KR960007315Y1 - 웨이퍼 세정용 순수공급 노즐 - Google Patents

Abstract

요약없음

Description

웨이퍼 세정용 순수공급 노즐

제1도의 (A), (B)는 종래에 의한 웨이퍼 세정장치의 일실시예 구성을 나타낸 개략도

제2도의 (A), (B), (C)는 본 고안에 의한 웨이퍼 세정용 순수공급노즐의 일실시예 구성도

제3도는 본 고안에 의한 웨이퍼 세정용 순수공급노즐이 구비된 세정용기의 전체적인 구성도

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 용기2 : 막

3 : 보조용기3a : 순수배출구

4 : 지지바5 : 운반용가이드

6 : 순수공급노즐6a : 분출홀

6b : 공급홀

본 고안은 반도체 제조공정중 웨이퍼 세정을 위한 QDR(Quick Dump Rinse)세정장치에 포함되어 순수를 공급하는 순수공급 노즐에 관한 것으로, 특히 다량의 웨이퍼를 동시에 세정할 때 순수 공급에 의한 와류를 억제하여 와류지역에 남아 있던 불순물이 웨이퍼에 재흡착되는 것을 방지하는 웨이퍼 세정용 순수공급노즐에 관한 것이다.

종래의 웨이퍼 세정용 QDR(Quick Dump Rise) 세정장치는 제1도의 (A), (B)에 나타난 바와 같이, 각종 화학약품 처리후에 웨이퍼 표면에 흡착된 오염물질을 제거하기 위하여 소정의 용기(21)내에 순수를 공급하여 세정하는 것으로, 상기 용기(21)에는 순수를 측면에서 공급하는 방식과, 하단부에서 공급하는 방식이 채용되어 사용되었으며, 이의 구성을 간단히 설명하면, 소정용액이 담겨진 용기(21)의 측면하단부 일측에는 상기 용액과 혼합되어 산화를 촉진시키는 순수가 공급되도록 순수공급노즐(22)이 형성되며, 상기 용기(21)내부에는 웨이퍼가 구비된 캐리어(도면에 도시하지 않음)가 놓여지도록 버퍼 플레이트(23)가 구비되어 상기 순수공급노즐(22)로 부터 공급되는 순수가 위로 올라가면서 웨이퍼 표면의 불순물을 세정시키는 것이다.

미설명부호 24는 보조용기로서 용액이 상기 용기(21)의 외부로 넘쳐 흐르는 것을 받아 배수관을 통해 외부로 폐수시키는 것이다.

상기와 같은 구성에 의한 종래의 웨이퍼 세정장치는 상기 순수주입노즐로 부터 공급되는 순수가 용기의 벽에 부딪히거나 상측으로 올라가는 도중 와류가 생겨 세정후 웨이퍼의 이동시에 와류지역에 남아있던 불순물이 재흡착되는 사례가 빈번히 발생됨으로써 웨이퍼의 세정효과가 떨어지는 문제점이 내포되어 있다.

따라서, 본 고안은 상기의 제반문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로써, 상기 용기에 구비된 순순공급노즐의 간단한 구성으로 순수의 와류현상을 억제하여 세정후 웨이퍼에 분순물이 재흡착되는 것을 방지하는 웨이퍼 세정용 순수공급노즐을 제공함에 그 목적이 있다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 고안은, 그 내측 하단부 소정위치에 상하로 지그재그되는 형상의 막이 구비되며 상기 웨이퍼의 산화막을 식각하는 소정용액을 담기위한 용기 ; 상기 용기의 외측면 상단 소정위치에 일체로 경사지게 구비되며 용액이 외부로 넘치는 것을 받아 배수되도록 그 일측면에 순수배출구가 형성된 보조용기가 구비되어 웨이퍼의 산화막을 식각시키기 위한 웨이퍼 세정장치의 순수공급노즐에 있어서, 순수의 공급에 따른 와류가 형성되는 것을 억제하도록 상기 순수공급노즐의 상단부 중앙부에 순수가 상측으로 곧게 뻗도록 소정크기의 분출홀이 다수 형성되며, 측면에는 순수가 돌면서 상기 용기에 형성된 막의 경사부를 타고 상측으로 흐르도록 나선형상을 갖는 공급홀이 형성된 것을 특징으로 한다.

이하, 첨부된 제2도 및 제3도의 도면을 참조하여 본 고안의 실시예를 상세히 설명한다.

제2도는 (A), (B), (C)는 본 고안에 의한 웨이퍼 세정용 순수공급노즐의 일실시예 구성도로서, (A)는 노즐의 정단면도, (B)는 측면도, (C)는 상세도이고, 제3도는 본 고안에 의한 웨이퍼 세정용 순수공급노즐이 구비된 세정용기의 전체적인 구성도를 각각 나타낸 것이다.

도면에서 1은 용기, 2는 막, 3은 보조용기, 3a는 순수배출구, 4는 지지바, 5는 캐리어고정용 가이드, 6은 순수공급노즐, 6a는 분출홀, 6b는 공급홀을 각각 나타낸 것이다.

도면에 도시한 바와 같이 본 고안에 의한 웨이퍼 세정용 순수공급노즐(6)은 QDR(Quick Dump Rinse) 세정장치에 포함되어 웨이퍼를 담궈 산화막을 식각시키기 위하여 소정의 용기(1)내에 불산과 순수가 혼합되도록 순수를 공급시키는 것으로써, 이의 구성을 좀더 상세히 살펴보면, 상기 용기(1)의 내부하단 소정위치에 구비되며, 지그재그의 형상으로 형성된 막(2)의 하단부 양측에 순수공급노즐(6)이 장착되는데, 상기 순수공급노즐(6)은 순수가 상측으로 곧게 뻗을 수 있도록 그의 상단 중앙부에 소정크기의 분출홀(6a)이 내부와 통하도록 다수 형성되며, 또한 측면에는 상기 공급된 순수가 돌면서 막(2)의 지그재그된 경사부를 타고 상측으로 흐르도록 나선형상을 갖는 공급홀(6b)이 형성되도록 구성하여 순수의 공급에 따른 와류가 형성되는 것을 억제하여 세정후 웨이퍼의 이동시 그에 불순물이 재흡착되는 것을 방지한 것이다.

따라서, 상기 순수공급노즐(6)에 의해 공급된 순수가 일정하게 웨이퍼를 고르게 세정하고 난 후, 상기 용기(1)의 외측상단부 소정위치에 일체로 형성된 보조용기(3)에 용액이 외부로 넘치는 것을 받아 그 일측면에 형성된 순수배출구(3a)로 배출하여 다시 배관라인(도면에 도시하지 않음)을 통하여 외부로 폐수시킨다.

미설명부호 4는 지지바, 5는 캐리어고정용 가이드로써 웨이퍼가 구비된 캐리어(도면에 도시하지 않음)를 고정시키는 것이다.

상기와 같이 구성된 본 고안은 순수가 공급되어 와류현상이 발생되는 것을 억제하여 다량의 웨이퍼를 동시에 세정할 때 모든 웨이퍼가 고르게 세정되도록 세정능력을 향상시키므로써, 제품의 질 및 수율을 제고시키는 효과가 있다.

Claims (1)

1. 그 내측 하단부에 상하로 지그재그되는 형상의 막(2)이 구비되며 상기 웨이퍼의 산화막을 식각하는 소정용액을 담기위한 용기(1) ;

   상기 용기(1)의 외측면 상단 소정위치에 일체로 경사지게 구비되며 용액이 외부로 넘치는 것을 받아 배수되도록 그 일측면에 순수배출구(3a)가 형성된 보조용기(3)가 구비되어 웨의 산화막을 식각시키기 위한 웨이퍼 세정장치의 순수공급노즐(6)에 있어서,

   순수의 공급에 따른 와류가 형성되는 것을 억제하도록 상기 순수공급노즐(6)의 상단부 중앙부에 순수가 상측으로 곧게 뻗도록 소정크기의 분출홀(6a)이 다수 형성되며, 측면에는 순수가 돌면서 상기 용기에 형성된 막(2)의 경사부를 타고 흐르도록 나선형상을 갖는 공급홀(6b)이 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정용 순수공급노즐.