JP3208809B2 - オーバーフロー洗浄槽 - Google Patents
オーバーフロー洗浄槽Info
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- JP3208809B2 JP3208809B2 JP32719391A JP32719391A JP3208809B2 JP 3208809 B2 JP3208809 B2 JP 3208809B2 JP 32719391 A JP32719391 A JP 32719391A JP 32719391 A JP32719391 A JP 32719391A JP 3208809 B2 JP3208809 B2 JP 3208809B2
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- cleaning tank
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- tank
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ワークの浸漬洗浄に用
いるオーバーフロー洗浄槽に関する。半導体装置の製造
では、半導体ウエーハやホトマスク基板などのワークに
対する薬液処理を行った際に、ワークに付着した薬液を
洗浄により完全に除去することが必要である。このた
め、その洗浄には、ワークから落ちた薬液により汚染し
た洗浄液をオーバーフローさせて洗浄液の純度を維持す
る上記オーバーフロー洗浄槽を賞用している。
いるオーバーフロー洗浄槽に関する。半導体装置の製造
では、半導体ウエーハやホトマスク基板などのワークに
対する薬液処理を行った際に、ワークに付着した薬液を
洗浄により完全に除去することが必要である。このた
め、その洗浄には、ワークから落ちた薬液により汚染し
た洗浄液をオーバーフローさせて洗浄液の純度を維持す
る上記オーバーフロー洗浄槽を賞用している。
【０００２】本発明はその維持する洗浄液の純度を更に
向上させようとするものである。
向上させようとするものである。
【０００３】
【従来の技術】図２はオーバーフロー洗浄槽の従来例１
及び従来例２の側面図である。図２において、（ａ）は
従来例１をまた（ｂ）は従来例２を示し、１は洗浄槽、
２は洗浄液導入口、３は排液溝、４は洗浄液、である。
及び従来例２の側面図である。図２において、（ａ）は
従来例１をまた（ｂ）は従来例２を示し、１は洗浄槽、
２は洗浄液導入口、３は排液溝、４は洗浄液、である。
【０００４】洗浄液導入口２は、洗浄槽１の下部に位置
して洗浄槽１に洗浄液４を連続的に導入する。従来例１
と従来例２の相違点は、洗浄槽１の底面形状と洗浄液導
入口２の位置である。何れの場合も、導入された洗浄液
４は、洗浄槽１の上縁からオーバーフローして排液溝３
に入り排出される。
して洗浄槽１に洗浄液４を連続的に導入する。従来例１
と従来例２の相違点は、洗浄槽１の底面形状と洗浄液導
入口２の位置である。何れの場合も、導入された洗浄液
４は、洗浄槽１の上縁からオーバーフローして排液溝３
に入り排出される。
【０００５】そして、ワークの洗浄は、上記オーバーフ
ローにより洗浄槽１内で流れている洗浄液４に浸漬して
行う。ワークから汚れとして落ちた薬液は、洗浄液の流
れに乗って洗浄液４と共に排液溝３から排出される。従
って、洗浄槽１内の洗浄液４は、上記薬液による汚染の
少ない純度を維持して、ワークを効率良く洗浄する。
ローにより洗浄槽１内で流れている洗浄液４に浸漬して
行う。ワークから汚れとして落ちた薬液は、洗浄液の流
れに乗って洗浄液４と共に排液溝３から排出される。従
って、洗浄槽１内の洗浄液４は、上記薬液による汚染の
少ない純度を維持して、ワークを効率良く洗浄する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、洗浄槽
１内の洗浄液４の流れは、流線を示す矢印のようにな
り、側壁と底面が接する角の近傍、即ち、洗浄槽１の内
壁面を洗浄液導入口２から洗浄槽１の上縁に至る経路の
屈曲部の近傍に淀み５を作る。
１内の洗浄液４の流れは、流線を示す矢印のようにな
り、側壁と底面が接する角の近傍、即ち、洗浄槽１の内
壁面を洗浄液導入口２から洗浄槽１の上縁に至る経路の
屈曲部の近傍に淀み５を作る。
【０００７】そこで、ワークから落ちた薬液が淀み５に
巻き込まれると、その薬液は、洗浄槽１から排出される
のに時間がかかり洗浄液４の純度を暫時低下させる。こ
のため、十分な洗浄を行おうとすると、上記純度低下の
回復を待つことになり洗浄に長時間を必要とする。
巻き込まれると、その薬液は、洗浄槽１から排出される
のに時間がかかり洗浄液４の純度を暫時低下させる。こ
のため、十分な洗浄を行おうとすると、上記純度低下の
回復を待つことになり洗浄に長時間を必要とする。
【０００８】そこで本発明は、ワークの浸漬洗浄に用い
るオーバーフロー洗浄槽に関し、洗浄槽内の洗浄液の流
れが淀みを作らないようにすることを目的とする。
るオーバーフロー洗浄槽に関し、洗浄槽内の洗浄液の流
れが淀みを作らないようにすることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によるオーバーフロー洗浄槽は、洗浄液をオ
ーバーフロー状態に導入しワークを該洗浄液に浸漬して
洗浄する洗浄槽であって、洗浄液導入口が洗浄槽の底部
に位置し、該洗浄槽の側壁と底面とで形成されるコーナ
ー（屈曲部）近傍の底面側に、該洗浄液導入口から導入
された洗浄液の一部を常時排出する局部排液口を有する
ことを特徴としている。
に、本発明によるオーバーフロー洗浄槽は、洗浄液をオ
ーバーフロー状態に導入しワークを該洗浄液に浸漬して
洗浄する洗浄槽であって、洗浄液導入口が洗浄槽の底部
に位置し、該洗浄槽の側壁と底面とで形成されるコーナ
ー（屈曲部）近傍の底面側に、該洗浄液導入口から導入
された洗浄液の一部を常時排出する局部排液口を有する
ことを特徴としている。
【００１０】
【作用】先の説明で述べたように、オーバーフロー洗浄
槽は洗浄液導入口が洗浄槽の下部に位置している。そし
て、従来例で洗浄槽内の洗浄液の流れが淀みを作る部位
は、洗浄槽の内壁面を洗浄液導入口から洗浄槽の上縁に
至る経路の屈曲部の近傍である。
槽は洗浄液導入口が洗浄槽の下部に位置している。そし
て、従来例で洗浄槽内の洗浄液の流れが淀みを作る部位
は、洗浄槽の内壁面を洗浄液導入口から洗浄槽の上縁に
至る経路の屈曲部の近傍である。
【００１１】従って、上記屈曲部に局部排液口を設けれ
ば、淀みが生ずる部位の洗浄液を排出することができ
て、洗浄槽内の洗浄液の流れが淀みを作らないようにな
る。これにより、ワークから汚れとして落ちた薬液の従
来例で淀みに取り込まれる分は、オーバーフロー側から
ではなく局部排液口から早急に排出されて、洗浄槽内の
洗浄液の純度を暫時低下させることがない。このため、
本発明のオーバーフロー洗浄槽を用いれば、従来例の場
合より短時間で十分な洗浄を行うことができるようにな
る。
ば、淀みが生ずる部位の洗浄液を排出することができ
て、洗浄槽内の洗浄液の流れが淀みを作らないようにな
る。これにより、ワークから汚れとして落ちた薬液の従
来例で淀みに取り込まれる分は、オーバーフロー側から
ではなく局部排液口から早急に排出されて、洗浄槽内の
洗浄液の純度を暫時低下させることがない。このため、
本発明のオーバーフロー洗浄槽を用いれば、従来例の場
合より短時間で十分な洗浄を行うことができるようにな
る。
【００１２】
【実施例】以下本発明によるオーバーフロー洗浄槽の実
施例について図１の側面図を用いて説明する。全図を通
し同一符号は同一機能対象物を示す。
施例について図１の側面図を用いて説明する。全図を通
し同一符号は同一機能対象物を示す。
【００１３】図１において、（ａ）は実施例１をまた
（ｂ）は実施例２を示し、実施例１は図２（ａ）の従来
例１の洗浄槽１に、また実施例２は図２（ｂ）の従来例
２の洗浄槽１に局部排液口６を設けたものである。何れ
の実施例も、洗浄液導入口２から洗浄槽１に導入した洗
浄液４の一部となる少量を局部排液口６から排出させ、
残りの大部分を排液溝３にオーバーフローさせる。
（ｂ）は実施例２を示し、実施例１は図２（ａ）の従来
例１の洗浄槽１に、また実施例２は図２（ｂ）の従来例
２の洗浄槽１に局部排液口６を設けたものである。何れ
の実施例も、洗浄液導入口２から洗浄槽１に導入した洗
浄液４の一部となる少量を局部排液口６から排出させ、
残りの大部分を排液溝３にオーバーフローさせる。
【００１４】局部排液口６は、洗浄槽１の内壁面を洗浄
液導入口２から洗浄槽１の上縁に至る経路の屈曲部に、
即ち、洗浄槽１の底面が平坦であり洗浄液導入口２が側
壁と底面が接する角の一方に位置する実施例１では、そ
の角と反対側の角に、また、洗浄槽１の底面が中央部下
がりの傾斜をなし洗浄液導入口２がその中央部に位置す
る実施例２では、側壁と底面が接する角のそれぞれに設
けてある。
液導入口２から洗浄槽１の上縁に至る経路の屈曲部に、
即ち、洗浄槽１の底面が平坦であり洗浄液導入口２が側
壁と底面が接する角の一方に位置する実施例１では、そ
の角と反対側の角に、また、洗浄槽１の底面が中央部下
がりの傾斜をなし洗浄液導入口２がその中央部に位置す
る実施例２では、側壁と底面が接する角のそれぞれに設
けてある。
【００１５】このことにより局部排液口６は、従来例１
または従来例２で淀み５が作られる部位の洗浄液４を排
出して、洗浄槽１内の洗浄液４の流れが淀みを作らない
ようにさせる。
または従来例２で淀み５が作られる部位の洗浄液４を排
出して、洗浄槽１内の洗浄液４の流れが淀みを作らない
ようにさせる。
【００１６】従って、実施例１，２では、ワークから汚
れとして落ちた薬液がオーバーフローと局部排液口６に
よる排液により早急に排出されて、洗浄槽１内の洗浄液
４の純度を従来例１，２のように暫時低下させるという
ことがない。そしてこのことは、十分な洗浄を行うため
に必要な時間を短縮させる。
れとして落ちた薬液がオーバーフローと局部排液口６に
よる排液により早急に排出されて、洗浄槽１内の洗浄液
４の純度を従来例１，２のように暫時低下させるという
ことがない。そしてこのことは、十分な洗浄を行うため
に必要な時間を短縮させる。
【００１７】本発明者は、実施例１または実施例２の何
れの場合も、容量２０リットルの洗浄槽１に対し洗浄液
導入口２からの洗浄液４の導入を１０リットル／分に
し、局部排液口６からの洗浄液４の排出総量を１リット
ル／分にして、洗浄時間を２分以下にすることができ
た。ちなみに、局部排液口６からの排出を止めて従来例
１または従来例２に相当させた際には、洗浄に１０分以
上の時間を要した。
れの場合も、容量２０リットルの洗浄槽１に対し洗浄液
導入口２からの洗浄液４の導入を１０リットル／分に
し、局部排液口６からの洗浄液４の排出総量を１リット
ル／分にして、洗浄時間を２分以下にすることができ
た。ちなみに、局部排液口６からの排出を止めて従来例
１または従来例２に相当させた際には、洗浄に１０分以
上の時間を要した。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ワ
ークの浸漬洗浄に用いるオーバーフロー洗浄槽に関し、
洗浄槽内の洗浄液の流れが淀みを作らないようにするこ
とができて、ワークの十分な洗浄に要する時間の短縮を
可能にさせる効果があり、例えば、半導体装置の製造に
おける洗浄工程のスループットを向上させることができ
る。
ークの浸漬洗浄に用いるオーバーフロー洗浄槽に関し、
洗浄槽内の洗浄液の流れが淀みを作らないようにするこ
とができて、ワークの十分な洗浄に要する時間の短縮を
可能にさせる効果があり、例えば、半導体装置の製造に
おける洗浄工程のスループットを向上させることができ
る。
【図１】 実施例１及び実施例２の側面図
【図２】 従来例１及び従来例２の側面図
１ 洗浄槽 ２ 洗浄液導入口 ３ 排液溝 ４ 洗浄液 ５ 淀み ６ 局部排液口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−58840（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−44727（ＪＰ，Ａ) 実開 平３−38629（ＪＰ，Ｕ) 実開 平５−6836（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭63−10547（ＪＰ，Ｕ) 実公 昭49−30027（ＪＰ，Ｙ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 642 B08B 3/04 - 3/14
Claims (1)
- 【請求項１】 洗浄液をオーバーフロー状態に導入しワ
ークを該洗浄液に浸漬して洗浄する洗浄槽であって、 洗浄液導入口が洗浄槽の底部に位置し、 該洗浄槽の側壁と底面とで形成されるコーナー近傍の底
面側に、該洗浄液導入口から導入された洗浄液の一部を
常時排出する局部排液口を有することを特徴とするオー
バーフロー洗浄槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32719391A JP3208809B2 (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | オーバーフロー洗浄槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32719391A JP3208809B2 (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | オーバーフロー洗浄槽 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05160100A JPH05160100A (ja) | 1993-06-25 |
| JP3208809B2 true JP3208809B2 (ja) | 2001-09-17 |
Family
ID=18196355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32719391A Expired - Fee Related JP3208809B2 (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | オーバーフロー洗浄槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3208809B2 (ja) |
-
1991
- 1991-12-11 JP JP32719391A patent/JP3208809B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05160100A (ja) | 1993-06-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20010612 |
|
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