JP2920165B2 - 枚葉洗浄用オーバーフロー槽 - Google Patents
枚葉洗浄用オーバーフロー槽Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板や液晶ガラ
ス基板等の薄板状の基板を、洗浄液を用いて一枚づつ洗
浄する枚葉式洗浄装置に用いるオーバーフロー槽に関す
る。
ス基板等の薄板状の基板を、洗浄液を用いて一枚づつ洗
浄する枚葉式洗浄装置に用いるオーバーフロー槽に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置もサブミクロン時代を迎える
と共に半導体基板（以下、ウエハと称する）の直径が現
在では、１５０ｍｍ〜２００ｍｍのものが主流となり、
大口径化が進んでいる。従って、一枚のウエハに対する
清浄度の向上が要求されてきている。このため従来の方
法において、複数枚のウエハを収載したキャリアを洗浄
液に投入して、複数枚のウエハを同時に洗浄する方法か
ら、図１９〜図２０に示す様なウエハを一枚づつ洗浄す
る、いわゆる枚葉式洗浄方法に移行してきた。図１９は
従来の枚葉式洗浄装置の構成図、図２０はその右側面図
で、石英ガラス、ＰＦＡ、ＰＴＦＥ、ＳｉＣ等から成る
枚葉洗浄用オーバーフロー槽Ｉと洗浄液の供給系ＩＩと
から構成され、洗浄液を収容した洗浄室１内に、図示し
ないチャッキングアームでウエハ３を浸漬し、洗浄室１
内に形成され各々ウエハ３の厚みよりやや幅広の溝を有
するウエハ保持部４に載置して保持し、循環ポンプ５に
よって洗浄液を循環させると、洗浄液はろ過フィルタ
６、三方弁８ａを通り、洗浄液の給液口７の多数の流出
口７ａから洗浄室１内に流入する。洗浄液が充満した洗
浄室１内にさらに洗浄液が流入することにより余った洗
浄液が洗浄室１の上部開口に設けられた４つの堰１ａ，
１ｂ，１ｃ，１ｄを乗り越えオーバーフローし、オーバ
ーフロー部２に流れ込む。この時、洗浄室１内に洗浄液
の上昇流を生じ、ウエハ表面３ａとウエハ裏面３ｂに付
着した汚染物質を剥離して、オーバーフローする洗浄液
と共に持ち去り、三方弁８ｂ、ポンプ５を通り、ろ過フ
ィルタ６を通して洗浄液中の汚染物質を除去し、洗浄液
のみが再び洗浄室１に戻る。上記のように処理時間洗浄
液を循環させることにより、ウエハ３が清浄化される。
なお、三方弁８ａ，８ｂは枚葉洗浄用オーバーフロー
槽Ｉへの洗浄液の供給や、排液を制御するもので、図示
しないコントローラで駆動制御される。
と共に半導体基板（以下、ウエハと称する）の直径が現
在では、１５０ｍｍ〜２００ｍｍのものが主流となり、
大口径化が進んでいる。従って、一枚のウエハに対する
清浄度の向上が要求されてきている。このため従来の方
法において、複数枚のウエハを収載したキャリアを洗浄
液に投入して、複数枚のウエハを同時に洗浄する方法か
ら、図１９〜図２０に示す様なウエハを一枚づつ洗浄す
る、いわゆる枚葉式洗浄方法に移行してきた。図１９は
従来の枚葉式洗浄装置の構成図、図２０はその右側面図
で、石英ガラス、ＰＦＡ、ＰＴＦＥ、ＳｉＣ等から成る
枚葉洗浄用オーバーフロー槽Ｉと洗浄液の供給系ＩＩと
から構成され、洗浄液を収容した洗浄室１内に、図示し
ないチャッキングアームでウエハ３を浸漬し、洗浄室１
内に形成され各々ウエハ３の厚みよりやや幅広の溝を有
するウエハ保持部４に載置して保持し、循環ポンプ５に
よって洗浄液を循環させると、洗浄液はろ過フィルタ
６、三方弁８ａを通り、洗浄液の給液口７の多数の流出
口７ａから洗浄室１内に流入する。洗浄液が充満した洗
浄室１内にさらに洗浄液が流入することにより余った洗
浄液が洗浄室１の上部開口に設けられた４つの堰１ａ，
１ｂ，１ｃ，１ｄを乗り越えオーバーフローし、オーバ
ーフロー部２に流れ込む。この時、洗浄室１内に洗浄液
の上昇流を生じ、ウエハ表面３ａとウエハ裏面３ｂに付
着した汚染物質を剥離して、オーバーフローする洗浄液
と共に持ち去り、三方弁８ｂ、ポンプ５を通り、ろ過フ
ィルタ６を通して洗浄液中の汚染物質を除去し、洗浄液
のみが再び洗浄室１に戻る。上記のように処理時間洗浄
液を循環させることにより、ウエハ３が清浄化される。
なお、三方弁８ａ，８ｂは枚葉洗浄用オーバーフロー
槽Ｉへの洗浄液の供給や、排液を制御するもので、図示
しないコントローラで駆動制御される。
【０００３】上記においてオーバーフロー槽は１基のみ
用いて説明したが、実際にはスループット（生産高）を
上げる為、数基を連設して使用される。例えば４基のオ
ーバーフロー槽を用いて拡散前洗浄をする場合、第１の
オーバーフロー槽には希フッ酸を収容し、第２と第４の
オーバーフロー槽には純水を収容し、第３のオーバーフ
ロー槽には過酸化水素水を収容して、ウエハをチャッキ
ングアームで第１のオバーフロー槽から第４のオーバー
フロー槽まで順番に投入し洗浄する。あるいは、４基各
々のオーバーフロー槽で、希フッ酸→純水→過酸化水素
水→純水の順に洗浄する。
用いて説明したが、実際にはスループット（生産高）を
上げる為、数基を連設して使用される。例えば４基のオ
ーバーフロー槽を用いて拡散前洗浄をする場合、第１の
オーバーフロー槽には希フッ酸を収容し、第２と第４の
オーバーフロー槽には純水を収容し、第３のオーバーフ
ロー槽には過酸化水素水を収容して、ウエハをチャッキ
ングアームで第１のオバーフロー槽から第４のオーバー
フロー槽まで順番に投入し洗浄する。あるいは、４基各
々のオーバーフロー槽で、希フッ酸→純水→過酸化水素
水→純水の順に洗浄する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ウエハの裏面は各プロ
セス装置内で、搬送ベルトや真空チャック等との接触が
多いため汚染が著しく、従来の方法では以下に示す問題
点があった。すなわち、図１８（図２０のオーバーフロ
ー槽の一部を拡大示した図）を参照して、ウエハ３を洗
浄中、ウエハ裏面３ｂより剥離した汚染物質９が４方向
オーバーフローだと、洗浄室上部からオーバーフローし
きれずに、一部がウエハ表面３ａ側に回り込み、洗浄室
内壁面を逆流し、ウエハ表面３ａに再付着し汚染してし
まうという問題点があった。
セス装置内で、搬送ベルトや真空チャック等との接触が
多いため汚染が著しく、従来の方法では以下に示す問題
点があった。すなわち、図１８（図２０のオーバーフロ
ー槽の一部を拡大示した図）を参照して、ウエハ３を洗
浄中、ウエハ裏面３ｂより剥離した汚染物質９が４方向
オーバーフローだと、洗浄室上部からオーバーフローし
きれずに、一部がウエハ表面３ａ側に回り込み、洗浄室
内壁面を逆流し、ウエハ表面３ａに再付着し汚染してし
まうという問題点があった。
【０００５】それゆえに、本発明は洗浄液により洗浄さ
れたウエハ等の基板表面が、洗浄中に再び汚染されるこ
とのない改良された枚葉洗浄用オーバーフロー槽を提供
することにある。
れたウエハ等の基板表面が、洗浄中に再び汚染されるこ
とのない改良された枚葉洗浄用オーバーフロー槽を提供
することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の枚葉洗浄用オーバーフロー槽は、洗浄液を
収容した洗浄室内に、一枚の基板を垂直に保持し、洗浄
室内底部に洗浄液を供給すると共に、洗浄室上部よりオ
ーバーフローさせて上昇流を形成し、基板を洗浄する枚
葉洗浄用オーバーフロー槽において、 （ａ）洗浄室とオーバーフローした洗浄液を貯留するオ
ーバーフロー液貯留室とが、壁を隔てて基板の幅方向に
て隣接していること、 （ｂ）堰と溝から成るオーバーフロー部が、基板の厚み
方向にて洗浄室上部開口の一方向のみに設けられている
こと、 （ｃ）前記洗浄室とオーバーフロー液貯留室とが、前記
溝で連通していること、 （ｄ）前記洗浄室内底部に、各々少なくとも一つの洗浄
液の給液口と排液口あるいは、少なくとも一つの給排液
兼用口を有すること、 （ｅ）前記オーバーフロー液貯留室の内底部に、少なく
とも一つの排液口を有すること、を特徴とし、 基板の一
面側のみからオーバーフローさせる構造にしたものであ
る。
め、本発明の枚葉洗浄用オーバーフロー槽は、洗浄液を
収容した洗浄室内に、一枚の基板を垂直に保持し、洗浄
室内底部に洗浄液を供給すると共に、洗浄室上部よりオ
ーバーフローさせて上昇流を形成し、基板を洗浄する枚
葉洗浄用オーバーフロー槽において、 （ａ）洗浄室とオーバーフローした洗浄液を貯留するオ
ーバーフロー液貯留室とが、壁を隔てて基板の幅方向に
て隣接していること、 （ｂ）堰と溝から成るオーバーフロー部が、基板の厚み
方向にて洗浄室上部開口の一方向のみに設けられている
こと、 （ｃ）前記洗浄室とオーバーフロー液貯留室とが、前記
溝で連通していること、 （ｄ）前記洗浄室内底部に、各々少なくとも一つの洗浄
液の給液口と排液口あるいは、少なくとも一つの給排液
兼用口を有すること、 （ｅ）前記オーバーフロー液貯留室の内底部に、少なく
とも一つの排液口を有すること、を特徴とし、 基板の一
面側のみからオーバーフローさせる構造にしたものであ
る。
【０００７】また、前記上昇する洗浄液の流量（流速）
を、基板を隔てて基板の表面と裏面とで相違させ、汚染
度の高い裏面側の洗浄液の流量を表面側の流量よりも多
くなる構造にしたものである。
を、基板を隔てて基板の表面と裏面とで相違させ、汚染
度の高い裏面側の洗浄液の流量を表面側の流量よりも多
くなる構造にしたものである。
【０００８】
【作 用】本発明によれば、上記したように、オーバー
フローを基板の裏面側のみからさせるようにしたことに
より、あるいは、洗浄液の流量を基板表面側より基板裏
面側を多くしたことにより、洗浄中に汚染度の高い基板
裏面から剥離した汚染物質が、基板表面に再付着するこ
とがなく基板を清浄にすることができる。
フローを基板の裏面側のみからさせるようにしたことに
より、あるいは、洗浄液の流量を基板表面側より基板裏
面側を多くしたことにより、洗浄中に汚染度の高い基板
裏面から剥離した汚染物質が、基板表面に再付着するこ
とがなく基板を清浄にすることができる。
【０００９】
【実施例】本発明を、従来例と同様ウエハの洗浄に適用
した実施例を図面により説明する。図１は本発明の第一
実施例を示す正面図、図２は図１の平面図、図３は図１
のＡ−Ａ断面図、図４は図３の一部拡大図であり、従来
例を示す図１９〜図２０と同じ部分には同一番号を付し
て説明を省略する。従来例との違いは、洗浄液のオーバ
ーフローのやり方を４方向から１方向に変えた点にあ
る。すなわち、洗浄室１の上部開口の１辺のみに堰１ａ
と溝１１からなるオーバーフロー部を設け、洗浄室１
と、オーバーフローした洗浄液を一時貯留するオーバー
フロー液貯留室１２とが、図１に示すように、洗浄室１
の壁１３を隔ててウエハ３の幅方向（図１の紙面に対し
て左右方向）に隣接し、前記溝１１により連通するよう
に構成した。１４はオーバーフロー液貯留室の排液口、
１５は給排液兼用口、１６は給排液兼用口１５から洗浄
室１内に流入した洗浄液を整流するための整流用多孔板
で、ウエハ３を隔てて、ウエハ表面３ａ側及びウエハ裏
面３ｂ側に各々一列縦隊に多数の孔１６ａが形成されて
いる。１７は装置に組込むための取付孔である。なお堰
１ａには多数の三角堰１ｅが設けてあるが、これは三角
堰１ｅを設けた方が、堰１ａかぱのオーバーフローが堰
１ａの全域にわたって均一になる為である。
した実施例を図面により説明する。図１は本発明の第一
実施例を示す正面図、図２は図１の平面図、図３は図１
のＡ−Ａ断面図、図４は図３の一部拡大図であり、従来
例を示す図１９〜図２０と同じ部分には同一番号を付し
て説明を省略する。従来例との違いは、洗浄液のオーバ
ーフローのやり方を４方向から１方向に変えた点にあ
る。すなわち、洗浄室１の上部開口の１辺のみに堰１ａ
と溝１１からなるオーバーフロー部を設け、洗浄室１
と、オーバーフローした洗浄液を一時貯留するオーバー
フロー液貯留室１２とが、図１に示すように、洗浄室１
の壁１３を隔ててウエハ３の幅方向（図１の紙面に対し
て左右方向）に隣接し、前記溝１１により連通するよう
に構成した。１４はオーバーフロー液貯留室の排液口、
１５は給排液兼用口、１６は給排液兼用口１５から洗浄
室１内に流入した洗浄液を整流するための整流用多孔板
で、ウエハ３を隔てて、ウエハ表面３ａ側及びウエハ裏
面３ｂ側に各々一列縦隊に多数の孔１６ａが形成されて
いる。１７は装置に組込むための取付孔である。なお堰
１ａには多数の三角堰１ｅが設けてあるが、これは三角
堰１ｅを設けた方が、堰１ａかぱのオーバーフローが堰
１ａの全域にわたって均一になる為である。
【００１０】次に、上記実施例の装置を用いた洗浄方法
について説明すると、洗浄液の収容された洗浄室１内
に、図示しないチャッキングアームによりウエハ３を浸
漬し、ウエハ裏面３ｂを堰１ａ側に向けてウエハ保持部
４に載置し、循環ポンプ５を作動させて洗浄液を循環さ
せると、洗浄液はろ過フィルタ６、三方弁８ａを通り洗
浄液の給排液兼用口１５から洗浄室１内に流入する。流
入した洗浄液は、整流用多孔板１６の多数の孔１６ａに
より整流されて上昇する。洗浄液が充満した洗浄室１内
にさらに洗浄液が流入することにより、余った洗浄液が
洗浄室１の堰１ａを乗り越えオーバーフローし、溝１１
を伝わってオーバーフロー液貯留室１２に流れ込む。オ
ーバーフロー液貯留室１２に一時貯留された洗浄液は排
液口１４、三方弁８ｂを通ってポンプ５に戻される。こ
の時洗浄室１内に洗浄液の上昇流を生じ、ウエハ表面３
ａとウエハ裏面３ｂに付着した汚染物質を剥離してオー
バーフローする洗浄液と共に持ち去り、ろ過フィルタ６
を通して洗浄液中の汚染物質を除去し、洗浄液のみが再
び洗浄室１に戻る。上記のように処理時間洗浄液を循環
させることによりウエハ３が清浄化される。
について説明すると、洗浄液の収容された洗浄室１内
に、図示しないチャッキングアームによりウエハ３を浸
漬し、ウエハ裏面３ｂを堰１ａ側に向けてウエハ保持部
４に載置し、循環ポンプ５を作動させて洗浄液を循環さ
せると、洗浄液はろ過フィルタ６、三方弁８ａを通り洗
浄液の給排液兼用口１５から洗浄室１内に流入する。流
入した洗浄液は、整流用多孔板１６の多数の孔１６ａに
より整流されて上昇する。洗浄液が充満した洗浄室１内
にさらに洗浄液が流入することにより、余った洗浄液が
洗浄室１の堰１ａを乗り越えオーバーフローし、溝１１
を伝わってオーバーフロー液貯留室１２に流れ込む。オ
ーバーフロー液貯留室１２に一時貯留された洗浄液は排
液口１４、三方弁８ｂを通ってポンプ５に戻される。こ
の時洗浄室１内に洗浄液の上昇流を生じ、ウエハ表面３
ａとウエハ裏面３ｂに付着した汚染物質を剥離してオー
バーフローする洗浄液と共に持ち去り、ろ過フィルタ６
を通して洗浄液中の汚染物質を除去し、洗浄液のみが再
び洗浄室１に戻る。上記のように処理時間洗浄液を循環
させることによりウエハ３が清浄化される。
【００１１】次に、本発明の第２実施例に付いて図５を
用いて説明する。本実施例は、前記第１実施例に加え、
ウエハ表面３ａ側を流れる洗浄液の流量よりも、ウエハ
裏面３ｂ側を流れる洗浄液の流量を多くしたものであ
る。すなわち、ウエハ３を洗浄室１の真ん中でウエハ保
持部４により保持すると、洗浄室１はウエハ３により、
ウエハ表面３ａと洗浄室１の内壁面とで囲まれる容積
と、ウエハ裏面３ｂと洗浄室１の内壁面とで囲まれる容
積とがほぼ等しくなるように二分される。そこで、給排
液兼用口１５に洗浄液が導入されると、整流用多孔板１
６にはウエハの幅方向（つまり図５の紙面に対して垂直
方向）と平行に、ウエハ表面３ａ側に一列縦隊に多数の
流出口１６ａと、ウエハ裏面３ｂ側に一列縦隊に多数の
流出口１６ｂとが設けられ、しかも図示のごとく、流出
口１６ｂの直径は流出口１６ａの直径よりも大きく形成
されているので、洗浄液は圧力損失の小さい方へ流れよ
うとし流出口１６ｂ側からの方が流出口１６ｂ側からよ
りも多く流出し、従ってウエハ裏面３ｂ側の方がウエハ
表面３ａ側よりも多く流れるため、ウエハ裏面３ｂの方
がウエハ表面３ａよりも早く、しかも多く洗浄される。
用いて説明する。本実施例は、前記第１実施例に加え、
ウエハ表面３ａ側を流れる洗浄液の流量よりも、ウエハ
裏面３ｂ側を流れる洗浄液の流量を多くしたものであ
る。すなわち、ウエハ３を洗浄室１の真ん中でウエハ保
持部４により保持すると、洗浄室１はウエハ３により、
ウエハ表面３ａと洗浄室１の内壁面とで囲まれる容積
と、ウエハ裏面３ｂと洗浄室１の内壁面とで囲まれる容
積とがほぼ等しくなるように二分される。そこで、給排
液兼用口１５に洗浄液が導入されると、整流用多孔板１
６にはウエハの幅方向（つまり図５の紙面に対して垂直
方向）と平行に、ウエハ表面３ａ側に一列縦隊に多数の
流出口１６ａと、ウエハ裏面３ｂ側に一列縦隊に多数の
流出口１６ｂとが設けられ、しかも図示のごとく、流出
口１６ｂの直径は流出口１６ａの直径よりも大きく形成
されているので、洗浄液は圧力損失の小さい方へ流れよ
うとし流出口１６ｂ側からの方が流出口１６ｂ側からよ
りも多く流出し、従ってウエハ裏面３ｂ側の方がウエハ
表面３ａ側よりも多く流れるため、ウエハ裏面３ｂの方
がウエハ表面３ａよりも早く、しかも多く洗浄される。
【００１２】次に、本発明の第３実施例について図６〜
図１０を用いて説明する。図６は正面図、図７は図６の
平面図、図８は図６のＢ−Ｂ断面図、図９は図６のＣ−
Ｃ断面一部拡大図、図１０は図８の一部拡大図で、前記
第１及び第２実施例では、洗浄室１の内底部に給排液兼
用口１５と、整流用多孔板１６とを設けたが、本実施例
では、洗浄室１の内底部に２本の排液口１８と、先端が
閉じられ胴部に上方に向けて多数の流出口１９ａを有す
る１本のパイプから成り、その軸線がウエハ３の幅方向
（図６、図８および図９の紙面に対して左右方向）と平
行に取付けられた給液口１９を設けている。前記多数の
流出口１９ａは図９から明らかなように、ウエハ３を隔
ててウエハ３の幅方向と平行に各々一列縦隊に設けてあ
り、洗浄液が給液口１９に導入されると、洗浄液が流出
口１９ａから流出し、ウエハ表面３ａ及びウエハ裏面３
ｂを伝ってほぼ平行に上昇流を形成しウエハを洗浄す
る。なお２０は排液口１８に接続された二方弁で、図示
しないコントローラで三方弁８ｂと共に駆動制御され
る。
図１０を用いて説明する。図６は正面図、図７は図６の
平面図、図８は図６のＢ−Ｂ断面図、図９は図６のＣ−
Ｃ断面一部拡大図、図１０は図８の一部拡大図で、前記
第１及び第２実施例では、洗浄室１の内底部に給排液兼
用口１５と、整流用多孔板１６とを設けたが、本実施例
では、洗浄室１の内底部に２本の排液口１８と、先端が
閉じられ胴部に上方に向けて多数の流出口１９ａを有す
る１本のパイプから成り、その軸線がウエハ３の幅方向
（図６、図８および図９の紙面に対して左右方向）と平
行に取付けられた給液口１９を設けている。前記多数の
流出口１９ａは図９から明らかなように、ウエハ３を隔
ててウエハ３の幅方向と平行に各々一列縦隊に設けてあ
り、洗浄液が給液口１９に導入されると、洗浄液が流出
口１９ａから流出し、ウエハ表面３ａ及びウエハ裏面３
ｂを伝ってほぼ平行に上昇流を形成しウエハを洗浄す
る。なお２０は排液口１８に接続された二方弁で、図示
しないコントローラで三方弁８ｂと共に駆動制御され
る。
【００１３】次に、本発明の第４実施例について図１１
〜図１２（各々第３実施例の図９及び図１０に相当する
図）を用いて説明する。本実施例は前記第３実施例に加
え、ウエハ表面３ａ側を流れる洗浄液の流量よりも、ウ
エハ裏面３ｂ側を流れる洗浄液の流量を多くしたもので
ある。すなわち、ウエハ３を洗浄室１の真ん中でウエハ
保持部４により保持すると、洗浄室１はウエハ３により
ウエハ３ａと洗浄室１の内壁面とで囲まれる容積と、ウ
エハ裏面３ｂと洗浄室１の内壁面とで囲まれる容積とが
ほぼ等しくなるように二分される。そこで、給液口１９
に洗浄液が導入されると、給液口１９にはウエハの幅方
向（図１１の紙面に対して左右方向）と平行に、ウエハ
表面３ａ側に一列縦隊に多数の流出口１９ａとウエハ裏
面３ｂ側に一列縦隊に多数の流出口１９ｂとが設けられ
てあり、しかも図示のごとく、流出口１９ｂの直径は流
出口１９ａの直径よりも大きく形成されているので、洗
浄液は圧力損失の小さい方へ流れようとし、流出口１９
ｂ側からの方が流出口１９ａ側からよりも多く流出し、
従ってウエハ裏面３ｂ側の方がウエハ表面３ａ側よりも
多く流れるため、ウエハ裏面３の方がウエハ表面３ａよ
りも早く、しかも多く洗浄される。
〜図１２（各々第３実施例の図９及び図１０に相当する
図）を用いて説明する。本実施例は前記第３実施例に加
え、ウエハ表面３ａ側を流れる洗浄液の流量よりも、ウ
エハ裏面３ｂ側を流れる洗浄液の流量を多くしたもので
ある。すなわち、ウエハ３を洗浄室１の真ん中でウエハ
保持部４により保持すると、洗浄室１はウエハ３により
ウエハ３ａと洗浄室１の内壁面とで囲まれる容積と、ウ
エハ裏面３ｂと洗浄室１の内壁面とで囲まれる容積とが
ほぼ等しくなるように二分される。そこで、給液口１９
に洗浄液が導入されると、給液口１９にはウエハの幅方
向（図１１の紙面に対して左右方向）と平行に、ウエハ
表面３ａ側に一列縦隊に多数の流出口１９ａとウエハ裏
面３ｂ側に一列縦隊に多数の流出口１９ｂとが設けられ
てあり、しかも図示のごとく、流出口１９ｂの直径は流
出口１９ａの直径よりも大きく形成されているので、洗
浄液は圧力損失の小さい方へ流れようとし、流出口１９
ｂ側からの方が流出口１９ａ側からよりも多く流出し、
従ってウエハ裏面３ｂ側の方がウエハ表面３ａ側よりも
多く流れるため、ウエハ裏面３の方がウエハ表面３ａよ
りも早く、しかも多く洗浄される。
【００１４】次に、本発明の第５実施例について図１３
（第３実施例の図１０に相当する図）を用いて説明す
る。本実施例は、第３実施例の給液口１９の胴部に下方
に向けて、上方に向けた多数の流出口より少数の流出口
１９ｃを付け加えたもので、給液口１９に洗浄液が導入
されると、洗浄液が流出口１９ａから流出し上昇流を形
成すると共に、流出口１９ｃより下方にわずかに流出す
る。流出口１９ｃから洗浄液がわずかに流出することに
より、洗浄室内底部での洗浄液のよどみを無くすことが
できる。なお流出口１９ｃの直径は流出口１９ａの直径
と同等もしくは小なることが望ましい。
（第３実施例の図１０に相当する図）を用いて説明す
る。本実施例は、第３実施例の給液口１９の胴部に下方
に向けて、上方に向けた多数の流出口より少数の流出口
１９ｃを付け加えたもので、給液口１９に洗浄液が導入
されると、洗浄液が流出口１９ａから流出し上昇流を形
成すると共に、流出口１９ｃより下方にわずかに流出す
る。流出口１９ｃから洗浄液がわずかに流出することに
より、洗浄室内底部での洗浄液のよどみを無くすことが
できる。なお流出口１９ｃの直径は流出口１９ａの直径
と同等もしくは小なることが望ましい。
【００１５】次に、本発明の第６実施例について図１４
（第４実施例の図１２に相当する図）を用いて説明す
る。本実施例は、第４実施例の給液口１９の胴部に下方
に向けて、上方に向けた多数の流出口１９ａ及び１９ｂ
より少数の流出口１９ｃを付け加えたもので、給液口１
９に洗浄液が導入されると、洗浄液が流出口１９ａ及び
１９ｂから流出し上昇流を形成すると共に流出口１９ｃ
よりわずかに流出する。流出口１９ｃから洗浄液がわず
かに流出することにより、第５実施例と同様、洗浄室内
底部での洗浄液のよどみを無くすことができる。なお上
記全実施例においては、ウエハ３を図示しないチャッキ
ングアームからウエハ保持部４に移載しているが、洗浄
室１にウエハ保持部４を設けず、前記チャッキングアー
ムで保持したままの状態で洗浄するようにしても良い。
（第４実施例の図１２に相当する図）を用いて説明す
る。本実施例は、第４実施例の給液口１９の胴部に下方
に向けて、上方に向けた多数の流出口１９ａ及び１９ｂ
より少数の流出口１９ｃを付け加えたもので、給液口１
９に洗浄液が導入されると、洗浄液が流出口１９ａ及び
１９ｂから流出し上昇流を形成すると共に流出口１９ｃ
よりわずかに流出する。流出口１９ｃから洗浄液がわず
かに流出することにより、第５実施例と同様、洗浄室内
底部での洗浄液のよどみを無くすことができる。なお上
記全実施例においては、ウエハ３を図示しないチャッキ
ングアームからウエハ保持部４に移載しているが、洗浄
室１にウエハ保持部４を設けず、前記チャッキングアー
ムで保持したままの状態で洗浄するようにしても良い。
【００１６】次に、上記本発明の実施例によるとウエハ
の清浄度を高められる理由について図１５（図３のオー
バーフロー槽の一部を拡大示した図）を用いて説明す
る。洗浄室１には堰１ａと溝１１から成るオーバーフロ
ー部が上部開口の一方向のみ（この場合ウエハの裏面側
のみ）にしか設けてなく、循環ポンプ５で洗浄液を循環
させると、オーバーフローはウエハの裏面３ｂ側のみし
か生じないので、洗浄室１の上層部での流れにおいてウ
エハ表面３ａ側えの流れはほとんど生じえない。従っ
て、ウエハ裏面３ｂに付着していた汚染物質９はウエハ
表面３ａ側には逆流せず、ウエハ表面３ａ側に付着して
いた汚染物質１０と共にウエハ裏面３ｂ側からオーバー
フローされ、洗浄中にウエハ表面３ａ側に再付着するこ
とがない。しかも第２、第４、第６実施例においては洗
浄液がウエハ裏面３ｂ側の方がウエハ表面３ａ側よりも
多く流れるため、汚染度の高いウエハ裏面３ｂがウエハ
表面３ａより早くしかも多く洗浄され、ウエハ３を高い
清浄度に保つことができる。
の清浄度を高められる理由について図１５（図３のオー
バーフロー槽の一部を拡大示した図）を用いて説明す
る。洗浄室１には堰１ａと溝１１から成るオーバーフロ
ー部が上部開口の一方向のみ（この場合ウエハの裏面側
のみ）にしか設けてなく、循環ポンプ５で洗浄液を循環
させると、オーバーフローはウエハの裏面３ｂ側のみし
か生じないので、洗浄室１の上層部での流れにおいてウ
エハ表面３ａ側えの流れはほとんど生じえない。従っ
て、ウエハ裏面３ｂに付着していた汚染物質９はウエハ
表面３ａ側には逆流せず、ウエハ表面３ａ側に付着して
いた汚染物質１０と共にウエハ裏面３ｂ側からオーバー
フローされ、洗浄中にウエハ表面３ａ側に再付着するこ
とがない。しかも第２、第４、第６実施例においては洗
浄液がウエハ裏面３ｂ側の方がウエハ表面３ａ側よりも
多く流れるため、汚染度の高いウエハ裏面３ｂがウエハ
表面３ａより早くしかも多く洗浄され、ウエハ３を高い
清浄度に保つことができる。
【００１７】上記実施例において、オーバーフロー槽は
１基のみ用いて説明したが、実際には３基、４基と連設
して使用される。その場合、図１６〜図１７に示すよう
にオーバーフロー液貯留室２の排液口１４が、互いに隣
接するオーバーフロー槽において重ならないよう千鳥状
に設けることが望ましい。何故なら、洗浄室１の排液口
１８が二方弁２０にチューブ２１とジョイント２２とで
接続されているのと同様、オーバーフロー液貯留室２の
排液口１４は三方弁８ｂにチューブ２３とジョイント２
４とで接続されているが、液量の関係で排液口１４は排
液口１８よりも直径が大きく、従ってジョイント２４も
ジョイント２２よりも大きくなり、オーバフロー槽を隣
接した場合ジョイント部が相互に干渉してしまい、槽間
を明けなければならないが、排液口１４を千鳥状に配置
することにより、槽間を明けることなく密接に連設でき
るからである。
１基のみ用いて説明したが、実際には３基、４基と連設
して使用される。その場合、図１６〜図１７に示すよう
にオーバーフロー液貯留室２の排液口１４が、互いに隣
接するオーバーフロー槽において重ならないよう千鳥状
に設けることが望ましい。何故なら、洗浄室１の排液口
１８が二方弁２０にチューブ２１とジョイント２２とで
接続されているのと同様、オーバーフロー液貯留室２の
排液口１４は三方弁８ｂにチューブ２３とジョイント２
４とで接続されているが、液量の関係で排液口１４は排
液口１８よりも直径が大きく、従ってジョイント２４も
ジョイント２２よりも大きくなり、オーバフロー槽を隣
接した場合ジョイント部が相互に干渉してしまい、槽間
を明けなければならないが、排液口１４を千鳥状に配置
することにより、槽間を明けることなく密接に連設でき
るからである。
【００１８】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の枚
葉洗浄用オーバーフロー槽を用いればオーバーフローの
過程において、基板裏面側のみからオーバーフローさせ
たことにより、あるいは、汚染度の高い基板裏面側を流
れる洗浄液の流量を基板表面側を流れる洗浄液の流量よ
りも多くすると共に、基板裏面側のみからオーバーフロ
ーさせたことにより、基板を洗浄中に基板裏面から剥璃
した汚染物質が基板表面に再付着することがなく洗い流
され、清浄な状態で次工程に搬送することができ歩留ま
りを向上させることができる。
葉洗浄用オーバーフロー槽を用いればオーバーフローの
過程において、基板裏面側のみからオーバーフローさせ
たことにより、あるいは、汚染度の高い基板裏面側を流
れる洗浄液の流量を基板表面側を流れる洗浄液の流量よ
りも多くすると共に、基板裏面側のみからオーバーフロ
ーさせたことにより、基板を洗浄中に基板裏面から剥璃
した汚染物質が基板表面に再付着することがなく洗い流
され、清浄な状態で次工程に搬送することができ歩留ま
りを向上させることができる。
【００１９】また、本発明の枚葉洗浄用オーバーフロー
槽を用いれば、上記効果に加え、従来の４方向オーバー
フローから一方向オーバーフローに改良したことによ
り、槽を薄く小型に製造でき、３基、４基と連設して使
用する場合にはプロセス装置全体を小さくまとめること
ができ、半導体工場の省スぺース化が計れる。
槽を用いれば、上記効果に加え、従来の４方向オーバー
フローから一方向オーバーフローに改良したことによ
り、槽を薄く小型に製造でき、３基、４基と連設して使
用する場合にはプロセス装置全体を小さくまとめること
ができ、半導体工場の省スぺース化が計れる。
【図１】本発明の第１実施例を示す枚葉洗浄用オーバー
フロー槽の正面図。
フロー槽の正面図。
【図２】図１の平面図。
【図３】図１のＡ−Ａ断面図。
【図４】図３の一部拡大図。
【図５】本発明の第２実施例を示す図で、図４に相当す
る図。
る図。
【図６】本発明の第３実施例を示す正面図。
【図７】図６の平面図。
【図８】図６のＢ−Ｂ断面図。
【図９】図６のＣ−Ｃ断面一部拡大図。
【図１０】図８の一部拡大図。
【図１１】本発明の第４実施例を示す図で、図９に相当
する図。
する図。
【図１２】本発明の第４実施例を示す図で、図１０に相
当する図。
当する図。
【図１３】本発明の第５実施例を示す図で、図１０に相
当する図。
当する図。
【図１４】本発明の第６実施例を示す図で、図１２に相
当する図。
当する図。
【図１５】本発明によるとウエハの清浄度を高められる
理由を説明するために、図３に示す枚葉洗浄用オーバー
フロー槽の一部を拡大示した図。
理由を説明するために、図３に示す枚葉洗浄用オーバー
フロー槽の一部を拡大示した図。
【図１６】本発明の枚葉洗浄用オーバーフロー槽を連設
して用いる場合の説明図で、図６に相当する一部拡大
図。
して用いる場合の説明図で、図６に相当する一部拡大
図。
【図１７】図１６の底面図。
【図１８】従来の枚葉洗浄用オーバーフロー槽における
問題点を説明するために、図２０を一部拡大示した図。
問題点を説明するために、図２０を一部拡大示した図。
【図１９】従来の枚葉洗浄用オーバーフロー槽を用いた
枚葉式洗浄装置の構成図。
枚葉式洗浄装置の構成図。
【図２０】図１９の右側面図。
１ 洗浄室 １ａ 堰 ３ ウエハ ３ａ ウエハ表面 ３ｂ ウエハ裏面 ４ ウエハ保持部 １１ 溝 １２ オーバーフロー液貯留室 １３ 壁 １４ 排液口 １５ 給排液兼用口 １６ 整流用多孔板 １６ａ 流出口 １６ｂ 流出口 １８ 排液口 １９ 給液口 １９ａ 流出口 １９ｂ 流出口 １９ｃ 流出口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上田 勉 大阪府東大阪市永和２丁目２番32号 株 式会社スガイ内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/304 B08B 3/00 - 3/14
Claims (13)
- 【請求項１】 洗浄液を収容した洗浄室内に、一枚の基
板を垂直に保持し、洗浄室内底部に洗浄液を供給すると
共に、洗浄室上部よりオーバーフローさせて上昇流を形
成し、基板を洗浄する枚葉洗浄用オーバーフロー槽にお
いて、 （ａ）洗浄室とオーバーフローした洗浄液を貯留するオ
ーバーフロー液貯留室とが、壁を隔てて基板の幅方向に
て隣接していること、 （ｂ）堰と溝から成るオーバーフロー部が、基板の厚み
方向にて洗浄室上部開口の一方向のみに設けられている
こと、 （ｃ）前記洗浄室とオーバーフロー液貯留室とが、前記
溝で連通していること、 （ｄ）前記洗浄室内底部に、各々少なくとも一つの洗浄
液の給液口と排液口あるいは、少なくとも一つの給排液
兼用口を有すること、 （ｅ）前記オーバーフロー液貯留室の内底部に、少なく
とも一つの排液口を有すること、 を特徴とする枚葉洗浄用オーバーフロー槽。 - 【請求項２】 前記洗浄室内底部に、整流用多孔板を形
成したことを特徴とする請求項１の枚葉洗浄用オーバー
フロー槽。 - 【請求項３】 前記整流用多孔板の流出口が、基板の幅
方向と平行に基板を隔てて各々一列縦隊に設けられたこ
とを特徴とする請求項２の枚葉洗浄用オーバーフロー
槽。 - 【請求項４】 前記各々一列縦隊に設けられた多数の流
出口の大きさを、基板を隔てて相違させたことを特徴と
する請求項３の枚葉洗浄用オーバーフロー槽。 - 【請求項５】 前記オーバーフロー部に近い方の前記上
方に向けた一列縦隊の流出口の大きさを、前記オーバー
フロー部に遠い方の前記上方に向けた一列縦隊の流出口
の大きさよりも大なるように形成して成ることを特徴と
する請求項４の枚葉洗浄用オーバーフロー槽。 - 【請求項６】 前記洗浄液の給液口が、先端が閉じられ
胴部に上方に向けて多数の流出口を有する１本のパイプ
から成り、その軸線が基板の幅方向に平行に取付けられ
たことを特徴とする請求項１の枚葉洗浄用オーバーフロ
ー槽。 - 【請求項７】 前記上方に向けた多数の流出口が、基板
の幅方向と平行に、基板を隔てて各々一列縦隊に設けら
れたことを特徴とする請求項６の枚葉洗浄用オーバーフ
ロー槽。 - 【請求項８】 前記各々一列縦隊に設けられた多数の流
出口の大きさを、基板を隔てて相違させたことを特徴と
する請求項７の枚葉洗浄用オーバーフロー槽。 - 【請求項９】 前記オーバーフロー部に近い方の前記上
方に向けた一列縦隊の流出口の大きさを、前記オーバー
フロー部に遠い方の前記上方に向けた一列縦隊の流出口
の大きさよりも大なるように形成して成ることを特徴と
する請求項８の枚葉洗浄用オーバーフロー槽。 - 【請求項１０】 前記洗浄液の給液口が、先端が閉じら
れ胴部に上方に向けて多数の流出口と、下方に向けて前
記上方に向けた多数の流出口よりは少数の流出口とを有
する１本のパイプから成り、その軸線が基板の幅方向に
平行に取付けられたことを特徴とする請求項１の枚葉洗
浄用オーバーフロー槽。 - 【請求項１１】 前記上方に向けた多数の流出口が基板
の幅方向と平行に、基板を隔てて各々一列縦隊に設けら
れると共に、前記下方に向けた少数の流出口が前記パイ
プの軸線上に一列縦隊に設けられたことを特徴とする請
求項１０の枚葉洗浄用オーバーフロー槽。 - 【請求項１２】 前記各々上方に向けて一列縦隊に設け
られた多数の流出口の大きさを、基板を隔てて相違させ
たことを特徴とする請求項１１の枚葉洗浄用オーバーフ
ロー槽。 - 【請求項１３】 前記オーバーフロー部に近い方の上方
に向けた一列縦隊の流出口の大きさを、前記オーバーフ
ロー部に遠い方の前記上方に向けた一列縦隊の流出口の
大きさよりも大なるように形成して成ることを特徴とす
る請求項１２の枚葉洗浄用オーバーフロー槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35738191A JP2920165B2 (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 枚葉洗浄用オーバーフロー槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35738191A JP2920165B2 (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 枚葉洗浄用オーバーフロー槽 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05152273A JPH05152273A (ja) | 1993-06-18 |
| JP2920165B2 true JP2920165B2 (ja) | 1999-07-19 |
Family
ID=18453839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35738191A Expired - Fee Related JP2920165B2 (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 枚葉洗浄用オーバーフロー槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2920165B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19654903C2 (de) * | 1996-04-24 | 1998-09-24 | Steag Micro Tech Gmbh | Vorrichtung zum Behandeln von Substraten in einem Fluid-Behälter |
| US5884644A (en) * | 1997-12-10 | 1999-03-23 | Micron Technology, Inc. | Quartz tank for wet semiconductor wafer processing |
| US5849103A (en) * | 1997-12-22 | 1998-12-15 | Seh America, Inc. | Method of monitoring fluid contamination |
| US6516816B1 (en) * | 1999-04-08 | 2003-02-11 | Applied Materials, Inc. | Spin-rinse-dryer |
| AU2001232914A1 (en) * | 2000-01-22 | 2001-07-31 | Ted Albert Loxley | Process and apparatus for cleaning silicon wafers |
| US6530388B1 (en) | 2000-02-15 | 2003-03-11 | Quantum Global Technologies, Llc | Volume efficient cleaning systems |
| US6926016B1 (en) | 2001-02-15 | 2005-08-09 | Quantum Global Technologies, Llc | System for removing contaminants from semiconductor process equipment |
| US7328712B1 (en) | 2000-02-15 | 2008-02-12 | Quantum Global Technologies | Cleaning bench for removing contaminants from semiconductor process equipment |
| ATE452419T1 (de) * | 2000-06-27 | 2010-01-15 | Imec | Verfahren und vorrichtung zum reinigen und trocknen eines substrats |
| US6732749B2 (en) * | 2000-12-22 | 2004-05-11 | Akrion, Llc | Particle barrier drain |
-
1991
- 1991-11-29 JP JP35738191A patent/JP2920165B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05152273A (ja) | 1993-06-18 |
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