JPH06124934A - ウエット洗浄装置 - Google Patents
ウエット洗浄装置Info
- Publication number
- JPH06124934A JPH06124934A JP27327192A JP27327192A JPH06124934A JP H06124934 A JPH06124934 A JP H06124934A JP 27327192 A JP27327192 A JP 27327192A JP 27327192 A JP27327192 A JP 27327192A JP H06124934 A JPH06124934 A JP H06124934A
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- Japan
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- chemical
- cleaning
- tank
- chemical liquid
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Abstract
(57)【要約】
【目的】洗浄槽の薬液中にパーティクルが滞留するのを
防ぎつつ、しかも洗浄槽から洗浄済みの被洗浄ワークを
引き上げる際に、パーティクルがワークに再付着するの
防止するようにした洗浄効果の高いウエット洗浄装置を
提供する。 【構成】洗浄槽１の内槽２と外槽３との間に送液ポンプ
６, フィルタ７を経由する薬液循環回路５を接続し、ウ
ェーハ８（被洗浄ワーク）を内槽の薬液中に浸漬した状
態で薬液を循環送流させながら洗浄するウエット洗浄装
置において、薬液循環回路に弁９〜１２を接続し、ワー
クの洗浄タクトに合わせて、洗浄開始から搬出までの洗
浄工程で第１の循環モードを選択して薬液を実線矢印方
向に循環送流し、次のワーク搬入までの待ち工程で第２
の循環モードを選択して薬液を点線矢印方向に循環送流
してバッチ処理方式によりワーク洗浄を行う。
防ぎつつ、しかも洗浄槽から洗浄済みの被洗浄ワークを
引き上げる際に、パーティクルがワークに再付着するの
防止するようにした洗浄効果の高いウエット洗浄装置を
提供する。 【構成】洗浄槽１の内槽２と外槽３との間に送液ポンプ
６, フィルタ７を経由する薬液循環回路５を接続し、ウ
ェーハ８（被洗浄ワーク）を内槽の薬液中に浸漬した状
態で薬液を循環送流させながら洗浄するウエット洗浄装
置において、薬液循環回路に弁９〜１２を接続し、ワー
クの洗浄タクトに合わせて、洗浄開始から搬出までの洗
浄工程で第１の循環モードを選択して薬液を実線矢印方
向に循環送流し、次のワーク搬入までの待ち工程で第２
の循環モードを選択して薬液を点線矢印方向に循環送流
してバッチ処理方式によりワーク洗浄を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェーハ，液晶
ガラス基板などの洗浄処理，例えばレジスト剥離処理に
適用するウエット洗浄装置、特にその薬液洗浄槽に対す
る薬液循環ろ過方式に関する。
ガラス基板などの洗浄処理，例えばレジスト剥離処理に
適用するウエット洗浄装置、特にその薬液洗浄槽に対す
る薬液循環ろ過方式に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェーハのウエット洗浄装置を対
象に、従来より実施されている薬液洗浄槽の薬液循環ろ
過方式を図２（ａ),（ｂ）に示す。図において、１は内
槽２，外槽３からなる洗浄槽、４は洗浄槽１に満たした
薬液、５は前記内槽２と外槽３との間に送液ポンプ６，
フィルタ７を経由して外部接続した薬液循環回路、８は
ウェーハであり、ウェーハ８の洗浄は次のように行われ
る。
象に、従来より実施されている薬液洗浄槽の薬液循環ろ
過方式を図２（ａ),（ｂ）に示す。図において、１は内
槽２，外槽３からなる洗浄槽、４は洗浄槽１に満たした
薬液、５は前記内槽２と外槽３との間に送液ポンプ６，
フィルタ７を経由して外部接続した薬液循環回路、８は
ウェーハであり、ウェーハ８の洗浄は次のように行われ
る。
【０００３】まず、前段のパターン処理工程でレジスト
露光，フォトエッチングされたウェーハ８（被洗浄ワー
ク）を洗浄槽１の内槽２に搬入して薬液（有機溶剤）４
に浸漬し、ここで薬液４を循環回路５と間で循環送流さ
せながら洗浄し、ウェーハ８に付着している不要レジス
ト，塵埃などを洗い流す。そして、洗浄済みのウェーハ
は洗浄槽１から引き上げて次の乾燥工程に搬送した後、
次に送られて来たウェーハを前回と同様に洗浄槽１に挿
入して洗浄するようにバッチ処理される。また、前記の
薬液循環により薬液４はフィルタ５にてろ過され、ウェ
ーハ８から剥離したレジスト，塵埃などはフィルタ５に
捕集されて薬液から取り除かれる。
露光，フォトエッチングされたウェーハ８（被洗浄ワー
ク）を洗浄槽１の内槽２に搬入して薬液（有機溶剤）４
に浸漬し、ここで薬液４を循環回路５と間で循環送流さ
せながら洗浄し、ウェーハ８に付着している不要レジス
ト，塵埃などを洗い流す。そして、洗浄済みのウェーハ
は洗浄槽１から引き上げて次の乾燥工程に搬送した後、
次に送られて来たウェーハを前回と同様に洗浄槽１に挿
入して洗浄するようにバッチ処理される。また、前記の
薬液循環により薬液４はフィルタ５にてろ過され、ウェ
ーハ８から剥離したレジスト，塵埃などはフィルタ５に
捕集されて薬液から取り除かれる。
【０００４】ここで、図２（ａ）では、薬液４を内槽２
の底部側から導入し、その上面から外槽３にオーバーフ
ローさせた後に循環回路５に戻して薬液をろ過すように
循環送流する方式であり、内槽２の液面に浮上したパー
ティクルはオーバーフロー流と一緒に外槽３に流出する
ので、特に浮上し易いパーティクルが多く発生する場合
に採用されている。これに対して図２（ｂ）では、薬液
４を外槽３から導入して内槽２にオーバーフローさせた
後、内槽２の底部より循環回路５に戻してろ過するよう
に循環送流する方式であり、この方式の特徴は内槽２に
沈澱するパーティクルが薬液と一緒に内槽の底部側から
排除されるので、特に液中に沈澱し易いパーティクルが
多い場合に有効である。
の底部側から導入し、その上面から外槽３にオーバーフ
ローさせた後に循環回路５に戻して薬液をろ過すように
循環送流する方式であり、内槽２の液面に浮上したパー
ティクルはオーバーフロー流と一緒に外槽３に流出する
ので、特に浮上し易いパーティクルが多く発生する場合
に採用されている。これに対して図２（ｂ）では、薬液
４を外槽３から導入して内槽２にオーバーフローさせた
後、内槽２の底部より循環回路５に戻してろ過するよう
に循環送流する方式であり、この方式の特徴は内槽２に
沈澱するパーティクルが薬液と一緒に内槽の底部側から
排除されるので、特に液中に沈澱し易いパーティクルが
多い場合に有効である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記した図
２（ａ）あるいは（ｂ）に示した従来の薬液循環ろ過方
式では次記のような問題点が残る。すなわち、薬液洗浄
に伴いウェーハ８から剥離して液中に移行したレジスト
などのパーティクルは、その全てが液面上に浮上した
り、あるいは全てが沈澱することはなく、パーティクル
の一部は液面上で空気に触れた際に空気を含んでそのま
ま浮上し、残りは薬液中を沈降して底部側に沈澱するよ
うになる。このために、図２（ａ）の方式では内槽２の
液面に浮上したパーティクルはオーバーフローにより良
好に内槽２から排除できるが、内槽２の槽内底部には沈
澱したパーティクルが槽内に滞留して次第に蓄積し、こ
れが槽内を上昇する薬液流に乗って再び拡散するような
状態を繰り返す。一方、図２（ｂ）の方式は前記とは逆
に内槽２に沈澱したパーティクルは槽内底部から容易に
排除できる反面、液面上には浮上パーティクルが滞留し
たままとなる。しかも、特に後者では内槽２の液面上に
パーティクルが多く浮上したまま滞留しているため、ウ
ェーハ８を洗浄後に内槽２から引き上げる途中で浮上パ
ーティクルがウェーハに再付着するといった問題が生じ
る。
２（ａ）あるいは（ｂ）に示した従来の薬液循環ろ過方
式では次記のような問題点が残る。すなわち、薬液洗浄
に伴いウェーハ８から剥離して液中に移行したレジスト
などのパーティクルは、その全てが液面上に浮上した
り、あるいは全てが沈澱することはなく、パーティクル
の一部は液面上で空気に触れた際に空気を含んでそのま
ま浮上し、残りは薬液中を沈降して底部側に沈澱するよ
うになる。このために、図２（ａ）の方式では内槽２の
液面に浮上したパーティクルはオーバーフローにより良
好に内槽２から排除できるが、内槽２の槽内底部には沈
澱したパーティクルが槽内に滞留して次第に蓄積し、こ
れが槽内を上昇する薬液流に乗って再び拡散するような
状態を繰り返す。一方、図２（ｂ）の方式は前記とは逆
に内槽２に沈澱したパーティクルは槽内底部から容易に
排除できる反面、液面上には浮上パーティクルが滞留し
たままとなる。しかも、特に後者では内槽２の液面上に
パーティクルが多く浮上したまま滞留しているため、ウ
ェーハ８を洗浄後に内槽２から引き上げる途中で浮上パ
ーティクルがウェーハに再付着するといった問題が生じ
る。
【０００６】本発明は上記の点にかんがみなされたもの
であり、その目的は前記課題を解決し、洗浄槽内の薬液
中にパーティクルが滞留するのを効果的に防ぎつつ、し
かも洗浄槽から被洗浄ワークを引き上げる際に浮上パー
ティクルがワークに再付着するのを良好に防止できるよ
うにした洗浄効果の高いウエット洗浄装置、特にその薬
液循環ろ過方式を提供することにある。
であり、その目的は前記課題を解決し、洗浄槽内の薬液
中にパーティクルが滞留するのを効果的に防ぎつつ、し
かも洗浄槽から被洗浄ワークを引き上げる際に浮上パー
ティクルがワークに再付着するのを良好に防止できるよ
うにした洗浄効果の高いウエット洗浄装置、特にその薬
液循環ろ過方式を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のウエット洗浄装置においては、薬液を内槽
底部より導入して外槽にオーバーフローさせた後に薬液
循環回路に戻す第１の循環モードと、逆に薬液を外槽へ
導入して内槽底部より薬液循環回路に戻す第２の循環モ
ードとに選択的に切換える薬液循環モード切換え手段を
備えるものとする。
に、本発明のウエット洗浄装置においては、薬液を内槽
底部より導入して外槽にオーバーフローさせた後に薬液
循環回路に戻す第１の循環モードと、逆に薬液を外槽へ
導入して内槽底部より薬液循環回路に戻す第２の循環モ
ードとに選択的に切換える薬液循環モード切換え手段を
備えるものとする。
【０００８】ここで、前記の薬液循環モード切換え手段
は、フィルタに対して薬液を常に定方向に流してろ過さ
せるように薬液循環回路に接続した切換配管路，切換弁
で構成するものとする。また、薬液循環モードの切換え
を、ワークの洗浄タクトに合わせて洗浄開始から搬出ま
での洗浄工程で第１の循環モードを選択し、次のワーク
搬入までの待ち工程で第２の循環モードを選択して実施
するのがよい。
は、フィルタに対して薬液を常に定方向に流してろ過さ
せるように薬液循環回路に接続した切換配管路，切換弁
で構成するものとする。また、薬液循環モードの切換え
を、ワークの洗浄タクトに合わせて洗浄開始から搬出ま
での洗浄工程で第１の循環モードを選択し、次のワーク
搬入までの待ち工程で第２の循環モードを選択して実施
するのがよい。
【０００９】
【作用】上記において、被洗浄ワークを洗浄槽に搬入し
て洗浄した後、洗浄済みワークを洗浄槽から引き上げる
までの洗浄工程で第１の循環モードを選択すると、ワー
クから薬液中に移行したパーティクルのうち、洗浄槽の
内槽液面に浮上したパーティクルは、オーバーフロー流
に乗って内槽から外槽に排除された後、薬液循環回路の
フィルタで捕集除去される。これにより内槽の液面は浮
上パーティクルの滞留が殆どない状態に保たれるので、
洗浄後にワークを引き上げる際に浮上パーティクルがワ
ークに再付着することが防止される。
て洗浄した後、洗浄済みワークを洗浄槽から引き上げる
までの洗浄工程で第１の循環モードを選択すると、ワー
クから薬液中に移行したパーティクルのうち、洗浄槽の
内槽液面に浮上したパーティクルは、オーバーフロー流
に乗って内槽から外槽に排除された後、薬液循環回路の
フィルタで捕集除去される。これにより内槽の液面は浮
上パーティクルの滞留が殆どない状態に保たれるので、
洗浄後にワークを引き上げる際に浮上パーティクルがワ
ークに再付着することが防止される。
【００１０】一方、第２の循環モードを選択すれば、洗
浄槽の内槽に沈澱したパーティクルは薬液と一緒に洗浄
槽から排出された後、薬液循環回路のフィルタで捕集さ
れる。したがって、洗浄したワークを洗浄槽から搬出し
た後、次のワークが搬入されるまでの待機期間に、薬液
循環モードを第２循環モードに切換えることにより、槽
内に沈澱していたパーティクルを洗浄槽から容易に排除
した上、フィルタで捕集して薬液を浄化できる。しか
も、第１循環モード，第２循環モードのいずれのモード
でも、フィルタに対する薬液の通流方向は一定であるの
で、薬液循環モータを切換えた場合でも、フィルタで捕
集したパーティクルが薬液中に再拡散することはなく、
フィルタを定期的に洗浄，交換することで洗浄槽に循環
送流する薬液が常に清浄状態に保持される。
浄槽の内槽に沈澱したパーティクルは薬液と一緒に洗浄
槽から排出された後、薬液循環回路のフィルタで捕集さ
れる。したがって、洗浄したワークを洗浄槽から搬出し
た後、次のワークが搬入されるまでの待機期間に、薬液
循環モードを第２循環モードに切換えることにより、槽
内に沈澱していたパーティクルを洗浄槽から容易に排除
した上、フィルタで捕集して薬液を浄化できる。しか
も、第１循環モード，第２循環モードのいずれのモード
でも、フィルタに対する薬液の通流方向は一定であるの
で、薬液循環モータを切換えた場合でも、フィルタで捕
集したパーティクルが薬液中に再拡散することはなく、
フィルタを定期的に洗浄，交換することで洗浄槽に循環
送流する薬液が常に清浄状態に保持される。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を図１に基づいて説明
する。なお、図１において、図２と同一部材には同じ符
号が付してある。すなわち、図１の実施例においては、
洗浄槽１の内槽２と外槽３との間に外部配管した薬液循
環回路５には、薬液循環モードの切換え手段として、図
示のようにフィルタ７の出口側に接続した弁９，送液ポ
ンプ６の入口側に接続した弁１０のほかに、内槽２と送
液ポンプ６の入口側との間を結ぶ切換配管路５ａに接続
した弁１１，および外槽３とフィルタ７の出口側との間
を結ぶ切換配管路５ｂに接続した弁１２を備えている。
する。なお、図１において、図２と同一部材には同じ符
号が付してある。すなわち、図１の実施例においては、
洗浄槽１の内槽２と外槽３との間に外部配管した薬液循
環回路５には、薬液循環モードの切換え手段として、図
示のようにフィルタ７の出口側に接続した弁９，送液ポ
ンプ６の入口側に接続した弁１０のほかに、内槽２と送
液ポンプ６の入口側との間を結ぶ切換配管路５ａに接続
した弁１１，および外槽３とフィルタ７の出口側との間
を結ぶ切換配管路５ｂに接続した弁１２を備えている。
【００１２】ここで、第１の循環モードでは、弁９，１
０を「開」、弁１１，１２を「閉」として薬液を循環送
流する。これにより、薬液は実線矢印で表すように内槽
２の底部より導入されて外槽３にオーバーフローした
後、循環回路５に戻るように流れる。一方、第２の循環
モードを選択した場合には、前記の第１循環モードとは
逆に、弁９，１０を「閉」、弁１１，１２を「開」に切
換える。これにより、薬液は点線矢印で表すように外槽
３より導入されて内槽２へオーバーフローした後、内槽
２の底部側から循環回路５に戻るように流れる。
０を「開」、弁１１，１２を「閉」として薬液を循環送
流する。これにより、薬液は実線矢印で表すように内槽
２の底部より導入されて外槽３にオーバーフローした
後、循環回路５に戻るように流れる。一方、第２の循環
モードを選択した場合には、前記の第１循環モードとは
逆に、弁９，１０を「閉」、弁１１，１２を「開」に切
換える。これにより、薬液は点線矢印で表すように外槽
３より導入されて内槽２へオーバーフローした後、内槽
２の底部側から循環回路５に戻るように流れる。
【００１３】そして、ウェーハ（被洗浄ワーク）８を間
欠的に洗浄槽へ送り込んでバッチ洗浄処理するに当たっ
ては、その洗浄タクトに合わせて前記した薬液循環モー
ドの選択を次のように切換える。まず、ウェーハ８を洗
浄槽１の内槽２に搬入して洗浄した後、ウェーハ８を洗
浄槽１から槽外に引き上げるまでの洗浄工程では第１の
循環モードを選択する。これによりウェーハ８から剥離
して薬液中に移行した不要レジストなどのパーティクル
のうち、内槽２の液面に浮かぶ浮上パーティクルは内槽
２から外槽３に向かうオーバーフロー流に乗って排除さ
れ後、循環回路５を通流する過程でフィルタ７でろ過，
捕集される。これにより、内槽２の液面上には殆ど浮上
パーティクルのない状態が維持されるので、洗浄後にウ
ェーハ８を内槽２から引き上げる過程でウェーハに浮上
パーティクルが再付着するおそれはない。
欠的に洗浄槽へ送り込んでバッチ洗浄処理するに当たっ
ては、その洗浄タクトに合わせて前記した薬液循環モー
ドの選択を次のように切換える。まず、ウェーハ８を洗
浄槽１の内槽２に搬入して洗浄した後、ウェーハ８を洗
浄槽１から槽外に引き上げるまでの洗浄工程では第１の
循環モードを選択する。これによりウェーハ８から剥離
して薬液中に移行した不要レジストなどのパーティクル
のうち、内槽２の液面に浮かぶ浮上パーティクルは内槽
２から外槽３に向かうオーバーフロー流に乗って排除さ
れ後、循環回路５を通流する過程でフィルタ７でろ過，
捕集される。これにより、内槽２の液面上には殆ど浮上
パーティクルのない状態が維持されるので、洗浄後にウ
ェーハ８を内槽２から引き上げる過程でウェーハに浮上
パーティクルが再付着するおそれはない。
【００１４】一方、前回の洗浄工程で洗浄槽１から洗浄
済みのウェーハ８を引き上げた後、次回のウェーハが洗
浄槽１に搬入されるまでの待機期間には第２の循環モー
ドに切換える。これにより、前記の洗浄工程中に、内槽
２の底部側に沈降したパーティクルは薬液とともに内槽
２の底部側から排出された後、フィルタ７でろ過，捕集
される。しかも、第１循環モードと第２循環モードで
は、フィルタ７に対する薬液の通流方向は一定であるの
で、薬液循環モードの切換えによってフィルタに捕集さ
れたパーティクルが薬液中に再拡散することはない。し
たがって、バッチ処理方式による各回のウェーハ洗浄工
程開始時点では、内槽２を満たしている薬液が常に清浄
な状態となるので、これによりウェーハを効果的に洗浄
することができる。
済みのウェーハ８を引き上げた後、次回のウェーハが洗
浄槽１に搬入されるまでの待機期間には第２の循環モー
ドに切換える。これにより、前記の洗浄工程中に、内槽
２の底部側に沈降したパーティクルは薬液とともに内槽
２の底部側から排出された後、フィルタ７でろ過，捕集
される。しかも、第１循環モードと第２循環モードで
は、フィルタ７に対する薬液の通流方向は一定であるの
で、薬液循環モードの切換えによってフィルタに捕集さ
れたパーティクルが薬液中に再拡散することはない。し
たがって、バッチ処理方式による各回のウェーハ洗浄工
程開始時点では、内槽２を満たしている薬液が常に清浄
な状態となるので、これによりウェーハを効果的に洗浄
することができる。
【００１５】
【発明の効果】以上述べたように本発明のウエット洗浄
装置によれば、洗浄槽の薬液中にパーティクルが滞留す
るのを効果的に抑え、しかも洗浄槽から洗浄済みのワー
クを引き上げる際に浮上パーティクルがワークに再付着
するのを防止することができるなど、従来の薬液循環ろ
過方式と比べて洗浄効果の大幅な改善が図れる。
装置によれば、洗浄槽の薬液中にパーティクルが滞留す
るのを効果的に抑え、しかも洗浄槽から洗浄済みのワー
クを引き上げる際に浮上パーティクルがワークに再付着
するのを防止することができるなど、従来の薬液循環ろ
過方式と比べて洗浄効果の大幅な改善が図れる。
【図１】本発明実施例のシステムフロー図
【図２】従来における薬液洗浄槽のシステムフロー図で
あり、（ａ),（ｂ）はそれぞれ異なる薬液循環ろ過方式
のシステムフロー図
あり、（ａ),（ｂ）はそれぞれ異なる薬液循環ろ過方式
のシステムフロー図
１ 洗浄槽 ２ 内槽 ３ 外槽 ４ 薬液 ５ 薬液循環回路 ６ 送液ポンプ ７ フィルタ ８ ウェーハ（被洗浄ワーク） ９ 弁 １０ 弁 １１ 弁 １２ 弁
Claims (3)
- 【請求項１】洗浄槽の内槽と外槽との間に送液ポンプ,
フィルタを経由する薬液循環回路を接続し、被洗浄ワー
クを内槽の薬液中に浸漬した状態で薬液を循環送流させ
ながら洗浄するバッチ処理方式のウエット洗浄装置にお
いて、薬液を内槽底部より導入して外槽にオーバーフロ
ーさせた後に薬液循環回路に戻す第１の循環モードと、
逆に薬液を外槽へ導入して内槽底部より薬液循環回路に
戻す第２の循環モードとに選択的に切換える薬液循環モ
ード切換え手段を備えたことを特徴とするウエット洗浄
装置。 - 【請求項２】請求項１記載のウエット洗浄装置におい
て、薬液循環モード切換え手段を、フィルタに対して薬
液を常に定方向に流してろ過させるように薬液循環回路
に接続した切換配管路，切換弁で構成したことを特徴と
するウエット洗浄装置。 - 【請求項３】請求項１記載のウエット洗浄装置におい
て、ワークの洗浄タクトに合わせて、洗浄開始から搬出
までの洗浄工程で第１の循環モードを選択し、次のワー
ク搬入までの待ち工程で第２の循環モードを選択するこ
とを特徴とすることを特徴とするウエット洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27327192A JPH06124934A (ja) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | ウエット洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27327192A JPH06124934A (ja) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | ウエット洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06124934A true JPH06124934A (ja) | 1994-05-06 |
Family
ID=17525517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27327192A Pending JPH06124934A (ja) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | ウエット洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06124934A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1063685A1 (en) * | 1998-11-12 | 2000-12-27 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Photoresist film removing method and device therefor |
| KR100355869B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2002-10-12 | 아남반도체 주식회사 | 세정장치의 역세척장치 |
| US6878216B2 (en) * | 2001-09-03 | 2005-04-12 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method and substrate processing system |
| JP2008093529A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Nidec Sankyo Corp | 洗浄装置及び洗浄方法 |
| CN113058921A (zh) * | 2021-03-10 | 2021-07-02 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 一种清洗设备和清洗方法 |
-
1992
- 1992-10-13 JP JP27327192A patent/JPH06124934A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1063685A1 (en) * | 1998-11-12 | 2000-12-27 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Photoresist film removing method and device therefor |
| EP1063685A4 (en) * | 1998-11-12 | 2004-04-28 | Mitsubishi Electric Corp | DEVICE AND METHOD FOR REMOVING A PHOTO PAINT LAYER |
| KR100355869B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2002-10-12 | 아남반도체 주식회사 | 세정장치의 역세척장치 |
| US6878216B2 (en) * | 2001-09-03 | 2005-04-12 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method and substrate processing system |
| US6990988B2 (en) | 2001-09-03 | 2006-01-31 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method and substrate processing system |
| JP2008093529A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Nidec Sankyo Corp | 洗浄装置及び洗浄方法 |
| CN113058921A (zh) * | 2021-03-10 | 2021-07-02 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 一种清洗设备和清洗方法 |
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