JP2000199683A - 基板乾燥装置 - Google Patents
基板乾燥装置Info
- Publication number
- JP2000199683A JP2000199683A JP10372410A JP37241098A JP2000199683A JP 2000199683 A JP2000199683 A JP 2000199683A JP 10372410 A JP10372410 A JP 10372410A JP 37241098 A JP37241098 A JP 37241098A JP 2000199683 A JP2000199683 A JP 2000199683A
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- Japan
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- air
- air nozzle
- heater box
- substrate
- piping
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 エアナイフ方式の基板乾燥装置において、エ
アノズルに対して、結露そのものを生じさせないように
する。 【解決手段】 コンプレッサなどの加圧源に配管を介し
て接続されたエアノズルを有し、同エアノズルから液晶
パネル用ガラス基板などの基板にドライエアーを吹き付
けて付着液体を排除し、その基板面を乾燥させるにあた
って、配管に加熱手段を設け、ドライエアーをエアノズ
ル付近の露点温度以上に加熱する。
アノズルに対して、結露そのものを生じさせないように
する。 【解決手段】 コンプレッサなどの加圧源に配管を介し
て接続されたエアノズルを有し、同エアノズルから液晶
パネル用ガラス基板などの基板にドライエアーを吹き付
けて付着液体を排除し、その基板面を乾燥させるにあた
って、配管に加熱手段を設け、ドライエアーをエアノズ
ル付近の露点温度以上に加熱する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はエアナイフ方式の基
板乾燥装置に関し、さらに詳しく言えば、ドライエアー
の吹き付け時にエアノズルに水滴が生じないようにした
基板乾燥装置に関するものである。
板乾燥装置に関し、さらに詳しく言えば、ドライエアー
の吹き付け時にエアノズルに水滴が生じないようにした
基板乾燥装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶パネルを例にして説明すると、その
製造はガラス（もしくはプラスチック）基板の洗浄から
始まる。その後に乾燥が行なわれるが、その乾燥には傷
つきやゴミ付着を防止するため、通常はエアナイフ方式
が採用されており、図２にその概略を示す。
製造はガラス（もしくはプラスチック）基板の洗浄から
始まる。その後に乾燥が行なわれるが、その乾燥には傷
つきやゴミ付着を防止するため、通常はエアナイフ方式
が採用されており、図２にその概略を示す。
【０００３】すなわち、洗浄工程に続く乾燥工程には、
ガラス基板１の搬送ラインに沿ってエアノズル２ａ，２
ｂが上下一対として配置されている。この場合、エアノ
ズル２ａ，２ｂはガラス基板１の搬送方向とほぼ直交す
る方向に配置され、その各々は主配管３を介して図示し
ないエアコンプレッサなどの加圧源に接続されている。
ガラス基板１の搬送ラインに沿ってエアノズル２ａ，２
ｂが上下一対として配置されている。この場合、エアノ
ズル２ａ，２ｂはガラス基板１の搬送方向とほぼ直交す
る方向に配置され、その各々は主配管３を介して図示し
ないエアコンプレッサなどの加圧源に接続されている。
【０００４】この乾燥工程はクリーンルーム内に置かれ
るが、エアノズル２ａ，２ｂに供給される空気は除湿さ
れたドライエアーであるため、通常、その室温よりも１
〜５℃程度温度が低い。したがって、エアノズル２に結
露が生じ、それが成長すると上側のエアノズル２ａから
ガラス基板１上に滴下することがある。
るが、エアノズル２ａ，２ｂに供給される空気は除湿さ
れたドライエアーであるため、通常、その室温よりも１
〜５℃程度温度が低い。したがって、エアノズル２に結
露が生じ、それが成長すると上側のエアノズル２ａから
ガラス基板１上に滴下することがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】これを防止するため、
従来では、上側のエアノズル２ａをその一端側が他端側
よりも高くなるように傾けて、滴を低くされた方の端部
側からガラス基板１の搬送ライン外に落下させるように
している。しかしながら、これには次のような課題があ
る。
従来では、上側のエアノズル２ａをその一端側が他端側
よりも高くなるように傾けて、滴を低くされた方の端部
側からガラス基板１の搬送ライン外に落下させるように
している。しかしながら、これには次のような課題があ
る。
【０００６】すなわち、エアノズル２ａを上記のように
傾けるにしても、余り極端に傾けると乾燥ムラが生じか
ねない。したがって、緩やかに傾けることになるが、そ
うすると、ノズル開口部付近の水滴は吹き出し空気流に
誘われてガラス基板１上に吹き付けられることになる。
また、エアノズル２ａにボルト頭やリベット頭などの突
起があると、その突起付近に水滴が溜まり、これが成長
するとガラス基板１上に落下するおそれがある。
傾けるにしても、余り極端に傾けると乾燥ムラが生じか
ねない。したがって、緩やかに傾けることになるが、そ
うすると、ノズル開口部付近の水滴は吹き出し空気流に
誘われてガラス基板１上に吹き付けられることになる。
また、エアノズル２ａにボルト頭やリベット頭などの突
起があると、その突起付近に水滴が溜まり、これが成長
するとガラス基板１上に落下するおそれがある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような課
題を解決するためになされたもので、その目的は、エア
ノズルに対して、結露そのものを生じさせないようにし
た基板乾燥装置を提供することにある。
題を解決するためになされたもので、その目的は、エア
ノズルに対して、結露そのものを生じさせないようにし
た基板乾燥装置を提供することにある。
【０００８】本発明によれば、この目的は、コンプレッ
サなどの加圧源に配管を介して接続されたエアノズルを
有し、同エアノズルから液晶パネル用ガラス基板などの
基板にドライエアーを吹き付けて付着液体を排除し、そ
の基板面を乾燥させる基板乾燥装置において、配管にド
ライエアーをエアノズル付近の露点温度以上に加熱する
加熱手段を設けることにより達成される。
サなどの加圧源に配管を介して接続されたエアノズルを
有し、同エアノズルから液晶パネル用ガラス基板などの
基板にドライエアーを吹き付けて付着液体を排除し、そ
の基板面を乾燥させる基板乾燥装置において、配管にド
ライエアーをエアノズル付近の露点温度以上に加熱する
加熱手段を設けることにより達成される。
【０００９】結露は露点以下の温度で発生する。したが
って、ドライエアーを加熱して露点温度以上とすれば、
エアノズルに結露が発生しない。加熱手段には好ましく
は電気ヒータが用いられるが、近くに別の熱源があれば
それを利用してもよい。
って、ドライエアーを加熱して露点温度以上とすれば、
エアノズルに結露が発生しない。加熱手段には好ましく
は電気ヒータが用いられるが、近くに別の熱源があれば
それを利用してもよい。
【００１０】
【発明の実施の形態】次に、本発明を図１に示されてい
る実施例により説明する。
る実施例により説明する。
【００１１】この基板乾燥装置は、先の図２において説
明した従来例と同様に、ガラス基板１の搬送ラインに沿
って上下一対として配置されたエアノズル２ａ，２ｂを
備えている。各エアノズル２ａ，２ｂは、ガラス基板１
の搬送方向とほぼ直交する方向に配置されるが、この実
施例においては、各エアノズル２ａ，２ｂを搬送ライン
の搬送面に対して特に傾ける必要はない。
明した従来例と同様に、ガラス基板１の搬送ラインに沿
って上下一対として配置されたエアノズル２ａ，２ｂを
備えている。各エアノズル２ａ，２ｂは、ガラス基板１
の搬送方向とほぼ直交する方向に配置されるが、この実
施例においては、各エアノズル２ａ，２ｂを搬送ライン
の搬送面に対して特に傾ける必要はない。
【００１２】各エアノズル２ａ，２ｂは、主配管３およ
びそれより分岐された分岐配管３ａ，３ｂを介して図示
しないコンプレッサなどの加圧源に接続されている。主
配管３には、加圧源側から供給されるドライエアーを加
熱するヒータボックス４が設けられている。
びそれより分岐された分岐配管３ａ，３ｂを介して図示
しないコンプレッサなどの加圧源に接続されている。主
配管３には、加圧源側から供給されるドライエアーを加
熱するヒータボックス４が設けられている。
【００１３】この実施例において、ヒータボックス４内
には電気ヒータ線４ａが配置されている。また、各分岐
配管３ａ，３ｂにはそれぞれ流量調整弁５ａ，５ｂが設
けられている。
には電気ヒータ線４ａが配置されている。また、各分岐
配管３ａ，３ｂにはそれぞれ流量調整弁５ａ，５ｂが設
けられている。
【００１４】加圧源側から供給されるドライエアーはヒ
ータボックス４内を通過する際に、エアノズル２ａ，２
ｂ付近の露点温度以上に加熱される。露点温度は、露点
計や露点湿度計により求められる。
ータボックス４内を通過する際に、エアノズル２ａ，２
ｂ付近の露点温度以上に加熱される。露点温度は、露点
計や露点湿度計により求められる。
【００１５】ヒータボックス４を自動制御系により制御
することが好ましいが、この種の基板乾燥装置が置かれ
る乾燥ゾーン内は、その温度がある程度の範囲内で制御
されており、急激に変化するものでないため、手動でヒ
ータボックス４を制御することも十分に可能である。
することが好ましいが、この種の基板乾燥装置が置かれ
る乾燥ゾーン内は、その温度がある程度の範囲内で制御
されており、急激に変化するものでないため、手動でヒ
ータボックス４を制御することも十分に可能である。
【００１６】例えば、この基板乾燥装置が置かれている
乾燥ゾーン内の温度が２５℃で、相対湿度が８０％であ
るとすると、露点温度は約２２．５℃である。したがっ
て、ドライエアー（通常、２０℃程度）の温度を２２．
５℃以上に加熱することにより、各エアノズル２ａ，２
ｂに結露は生じない。
乾燥ゾーン内の温度が２５℃で、相対湿度が８０％であ
るとすると、露点温度は約２２．５℃である。したがっ
て、ドライエアー（通常、２０℃程度）の温度を２２．
５℃以上に加熱することにより、各エアノズル２ａ，２
ｂに結露は生じない。
【００１７】なお、上記実施例ではヒータボックス４内
の加熱手段として電気ヒータ線４ａを用いているが、例
えば温水などによりヒータボックス４を加熱するように
してもよい。また、上記実施例では乾燥する基板を液晶
パネル用ガラス基板としているが、本発明はこれに限定
されるものでなく、例えば回路基板などの乾燥にも適用
可能であることを付言しておく。
の加熱手段として電気ヒータ線４ａを用いているが、例
えば温水などによりヒータボックス４を加熱するように
してもよい。また、上記実施例では乾燥する基板を液晶
パネル用ガラス基板としているが、本発明はこれに限定
されるものでなく、例えば回路基板などの乾燥にも適用
可能であることを付言しておく。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
エアノズルより基板に吹き付けられるドライエアーを、
そのエアノズル付近の露点温度以上に加熱するようにし
たことにより、エアノズルに対して、結露そのものを生
じさせないようにすることができる。
エアノズルより基板に吹き付けられるドライエアーを、
そのエアノズル付近の露点温度以上に加熱するようにし
たことにより、エアノズルに対して、結露そのものを生
じさせないようにすることができる。
【図１】本発明の一実施例を説明するための模式図。
【図２】従来例を説明するための模式図。
１ ガラス基板 ２ａ，２ｂ エアノズル ３ 主配管 ３ａ，３ｂ 分岐配管 ４ ヒータボックス ４ａ 電気ヒータ線 ５ａ，５ｂ 流量調整弁
Claims (1)
- 【請求項１】 コンプレッサなどの加圧源に配管を介し
て接続されたエアノズルを有し、同エアノズルから液晶
パネル用ガラス基板などの基板にドライエアーを吹き付
けて付着液体を排除し、その基板面を乾燥させる基板乾
燥装置において、 上記配管には、上記ドライエアーを上記エアノズル付近
の露点温度以上に加熱する加熱手段が設けられている基
板乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10372410A JP2000199683A (ja) | 1998-12-28 | 1998-12-28 | 基板乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10372410A JP2000199683A (ja) | 1998-12-28 | 1998-12-28 | 基板乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000199683A true JP2000199683A (ja) | 2000-07-18 |
Family
ID=18500398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10372410A Withdrawn JP2000199683A (ja) | 1998-12-28 | 1998-12-28 | 基板乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000199683A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002162163A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-06-07 | Nec Kagoshima Ltd | 溶剤乾燥装置 |
| KR100513104B1 (ko) * | 2002-04-16 | 2005-09-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 기판 건조장치 |
| CN101520576B (zh) * | 2008-02-29 | 2013-04-10 | 富士胶片株式会社 | 光学薄膜的制造方法及光学薄膜 |
-
1998
- 1998-12-28 JP JP10372410A patent/JP2000199683A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002162163A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-06-07 | Nec Kagoshima Ltd | 溶剤乾燥装置 |
| KR100513104B1 (ko) * | 2002-04-16 | 2005-09-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 기판 건조장치 |
| CN101520576B (zh) * | 2008-02-29 | 2013-04-10 | 富士胶片株式会社 | 光学薄膜的制造方法及光学薄膜 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060307 |