JPH04179227A - 乾燥装置 - Google Patents
乾燥装置Info
- Publication number
- JPH04179227A JPH04179227A JP30631990A JP30631990A JPH04179227A JP H04179227 A JPH04179227 A JP H04179227A JP 30631990 A JP30631990 A JP 30631990A JP 30631990 A JP30631990 A JP 30631990A JP H04179227 A JPH04179227 A JP H04179227A
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- JP
- Japan
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- hot
- cleaned
- steam
- wind
- warm
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- Pending
Links
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
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- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、洗浄装置における被洗浄物の乾燥に関し、特
にガラス基板、ディスク基板、プリント基板の乾燥に関
する。
にガラス基板、ディスク基板、プリント基板の乾燥に関
する。
従来の装置は、特願昭６１１３０１０２号に記載のよう
に湯治にて予熱した被洗浄物に、水蒸気や熱風などの熱
媒体を吹きつけて乾燥させる構造があった。
に湯治にて予熱した被洗浄物に、水蒸気や熱風などの熱
媒体を吹きつけて乾燥させる構造があった。
ト記従来技術は、温浴槽から発生する蒸気の密度につい
て配慮されておらず、被洗浄部の周囲雰囲気の湿度が高
く、乾燥速度が遅いという問題があった。本発明は、被
洗浄物周囲雰囲気の温度を低下させ、乾燥速度を向上さ
せる乾燥装置を提供するという目的とする。
て配慮されておらず、被洗浄部の周囲雰囲気の湿度が高
く、乾燥速度が遅いという問題があった。本発明は、被
洗浄物周囲雰囲気の温度を低下させ、乾燥速度を向上さ
せる乾燥装置を提供するという目的とする。
−に記目的を達成する為に、熱風ノズルと、温浴槽の間
に排気ダクＩ・を設け、熱風ノズルからの気体の流れを
全て、下方の一方方向に向け、排気ダクトで排出する構
造としたものである。
に排気ダクＩ・を設け、熱風ノズルからの気体の流れを
全て、下方の一方方向に向け、排気ダクトで排出する構
造としたものである。
気流を一方方向に向ける事により、同浴槽」］の表面よ
り発する蒸気８は気流９にさえぎられ、上方へ−Ｌる事
なく排気ダクト４より排出される。
り発する蒸気８は気流９にさえぎられ、上方へ−Ｌる事
なく排気ダクト４より排出される。
これにより被洗浄物１の表面の湿度は低下し、乾燥速度
を増加させる事がｉｉＪ能となる。
を増加させる事がｉｉＪ能となる。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。
第１１閾において、乾燥装置は、温浴槽１］の」−部に
排気ダクト４．熱風ノズル３．ヒータ５を配置している
。温浴槽１１は内部に温水２を保ち、被洗浄物１を浸漬
する事が出来る。浸漬された予熱された被洗浄物１は、
図に示さない機構により引」二げられる。
排気ダクト４．熱風ノズル３．ヒータ５を配置している
。温浴槽１１は内部に温水２を保ち、被洗浄物１を浸漬
する事が出来る。浸漬された予熱された被洗浄物１は、
図に示さない機構により引」二げられる。
１例として、引上速度は５ｍｎ／秒である。引上げられ
た被洗浄物１には熱風ノズル３より熱風６が与えられ、
表面の付着水分は予熱と、熱風とにより気化し、水蒸気
となる。この水蒸気及び温浴槽１１より上る水蒸気８は
排気ダクト４に吸われ、排気７となり、排出される。そ
れゆえ熱風ノズル３の上部は蒸気密度が下り、温度低下
し、乾燥速度が向上する。例として、熱風よる温度３０
’Ｃ流量、５０ Ｑ ／ ｈ ｉの時、排気量は、１０
０ｇ、／ｈｉが好ましい。第１図にはさらにその上部に
ヒータ５を設け、そのエリアの温度をさらに低下させて
いるか、排気７の効果が充分な場合、必ずしも必要では
ない。一方従来例第２図では、温浴槽２からの水蒸気８
及び熱風６により気化した水蒸気が上昇する。その為、
ヒータ５により気流１〇に熱を加え、湿度を低下させる
必要がある。
た被洗浄物１には熱風ノズル３より熱風６が与えられ、
表面の付着水分は予熱と、熱風とにより気化し、水蒸気
となる。この水蒸気及び温浴槽１１より上る水蒸気８は
排気ダクト４に吸われ、排気７となり、排出される。そ
れゆえ熱風ノズル３の上部は蒸気密度が下り、温度低下
し、乾燥速度が向上する。例として、熱風よる温度３０
’Ｃ流量、５０ Ｑ ／ ｈ ｉの時、排気量は、１０
０ｇ、／ｈｉが好ましい。第１図にはさらにその上部に
ヒータ５を設け、そのエリアの温度をさらに低下させて
いるか、排気７の効果が充分な場合、必ずしも必要では
ない。一方従来例第２図では、温浴槽２からの水蒸気８
及び熱風６により気化した水蒸気が上昇する。その為、
ヒータ５により気流１〇に熱を加え、湿度を低下させる
必要がある。
本発明によれば、乾燥速度を向上する為、乾燥時間を短
くし、処理タクトを上げる効果がある。
くし、処理タクトを上げる効果がある。
又、温度を低下させる為のヒータが不要になり、消費電
力を低減させる効果がある。
力を低減させる効果がある。
第１図は本発明の一実施例の乾燥装置を示す図、第２図
は従来例の乾燥装置を示す図である。
は従来例の乾燥装置を示す図である。
Claims (1)
- １、温水より被洗浄物を引き上げながら、熱風を与え乾
燥させる装置において、熱風を吹き出すノズルと温水と
の間に排気口を設けた事を特徴とする乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30631990A JPH04179227A (ja) | 1990-11-14 | 1990-11-14 | 乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30631990A JPH04179227A (ja) | 1990-11-14 | 1990-11-14 | 乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04179227A true JPH04179227A (ja) | 1992-06-25 |
Family
ID=17955682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30631990A Pending JPH04179227A (ja) | 1990-11-14 | 1990-11-14 | 乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04179227A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006041077A1 (ja) * | 2004-10-12 | 2006-04-20 | Tokyo Electron Limited | 基板処理方法および基板処理装置 |
| JP2007149929A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Kazuo Tanabe | ウエーハ枚葉引き上げ乾燥装置 |
| US7806989B2 (en) | 2005-06-23 | 2010-10-05 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
| US8043469B2 (en) | 2006-10-06 | 2011-10-25 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium |
| CN107560361A (zh) * | 2017-09-21 | 2018-01-09 | 李占福 | 一种中药药材清洗水浴热风双重干燥装置 |
-
1990
- 1990-11-14 JP JP30631990A patent/JPH04179227A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006041077A1 (ja) * | 2004-10-12 | 2006-04-20 | Tokyo Electron Limited | 基板処理方法および基板処理装置 |
| JPWO2006041077A1 (ja) * | 2004-10-12 | 2008-05-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法および基板処理装置 |
| US8337659B2 (en) | 2004-10-12 | 2012-12-25 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
| US8794250B2 (en) | 2004-10-12 | 2014-08-05 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
| US7806989B2 (en) | 2005-06-23 | 2010-10-05 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
| US8137478B2 (en) | 2005-06-23 | 2012-03-20 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
| JP2007149929A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Kazuo Tanabe | ウエーハ枚葉引き上げ乾燥装置 |
| US8043469B2 (en) | 2006-10-06 | 2011-10-25 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium |
| CN107560361A (zh) * | 2017-09-21 | 2018-01-09 | 李占福 | 一种中药药材清洗水浴热风双重干燥装置 |
| CN107560361B (zh) * | 2017-09-21 | 2019-07-26 | 广东清源中药饮片有限公司 | 一种中药药材清洗水浴热风双重干燥装置 |
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