JPH0878382A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH0878382A JPH0878382A JP23040794A JP23040794A JPH0878382A JP H0878382 A JPH0878382 A JP H0878382A JP 23040794 A JP23040794 A JP 23040794A JP 23040794 A JP23040794 A JP 23040794A JP H0878382 A JPH0878382 A JP H0878382A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエハ面内エッチング量の均一性の向上を図
ることができる洗浄装置を提供する。 【構成】 底部に純水吐出口１６が設けられた洗浄槽１
２と、純水吐出口１６の上方に洗浄槽１２内部の空間を
上下に区画する状態で配置されたパンチングプレート１
４とを備えている。プレート１４上部に配設されたウエ
ハキャリア２２にはウエハ２０が保持されている。プレ
ート１４には、当該プレート１４を介して上方に噴き出
される純水の流速が該プレート１４の略全面に亘って均
一となるような位置又は形状の多数の孔が穿設されてい
る。このため、例えば、ＨＦによるウエハ２０の酸化膜
ウエットエッチング処理終了後、純水吐出口１６から純
水が吐出されると、この純水がプレート１４を介して上
方に噴出し、これにより、ウエハ２０の全面に亘ってＨ
Ｆの純水への置換が略均等に進行する。
ることができる洗浄装置を提供する。 【構成】 底部に純水吐出口１６が設けられた洗浄槽１
２と、純水吐出口１６の上方に洗浄槽１２内部の空間を
上下に区画する状態で配置されたパンチングプレート１
４とを備えている。プレート１４上部に配設されたウエ
ハキャリア２２にはウエハ２０が保持されている。プレ
ート１４には、当該プレート１４を介して上方に噴き出
される純水の流速が該プレート１４の略全面に亘って均
一となるような位置又は形状の多数の孔が穿設されてい
る。このため、例えば、ＨＦによるウエハ２０の酸化膜
ウエットエッチング処理終了後、純水吐出口１６から純
水が吐出されると、この純水がプレート１４を介して上
方に噴出し、これにより、ウエハ２０の全面に亘ってＨ
Ｆの純水への置換が略均等に進行する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は洗浄装置に係り、更に詳
しくは、半導体製造プロセスの洗浄プロセスに用いられ
る連続バッチ処理装置に適用することのできる洗浄装置
に関する。
しくは、半導体製造プロセスの洗浄プロセスに用いられ
る連続バッチ処理装置に適用することのできる洗浄装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年における高度情報化社会では、ＩＣ
（集積回路）の高集積化・高密度化の要請から半導体製
造プロセスにおける超微細化、例えばＩＣの回路パター
ンの線幅の超微細化が急速に進み、これに伴い洗浄プロ
セスの重要性が高くなりつつある。
（集積回路）の高集積化・高密度化の要請から半導体製
造プロセスにおける超微細化、例えばＩＣの回路パター
ンの線幅の超微細化が急速に進み、これに伴い洗浄プロ
セスの重要性が高くなりつつある。
【０００３】中でも、ウエット洗浄（連続バッチ処理）
は、重要なプロセス技術とされている。このウエット洗
浄装置は、ウエハの取扱方式から連続バッチ処理装
置、単槽バッチ処理装置、枚葉処理装置の３タイプ
に分類できるが、この中でも連続バッチ処理装置は従
来から最も信頼されよく使用されている。
は、重要なプロセス技術とされている。このウエット洗
浄装置は、ウエハの取扱方式から連続バッチ処理装
置、単槽バッチ処理装置、枚葉処理装置の３タイプ
に分類できるが、この中でも連続バッチ処理装置は従
来から最も信頼されよく使用されている。
【０００４】連続バッチ処理装置は、搬送ロボットが予
めプログラムされたレシピに従ってウエハの入ったキャ
リアを薬液槽、水洗槽に搬送してウエハをウエット処理
し、最後に乾燥部でウエハを乾燥する装置である。
めプログラムされたレシピに従ってウエハの入ったキャ
リアを薬液槽、水洗槽に搬送してウエハをウエット処理
し、最後に乾燥部でウエハを乾燥する装置である。
【０００５】この連続バッチ処理装置におけるウエット
洗浄において、ウエハを洗浄槽にてＨＦ（フッ酸）洗浄
後に水洗する場合、すなわちＨＦ（フッ酸）を用いる酸
化膜ウエットエッチングの場合には、ＯＲ（オーバーフ
ローリンス）槽が適していることが知られている。
洗浄において、ウエハを洗浄槽にてＨＦ（フッ酸）洗浄
後に水洗する場合、すなわちＨＦ（フッ酸）を用いる酸
化膜ウエットエッチングの場合には、ＯＲ（オーバーフ
ローリンス）槽が適していることが知られている。
【０００６】図４及び図５には、上述のＯＲ槽の従来例
が示されている。
が示されている。
【０００７】図４（Ａ），（Ｂ）に示されるものは、長
手方向に沿って所定間隔で純水噴出用の小孔５０が２列
形成されたパイプ状部材から成る散水管５２が洗浄槽５
４の底部に設けられ、散水管５２から噴き出される純水
により、ＨＦで酸化膜ウエットエッチングされた図示し
ないウエハを洗浄し、これによりウエハ表面のＨＦを純
水に置換してエッチングを停止させようとするものであ
る。
手方向に沿って所定間隔で純水噴出用の小孔５０が２列
形成されたパイプ状部材から成る散水管５２が洗浄槽５
４の底部に設けられ、散水管５２から噴き出される純水
により、ＨＦで酸化膜ウエットエッチングされた図示し
ないウエハを洗浄し、これによりウエハ表面のＨＦを純
水に置換してエッチングを停止させようとするものであ
る。
【０００８】また、図５（Ａ），（Ｂ）に示されるもの
は、洗浄槽５４の底部中央部に純水吐出口５６が２つ所
定間隔で配置され、この純水吐出口５６の上方に洗浄槽
５４内の空間を上下に区画するような状態でパンチング
プレート５８が配置され、純水吐出口５６から吐出され
た純水をパンチングプレート５８に全面に亘って当間隔
で穿設された複数の同一径の孔６０を介して噴出させ、
ＨＦによって酸化膜ウエットエッチングされたウエハを
純水で洗浄し、これによりウエハ表面のＨＦを純水に置
換してエッチングを停止させようとするものである。
は、洗浄槽５４の底部中央部に純水吐出口５６が２つ所
定間隔で配置され、この純水吐出口５６の上方に洗浄槽
５４内の空間を上下に区画するような状態でパンチング
プレート５８が配置され、純水吐出口５６から吐出され
た純水をパンチングプレート５８に全面に亘って当間隔
で穿設された複数の同一径の孔６０を介して噴出させ、
ＨＦによって酸化膜ウエットエッチングされたウエハを
純水で洗浄し、これによりウエハ表面のＨＦを純水に置
換してエッチングを停止させようとするものである。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来例の散水管５２を備えたＯＲ槽にあっては、図４
（Ａ）に示されるように、純水が外側から内側に回り込
み、これが対流を起こすことから、図示しないウエハキ
ャリアを介して散水管に直交かつ略鉛直に保持されたウ
エハの外周部では早くエッチングが抑制されるが、中心
部では純水への置換が遅れるため、エッチングが進行し
てしまい、ウエハ面内エッチング量に極端なばらつきが
生じるという不都合があった。
来例の散水管５２を備えたＯＲ槽にあっては、図４
（Ａ）に示されるように、純水が外側から内側に回り込
み、これが対流を起こすことから、図示しないウエハキ
ャリアを介して散水管に直交かつ略鉛直に保持されたウ
エハの外周部では早くエッチングが抑制されるが、中心
部では純水への置換が遅れるため、エッチングが進行し
てしまい、ウエハ面内エッチング量に極端なばらつきが
生じるという不都合があった。
【００１０】また、前記複数の孔６０が穿設されたパン
チングプレート５８を備えたＯＲ槽にあっては、図５
（Ａ）に示されるように、純水吐出口５６の真上付近で
は噴き出される純水の流速が速く（単位時間に噴き出さ
れる流量が多く）なるため、前記と同様にして図示しな
いウエハキャリアに保持されたウエハの中心部は早くエ
ッチングが抑制されるが、外周部では純水への置換が遅
れるため、エッチングが進行してしまい、この構成にお
いてもウエハ面内エッチング量にばらつきが生じるとい
う不都合があった。
チングプレート５８を備えたＯＲ槽にあっては、図５
（Ａ）に示されるように、純水吐出口５６の真上付近で
は噴き出される純水の流速が速く（単位時間に噴き出さ
れる流量が多く）なるため、前記と同様にして図示しな
いウエハキャリアに保持されたウエハの中心部は早くエ
ッチングが抑制されるが、外周部では純水への置換が遅
れるため、エッチングが進行してしまい、この構成にお
いてもウエハ面内エッチング量にばらつきが生じるとい
う不都合があった。
【００１１】
【発明の目的】本発明は、前記従来技術の有する不都合
に着目して案出されたものであり、その目的は、ウエハ
面内エッチング量の均一性の向上を図ることができる洗
浄装置を提供することにある。
に着目して案出されたものであり、その目的は、ウエハ
面内エッチング量の均一性の向上を図ることができる洗
浄装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、底部に純水吐出口が設けられた洗浄槽
と、前記純水吐出口の上方位置で洗浄槽の内部空間を上
下に区画するパンチングプレートとを備え、前記パンチ
ングプレートの上部に配設されるウエハキャリアを介し
てウエハを保持し、前記パンチングプレートの下方から
上方に噴き出される純水にてウエハを洗浄する洗浄装置
において、前記パンチングプレートに、当該パンチング
プレートを介して上方に噴き出される純水の流速がパン
チングプレートの略全面に亘って均一となる位置又は形
状の多数の孔を穿設する、という構成を採っている。
め、本発明は、底部に純水吐出口が設けられた洗浄槽
と、前記純水吐出口の上方位置で洗浄槽の内部空間を上
下に区画するパンチングプレートとを備え、前記パンチ
ングプレートの上部に配設されるウエハキャリアを介し
てウエハを保持し、前記パンチングプレートの下方から
上方に噴き出される純水にてウエハを洗浄する洗浄装置
において、前記パンチングプレートに、当該パンチング
プレートを介して上方に噴き出される純水の流速がパン
チングプレートの略全面に亘って均一となる位置又は形
状の多数の孔を穿設する、という構成を採っている。
【００１３】また、前記洗浄装置において、前記ウエハ
キャリア又はパンチングプレートのいずれか一方に、前
記ウエハを前記パンチングプレートを介して上方に噴き
出される水流の方向に対して所定角度傾斜させる傾斜手
段を更に設ける、という構成も採用されている。
キャリア又はパンチングプレートのいずれか一方に、前
記ウエハを前記パンチングプレートを介して上方に噴き
出される水流の方向に対して所定角度傾斜させる傾斜手
段を更に設ける、という構成も採用されている。
【００１４】
【作用】本発明によれば、例えば、ＨＦによるウエハの
酸化膜ウエットエッチング処理終了後、純水吐出口から
純水が吐出されると、この純水がパンチングプレートの
各孔を通って上方に噴出し、これによりウエハキャリア
に保持されたウエハが洗浄され、ウエハ表面のＨＦが純
水に置換されてエッチングが抑制（又は停止）されるこ
ととなる。
酸化膜ウエットエッチング処理終了後、純水吐出口から
純水が吐出されると、この純水がパンチングプレートの
各孔を通って上方に噴出し、これによりウエハキャリア
に保持されたウエハが洗浄され、ウエハ表面のＨＦが純
水に置換されてエッチングが抑制（又は停止）されるこ
ととなる。
【００１５】この場合において、パンチングプレートに
は、当該パンチングプレートを介して上方に噴き出され
る純水の流速がパンチングプレートの略全面に亘って均
一となるような位置又は形状の多数の孔が穿設されてい
ることから、ウエハの全面に亘ってＨＦの純水への置換
が略均等に進行する。
は、当該パンチングプレートを介して上方に噴き出され
る純水の流速がパンチングプレートの略全面に亘って均
一となるような位置又は形状の多数の孔が穿設されてい
ることから、ウエハの全面に亘ってＨＦの純水への置換
が略均等に進行する。
【００１６】また、前記洗浄装置において、付加的に傾
斜手段を設けた構成によれば、ウエハの全面に亘ってＨ
Ｆの純水への置換が略均等に進行することはもとより、
傾斜手段によってウエハがパンチングプレートを介して
上方に噴き出される水流の方向に対して所定角度傾斜さ
せられていることから、純水がウエハの表面に沿ってよ
り上方まで這い上がる作用を促進することとなる。
斜手段を設けた構成によれば、ウエハの全面に亘ってＨ
Ｆの純水への置換が略均等に進行することはもとより、
傾斜手段によってウエハがパンチングプレートを介して
上方に噴き出される水流の方向に対して所定角度傾斜さ
せられていることから、純水がウエハの表面に沿ってよ
り上方まで這い上がる作用を促進することとなる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１ないし図３を
参照しながら説明する。
参照しながら説明する。
【００１８】図１ないし図２には、本実施例に係る洗浄
装置１０の概略構成が示されている。この洗浄装置１０
は、上面が開口した箱型の洗浄槽１２と、この洗浄槽１
２の底面近傍に当該洗浄槽１２の内部空間を上下に区画
する状態で略水平に配置されたパンチングプレート１４
とを備えている。パンチングプレート１４の下方には、
図示しない配管を介して純水供給源に接続された純水吐
出口１６が相互に所定間隔を隔てて２つ設けられてい
る。さらに、ここでは図示省略しているが、洗浄槽１２
は、実際には洗浄槽１２よりも大きな回収槽内部に収容
され、この洗浄槽１２からオーバーフローした純水は回
収槽に設けられた排出口から排出されるようになってい
る。
装置１０の概略構成が示されている。この洗浄装置１０
は、上面が開口した箱型の洗浄槽１２と、この洗浄槽１
２の底面近傍に当該洗浄槽１２の内部空間を上下に区画
する状態で略水平に配置されたパンチングプレート１４
とを備えている。パンチングプレート１４の下方には、
図示しない配管を介して純水供給源に接続された純水吐
出口１６が相互に所定間隔を隔てて２つ設けられてい
る。さらに、ここでは図示省略しているが、洗浄槽１２
は、実際には洗浄槽１２よりも大きな回収槽内部に収容
され、この洗浄槽１２からオーバーフローした純水は回
収槽に設けられた排出口から排出されるようになってい
る。
【００１９】前記洗浄槽１２の材質としては、例えば、
不純物濃度が低い石英が使用され、純水吐出口１６に接
続された図示しない配管の材質は、クリーン度、耐熱性
（熱殺菌対応）の点でＰＶＤＦが一般的に用いられる。
不純物濃度が低い石英が使用され、純水吐出口１６に接
続された図示しない配管の材質は、クリーン度、耐熱性
（熱殺菌対応）の点でＰＶＤＦが一般的に用いられる。
【００２０】前記パンチングプレート１４には、図３の
平面図に示されるように、純水吐出口１６の真上近傍と
周辺部とで密度が異なるように配置された同一直径の孔
からなる純水噴出口１８が少なくとも５０個以上穿設さ
れている。ここで、純水噴出口１８の直径は、ある程度
小さく設定することが、噴き出される純水の対流を抑制
する点では好ましい。因みに、本実施例における純水噴
出口１８の直径は２mm以下に設定されている。ここで、
純水噴出口１８は、純水吐出口１６の真上近傍でその密
度が疎、周辺部で密となるように配置されている。これ
により、図１に示されるように、各純水噴出口１８から
噴き出される純水の流速をパンチングプレート１４の略
全面に亘って均一とすることができる。
平面図に示されるように、純水吐出口１６の真上近傍と
周辺部とで密度が異なるように配置された同一直径の孔
からなる純水噴出口１８が少なくとも５０個以上穿設さ
れている。ここで、純水噴出口１８の直径は、ある程度
小さく設定することが、噴き出される純水の対流を抑制
する点では好ましい。因みに、本実施例における純水噴
出口１８の直径は２mm以下に設定されている。ここで、
純水噴出口１８は、純水吐出口１６の真上近傍でその密
度が疎、周辺部で密となるように配置されている。これ
により、図１に示されるように、各純水噴出口１８から
噴き出される純水の流速をパンチングプレート１４の略
全面に亘って均一とすることができる。
【００２１】図１及び図２において、パンチングプレー
ト１４上には、複数枚のウエハ２０を保持するウエハキ
ャリア２２が載置されている。このウエハキャリア２２
とパンチングプレート１４との間には、ウエハキャリア
２２を介してウエハ２０を鉛直方向（水流の方向）から
所定角度傾斜させる傾斜手段２４が介装されている。こ
の傾斜手段２４は、本実施例ではウエハキャリア２２の
底面に一体的に設けられた断面台形状の一組の棒状部材
から構成されているが、パンチングプレート１４側にこ
の傾斜手段を設けてもよい。
ト１４上には、複数枚のウエハ２０を保持するウエハキ
ャリア２２が載置されている。このウエハキャリア２２
とパンチングプレート１４との間には、ウエハキャリア
２２を介してウエハ２０を鉛直方向（水流の方向）から
所定角度傾斜させる傾斜手段２４が介装されている。こ
の傾斜手段２４は、本実施例ではウエハキャリア２２の
底面に一体的に設けられた断面台形状の一組の棒状部材
から構成されているが、パンチングプレート１４側にこ
の傾斜手段を設けてもよい。
【００２２】次に、上述のようにして構成された本実施
例の洗浄装置１０による洗浄プロセスを含むウエットエ
ッチングプロセスについて説明する。
例の洗浄装置１０による洗浄プロセスを含むウエットエ
ッチングプロセスについて説明する。
【００２３】純水と調合され、循環瀘過、温調された
ＨＦを初期作業として洗浄槽へ溜める。
ＨＦを初期作業として洗浄槽へ溜める。
【００２４】被エッチング材（熱酸化膜、ＣＶＤ膜）
が堆積されたウエハ２０を、ウエハキャリア２２に保持
させた状態で洗浄槽内へ浸漬し、所定の時間エッチング
する。
が堆積されたウエハ２０を、ウエハキャリア２２に保持
させた状態で洗浄槽内へ浸漬し、所定の時間エッチング
する。
【００２５】その後、図１ないし図２に示されるよう
に、洗浄槽１２内のパンチングプレート１４上のウエハ
キャリア２２に保持されたウエハ２０の洗浄を行なう。
具体的には、純水吐出口１６から純水を吐出し、この純
水をパンチングプレート１４に穿設された純水噴出口１
８を介して鉛直上方に噴出させることにより、ウエハ表
面を洗浄してウエハ表面のＨＦを純水に置換してエッチ
ングを停止させる。
に、洗浄槽１２内のパンチングプレート１４上のウエハ
キャリア２２に保持されたウエハ２０の洗浄を行なう。
具体的には、純水吐出口１６から純水を吐出し、この純
水をパンチングプレート１４に穿設された純水噴出口１
８を介して鉛直上方に噴出させることにより、ウエハ表
面を洗浄してウエハ表面のＨＦを純水に置換してエッチ
ングを停止させる。
【００２６】次いで、水洗槽へ移動し、水洗の後、図
示しない乾燥部でウエハ２０を乾燥し、ウエットエッチ
ングプロセスを終了する。なお、この場合において、水
洗工程の代わりに次洗浄工程が行なわれることもある。
示しない乾燥部でウエハ２０を乾燥し、ウエットエッチ
ングプロセスを終了する。なお、この場合において、水
洗工程の代わりに次洗浄工程が行なわれることもある。
【００２７】従って、本実施例によれば、前述したよう
に、パンチングプレート１４の純水噴出口１８は、その
直径が小さく（２ｍｍ以下）され、しかも純水吐出口１
６の真上近傍でその密度が疎、周辺部で密となるように
配置され、各純水噴出口１８から噴き出される純水の流
速がパンチングプレート１４の略全面に亘って均一とな
るように設定されていることから、水面を静かに保って
純水の流れを乱さずに対流を抑制することができ、これ
らの作用を通じてウエハ２０表面のＨＦの純水への置換
がウエハ２０の全面に亘って略均等に進行されることと
なり、ひいてはＨＦによるウエハ２０の酸化膜ウエット
エッチング処理終了後にウエハ２０の洗浄を行なうこと
により、エッチング量のウエハ２０の面内均一性を従来
に比べて向上させることができるという効果がある。
に、パンチングプレート１４の純水噴出口１８は、その
直径が小さく（２ｍｍ以下）され、しかも純水吐出口１
６の真上近傍でその密度が疎、周辺部で密となるように
配置され、各純水噴出口１８から噴き出される純水の流
速がパンチングプレート１４の略全面に亘って均一とな
るように設定されていることから、水面を静かに保って
純水の流れを乱さずに対流を抑制することができ、これ
らの作用を通じてウエハ２０表面のＨＦの純水への置換
がウエハ２０の全面に亘って略均等に進行されることと
なり、ひいてはＨＦによるウエハ２０の酸化膜ウエット
エッチング処理終了後にウエハ２０の洗浄を行なうこと
により、エッチング量のウエハ２０の面内均一性を従来
に比べて向上させることができるという効果がある。
【００２８】また、図２に示されるように、水流に対し
てウエハ２０の面が幾分傾斜している構成を採用したか
ら、純水がウエハ２０の表面に沿ってより上方へ這い上
がる作用を強く促進でき、従って、大型のウエハ２０で
あっても上下でのエッチング量の差を減少させることが
可能になるという効果も達成される。
てウエハ２０の面が幾分傾斜している構成を採用したか
ら、純水がウエハ２０の表面に沿ってより上方へ這い上
がる作用を強く促進でき、従って、大型のウエハ２０で
あっても上下でのエッチング量の差を減少させることが
可能になるという効果も達成される。
【００２９】なお、前記実施例では、パンチングプレー
ト１４に同一直径の小孔（純水噴出口１８）を多数設け
その配置を工夫する場合を例示したが、本発明はこれに
限定されるものではなく、例えばパンチングプレート１
４に従来と同様に純水噴出口を等間隔で配置し、各純水
噴出口の直径を純水吐出口１６の真上近傍で小さく周辺
部に行くにしたがって大きくするようにし、これによっ
て各純水噴出口から噴き出される純水の流速がパンチン
グプレート１４の全面に亘って略均一となるようにして
もよい。
ト１４に同一直径の小孔（純水噴出口１８）を多数設け
その配置を工夫する場合を例示したが、本発明はこれに
限定されるものではなく、例えばパンチングプレート１
４に従来と同様に純水噴出口を等間隔で配置し、各純水
噴出口の直径を純水吐出口１６の真上近傍で小さく周辺
部に行くにしたがって大きくするようにし、これによっ
て各純水噴出口から噴き出される純水の流速がパンチン
グプレート１４の全面に亘って略均一となるようにして
もよい。
【００３０】また、前記実施例では、洗浄の際、ウエハ
２０を水流に対して所定角度傾斜させる場合を例示した
が、これは、水流をウエハ２０の表面に沿ってなるべく
上方へ這い上がらせ、大型のウエハ（例えば、７インチ
径、８インチ径）であってもウエハ上下でのエッチング
量の差を減少させるためにこのようにしたものであり、
小型のウエハ（例えば、２インチ径、３インチ径）のみ
に使用する場合は必ずしも傾斜させる必要はない。
２０を水流に対して所定角度傾斜させる場合を例示した
が、これは、水流をウエハ２０の表面に沿ってなるべく
上方へ這い上がらせ、大型のウエハ（例えば、７インチ
径、８インチ径）であってもウエハ上下でのエッチング
量の差を減少させるためにこのようにしたものであり、
小型のウエハ（例えば、２インチ径、３インチ径）のみ
に使用する場合は必ずしも傾斜させる必要はない。
【００３１】さらに、前記実施例ではオーバーフローリ
ンス槽を有する洗浄装置に本発明を適用する場合を例示
したが、シャワー機能を有するＱＤＲ槽（クイックダン
プリンス）槽にも本発明は適用可能である。
ンス槽を有する洗浄装置に本発明を適用する場合を例示
したが、シャワー機能を有するＱＤＲ槽（クイックダン
プリンス）槽にも本発明は適用可能である。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
例えば、ＨＦによるウエハの酸化膜ウエットエッチング
処理終了後、純水吐出口から純水が吐出されると、この
純水がパンチングプレートを介して上方に噴出し、ウエ
ハの全面に亘ってＨＦの純水への置換が略均等に進行す
ることから、ウエハの全面で略同時にエッチングが停止
し、これにより、ウエハ面内エッチング量の均一性の向
上を図ることができる、という従来にない優れた効果を
奏する洗浄装置を提供することができる。
例えば、ＨＦによるウエハの酸化膜ウエットエッチング
処理終了後、純水吐出口から純水が吐出されると、この
純水がパンチングプレートを介して上方に噴出し、ウエ
ハの全面に亘ってＨＦの純水への置換が略均等に進行す
ることから、ウエハの全面で略同時にエッチングが停止
し、これにより、ウエハ面内エッチング量の均一性の向
上を図ることができる、という従来にない優れた効果を
奏する洗浄装置を提供することができる。
【００３３】また、傾斜手段を付加的に設けた洗浄装置
においては、前記傾斜手段によってウエハがパンチング
プレートを介して噴き出される水流に対して所定角度傾
斜させられていることから、純水をウエハの表面に沿っ
てより上方まで這い上がるようにすることができ、これ
によって大型のウエハであってもその上下でのエッチン
グ量の差を減少させることができるという効果がある。
においては、前記傾斜手段によってウエハがパンチング
プレートを介して噴き出される水流に対して所定角度傾
斜させられていることから、純水をウエハの表面に沿っ
てより上方まで這い上がるようにすることができ、これ
によって大型のウエハであってもその上下でのエッチン
グ量の差を減少させることができるという効果がある。
【図１】 本発明の一実施例を概略的に示した断面図で
ある。
ある。
【図２】 図１のＡ−Ａ線矢視概略断面図である。
【図３】 ウエハキャリアを除去した後の状態を示す図
１の概略平面図である。
１の概略平面図である。
【図４】 従来の散水管を備えたＯＲ槽の構成を概略的
に示す図であって、（Ａ）は概略断面図、（Ｂ）は
（Ａ）の概略平面図である。
に示す図であって、（Ａ）は概略断面図、（Ｂ）は
（Ａ）の概略平面図である。
【図５】 従来のパンチングプレートを備えたＯＲ槽の
構成を概略的に示す図であって、（Ａ）は概略断面図、
（Ｂ）は（Ａ）の概略平面図である。
構成を概略的に示す図であって、（Ａ）は概略断面図、
（Ｂ）は（Ａ）の概略平面図である。
１０・・・洗浄装置、１２・・・洗浄槽、１４・・・パ
ンチングプレート、１６・・・純水吐出口、１８・・・
純水噴出口、２０・・・ウエハ、２２・・・ウエハキャ
リア、２４・・・傾斜手段
ンチングプレート、１６・・・純水吐出口、１８・・・
純水噴出口、２０・・・ウエハ、２２・・・ウエハキャ
リア、２４・・・傾斜手段
Claims (2)
- 【請求項１】 底部に純水吐出口が設けられた洗浄槽
と、前記純水吐出口の上方位置で洗浄槽の内部空間を上
下に区画するパンチングプレートとを備え、前記パンチ
ングプレートの上部に配設されるウエハキャリアを介し
てウエハを保持し、前記パンチングプレートの下方から
上方に噴き出される純水にてウエハを洗浄する洗浄装置
において、 前記パンチングプレートに、当該パンチングプレートを
介して上方に噴き出される純水の流速がパンチングプレ
ートの略全面に亘って均一となる位置又は形状の多数の
孔を穿設したことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項２】 前記ウエハキャリア又はパンチングプレ
ートのいずれか一方に、前記ウエハを前記パンチングプ
レートを介して上方に噴き出される水流の方向に対して
所定角度傾斜させる傾斜手段が更に設けられていること
を特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23040794A JPH0878382A (ja) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23040794A JPH0878382A (ja) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0878382A true JPH0878382A (ja) | 1996-03-22 |
Family
ID=16907408
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23040794A Withdrawn JPH0878382A (ja) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0878382A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103878141A (zh) * | 2014-03-24 | 2014-06-25 | 安徽安芯电子科技有限公司 | 半导体晶圆清洗装置 |
-
1994
- 1994-08-31 JP JP23040794A patent/JPH0878382A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103878141A (zh) * | 2014-03-24 | 2014-06-25 | 安徽安芯电子科技有限公司 | 半导体晶圆清洗装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20011106 |