JP2000031108A - ウエハ洗浄・乾燥装置及びウエハの洗浄・乾燥方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハの洗浄及び引き上げ乾燥の際に洗浄液
中のパーティクルがウエハに付着し難いようにしたウエ
ハ洗浄・乾燥装置を提供する。 【解決手段】 本ウエハ洗浄・乾燥装置４０は、洗浄液
をオーバーフローさせつつウエハを洗浄する洗浄槽４２
と、洗浄したウエハを引き上げ乾燥する乾燥槽１４とを
備えている。洗浄槽は、槽を形成する縦槽壁の一つ４４
Ａが他の縦槽壁４４Ｂ〜Ｄの上端縁より低い上端縁を有
する角筒状上部開放型の槽として構成され、上端縁が低
い縦槽壁４４Ａを介して洗浄液を洗浄槽からオーバーフ
ローさせるようになっている。上端縁が低い槽壁に向か
って洗浄液を洗浄槽の液面に平行に噴出させるノズル孔
４８を多数有するノズル体４６が、上端縁が低い槽壁に
対向する槽壁４４Ｃの上端縁に沿って延在している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハ洗浄・乾燥
装置及びウエハの洗浄・乾燥方法に関し、更に詳細に
は、ウエハの洗浄及び引き上げ乾燥の際に洗浄液中のパ
ーティクルがウエハに付着し難いようにしたウエハ洗浄
・乾燥装置及び洗浄・乾燥方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造過程では、多数のプロ
セス工程の前後で、ウエハを洗浄することが多い。ウエ
ハの洗浄では、ウエハを洗浄槽内で薬液又は純水で洗浄
し、次いで洗浄槽からウエハを引き上げる際に、ウエハ
を乾燥する方式の引き上げ乾燥を行うことが多い。

【０００３】ここで、図９を参照して、従来の引き上げ
乾燥方式のウエハ洗浄・乾燥装置の構成を説明する。図
９は従来の引き上げ乾燥方式のウエハ洗浄・乾燥装置の
構成を示す模式的断面図である。従来の引き上げ乾燥方
式のウエハ洗浄・乾燥装置１０は、図９に示すように、
薬液又は純水を収容して、ウエハを洗浄する上部開放型
の洗浄槽１２と、洗浄槽１２の上部に連結して設けられ
た洗浄外槽１４とを備え、洗浄液をオーバーフローさせ
つつウエハを洗浄槽１２から洗浄外槽１４に引き上げる
方式のウエハ洗浄・乾燥装置である。薬液洗浄の時には
薬液が、純水洗浄の時には純水が、リンス洗浄の時には
純水が、それぞれ、洗浄槽１２に洗浄液として導入され
る。以下、薬液及び純水を纏めて、簡単に洗浄液と言
う。洗浄液は、洗浄槽１２の底部に接続された供給管１
６から洗浄槽１２内に導入され、洗浄槽１２の槽壁をオ
ーバーフローして洗浄外槽１４の底部に流入する。洗浄
外槽１４の底部に流入した洗浄液は、洗浄外槽１４の底
部に設けられた排出管１８から排出される。洗浄外槽１
４は、上槽壁に乾燥気流を導入する気流導入口２０を有
し、対向する２個の縦槽壁に気流を放出する気流放出口
２２を有する。乾燥気流は、ウエハと接触してウエハを
乾燥させる媒体であって、ＩＰＡ（イソプロピルアルコ
ール）中をバブリングさせた窒素ガス、即ちＩＰＡ蒸気
を同伴した窒素ガス等が使用される。

【０００４】ウエハ洗浄・乾燥装置１０を使ってウエハ
を洗浄する際には、ウエハＷをウエハ保持具２４に収容
して、洗浄槽１２内の洗浄液に浸漬する。図１０はウエ
ハ保持具の構成を示す斜視図である。ウエハ保持具２４
は、図１０に示すように、長方形フレームからなる枠体
であって、枠体を構成する横部材の一部の保持材２６に
ウエハＷを位置決めする保持溝２８が設けてある。洗浄
槽１２内でウエハ保持具２４は、保持具リフターの２本
の載置棒３０上に載置される。保持具リフターは、図示
しないが、ウエハ保持具２４を載置棒３０上に保持して
自在に昇降する構成既知の昇降装置である。

【０００５】洗浄が終了した時点で、図１１に示すよう
に、ウエハＷを収容したウエハ保持具２４を保持具リフ
ター３０により洗浄槽１２から洗浄外槽１４に引き上げ
て、洗浄外槽１４内でウエハＷの引き上げ乾燥を行う。
液面付近のパーティクルをウエハに付着させないよう
に、薬液又は純水を洗浄槽１２から洗浄外槽１４の底部
に向かって４方向でオーバーフロー供給し、図１２に示
すように、液面付近のパーティクルを４方向に押し流し
てしまうようにしている。尚、ウエハに平行な２方向の
場合もある。なお、図１１は、従来のウエハ洗浄・乾燥
装置１０を使って引き上げ乾燥する際の様子を説明する
模式的断面図、図１２は図１１の矢視III −III の平面
図であって、洗浄槽からの洗浄液のオーバーフローの様
子を示す図である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ウエハが液面を通過す
る際にウエハを乾燥させる引き上げ乾燥方式では、液面
付近に多く存在するとされるパーティクルを如何にウエ
ハに付着させないようにするかが、一番の重要なポイン
トである。しかし、上述した従来の引き上げ乾燥方式の
ウエハ洗浄・乾燥装置では、２方向又は４方向でオーバ
ーフローさせているので、洗浄槽の中央部液面付近で
は、流れが不安定で、その辺りに比較的多量のパーティ
クルが滞留することになり、滞留したパーティクルがウ
エハに付着する。また、比較的流れの安定した槽中央部
以外の領域でも、ウエハ保持具により流れが妨げられ、
パーティクルがオーバーフロー流れに押し流されること
なく滞留し、滞留したパーティクルがウエハに付着する
ことになる。このように、従来の引き上げ乾燥方式のウ
エハ洗浄・乾燥装置では、液面付近のパーティクルを効
果的に押し流すことが難しく、引き上げ乾燥時にウエハ
にパーティクルが付着し、後続のプロセスの支障となる
ことが多かった。

【０００７】そこで、本発明の目的は、ウエハの洗浄及
び引き上げ乾燥の際に洗浄液中のパーティクルがウエハ
に付着し難いようにしたウエハ洗浄・乾燥装置及び洗浄
・乾燥方法を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者は、ウエハの洗
浄及び引き上げ乾燥の際に洗浄液中のパーティクルがウ
エハに付着し難いようにするには、パーティクルが洗浄
槽内の洗浄液の液面に滞留しないようにすることである
と考え、洗浄液の液面流が安定して流れる一方向オーバ
ーフロー方式を適用することを着想し、実験を重ねて本
発明を完成するに到った。

【０００９】上記目的を達成するために、上述の知見に
基づいて、本発明に係るウエハ洗浄・乾燥装置は、ウエ
ハを洗浄する洗浄槽と、洗浄したウエハを引き上げ乾燥
する乾燥槽とを備え、洗浄液をオーバーフローさせつつ
ウエハを洗浄槽から乾燥槽に引き上げる方式のウエハ洗
浄・乾燥装置において、洗浄槽として、一の縦槽壁が槽
を形成する他の縦槽壁の上端縁より低い上端縁を有する
角筒状上部開放型の槽を備え、一の縦槽壁を介して洗浄
液を洗浄槽からオーバーフローさせるようにしたことを
特徴としている。

【００１０】洗浄槽の形状は、角筒状上部開放型の槽で
ある限り制約はないものの、好適には断面長方形又は正
方形の角筒状上部開放型の槽である。本発明の好適な実
施態様では、上端縁が低い一の槽壁に向かって洗浄液を
洗浄槽の液面に平行に噴出させるノズル孔を多数有する
ノズル体が、一の槽壁に対向する槽壁の上端縁に沿って
延在している。ノズル体の形状には制約はなく、パイプ
状の円管でも角筒状の管体でも良い。ノズル体から洗浄
液を噴出することにより、一の槽壁に向かう一方向のオ
ーバーフローを促進することができる。

【００１１】本発明の更に好適な実施態様では、ウエハ
の洗浄に際し、ウエハを垂直に保持して洗浄槽内に浸漬
させるウエハ保持具であって、ウエハ保持具を構成する
縦部材及び横部材には、保持するウエハのウエハ面に平
行に部材を貫通する多数の貫通孔が設けてあるウエハ保
持具を洗浄槽内に浸漬する。本実施態様では、洗浄槽の
液面流及びノズル体からの噴流がウエハ保持具の貫通部
を通って流れるので、一方向のオーバーフローがウエハ
保持具によって妨害されるようなことは生じない。

【００１２】本発明に係るウエハの洗浄・乾燥方法は、
上述のウエハ洗浄・乾燥装置を使って、ウエハの引き上
げ乾燥する方法であって、ウエハ面が洗浄液のオーバー
フロー流に平行になるように、ウエハ保持具を洗浄槽内
に浸漬し、ウエハ保持具を洗浄槽から引き上げる際、洗
浄液をオーバーフローさせ、かつノズル体から純水を噴
出させつつ、ウエハ保持具を洗浄槽から引き上げること
を特徴としている。本発明方法では、洗浄液が一方向の
オーバーフローとなって洗浄槽から比較的速い流速で流
出するので、パーティクルが液面に滞留することはな
い。従って、パーティクルがウエハに付着して後続のプ
ロセスで支障が生じるようなことはない。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に、実施形態例を挙げ、添付
図面を参照して、本発明の実施の形態を具体的かつ詳細
に説明する。実施形態例１ 本実施形態例は、本発明に係るウエハ洗浄・乾燥装置の
実施形態の一例であって、図１（ａ）は洗浄槽の斜視
図、図１（ｂ）は図１（ａ）の矢視Ｉ−Ｉの洗浄槽の模
式的断面図である。図１から図８に示す部品、部位のう
ち図９から図１２に示すものと同じものには同じ符号を
付してその説明を省略する。本実施形態例のウエハ洗浄
・乾燥装置４０は、洗浄槽４２の構成が異なることを除
いて、図１に示すように、従来の引き上げ乾燥方式のウ
エハ洗浄・乾燥装置１０と同じ構成を備えている。洗浄
槽４２は、４枚の縦槽壁４４Ａ〜Ｄのうちの一枚の槽壁
４４Ａの上端縁の高さが他の３枚の槽壁４４Ｂ〜Ｄの上
端縁より低く形成されている。他の３枚の槽壁４４Ｂ〜
Ｄの上端縁は、同じ高さである。また、洗浄槽４２は、
槽壁４４Ａに対向する槽壁４４Ｃの上端縁に槽壁４４Ｃ
に沿って延在する液面ノズル４６を備えている。洗浄外
槽１４は、洗浄槽４２の上部を取り囲むようにして設け
られ、洗浄槽４２の槽壁４４Ａの上端縁より低い位置に
ある槽底４３から上方に洗浄槽４２の槽壁４４より高い
位置にまで槽壁が延在する。洗浄槽４２に洗浄液を導入
する供給管１６は、洗浄槽４２の底部に接続され、排出
管１８は、洗浄外槽１４の底部に設けてある。

【００１４】液面ノズル４６は、図２に示すように、槽
壁４４Ｃの上端に沿って延在する管体であって、洗浄槽
４２の液面に平行に洗浄液を噴射できるノズル孔４８を
離隔して多数備え、一端又は両端に洗浄液を導入する導
入口５０を備えている。これにより、液面ノズル４６
は、導入口５０から導入した洗浄液を洗浄槽４２の液面
に沿って平行に噴射することができる。図２は液面ノズ
ル４６の斜視図である。ノズル孔４８からの洗浄液噴流
がウエハの間を通って効果的にパーティクルを洗い流す
ことができるようにするために、ノズル孔４８はウエハ
の間に位置するように設けられている。

【００１５】槽壁４４Ａの上端縁が他の槽壁４４Ｂ〜Ｄ
の上端縁より低く、液面ノズル１８から槽壁４４Ａに向
かって洗浄液を噴射することにより、洗浄液は槽壁４４
Ａに向かって槽壁４４Ａから一方向でオーバーフローす
る。

【００１６】本実施形態例でウエハを保持するウエハ保
持具５２は、ウエハを垂直に保持して洗浄槽４２内に浸
漬させるウエハ保持具であって、図３に示すように、貫
通孔５８を備えていることを除いて、図１０に示す従来
のウエハ保持具と同じ基本的構成を備えた枠体として構
成されている。本ウエハ保持具５２では、収容されたウ
エハのウエハ面に平行な多数の貫通孔５８が、枠体を構
成する縦保持材５４及び横保持材５６に設けてある。
尚、図３はウエハ保持具５２の斜視図であって、図３
中、２８はウエハを位置決めするウエハ保持溝である。

【００１７】以上の構成により、図４に示すように、ウ
エハＷを収容したウエハ保持具５２を洗浄槽４２から引
き上げる際、洗浄液の液面流及び液面ノズル４６から噴
射された洗浄液噴流が、ウエハ保持具５２の貫通孔５８
を介して、槽壁４４Ａに向かって流れるので、図５に示
すように、液面水流が槽壁４４Ａに向かって円滑に流
れ、パーティクルの滞留が無くなる。本ウエハ洗浄・乾
燥装置４０では、パーティクルの滞留が無くなるので、
ウエハへのパーティクルの付着は大幅に低減される。図
４はウエハ保持具５２を洗浄槽４２から引き上げる際の
様子を示すウエハ洗浄・乾燥装置の模式的断面図、図５
は図４の矢視II−IIでの平面図であって、洗浄液のオー
バーフローの様子を示す図である。パーティクルを洗い
流すには、オーバーフロー流及び液面ノズルの噴射流と
も流量が多い程良いが、その反面、ウエハの乾燥が難し
くなるので、オーバーフロー流及び液面ノズルの流量を
調整可能とし、好適な条件出しを行って、流量条件を定
める。

【００１８】次いで、図６及び図７を参照し、上述のウ
エハ洗浄・乾燥装置４０を使ってウエハを引き上げ乾燥
する方法を説明する。図６（ａ）、（ｂ）及び図７
（ｃ）、（ｄ）は、それぞれ、ウエハを洗浄し、引き上
げ乾燥する際のウエハ洗浄・乾燥装置の状態を示す模式
的断面図である。先ず、図６（ａ）に示すように、通常
の方法に従って、排出管１８から排出しつつ供給管１６
から洗浄液を洗浄槽４２内に導入し、洗浄槽４２内で洗
浄液によりウエハＷを洗浄する。図６（ａ）中、６０
は、既知の構成の倒れ防止具であって、ウエハＷをウエ
ハ保持具５２から離間させた際にウエハＷが横倒しにな
らないようにウエハＷを保持する機構であって、現在待
機中である。また、６２は、既知の構成のウエハリフタ
ーであって、ウエハ保持具５２内のウエハＷを持ち上げ
てウエハ保持具５２から離間させる機構である。ウエハ
Ｗの洗浄終了後、乾燥気流を所定流量で気流導入口２０
から導入し、気流放出口２２から放出する。次いで、図
６（ｂ）に示すように、液面ノズル４６から洗浄液を噴
出しつつ、ウエハ保持具５２に収容されているウエハＷ
が上部に待機している倒れ防止具６０に接触するまで、
ウエハ保持具５２を保持具リフター３０により上昇させ
る。この時、ウエハリフター６２も保持具リフター３０
と同時に上昇する。液面ノズル４６からの洗浄液の噴出
はウエハＷの洗浄から始めても良い。

【００１９】次いで、ウエハリフター６２を上昇させ、
ウエハＷに接触させる。このとき、ウエハＷは倒れ防止
具６０に接触しており、倒れ防止具６０は動作状態にな
るので、ウエハＷがウエハリフター６２によってウエハ
保持具５２から離間しても横倒れするようなことはな
い。続いて、倒れ防止具６０とウエハリフター６２とを
同じ速度で上昇させ、ウエハリフター６２と倒れ防止具
６２とにより挟持されたウエハＷを、ウエハ保持具５２
から離し、図７（ｃ）に示すように、ウエハＷとウエハ
保持具５２とを非接触状態にする。次いで、ウエハＷと
ウエハ保持具５２との非接触状態からは、保持具リフタ
ー３０、ウエハリフター６２、及び倒れ防止具６０を同
じ速度で上昇させることにより、ウエハＷ及びウエハ保
持具５２を同時に上昇させ、図７（ｄ）に示すように、
洗浄液の液面をウエハＷ及びウエハ保持具５２に通過さ
せる。ここで、引き上げ乾燥が終了する。

【００２０】洗浄終了から乾燥終了までの間、洗浄槽４
２から洗浄外槽１４にオーバーフローするように洗浄液
を供給し、液面ノズル４６からも洗浄液の噴流を噴出さ
せる。尚、ウエハＷの支持をウエハ保持具５２からウエ
ハリフター６２に移すのは、ウエハ保持具５２に接触し
ているウエハＷの接触部も乾燥させるためである。ウエ
ハ保持具５２及びウエハリフター６２のウエハＷとの接
触部は、双方とも溝型状となっているが、ウエハ保持具
５２の溝は、ウエハＷの倒れ防止も兼ねているため幅狭
であるから、ウエハの支持をウエハ保持具５２の溝より
ウエハリフター６２の溝に移した方が、ウエハを乾燥し
易くなるからである。

【００２１】実施形態例２ 本実施形態例は、本発明に係るウエハ洗浄・乾燥装置の
実施形態の別の例であって、実施形態例１のウエハ洗浄
・乾燥装置を更に具体的にしたものである。図８は、本
実施形態例のウエハ洗浄・乾燥装置の構成を示す斜視図
である。実施形態例２のウエハ洗浄・乾燥装置６３は、
実施形態例１のウエハ洗浄・乾燥装置４０に比べて更に
実際的な種々の機構を備えている。図８を参照して、本
実施形態例のウエハ洗浄・乾燥装置６３の動作を説明す
る。図８に示すウエハ洗浄・乾燥装置６３では、洗浄槽
４２は洗浄液を収容した状態、乾燥槽１４及び倒れ防止
具６０は待機の状態、及び、ウエハＷを搭載したウエハ
保持具５２は保持具リフター３０上にセットされた状態
にある。操作者が操作盤６４から動作指令を与えると、
保持具リフター３０、ウエハリフター６２は、それぞ
れ、パルスモーター７０及びボールねじ７２からなる駆
動機構によりロッド６６及び部材６８を介して下降す
る。更に、倒れ防止具６０が、ロッド６７及び部材６９
を介して、シリンダ７４の駆動によりウエハＷの上方に
移動し、また、乾燥槽１４も、シリンダ７５の駆動によ
り洗浄槽４２の上方に移動し、次いで、上下シリンダ７
６の駆動により下降する。以上の動作により、洗浄槽４
２及び乾燥槽１４は、協働して、図６（ａ）に示すよう
に、部屋を形成し、ウエハＷを洗浄することができる。

【００２２】数種類の洗浄液を使ってウエハＷの洗浄を
行った後、実施形態例１で説明したように、引き上げ乾
燥を開始する。パルスモータ７０によって、前述の図６
及び図７に示すように、保持具リフター３０、倒れ防止
具６０及びウエハリフター６２を動作させることによ
り、ウエハＷの引き上げ乾燥を行う。倒れ防止具６０と
ウエハリフター６２の連動は、ウエハリフター６２が上
昇し、ウエハＷに接した瞬間に、部材６８が部材６９を
持ち上げるようにしておけば良い。なお、乾燥動作中
は、一方向オーバーフロー方式で純水を供給し、液面ノ
ズルから純水を噴出させる。

【００２３】これで、ウエハＷの引き上げ乾燥は終了
し、次いで、以下のようにして、ウエハＷ及びウエハ保
持具５２の取り出し動作に移行する。洗浄液を排液した
後、図７（ｄ）に示す状態から図７（ｃ）に示す状態ま
で、保持具リフター３０、倒れ防止具６０及びウエハリ
フター６２を同じ速度で下降させ、図７（ｃ）の状態に
なった時点で、ウエハ保持具５２のみその下降を停止さ
せる。更に、図７（ｃ）の状態から倒れ防止具６０及び
ウエハリフター６２を同じ速度で下降させ、図６（ｂ）
に示す状態にする。図６（ｂ）に示す状態になった時点
で、更に、保持具リフター３０及びウエハリフター６２
を同じ速度で下降させる。図６（ｂ）の状態で、倒れ防
止具６０は、既に下降端にきているので、下降が停止
し、ここに取り残される。保持具リフター３０及びウエ
ハリフター６２が下降すると、最終的には、図６（ａ）
に示す状態になる。但し、洗浄液は洗浄槽４２から排出
された状態にある。次に、シリンダ７６により、乾燥槽
１４を上昇させ、シリンダ７５により初期状態に戻し、
また倒れ防止具６０もシリンダ７４により初期状態に戻
す。これにより、ウエハ洗浄・乾燥装置は、図８に示さ
れた初期の状態に戻っており、操作者は、洗浄されたウ
エハＷとウエハ保持具５２とをウエハ洗浄・乾燥装置６
３から取り出すことができ、ウエハの洗浄・乾燥操作が
完了となる。

【００２４】以上の実施形態例では、純水を使用した引
上乾燥時を例にして本発明に係るウエハ洗浄・乾燥装置
を説明したが、薬液による洗浄時にも効果がある。洗浄
をするということは、液中にパーティクルが増えること
であり、そのパーティクルも、薬液による一方向オーバ
ーフローと、薬液による液面ノズル流により、効果的に
削減することが出来、洗浄効率が向上する。

【００２５】

【発明の効果】本発明によれば、特定した形状の洗浄槽
を備えることにより、洗浄液の液面流が安定して流れる
一方向オーバーフローになり、パーティクルが洗浄槽内
の洗浄液の液面に滞留しないので、引き上げ乾燥に際
し、ウエハにパーティクルが付着するようなことがな
い。また、ノズル体から洗浄液の噴流を噴出することに
より、一層、一方向オーバーフローの流れを促進するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１（ａ）は洗浄槽の斜視図、図１（ｂ）は図
１（ａ）の矢視Ｉ−Ｉの洗浄槽の模式的断面図である。

【図２】液面ノズルの斜視図である。

【図３】ウエハ保持具の斜視図である。

【図４】ウエハ保持具が洗浄槽から引き上げられる様子
を示すウエハ洗浄・乾燥装置の模式的断面図である。

【図５】図４の矢視II−IIでの平面図であって、洗浄液
のオーバーフローの様子を示す図である。

【図６】図６（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ、ウエハを
洗浄し、引き上げ乾燥する際のウエハ洗浄・乾燥装置の
動作及び状態を示す模式的断面図である。

【図７】図７（ｃ）及び（ｄ）は、それぞれ、図６
（ｂ）に続いて、ウエハを洗浄し、引き上げ乾燥する際
のウエハ洗浄・乾燥装置の動作及び状態を示す模式的断
面図である。

【図８】実施形態例２のウエハ洗浄・乾燥装置の構成を
示す斜視図である。

【図９】従来の引き上げ乾燥方式のウエハ洗浄・乾燥装
置の構成を示す模式的断面図である。

【図１０】従来のウエハ保持具の構成を示す斜視図であ
る。

【図１１】従来のウエハ洗浄・乾燥装置を使って引き上
げ乾燥する際の様子を説明する模式的断面図である。

【図１２】洗浄槽からの洗浄液のオーバーフローの様子
を示す、図１１の矢視III −IIIの平面図である。

【符号の説明】

１０……従来の引き上げ乾燥方式のウエハ洗浄・乾燥装
置、１２……洗浄槽、１４……、洗浄外槽、乾燥槽、１
６……供給管、１８……排出管、２０……気流導入口、
２２……気流放出口、２４……従来のウエハ保持具、２
６……保持材、２８……保持溝、３０……保持具リフタ
ーの載置棒、４０……実施形態例２のウエハ洗浄・乾燥
装置、４２……洗浄槽、４４……縦槽壁、４６……液面
ノズル、４８……ノズル孔、５０……導入口、５２……
ウエハ保持具、５４……縦保持材、５６……横保持材、
５８……貫通孔、６０……倒れ防止具、６２……ウエハ
リフター、６３……実施形態例３のウエハ洗浄・乾燥装
置、６４……操作盤、６６、６７……ロッド、６８、６
９……部材、７０……パルスモーター、７２……ボール
ねじ、７４、７５……シリンダ、７６……上下シリン
ダ。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ウエハを洗浄する洗浄槽と、洗浄したウ
   エハを引き上げ乾燥する乾燥槽とを備え、洗浄液をオー
   バーフローさせつつウエハを洗浄槽から乾燥槽に引き上
   げる方式のウエハ洗浄・乾燥装置において、 洗浄槽として、一の縦槽壁が槽を形成する他の縦槽壁の
   上端縁より低い上端縁を有する角筒状上部開放型の槽を
   備え、一の縦槽壁を介して洗浄液を洗浄槽からオーバー
   フローさせるようにしたことを特徴とするウエハ洗浄・
   乾燥装置。
2. 【請求項２】 洗浄槽の液面に平行に一の槽壁に向かっ
   て洗浄液を噴出させるノズル孔を多数有するノズル体
   が、一の槽壁に対向する槽壁の上端縁に沿って延在する
   ことを特徴とする請求項１に記載のウエハの洗浄・乾燥
   装置。
3. 【請求項３】 ウエハの洗浄に際し、ウエハを垂直に保
   持して洗浄槽内に浸漬させるウエハ保持具であって、ウ
   エハ保持具を構成する縦部材及び横部材には、保持する
   ウエハのウエハ面に平行に部材を貫通する多数の貫通孔
   が設けてあるウエハ保持具を洗浄槽内に浸漬するように
   したことを特徴とする請求項１に記載のウエハ洗浄・乾
   燥装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載のウエハ洗浄・乾燥装置
   を使って、ウエハを洗浄し、引き上げ乾燥する方法であ
   って、 ウエハ面が洗浄液のオーバーフロー流に平行になるよう
   に、ウエハ保持具を洗浄槽内に浸漬し、 ウエハ保持具を洗浄槽から引き上げる際、洗浄液をオー
   バーフローさせ、かつノズル体から純水を噴出させつ
   つ、ウエハ保持具を洗浄槽から引き上げることを特徴と
   するウエハの洗浄・乾燥方法。