JP2531239Y2 - 温純水引上げ方式乾燥装置における昇降治具 - Google Patents

温純水引上げ方式乾燥装置における昇降治具

Info

Publication number
JP2531239Y2
JP2531239Y2 JP1990017627U JP1762790U JP2531239Y2 JP 2531239 Y2 JP2531239 Y2 JP 2531239Y2 JP 1990017627 U JP1990017627 U JP 1990017627U JP 1762790 U JP1762790 U JP 1762790U JP 2531239 Y2 JP2531239 Y2 JP 2531239Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
jig
water
lifting
flat work
pure water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1990017627U
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0440531U (ja
Inventor
佳英 柴野
Original Assignee
佳英 柴野
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 佳英 柴野 filed Critical 佳英 柴野
Priority to JP1990017627U priority Critical patent/JP2531239Y2/ja
Publication of JPH0440531U publication Critical patent/JPH0440531U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2531239Y2 publication Critical patent/JP2531239Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、温純水引上げ方式乾燥装置における昇降治
具に関するものである。
〔従来の技術〕
周知のとおり、レンズ、光ディスク、液晶パネル、太
陽電池等、その表面が比較的平滑であってシンプルな形
状の平板状ワークを洗浄後、その表面を乾燥させるのに
IPAの蒸気、フロン113の蒸気、またその自熱による乾燥
方法が用いられていた。
ところが、フロンによるオゾン層破壊の為使用禁止が
言われているのでフロン系の乾燥材を用いることができ
なくなっている。
他方、平板状ワークを昇降治具に設けられた治具バー
上にセットして温純水に浸漬後、温純水の表面張力を利
用して平板状ワークを乾燥させる方法が用いられてい
る。
より詳しく説明すると、上記昇降治具に設けられる治
具バーは特に工夫がなく、断面形状が円形や多角形その
ままであり、治具バー上に平板状ワークが直接置かれ、
昇降されるものであった。
〔考案が解決しようとする課題〕
上記従来技術によれば、平板状ワークの表面の水滴は
温純水の表面張力によってほとんど除去できるという利
点を有する。
しかし、昇降治具に注目すると、平板状ワークが載置
される治具バー上に直接接触しているので、温純水から
昇降治具を引き上げた後、平板状ワークの表面から除去
された水滴が治具バーとの間の接触部分に溜まり易く、
これが平板状ワークに付着して、しみ等の原因とより易
いという問題点があった。
また、治具バーは円形や多角形であり肉厚があるの
で、それゆえに重力方向最下端部に水滴が表面張力で付
着したままになり、そのままの状態で昇降治具を搬送し
たり、保管したりすると、昇降治具に付着している水滴
が他の平板状ワークに付着して、しみ等の原因となり易
いという問題があった。
〔目的〕
従って本考案の目的とするところは、温純水から引上
げた後、平板状ワークとの接触部分、重力方向最下端部
分等の水滴が溜まり易い部分に水滴が溜まらないように
した昇降治具を提供するにある。
〔課題を解決する為の手段〕
上記目的を達成する為に本考案は次の技術的手段を有
する。即ち本考案の昇降治具は、洗浄後の平板状ワーク
を垂直に載置して温純水に浸漬し、ほぼ垂直上方へゆっ
くりと引き上げ、該平板状ワークの表面から水滴を除去
して乾燥させる昇降治具において、該昇降治具に該平板
状ワークを載置する治具バーを設け、該治具バーと該平
板状ワークとが接触する温純水の溜まりやすい部分に、
疎水性に富む材料より成る水滴除去部を設けると共に、
該治具バーは該水滴除去部より親水性の高い樹脂からな
ることを特徴とする。
上記治具バーは、その重力方向最下端部分にも疎水性
に富む材料より成る水滴除去部が設けられている。
本考案の昇降治具では、上記疎水性に富む材料として
ふっ素系樹脂が適している。また、上記水滴除去部の一
部が上記治具バーの表面から外方に突出して設けられて
いる。
〔作用〕
上記構成に基づくと、昇降治具により平板状ワークを
温純水から引上げると、温純水は通常の水よりも表面張
力が小さいので、平板状ワークの表面に付着した水滴が
温純水中に拡散するとともに平板状ワークの表面に沿っ
て重力方向に流れ落ち、上記平板状ワークに乾燥された
表面が得られる。平板状ワークから流れ落ちた水滴は、
次いで昇降治具の表面に沿って重力方向に流れ落ちる
が、昇降治具と平板状ワークとの接触部分や、昇降治具
の重力方向最下端部分に溜まり易い傾向がある。
ところが、本考案によれば、上記水滴が溜まり易い部
分には昇降治具の材料に比して疎水性に富む材料より成
る水滴除去部が設けられているので、水滴が該水滴除去
部により排除され、上記部分に滞留することが防止され
る。
上記疎水性に富む材料は、ふっ素系樹脂からなること
により、上記水滴が排除されやすくなる。また、上記水
滴除去部は、その一部が昇降治具の表面から外方に突出
して設けられていることにより、上記水滴が排除され易
くなる。
〔実施例〕
次に添付図面に従い本考案の好適な実施例を詳述す
る。
第1図、第2図は本考案の一実施例を示し、第1図は
その使用中の状態を示す説明的断面図であり、第2図は
第1図の要部拡大図である。
第1図示のように、昇降治具11は下部は水平に構成さ
れた平板状ワーク4を垂直に保持する棒状の治具バー21
と垂直に上方に伸びている取手部11aとから構成されて
いる。平板状ワーク4は棒状の治具バー21と互いに直交
するように載置されている。
第2図示のように、治具バー21の断面は円形であり、
平板状ワーク4との接触部分と重力方向最下端部分に水
滴除去部31が設けられている。尚、この水滴除去部31は
治具バー21の断面形状より小さな断面を有する円形であ
り、治具バー21より疎水性に富む材料で形成されてい
る。上記水滴除去部31を形成する疎水性に富む材料は、
具体的に言えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリク
ロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン・
ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリふっ化ビニリ
デン、ポリふっ化ビニル等の樹脂であり、治具バー21は
それよりも比較的親水性の高い樹脂で形成されている。
また、水滴除去部31は、その一部が治具バー21の表面
から外方に突出して設けられている。
上記構成の昇降治具11により平板状ワーク4を温純水
5に浸漬して、引上げると、平板状ワーク4の表面に付
着した水滴6は昇降治具11を伝わり、重力方向に流れ落
ちていく。この時、従来は治具バー21と平板状ワーク4
との接触部分や治具バー21の重力方向最下端部分に水滴
が溜まっていたが、それらの部分に疎水性に富んだ水滴
除去部31を配することによって水滴6が除去される。
また、水滴除去部31の断面は治具バー21の断面に比し
て小さく、その一部が治具バー21の表面から外方に突出
しているので、上記接触部分では治具バー21と平板状ワ
ーク4との間に狭い間隙が形成され、しかも該間隙に上
記疎水性に富む材料からなる水滴除去部31が介在するの
で、平板状ワーク4の表面に沿って流れ落ちてきた水滴
6が該水滴除去部31により排除され、さらに昇降治具11
に伝わり易くなっている。
〔効果〕
以上述した如く請求項第1項の考案によれば、治具バ
ーと平板状ワークとの接触部分に水滴除去部を設けるこ
とにより、平板状ワークから水滴を除去することがで
き、該水滴が平板状ワークに付着してしみ等の原因とな
ることを防ぐことができるという利点を有する。
そして、請求項第2項の考案によれば、治具バーの重
力方向最下端部分に水滴除去部を設けることにより、昇
降治具から水滴を除去することができ、該水滴が平板状
ワークに付着してしみ等の原因となることを防ぐことが
できるという利点を有する。
そして、請求項第3項の考案によれば、水滴除去部を
ふっ素系樹脂で形成することにより、より容易に水滴を
除去することができる。
さらに、請求項第4項の考案によれば、水滴除去部の
一部が上記治具バーの表面から外方に突出して設けられ
ていることにより、水滴を容易に排除することができ
る。
【図面の簡単な説明】
添付図面は本考案の実施例を示し、第1図は一実施例の
昇降治具の正面図、第2図は同じく治具バーの断面図で
あり、図中11は昇降治具、21は治具バー、31は水滴除去
部、4は平板状ワーク、5は温純水、6は水滴である。

Claims (4)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】洗浄後の平板状ワークを垂直に載置して温
    純水に浸漬し、ほぼ垂直上方へゆっくりと引き上げ、該
    平板状ワークの表面から水滴を除去して乾燥させる昇降
    治具において; 該昇降治具に該平板状ワークを載置する治具バーを設
    け、該治具バーと該平板状ワークとが接触する温純水の
    溜まり易い部分に、疎水性に富む材料より成る水滴除去
    部を設けると共に、該治具バーは該水滴除去部より親水
    性の高い樹脂からなることを特徴とする温純水引上げ方
    式乾燥装置における昇降治具。
  2. 【請求項2】上記治具バーの重力方向最下端部分に疎水
    性に富む材料より成る水滴除去部が設けられていること
    を特徴とする請求項第1項記載の温純水引上げ方式乾燥
    装置における昇降治具。
  3. 【請求項3】上記疎水性に富む材料はふっ素系樹脂であ
    ることを特徴とする請求項第1項または第2項記載の温
    純水引上げ方式乾燥装置における昇降治具。
  4. 【請求項4】上記水滴除去部の一部が上記治具バーの表
    面から外方に突出して設けられていることを特徴とする
    請求項第1項または第2項記載の温純水引上げ方式乾燥
    装置における昇降治具。
JP1990017627U 1990-02-23 1990-02-23 温純水引上げ方式乾燥装置における昇降治具 Expired - Lifetime JP2531239Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1990017627U JP2531239Y2 (ja) 1990-02-23 1990-02-23 温純水引上げ方式乾燥装置における昇降治具

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1990017627U JP2531239Y2 (ja) 1990-02-23 1990-02-23 温純水引上げ方式乾燥装置における昇降治具

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0440531U JPH0440531U (ja) 1992-04-07
JP2531239Y2 true JP2531239Y2 (ja) 1997-04-02

Family

ID=31520813

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1990017627U Expired - Lifetime JP2531239Y2 (ja) 1990-02-23 1990-02-23 温純水引上げ方式乾燥装置における昇降治具

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2531239Y2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011089162A (ja) * 2009-10-21 2011-05-06 Sumitomo Electric Ind Ltd Mg部材の表面処理用治具と表面処理方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62291927A (ja) * 1986-06-12 1987-12-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 基板保持治具
JPH071763B2 (ja) * 1986-09-09 1995-01-11 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 基体収容装置及び基体乾燥方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0440531U (ja) 1992-04-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69530118T2 (de) Reinigung von halbleitern unter ultraniedrigen partikelgehaltsbedingungen
JP3343033B2 (ja) 基板処理装置
JP2531239Y2 (ja) 温純水引上げ方式乾燥装置における昇降治具
US6045621A (en) Method for cleaning objects using a fluid charge
JP2920165B2 (ja) 枚葉洗浄用オーバーフロー槽
KR100226489B1 (ko) 웨이퍼 지지 및 이송 기구
TW513594B (en) Pull-up Novel pull-up drying method and apparatus
JPH0448515B2 (ja)
JPH0864667A (ja) 半導体ウェハ用カセット
JP3223020B2 (ja) 洗浄/エッチング装置およびその方法
JP3386892B2 (ja) 洗浄槽
KR900019160A (ko) 반도체 웨이퍼 세정장치의 오우버플로우 탱크
JPH0693449B2 (ja) 温純水引上方式に於ける乾燥装置
JP2767165B2 (ja) ウエーハ洗浄槽
JPH0728954Y2 (ja) 被処理板用支持治具
JP2644948B2 (ja) 被洗浄物の水分分離方法
JPH0717427Y2 (ja) 板状部品洗浄用ラック
JP2890344B2 (ja) 基板薬液処理用カセット
JPH0314255A (ja) ウエハキャリア
JP2022130831A (ja) 基板カセット
CN100542700C (zh) 玻璃基板清洗用载具
KR20060041495A (ko) 포토마스크 습식세정용 지그장치
JPH0744013Y2 (ja) ウェーハ薬液処理装置
JPH0444321A (ja) 基板運搬用キャリヤ
JP2006179758A (ja) 基板処理装置