KR970003597Y1 - 웨이퍼 세정장치 - Google Patents

Abstract

내용없음.

Description

웨이퍼 세정장치

제1도는 종래에 의한 웨이퍼 세정장치의 일실시예 구성을 나타낸 개략도.

제2a, b도는 본 고안에 의한 웨이퍼 세정장치의 일실시예를 나타낸 구성도.

제3a, b, c도는 본 고안에 의한 순수공급노즐의 구성도.

제4도는 본 고안에 의한 웨이퍼 세정장치에서 순수가 공급되어 흐르는 상태도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 용기 2 : 막

3 : 보조용기 3a : 순수배출구

4 : 지지바 5 : 캐리어고정용 가이드

6 : 순수공급노즐 6a : 분출홀

6b : 공급홀

본 고안은 반도체 제조공정중 세정에 사용되는 각종 화학약품 처리후에 웨이퍼 표면에 흡착된 오염물질을 제거하는 웨이퍼 세정장치에 관한 것으로 특히, 순수 공급에 와류를 억제하여 와류지역에 남아 있던 불순물이 웨이퍼에 재흡착되는 것을 방지하는 웨이퍼 세정장치에 관한 것이다.

종래의 웨이퍼 세정장치는 제1도에 나타난 바와 같이, 불산용액이 담겨진 소정용기(21)의 측면하단부 일측에는 불산용액과 혼합되어 산화를 촉진시키는 순수가 공급되도록 순수공급노즐(22)이 형성되며, 내부 하단에는 외부로부터 질소를 공급받아 분출시키는 니트로젠 버블러(23)가 놓여진다.

그리고, 상기 니트로젠 버블러(23)의 상단에는 버퍼 플레이트(24)가 구비되는데, 상기 버퍼 플레이트(24)의 상단부에 웨이퍼가 장착된 운반용가이드(도면에 도시하지 않음)가 놓여지도록 구성되어 상기 순수공급노즐(22)로부터 공급되는 순수가 니트로젠 버블러(23)에서 분출된 질소에 의해 위로 올라가면서 웨이퍼 표면의 불순물을 세정하는 것이다.

미설명부호 25는 보조용기로서 용액이 상기 용기의 외부로 넘쳐흐르는 것을 받아 배수관을 통해 버린다.

상기와 같은 구성에 의한 종래의 웨이퍼 세정장치는 상기 버퍼 플레이트와 니트로겐 버블러가 각각 별개로 용기내에 구비되어 있기 때문에 세정공정중 순수가 질소에 의해 버블링될 때, 상기 버퍼 플레이트와 니트로젠 버블러가 부딪침으로써 불순물이 발생되며, 상기 순수주입홀로부터 공급되는 순수가 상측으로 올라가면서 용기의 벽에 부딪히거나 버블링에 의해 와류가 발생되어 웨이퍼의 이동시에 와류지역에 존재하고 있던 불순물이 재흡착되는 사례가 빈전히 발생되므로써 웨이퍼의 세정효과가 떨어지는 문제점이 내표되어 있다.

따라서, 본 고안은 상기의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로써, 용기내에 버퍼 플레이트를 고정시키고, 상기 용기내로 공급되는 순수의 와류가 방지되도록 그의 양측에 노즐을 구비시켜 세정공정중 혹은 세정후 웨이퍼에 불순물이 재흡착되는 것을 방지하는 웨이퍼 세정장치를 제공함에 그 목적이 있다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 고안은, 웨이퍼의 산화막을 식각시키기 위한 웨이퍼 세정장치에 있어서, 그 내측 하단부에 상하로 지그재그되는 형상의 막이 구비되며 상기 웨이퍼의 산화막을 식각하기 위한 소정용액이 담겨진 용기; 상기 용기의 외측면 사단 소정위치에 일체로 경사지게 구비되며 용액이 외부로 넘치는 것을 받아 배수되도록 그 일측면에 배출구가 형성된 보조용기; 상기 막의 상측 소정위치에 위치되되, 상기 용기의 내측면에 소정간격으로 수평되게 장착된 다수의 지지수단; 상기 지지수단의 상측에 놓여져 지지되며, 상기 웨이퍼를 그 상측에 구비시켜 운반하는 소정크기의 운반용가이드; 상기 용기에 구비된 막이 하단부 양측에 그 일측이 끼워지며, 그 타측은 상기 용기 외부로 돌출된 순수공급수단을 제공한다.

이하, 첨부된 제2도 내지 제4도의 도면을 참조하여 본 고안의 실시예를 상세히 설명한다.

제2a, b도는 본 고안에 의한 웨이퍼 세정장치의 일실시예를 나타낸 구성도로서, (a)는 평면도, (b)는 정단면도이고, 제3a, b, c도는 본 고안에 의한 순수공급노즐의 구성도로서, (a)는 노즐의 정단면도, (b)는 측면도, (c)는 상세도이고, 제4도는 본 고안에 의한 웨이퍼 세정장치에서 순수가 공급되어 흐르는 상태도를 각각 나타낸 것이다.

도면에서 1은 용기, 2는 막, 3은 보조용기, 3a는 순수배출구, 4는 지지뱌, 5는 캐리어고정용 가이드, 6은 순수공급노즐, 6a는 공급홀을 각각 나타낸 것이다.

도면에 도시한 바와 같이 본 고안에 의한 웨이퍼 세정장치는 개략적으로 용기내에 불산과 순수를 혼합시킨 용액을 구비시키고, 웨이퍼를 담궈 그의 표면에 존재하는 불순물을 세정시키는 장치로서, 이의 구성을 좀더 상세히 살펴보면, 상기 용기(1)는 그의 내부하단 소정위치에 상하로 지그재그의 형상을 갖는 소정의 막(2)이 구비되며, 상기 용기(1)의 외측상단부 소정위치에는 용액이 외부로 넘치는 것을 받으며, 사용된 순수를 버릴 수 있도록 그 일측면에 순수배출구(3a)가 형성된 보조용기(3)가 일체로 구비된다. 이때, 상기 보조용기(3)는 순수배출구(3a)측으로 경사지게 형성되어 넘치는 순수는 상기 순수배출구(3a)로 향하도록 하였다.

또한, 상기 막(2)의 상단 소정위치에는 용기(1)의 내측면에 소정간격마다 수평으로 고정장착되며, 석영재질로 형성된 다수의 지지바(4)가 구비되며, 상지 지지바(4)의 상측에는 캐리어고정용 가이드(5)가 구비되어 웨이퍼가 구비된 캐리어(도면에 도시하지 않음)가 고정되도록 지지한다.

상기 막(2)의 하단부 양측에는 순수공급노즐(6)이 끼워지는데, 상기 순수공급노즐(6)은 그 타측이 상기 용기(1) 외부로 돌출되어 배관라인(도면에 도시하지 않음)에 의해 상기 보조용기(3)의 순수배출구(3a)와 연결되어 순수를 계속하여 순환공급시키게 되는 것이다.

여기서, 상기 순수공급노즐(6)은 제3도에 도시된 바와 같이 순수가 상측으로 곧게 뻗을 수 있도록 그의 상단 중앙부에 소정크기의 분출홀(6a)이 내부와 통하도록 다수 형성되며, 또한 측면에 형성되되 나선형상을 갖는 공급홀(6b)은 상기 막(2)의 지그재그된 경사부를 타고 상측으로 흐르도록 하므로써 순수의 공급에 따른 와류가 형성되는 것을 억제하여 세정후 웨이퍼의 이동시 그의 불순물이 재흡착되는 것을 방지한 것이다.

상기와 같이 구성되어 작용하는 본 고안은 용기내로 공급되는 순수의 와류 형성을 억제하고, 용기에 지지바를 고정시키므로써 순수공급에 따른 용기 내부기기의 부딪힘이나 웨이퍼의 이동시 와류에 의해 재흡착되는 것을 방지하여 웨이퍼의 세정능력을 향상시키고, 제품의 질 및 수율을 제거시키는 효과가 있다.

Claims (2)

1. 웨이퍼 산화막을 식각시키기 위한 웨이퍼 세정장치에 있어서, 그 내측 하단부에 상하로 지그재그되는 형상의 막(2)이 구비되며, 상기 웨이퍼의 산화막을 식각하기 위한 소정용액이 담겨진 용기(1); 상기 용기(1)의 외측면 상단 소정위치에 일체로 경사지게 구비되며, 용액이 외부로 넘치는 것을 받아 배수되도록 그 일측면에 순수배출구(3a)가 형성된 보조용기(3); 상기 막(2)의 상측 소정위치에 위치되되, 상기 용기(1)의 내측면에 소정간격으로 수평되게 고정, 장착된 다수의 지지수단(4); 상기 지지수단(4)의 상측에 고정, 장착되어 상기 웨이퍼가 구비된 캐리어를 그 상측에 구비시켜 고정하는 소정크기의 캐리어고정용 가이드(5); 상기 용기(1)에 구비된 막(2)의 하단부 양측에 그 일측이 끼워지되, 그 타측은 상기 용기(1) 외부로 돌출된 소정크기의 캐리어고정용 가이드(5); 상기 용기(1)에 구비된 막(2)의 하단부 양측에 그 일측이 끼워지되, 그 타측은 상기 용기(1) 외부로 돌출된 순수공급수단(6)을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.
2. 제1항에 있어서, 상시 순수공급수단(6)은 순수의 공급에 따른 와류가 형성되는 것을 억제하도록 그의 상단부 중앙부에 순수가 상측으로 곧게 뻗도록 소정크기의 분출홀(6a)이 다수 형성되며, 측면에는 순수가 상기 막(2)의 경사부를 타고 흐르도록 나선형상을 갖는 공급홀(6b)이 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.