无机斜方蒸镀膜。可以通过固定薄膜条并进行蒸镀或者使长的薄膜条移动并连续地进行蒸镀来形成无机斜方蒸镀膜。作为不使用取向膜使光学各向异性层取向的方法，可以举出将薄膜条上的光学各向异性层加热至可形成盘状液晶层的温度并同时赋予电场或磁场的方法。
作为在乙酸纤维素薄膜上形成有光学各向异性层的光学补偿薄膜的向液晶显示装置的适用方法，优选借助粘合剂在偏振板的单侧贴合所述光学补偿薄膜或者借助胶粘剂在偏光元件的单侧贴合所述光学补偿薄膜作为保护薄膜。光学各向异性元件优选至少具有盘状结构单元(优选盘状液晶)。
另外，优选所述盘状结构单元的圆盘面相对乙酸纤维素薄膜面倾斜，而且盘状结构单元的圆盘面与乙酸纤维素薄膜所成的角度在光学各向异性层的深度方向变化。
另外，所述光学补偿薄膜特别优选使用透射型液晶显示装置。透射型液晶显示装置由液晶单元及在其两侧配置的两张偏振板构成。液晶单元在两张电极基板之间载持液晶。光学补偿薄膜在液晶单元与一方偏振板之间配置一张或者在液晶单元与双方偏振板之间配置两张。液晶单元的模式优选为VA模式、TN模式或OCB模式。
[实施例]
使用图1所示的光学补偿薄膜的制造装置10，以表1的条件制造光学薄膜。即，在实施例1～15中，在干燥区32与固化区36之间隔着间隔设置中间区34来进行制造。在比较例1～5中，不设置中间区34来进行制造。
作为带状基体薄膜14，使用厚度为80μm的三乙酰纤维素(Fujitech，富士胶片(株)制)。接着，在带状基体薄膜14的表面，在每1m2薄膜上涂布25ml长链烷基改性聚乙烯醇(MP-203，可乐丽(株)制)的2重量％溶液，然后60℃下干燥1分钟，形成取向膜用树脂层，以30m/分输送该形成有取向膜用树脂层的薄膜条14，并同时在取向膜用树脂层表面进行摩擦处理，形成取向膜。
接着，在摩擦处理取向膜用树脂层得到的取向膜上，作为涂布液，使用内含如下液晶性化合物的涂布液，即：在盘状化合物TE-8的(3)与TE-8的(5)的重量比为4∶1的混合物中相对所述混合物添加1重量％光聚合引发剂(Irgacure907，日本Chiba Gaigy(株)制造)得到的混合物的40重量％甲基乙基甲酮溶液的液晶性化合物。使带状基体薄膜14以30m/分行进，并同时利用凹版印刷涂布装置24，在取向膜上涂布该涂布液，使涂布液量成为对应每1m2带状基体薄膜为5mL～7mL。接着，在涂布后，在已调整成135℃的干燥区32使其干燥。之后，在实施例1～7及比较例1、2中，隔着中间区34，在比较例3、4中，立即连续输送带状基体薄膜14，利用固化区36的紫外线灯照射紫外线。中间区34的温度为60℃，固化区36的温度为95℃。
在此，如表1所记载地设定干燥区与中间区的内压差ΔP21和中间区与固化区的内压差ΔP32。在生产线(line)运转状态下，利用微差压力计(山本电机制作所FR51)测定内压差。接着，使中间区34的低分子量化合物的气氛浓度(TPP浓度)成为表1所记载的值。TPP浓度通过向过滤器中通气流，使TPP附着，然后用丙酮萃取附着于过滤器上的TPP，利用GC-MS(气体质量分析装置)定量。另外，对制造的光学补偿薄膜(光学薄膜)的污染程度进行判定。利用以下标准进行判定。即，以目视检查为基础，品质上没有问题时为○，在TV用途等高品位用途中品质上存在问题时为△，品质上存在问题时为×。
[表1]
  中间区有无   干燥区温度(T1)[℃]   中间区温度(T2)[℃]   固化区温度(T3)[℃]   干燥·中间区内差圧(ΔP21)[Pa]   中间·固化区内差圧(ΔP23)[Pa]   中间区TPP浓度[ppb]   光学薄膜污染的程度
  实施例1   有   135   60   95   -10   5   0.8   ○
  实施例2   有   135   60   95   -8   2   0.8   ○
  实施例3   有   135   60   95   -8   5   0.8   ○
  实施例4   有   135   60   95   -8   3   0.8   ○
  实施例5   有   135   60   95   -6   3   0.8   ○
  实施例6   有   135   60   95   -2   4   0.8   ○
  实施例7   有   135   60   95   0   5   0.8   ○
  实施例8   有   135   70   95   -2   4   0.8   ○
  实施例9   有   140   60   95   -2   4   0.8   ○
  实施例10   有   135   60   100   -2   4   0.8   ○
  实施例11   有   140   60   100   -2   4   0.8   ○
  实施例12   有   70   60   95   -8   5   0.8   ○
  实施例13   有   135   50   95   -8   5   0.8   ○
  实施例14   有   135   60   95   5   0   10   △
  实施例15   有   135   60   95   5   3   6   △
  比较例1   无   70   -   95   -   -   -   ×
  比较例2   无   135   -   95   -   -   -   ×
  比较例3   无   140   -   95   -   -   -   ×
  比较例4   无   135   -   95   -   -   -   ×
从表1的判定结果可知，在干燥区与固化区之间隔着间隔设置中间区并同时将中间区的温度控制成低于干燥区的温度和固化区的温度的任意一方，而且，利用结露抑制机构防止在干燥区及所述固化区发生的已气化的低分子量化合物的结露的实施例1～15中，可以得到良好的结果。
另外，在实施例1～15中，在利用结露抑制机构将内压差ΔP21控制为满足0[Pa]＞ΔP21＞-10[Pa]，同时将内压差ΔP32控制为5[Pa]以下，将中间区中的已气化的低分子量化合物的气氛浓度控制成1ppb以下的实施例1～13中，可以得到即使在TV用途等高品位用途中也没有品质上的问题的高品质的光学薄膜。

Claims (4)

1.一种光学薄膜的制造方法，其是在被连续输送的带状基体薄膜上涂布固化性涂布液，在干燥区用加热风干燥涂布层，然后在固化区使该涂布层固化的光学薄膜的制造方法，其特征在于，
在所述干燥区与所述固化区之间隔着间隔设置中间区，
并且，将该中间区的温度控制成低于所述干燥区的温度和所述固化区的温度的任意一方，而且，
控制成所述中间区的内压低于所述干燥区的内压，且所述中间区的内压低于所述固化区的内压，
向所述中间区供给新鲜风。
2.一种光学薄膜的制造方法，
其是在被连续输送的带状基体薄膜上涂布固化性涂布液，在干燥区用加热风干燥涂布层，然后在固化区使该涂布层固化的光学薄膜的制造方法，其特征在于，
在所述干燥区与所述固化区之间隔着间隔设置中间区，
并且，将该中间区的温度控制成低于所述干燥区的温度和所述固化区的温度的任意一方，而且，
控制成所述中间区的内压低于所述干燥区的内压，且所述中间区的内压低于所述固化区的内压，将所述中间区中的所述已气化的分子量在1000以下的化合物的气氛浓度控制为1ppb以下。
3.根据权利要求1或2所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，
在将所述干燥区的内压表示为P1、将所述中间区的内压表示为P2、将所述固化区的内压表示为P3时，将P2与P1的内压差ΔP21控制为满足0Pa＞ΔP21＞-10Pa的关系，同时将P3与P2的内压差ΔP32控制为0＜ΔP32≤5Pa。
4.根据权利要求1或2所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，
所述中间区中的吹向所述带状薄膜的宽度方向的干燥风成分的风速为0.7m/秒以下。
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