JPH0320735A - フォトマスク乾燥装置 - Google Patents

フォトマスク乾燥装置

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Publication number
JPH0320735A
JPH0320735A JP1155423A JP15542389A JPH0320735A JP H0320735 A JPH0320735 A JP H0320735A JP 1155423 A JP1155423 A JP 1155423A JP 15542389 A JP15542389 A JP 15542389A JP H0320735 A JPH0320735 A JP H0320735A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
water
temperature
lifter
drying device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1155423A
Other languages
English (en)
Inventor
Masafumi Iwashita
岩下 雅文
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0320735A publication Critical patent/JPH0320735A/ja
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体分野のフォトマスク乾燥装置に関するも
のである。
従来の技術 フォトマスクの乾燥装置としては、回転機構を用いて、
スピン乾燥や蒸気乾燥等が利用されている。
以下に従来のマスク乾燥装置の中で蒸気乾燥装置につい
て説明する。
第2図は従来の蒸気乾燥装置の概略図を示すものである
。第2図において、1はリフター、2はキャリア、3は
マスク、4は冷却管、5はヒーター、6はイソプロビル
アノレコーノレである。
以上のように構或された蒸気乾燥装置について、以下そ
の動作を説明する。
1ず、槽内にイソプロビルアノレコー/V 8 t入れ
ヒーター“6であたため沸騰させ冷却管4の所1で蒸気
を発生させる。次にマスク3をのせたキャリア2をイン
プロヒルアルコールの蒸気内にリフター1を下げて入れ
る。マスク3が蒸気内の温度に達した後、リフター1で
徐々に引き上げマスク3を乾燥させる。
発明が解決しようとする課題 しかしながら上記の従来の構或では、イソプロビルアル
コールの蒸気を利用するので、コストがかかシ、有害で
あり、防災設備も必要であるという欠点を有していた。
本発明は上記従来の問題点を解決するもので、イソプロ
ビルアルコールを使用しないマスク乾燥装置を提供する
ことを目的とする。
課題を解決するための手段 この目的を達戊するために本発明のマスク乾燥装置はマ
スクを浸水させるオーバーフロー橿と水温を一定に保つ
温度調節器とマスクを引き上げるためのりフターの構或
を有している。
作   用 との構或によって、オーバーフロー槽中のマスクは、水
温と同じ温度1であたためられ、これをリフターで徐々
に引き上げることによって、マスク上の水分はマスクの
熱によって蒸発し、乾燥することができる。
実施例 以下、本発明の一実施例について、図面を参照しながら
説明する。
第1図は本発明の一実施例にかけるマスク乾燥装置の概
略図を示すものである。第1図に釦いて1はリフター、
2はキャリア、3はマスク,5はヒーター、7ぱオーバ
ーフロー槽、aはポンプ、9はフィルター 10は温度
調節器、11は水である。
以上のように構戊されたマスク乾燥装置について、以下
その動作を説明する。
まず、オーバーフロー槽7の水をボンプ8で循環させヒ
ーター5であたため水温を温度調節器1oで一定にする
。次にキャリア2にのせたマスク3をオーバーフロー槽
7の水中に完全に浸水させる。
マスクの温度が水温と同じ温度になった後、リフター1
で徐々にマスク3を引き上げ乾燥させる。
以上のように本実施例によれば、水のオーバーフロー槽
と水温た一定にする温度調節器とりフターを設けること
により、インプロヒルアノレコーノレの蒸気を使用する
ことなしにマスクを乾燥させることができる。
発明の効果 以上のように本発明はオーバーフロー槽と水温を一定に
する温度調節器とリフターを設けることによ9、イソプ
ロビルアノレコ−ノレを使用することなしにマスクを乾
燥することができる優れたマスク乾燥装置を実現できる
ものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例に釦けるマスク乾燥装置の概略
図、第2図は従来の蒸気乾燥装置の概略図である。 1・・・・・・リフター、2・・・・・・キャリア、3
・・・・・・マスク、4・・・・・・冷却管、6・・・
・・・ヒーター、e・・・・・・イソブロピルアノレコ
ーノレ、ア・・・・・・オーバーフロー槽、8・・・・
・・ポンプ、9・・・・・・フィノレター、10・・・
・・・温度調節器、11・・・・・・水。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. オーバーフロー機構と、液温を一定に保つ温度調節器を
    備えたマスク洗浄槽と、洗浄槽からマスクを定め速さで
    引き上げるリフターをもつフォトマスク乾燥装置。
JP1155423A 1989-06-16 1989-06-16 フォトマスク乾燥装置 Pending JPH0320735A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990045217A (ko) * 1997-11-13 1999-06-25 오토우마 타카시 마찰음 방지 심
US6014267A (en) * 1997-10-13 2000-01-11 Minolta Co., Ltd. Variable magnification optical system
US6335759B1 (en) 1997-08-21 2002-01-01 Nobuo Harada Pinhole video camera

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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