JP2002162163A - 溶剤乾燥装置 - Google Patents
溶剤乾燥装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】常温の給気エアを給気ノズルから導入する溶剤
乾燥装置において、給気ノズルにおける溶剤蒸気の結露
を防止する。 【解決手段】ペースト２を塗工した基板１を搬送する搬
送コンベア４と、基板１を加熱しペースト２に含まれる
の溶剤を蒸発させる溶剤乾燥用ヒーター５を備えた複数
のヒーターユニット６と、ヒーターユニット６と交互に
配置され蒸発した溶剤蒸気１５を押流すための常温の給
気エア１２を供給する給気ノズル７を備えた複数の給気
ユニット８と、溶剤蒸気１５及び給気エア１２を排気す
る排気部１０とを乾燥炉３内に有する溶剤乾燥装置にお
いて、給気ユニット８を下側からカバーし給気ノズル７
を溶剤蒸気１５から遮断する遮蔽板１６をヒーターユニ
ット６間に設け、遮蔽板１６は底部に給気エア１２を通
す給気スリット１７を設けると共に給気スリット１７の
近傍が溶剤の露点温度以上になるように設置する。
乾燥装置において、給気ノズルにおける溶剤蒸気の結露
を防止する。 【解決手段】ペースト２を塗工した基板１を搬送する搬
送コンベア４と、基板１を加熱しペースト２に含まれる
の溶剤を蒸発させる溶剤乾燥用ヒーター５を備えた複数
のヒーターユニット６と、ヒーターユニット６と交互に
配置され蒸発した溶剤蒸気１５を押流すための常温の給
気エア１２を供給する給気ノズル７を備えた複数の給気
ユニット８と、溶剤蒸気１５及び給気エア１２を排気す
る排気部１０とを乾燥炉３内に有する溶剤乾燥装置にお
いて、給気ユニット８を下側からカバーし給気ノズル７
を溶剤蒸気１５から遮断する遮蔽板１６をヒーターユニ
ット６間に設け、遮蔽板１６は底部に給気エア１２を通
す給気スリット１７を設けると共に給気スリット１７の
近傍が溶剤の露点温度以上になるように設置する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばカラーＰＤ
Ｐ（プラズマディスプレイパネル）の製造工程におい
て、ガラス基板上にスクリーン印刷等によりペーストを
塗工し、この基板を加熱してペーストに含まれる溶剤を
蒸発させ、基板の乾燥を行うための溶剤乾燥装置に関す
る。
Ｐ（プラズマディスプレイパネル）の製造工程におい
て、ガラス基板上にスクリーン印刷等によりペーストを
塗工し、この基板を加熱してペーストに含まれる溶剤を
蒸発させ、基板の乾燥を行うための溶剤乾燥装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の溶剤乾燥装置について、図２を参
照して説明する。図２は、従来の溶剤乾燥装置の概略構
成図である。この従来の溶剤乾燥装置は、乾燥炉３内に
設けられた下記の各部分から構成されている。すなわ
ち、ペースト２が塗工された基板１を搬入搬出するため
の搬送コンベア４と、搬送コンベア４の上方に等間隔に
設けられそれぞれに溶剤乾燥用ヒーター５を有する複数
のヒーターユニット６と、ヒーターユニット６と交互に
配置されそれぞれに給気ノズル７を有する複数の給気ユ
ニット８と、排気スリット９を有し溶剤の蒸気１５を排
気する排気部１０とを備えて構成されている。
照して説明する。図２は、従来の溶剤乾燥装置の概略構
成図である。この従来の溶剤乾燥装置は、乾燥炉３内に
設けられた下記の各部分から構成されている。すなわ
ち、ペースト２が塗工された基板１を搬入搬出するため
の搬送コンベア４と、搬送コンベア４の上方に等間隔に
設けられそれぞれに溶剤乾燥用ヒーター５を有する複数
のヒーターユニット６と、ヒーターユニット６と交互に
配置されそれぞれに給気ノズル７を有する複数の給気ユ
ニット８と、排気スリット９を有し溶剤の蒸気１５を排
気する排気部１０とを備えて構成されている。
【０００３】給気ユニット８は、搬送コンベア４の進行
方向に対して直角に設置されたパイプの下側に、基板１
に向けて給気エア１２を供給するための複数の給気ノズ
ル７が等ピッチで設けられた構造となっている。また、
給気ユニット８は、それぞれ乾燥炉３内の上部に設けら
れた給気エア導入部１１に接続され、複数の給気ノズル
７に給気エア１２を供給することによって蒸発した溶剤
蒸気１５を押し流す役目をしている。そして、ヒーター
ユニット６ごとに給気エア１２が均一に供給できるよう
に、複数の給気ノズル７で分配して供給する構造となっ
ている。また、給気エア１２は送風ファン１３によって
給気エア導入部１１を通って給気ノズル７から乾燥炉３
内に送り込まれ、乾燥炉３内の排気は排気部１０に接続
された排気ファン１４によって排気スリット９から排出
される。
方向に対して直角に設置されたパイプの下側に、基板１
に向けて給気エア１２を供給するための複数の給気ノズ
ル７が等ピッチで設けられた構造となっている。また、
給気ユニット８は、それぞれ乾燥炉３内の上部に設けら
れた給気エア導入部１１に接続され、複数の給気ノズル
７に給気エア１２を供給することによって蒸発した溶剤
蒸気１５を押し流す役目をしている。そして、ヒーター
ユニット６ごとに給気エア１２が均一に供給できるよう
に、複数の給気ノズル７で分配して供給する構造となっ
ている。また、給気エア１２は送風ファン１３によって
給気エア導入部１１を通って給気ノズル７から乾燥炉３
内に送り込まれ、乾燥炉３内の排気は排気部１０に接続
された排気ファン１４によって排気スリット９から排出
される。
【０００４】このような構造を有する従来の溶剤乾燥装
置においては、ペースト２が塗工された基板１を搬送コ
ンベア４に載せて乾燥炉３内を一定速度で搬送し、溶剤
乾燥用ヒーター５の加熱によってペースト２に含まれる
溶剤を蒸発させ、溶剤乾燥を行う。そして、ヒーター加
熱を行うと同時に蒸発する溶剤蒸気１５を、給気ノズル
７から供給される給気エア１２とともに排気スリット９
から乾燥炉３外に排気し、溶剤の乾燥を行うようになっ
ている。
置においては、ペースト２が塗工された基板１を搬送コ
ンベア４に載せて乾燥炉３内を一定速度で搬送し、溶剤
乾燥用ヒーター５の加熱によってペースト２に含まれる
溶剤を蒸発させ、溶剤乾燥を行う。そして、ヒーター加
熱を行うと同時に蒸発する溶剤蒸気１５を、給気ノズル
７から供給される給気エア１２とともに排気スリット９
から乾燥炉３外に排気し、溶剤の乾燥を行うようになっ
ている。
【０００５】また、乾燥炉３内に供給される給気エア１
２は清浄なクリーンエアが用いられており、常温で供給
されている。そのため、給気ノズル７の温度はノズル周
囲の雰囲気温度よりも低くなっている。一方、乾燥炉３
内で加熱され蒸発した溶剤蒸気１５は上昇気流となって
給気ノズル７の位置まで上昇し、給気ノズル７に接触し
て結露し、この結露した溶剤１８が搬送中の基板１上に
落下して製品不良を発生させていた。
２は清浄なクリーンエアが用いられており、常温で供給
されている。そのため、給気ノズル７の温度はノズル周
囲の雰囲気温度よりも低くなっている。一方、乾燥炉３
内で加熱され蒸発した溶剤蒸気１５は上昇気流となって
給気ノズル７の位置まで上昇し、給気ノズル７に接触し
て結露し、この結露した溶剤１８が搬送中の基板１上に
落下して製品不良を発生させていた。
【０００６】この問題を解決するために、乾燥炉内に供
給する給気エアをあらかじめ加熱して導入し、給気ノズ
ルの温度を溶剤蒸気の露点温度よりも高くすることによ
って給気ノズルの結露を防止する方法が提案されてい
る。しかし、この方法は、給気エアを加熱するための設
備、加熱温度をコントロールする設備などに費用がかか
り、また、製品や溶剤の種類によって加熱条件が異なる
ため実施に踏み切れないのが現状である。また、特開平
７−１４２３２２号公報に示されているように、給気エ
アとして乾燥エアなどの除湿したエアを導入する方法も
あるが、これは給気ノズル近傍の結露には効果はあるも
のの給気ユニット全体としてはほとんど効果が得られな
い。
給する給気エアをあらかじめ加熱して導入し、給気ノズ
ルの温度を溶剤蒸気の露点温度よりも高くすることによ
って給気ノズルの結露を防止する方法が提案されてい
る。しかし、この方法は、給気エアを加熱するための設
備、加熱温度をコントロールする設備などに費用がかか
り、また、製品や溶剤の種類によって加熱条件が異なる
ため実施に踏み切れないのが現状である。また、特開平
７−１４２３２２号公報に示されているように、給気エ
アとして乾燥エアなどの除湿したエアを導入する方法も
あるが、これは給気ノズル近傍の結露には効果はあるも
のの給気ユニット全体としてはほとんど効果が得られな
い。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の溶剤乾燥装置は、乾燥炉内でヒーター加熱されて蒸発
した溶剤の蒸気が、上昇気流となって給気ノズル付近に
接触して結露し、結露した溶剤が搬送中の基板上に落下
して製品不良発生の原因となっていた。これは、溶剤の
蒸気を排気させるための供給エアが常温のまま乾燥炉内
に供給されているためであり、その結果、給気ノズルの
温度がノズル周囲の雰囲気温度よりも低くなって溶剤蒸
気の露点温度以下になるためである。
の溶剤乾燥装置は、乾燥炉内でヒーター加熱されて蒸発
した溶剤の蒸気が、上昇気流となって給気ノズル付近に
接触して結露し、結露した溶剤が搬送中の基板上に落下
して製品不良発生の原因となっていた。これは、溶剤の
蒸気を排気させるための供給エアが常温のまま乾燥炉内
に供給されているためであり、その結果、給気ノズルの
温度がノズル周囲の雰囲気温度よりも低くなって溶剤蒸
気の露点温度以下になるためである。
【０００８】本発明は、このような問題を解決し、常温
の給気エアを導入する装置であっても給気ノズルへの溶
剤結露を防止することができる安価な溶剤乾燥装置を提
供することを目的とする。
の給気エアを導入する装置であっても給気ノズルへの溶
剤結露を防止することができる安価な溶剤乾燥装置を提
供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、ペーストが塗
工された基板を搬送する搬送コンベアと、基板を加熱し
ペーストに含まれるの溶剤を蒸発させる溶剤乾燥用ヒー
ターを備えた複数のヒーターユニットと、ヒーターユニ
ットと交互に配置され蒸発した溶剤蒸気を押し流すため
の常温の給気エアを供給する給気ノズルを備えた複数の
給気ユニットと、溶剤蒸気ならびに給気エアを排気する
排気部とを乾燥炉内に有する溶剤乾燥装置において、前
記給気ユニットを下側からカバーし給気ノズルを溶剤蒸
気から遮断して溶剤の結露を防止するための遮蔽板を前
記ヒーターユニット間に設けた構造を有する。
工された基板を搬送する搬送コンベアと、基板を加熱し
ペーストに含まれるの溶剤を蒸発させる溶剤乾燥用ヒー
ターを備えた複数のヒーターユニットと、ヒーターユニ
ットと交互に配置され蒸発した溶剤蒸気を押し流すため
の常温の給気エアを供給する給気ノズルを備えた複数の
給気ユニットと、溶剤蒸気ならびに給気エアを排気する
排気部とを乾燥炉内に有する溶剤乾燥装置において、前
記給気ユニットを下側からカバーし給気ノズルを溶剤蒸
気から遮断して溶剤の結露を防止するための遮蔽板を前
記ヒーターユニット間に設けた構造を有する。
【００１０】また、本発明に係る前記遮蔽板は箱型に形
成され、箱型の底部に給気ノズルからの給気エアを通過
させる給気スリットが設けられ、この給気スリットは給
気ノズルの直下に位置するように設置されている。
成され、箱型の底部に給気ノズルからの給気エアを通過
させる給気スリットが設けられ、この給気スリットは給
気ノズルの直下に位置するように設置されている。
【００１１】また、本発明に係る前記遮蔽板は、給気ス
リットを有する底部が前記溶剤乾燥用ヒーターに近接し
て設置され、その際、給気スリット近傍が溶剤の露点温
度以上に加熱されるように設置されている。そして、こ
の給気スリット近傍の加熱は、前記溶剤乾燥用ヒーター
で行われるようになっている。
リットを有する底部が前記溶剤乾燥用ヒーターに近接し
て設置され、その際、給気スリット近傍が溶剤の露点温
度以上に加熱されるように設置されている。そして、こ
の給気スリット近傍の加熱は、前記溶剤乾燥用ヒーター
で行われるようになっている。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。図１は、本実施の形態に
おける溶剤乾燥装置の概略構成図である。なお、従来技
術の説明で用いたのと同じ部品は、同じ符号で説明す
る。
て、図面を参照して説明する。図１は、本実施の形態に
おける溶剤乾燥装置の概略構成図である。なお、従来技
術の説明で用いたのと同じ部品は、同じ符号で説明す
る。
【００１３】図１に示すように、本発明の溶剤乾燥装置
は、乾燥炉３内に設けられた下記に示す各部分から構成
されている。すなわち、ペースト２が塗工された基板１
を搬入搬出するための搬送コンベア４と、搬送コンベア
４の上方に等間隔に設けられそれぞれに溶剤乾燥用ヒー
ター５を有する複数のヒーターユニット６と、ヒーター
ユニット６の間に配置されそれぞれに給気ノズル７を有
する複数の給気ユニット８と、排気スリット９を有し加
熱により蒸発した溶剤蒸気１５を排気する排気部１０と
を備えて構成されている。
は、乾燥炉３内に設けられた下記に示す各部分から構成
されている。すなわち、ペースト２が塗工された基板１
を搬入搬出するための搬送コンベア４と、搬送コンベア
４の上方に等間隔に設けられそれぞれに溶剤乾燥用ヒー
ター５を有する複数のヒーターユニット６と、ヒーター
ユニット６の間に配置されそれぞれに給気ノズル７を有
する複数の給気ユニット８と、排気スリット９を有し加
熱により蒸発した溶剤蒸気１５を排気する排気部１０と
を備えて構成されている。
【００１４】ヒーターユニット６と給気ユニット８と
は、それぞれ等間隔でかつ交互に配置され、隣り合うヒ
ーターユニット６の間には、給気ユニット８を下側から
カバーできるように箱型に形成したステンレス製の遮蔽
板１６を取り付け、ヒーター加熱によって上昇してくる
溶剤蒸気１５から給気ノズル７を隔離する役目をしてい
る。そして、遮蔽板１６の底部には、給気ノズル７の直
下に位置するように複数の給気スリット１７が等ピッチ
で開けられており、給気ノズル７からの給気エア１２を
通過させて基板１に向けて吹き出すようになっている。
ここで、遮蔽板１６は給気スリット１７の開けられてい
る底部ができるだけ溶剤乾燥用ヒーター５に近い位置に
くるように設置することによって、常温の給気エア１２
が給気スリット１７を通過してもスリット付近の温度は
下がらないようになっている。
は、それぞれ等間隔でかつ交互に配置され、隣り合うヒ
ーターユニット６の間には、給気ユニット８を下側から
カバーできるように箱型に形成したステンレス製の遮蔽
板１６を取り付け、ヒーター加熱によって上昇してくる
溶剤蒸気１５から給気ノズル７を隔離する役目をしてい
る。そして、遮蔽板１６の底部には、給気ノズル７の直
下に位置するように複数の給気スリット１７が等ピッチ
で開けられており、給気ノズル７からの給気エア１２を
通過させて基板１に向けて吹き出すようになっている。
ここで、遮蔽板１６は給気スリット１７の開けられてい
る底部ができるだけ溶剤乾燥用ヒーター５に近い位置に
くるように設置することによって、常温の給気エア１２
が給気スリット１７を通過してもスリット付近の温度は
下がらないようになっている。
【００１５】給気ユニット８は、搬送コンベア４の進行
方向と直角に設置されたパイプの下側に、基板１に向け
て給気エア１２を供給するための複数の給気ノズル７が
設けられた構造となっている。また、給気ユニット８
は、それぞれ乾燥炉３内の上部に設けられた給気エア導
入部１１に接続され、複数の給気ノズル７に給気エア１
２を供給している。給気ノズル７を通った給気エア１２
はさらに遮蔽板１６の給気スリット１７を通って基板１
に向けて吹き出し、蒸発した溶剤蒸気１５を押し流し、
押し流された溶剤蒸気１５は排気部１０の排気スリット
９から排気されるようになっている。そして、給気エア
１２は、ヒーターユニット６ごとに乾燥炉３内に均一に
供給されるように複数の給気ノズル７で分配して供給す
る構造となっている。また、給気エア１２は送風ファン
１３によって給気エア導入部１１を通って給気ノズル７
に至り、さらに、給気スリット１７から乾燥炉３内に吹
き出す。そして、乾燥炉３内の排気は排気部１０に接続
された排気ファン１４で行われる。
方向と直角に設置されたパイプの下側に、基板１に向け
て給気エア１２を供給するための複数の給気ノズル７が
設けられた構造となっている。また、給気ユニット８
は、それぞれ乾燥炉３内の上部に設けられた給気エア導
入部１１に接続され、複数の給気ノズル７に給気エア１
２を供給している。給気ノズル７を通った給気エア１２
はさらに遮蔽板１６の給気スリット１７を通って基板１
に向けて吹き出し、蒸発した溶剤蒸気１５を押し流し、
押し流された溶剤蒸気１５は排気部１０の排気スリット
９から排気されるようになっている。そして、給気エア
１２は、ヒーターユニット６ごとに乾燥炉３内に均一に
供給されるように複数の給気ノズル７で分配して供給す
る構造となっている。また、給気エア１２は送風ファン
１３によって給気エア導入部１１を通って給気ノズル７
に至り、さらに、給気スリット１７から乾燥炉３内に吹
き出す。そして、乾燥炉３内の排気は排気部１０に接続
された排気ファン１４で行われる。
【００１６】このような構造を有する本発明の溶剤乾燥
装置は、ペースト２が塗工された基板１を搬送コンベア
４に載せて乾燥炉３内を一定速度で搬送し、その間に溶
剤乾燥用ヒーター５の加熱によってペースト２に含まれ
る溶剤を蒸発させ、溶剤乾燥を行う。乾燥の際、蒸発す
る溶剤蒸気１５は上昇気流となって遮蔽板１６の下面に
接触する。しかし、遮蔽板１６はヒーターユニット６の
間に設置されたことによって溶剤乾燥用ヒーター５と近
接しているため、新たに遮蔽板加熱用のヒーターを設け
なくても、この溶剤乾燥用ヒーター５で常に加熱された
状態となっており、溶剤蒸気１５が接触しても溶剤の露
点温度以上に遮蔽板１６が加熱されているため結露する
ことがない。また、ヒーターを新たに設ける必要がない
ことから、電力容量の上昇にもつながらない。
装置は、ペースト２が塗工された基板１を搬送コンベア
４に載せて乾燥炉３内を一定速度で搬送し、その間に溶
剤乾燥用ヒーター５の加熱によってペースト２に含まれ
る溶剤を蒸発させ、溶剤乾燥を行う。乾燥の際、蒸発す
る溶剤蒸気１５は上昇気流となって遮蔽板１６の下面に
接触する。しかし、遮蔽板１６はヒーターユニット６の
間に設置されたことによって溶剤乾燥用ヒーター５と近
接しているため、新たに遮蔽板加熱用のヒーターを設け
なくても、この溶剤乾燥用ヒーター５で常に加熱された
状態となっており、溶剤蒸気１５が接触しても溶剤の露
点温度以上に遮蔽板１６が加熱されているため結露する
ことがない。また、ヒーターを新たに設ける必要がない
ことから、電力容量の上昇にもつながらない。
【００１７】一方、給気ノズル７は、従来技術と同様、
常温の給気エア１２が供給されているため温度は低下し
ているが、上昇してくる溶剤蒸気１５が遮蔽板１６によ
って遮断されて給気ノズル７まで到達しないため結露す
ることがなくなる。万一、溶剤蒸気１５が侵入し結露が
発生して落下することがあっても遮蔽板１６の内部にと
どまり、基板１上に落下することはない。このようにし
て、乾燥炉３内で発生した溶剤蒸気１５は、結露するこ
となくすべて給気ノズル７から供給される給気エア１２
とともに排気スリット９から乾燥炉３外に排気され、安
定した溶剤の乾燥を行うことができる。
常温の給気エア１２が供給されているため温度は低下し
ているが、上昇してくる溶剤蒸気１５が遮蔽板１６によ
って遮断されて給気ノズル７まで到達しないため結露す
ることがなくなる。万一、溶剤蒸気１５が侵入し結露が
発生して落下することがあっても遮蔽板１６の内部にと
どまり、基板１上に落下することはない。このようにし
て、乾燥炉３内で発生した溶剤蒸気１５は、結露するこ
となくすべて給気ノズル７から供給される給気エア１２
とともに排気スリット９から乾燥炉３外に排気され、安
定した溶剤の乾燥を行うことができる。
【００１８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、常
温の給気エアを導入する溶剤乾燥装置であっても、給気
ノズルをカバーする遮蔽板を設けたことによって蒸発し
た溶剤の蒸気が給気ノズルに到達しなくなり、給気ノズ
ルの溶剤結露を防止できる。さらに、遮蔽板は溶剤乾燥
用ヒーターの近傍に設置されるため、新たにヒーターを
設けなくても常に溶剤の露点温度以上に加熱されてお
り、溶剤の蒸気が遮蔽板に接触しても結露することがな
い。このように、本発明は、従来の装置に簡単な構造の
遮蔽板を設けるだけで溶剤結露を防止でき、製品不良の
発生を防止することができる。
温の給気エアを導入する溶剤乾燥装置であっても、給気
ノズルをカバーする遮蔽板を設けたことによって蒸発し
た溶剤の蒸気が給気ノズルに到達しなくなり、給気ノズ
ルの溶剤結露を防止できる。さらに、遮蔽板は溶剤乾燥
用ヒーターの近傍に設置されるため、新たにヒーターを
設けなくても常に溶剤の露点温度以上に加熱されてお
り、溶剤の蒸気が遮蔽板に接触しても結露することがな
い。このように、本発明は、従来の装置に簡単な構造の
遮蔽板を設けるだけで溶剤結露を防止でき、製品不良の
発生を防止することができる。
【図１】本発明の実施の形態を示す概略構成図である。
【図２】従来の溶剤乾燥装置の概略構成図である。
【符号の説明】 １ 基板 ２ ペースト ３ 乾燥炉 ４ 搬送コンベア ５ 溶剤乾燥用ヒーター ６ ヒーターユニット ７ 給気ノズル ８ 給気ユニット ９ 排気スリット １０ 排気部 １１ 給気エア導入部 １２ 給気エア １３ 送風ファン １４ 排気ファン １５ 溶剤蒸気 １６ 遮蔽板 １７ 給気スリット １８ 結露した溶剤
Claims (6)
- 【請求項１】 ペーストが塗工された基板を搬送する搬
送コンベアと、基板を加熱しペーストに含まれるの溶剤
を蒸発させる溶剤乾燥用ヒーターを備えた複数のヒータ
ーユニットと、ヒーターユニットと交互に配置され蒸発
した溶剤蒸気を押し流すための常温の給気エアを供給す
る給気ノズルを備えた複数の給気ユニットと、溶剤蒸気
ならびに給気エアを排気する排気部とを乾燥炉内に有す
る溶剤乾燥装置において、前記給気ユニットを下側から
カバーし給気ノズルを溶剤蒸気から遮断して溶剤の結露
を防止するための遮蔽板を前記ヒーターユニット間に設
けたことを特徴とする溶剤乾燥装置。 - 【請求項２】 前記遮蔽板は箱型に形成され、箱型の底
部に給気ノズルからの給気エアを通過させる給気スリッ
トが設けられていることを特徴とする請求項１記載の溶
剤乾燥装置。 - 【請求項３】 前記遮蔽板は、給気スリットが給気ノズ
ルの直下に位置するように設置されていることを特徴と
する請求項２記載の溶剤乾燥装置。 - 【請求項４】 前記遮蔽板は、給気スリットを有する底
部が前記溶剤乾燥用ヒーターに近接して設置されている
ことを特徴とする請求項１記載の溶剤乾燥装置。 - 【請求項５】 前記遮蔽板は、給気スリット近傍が溶剤
の露点温度以上に加熱されていることを特徴とする請求
項１記載の溶剤乾燥装置。 - 【請求項６】 前記遮蔽板の給気スリット近傍は、前記
溶剤乾燥用ヒーターで加熱されることを特徴とする請求
項１記載の溶剤乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000358298A JP3599100B2 (ja) | 2000-11-24 | 2000-11-24 | 溶剤乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000358298A JP3599100B2 (ja) | 2000-11-24 | 2000-11-24 | 溶剤乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002162163A true JP2002162163A (ja) | 2002-06-07 |
| JP3599100B2 JP3599100B2 (ja) | 2004-12-08 |
Family
ID=18830224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000358298A Expired - Fee Related JP3599100B2 (ja) | 2000-11-24 | 2000-11-24 | 溶剤乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3599100B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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- 2000-11-24 JP JP2000358298A patent/JP3599100B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP3599100B2 (ja) | 2004-12-08 |
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