JPH0320735A - フォトマスク乾燥装置 - Google Patents
フォトマスク乾燥装置Info
- Publication number
- JPH0320735A JPH0320735A JP1155423A JP15542389A JPH0320735A JP H0320735 A JPH0320735 A JP H0320735A JP 1155423 A JP1155423 A JP 1155423A JP 15542389 A JP15542389 A JP 15542389A JP H0320735 A JPH0320735 A JP H0320735A
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- JP
- Japan
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- mask
- water
- temperature
- lifter
- drying device
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- Pending
Links
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
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- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract 1
- 241001135931 Anolis Species 0.000 description 4
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体分野のフォトマスク乾燥装置に関するも
のである。
のである。
従来の技術
フォトマスクの乾燥装置としては、回転機構を用いて、
スピン乾燥や蒸気乾燥等が利用されている。
スピン乾燥や蒸気乾燥等が利用されている。
以下に従来のマスク乾燥装置の中で蒸気乾燥装置につい
て説明する。
て説明する。
第2図は従来の蒸気乾燥装置の概略図を示すものである
。第2図において、1はリフター、2はキャリア、3は
マスク、4は冷却管、5はヒーター、6はイソプロビル
アノレコーノレである。
。第2図において、1はリフター、2はキャリア、3は
マスク、4は冷却管、5はヒーター、6はイソプロビル
アノレコーノレである。
以上のように構或された蒸気乾燥装置について、以下そ
の動作を説明する。
の動作を説明する。
1ず、槽内にイソプロビルアノレコー/V 8 t入れ
ヒーター“6であたため沸騰させ冷却管4の所1で蒸気
を発生させる。次にマスク3をのせたキャリア2をイン
プロヒルアルコールの蒸気内にリフター1を下げて入れ
る。マスク3が蒸気内の温度に達した後、リフター1で
徐々に引き上げマスク3を乾燥させる。
ヒーター“6であたため沸騰させ冷却管4の所1で蒸気
を発生させる。次にマスク3をのせたキャリア2をイン
プロヒルアルコールの蒸気内にリフター1を下げて入れ
る。マスク3が蒸気内の温度に達した後、リフター1で
徐々に引き上げマスク3を乾燥させる。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記の従来の構或では、イソプロビルアル
コールの蒸気を利用するので、コストがかかシ、有害で
あり、防災設備も必要であるという欠点を有していた。
コールの蒸気を利用するので、コストがかかシ、有害で
あり、防災設備も必要であるという欠点を有していた。
本発明は上記従来の問題点を解決するもので、イソプロ
ビルアルコールを使用しないマスク乾燥装置を提供する
ことを目的とする。
ビルアルコールを使用しないマスク乾燥装置を提供する
ことを目的とする。
課題を解決するための手段
この目的を達戊するために本発明のマスク乾燥装置はマ
スクを浸水させるオーバーフロー橿と水温を一定に保つ
温度調節器とマスクを引き上げるためのりフターの構或
を有している。
スクを浸水させるオーバーフロー橿と水温を一定に保つ
温度調節器とマスクを引き上げるためのりフターの構或
を有している。
作 用
との構或によって、オーバーフロー槽中のマスクは、水
温と同じ温度1であたためられ、これをリフターで徐々
に引き上げることによって、マスク上の水分はマスクの
熱によって蒸発し、乾燥することができる。
温と同じ温度1であたためられ、これをリフターで徐々
に引き上げることによって、マスク上の水分はマスクの
熱によって蒸発し、乾燥することができる。
実施例
以下、本発明の一実施例について、図面を参照しながら
説明する。
説明する。
第1図は本発明の一実施例にかけるマスク乾燥装置の概
略図を示すものである。第1図に釦いて1はリフター、
2はキャリア、3はマスク,5はヒーター、7ぱオーバ
ーフロー槽、aはポンプ、9はフィルター 10は温度
調節器、11は水である。
略図を示すものである。第1図に釦いて1はリフター、
2はキャリア、3はマスク,5はヒーター、7ぱオーバ
ーフロー槽、aはポンプ、9はフィルター 10は温度
調節器、11は水である。
以上のように構戊されたマスク乾燥装置について、以下
その動作を説明する。
その動作を説明する。
まず、オーバーフロー槽7の水をボンプ8で循環させヒ
ーター5であたため水温を温度調節器1oで一定にする
。次にキャリア2にのせたマスク3をオーバーフロー槽
7の水中に完全に浸水させる。
ーター5であたため水温を温度調節器1oで一定にする
。次にキャリア2にのせたマスク3をオーバーフロー槽
7の水中に完全に浸水させる。
マスクの温度が水温と同じ温度になった後、リフター1
で徐々にマスク3を引き上げ乾燥させる。
で徐々にマスク3を引き上げ乾燥させる。
以上のように本実施例によれば、水のオーバーフロー槽
と水温た一定にする温度調節器とりフターを設けること
により、インプロヒルアノレコーノレの蒸気を使用する
ことなしにマスクを乾燥させることができる。
と水温た一定にする温度調節器とりフターを設けること
により、インプロヒルアノレコーノレの蒸気を使用する
ことなしにマスクを乾燥させることができる。
発明の効果
以上のように本発明はオーバーフロー槽と水温を一定に
する温度調節器とリフターを設けることによ9、イソプ
ロビルアノレコ−ノレを使用することなしにマスクを乾
燥することができる優れたマスク乾燥装置を実現できる
ものである。
する温度調節器とリフターを設けることによ9、イソプ
ロビルアノレコ−ノレを使用することなしにマスクを乾
燥することができる優れたマスク乾燥装置を実現できる
ものである。
第1図は本発明の実施例に釦けるマスク乾燥装置の概略
図、第2図は従来の蒸気乾燥装置の概略図である。 1・・・・・・リフター、2・・・・・・キャリア、3
・・・・・・マスク、4・・・・・・冷却管、6・・・
・・・ヒーター、e・・・・・・イソブロピルアノレコ
ーノレ、ア・・・・・・オーバーフロー槽、8・・・・
・・ポンプ、9・・・・・・フィノレター、10・・・
・・・温度調節器、11・・・・・・水。
図、第2図は従来の蒸気乾燥装置の概略図である。 1・・・・・・リフター、2・・・・・・キャリア、3
・・・・・・マスク、4・・・・・・冷却管、6・・・
・・・ヒーター、e・・・・・・イソブロピルアノレコ
ーノレ、ア・・・・・・オーバーフロー槽、8・・・・
・・ポンプ、9・・・・・・フィノレター、10・・・
・・・温度調節器、11・・・・・・水。
Claims (1)
- オーバーフロー機構と、液温を一定に保つ温度調節器を
備えたマスク洗浄槽と、洗浄槽からマスクを定め速さで
引き上げるリフターをもつフォトマスク乾燥装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1155423A JPH0320735A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | フォトマスク乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1155423A JPH0320735A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | フォトマスク乾燥装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0320735A true JPH0320735A (ja) | 1991-01-29 |
Family
ID=15605682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1155423A Pending JPH0320735A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | フォトマスク乾燥装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0320735A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990045217A (ko) * | 1997-11-13 | 1999-06-25 | 오토우마 타카시 | 마찰음 방지 심 |
US6014267A (en) * | 1997-10-13 | 2000-01-11 | Minolta Co., Ltd. | Variable magnification optical system |
US6335759B1 (en) | 1997-08-21 | 2002-01-01 | Nobuo Harada | Pinhole video camera |
-
1989
- 1989-06-16 JP JP1155423A patent/JPH0320735A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6335759B1 (en) | 1997-08-21 | 2002-01-01 | Nobuo Harada | Pinhole video camera |
US6014267A (en) * | 1997-10-13 | 2000-01-11 | Minolta Co., Ltd. | Variable magnification optical system |
KR19990045217A (ko) * | 1997-11-13 | 1999-06-25 | 오토우마 타카시 | 마찰음 방지 심 |
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