JPS62140423A - 半導体集積回路装置の製造装置 - Google Patents
半導体集積回路装置の製造装置Info
- Publication number
- JPS62140423A JPS62140423A JP28229485A JP28229485A JPS62140423A JP S62140423 A JPS62140423 A JP S62140423A JP 28229485 A JP28229485 A JP 28229485A JP 28229485 A JP28229485 A JP 28229485A JP S62140423 A JPS62140423 A JP S62140423A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- chemicals
- storage tank
- pump
- filtering mechanism
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Weting (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
５産業上の利用分野〕
本発明は半導体集積回路、特にウェハーを薬液で処理す
るための製造装置に関する。
るための製造装置に関する。
従来、この種の製造装置は第２図に示すようにウェハー
搬送機構（図示略）と、ウェハー処理槽５．６と、ウェ
ハー処理槽へ薬液を供給する薬液貯液槽４と、貯液槽４
への薬液供給機構２，７から構成さｎており、薬液中の
コゝミ除去機構としては、貯液槽４から処理槽５，６へ
の供給時のフィルタリング機構を兼ねた処理槽内での循
環フィルタリング機構３を備えていた。
搬送機構（図示略）と、ウェハー処理槽５．６と、ウェ
ハー処理槽へ薬液を供給する薬液貯液槽４と、貯液槽４
への薬液供給機構２，７から構成さｎており、薬液中の
コゝミ除去機構としては、貯液槽４から処理槽５，６へ
の供給時のフィルタリング機構を兼ねた処理槽内での循
環フィルタリング機構３を備えていた。
上述した従来の製造装置は薬液を貯液槽４から１段のフ
ィルタリング機構３を通してウニハル処理槽５，６に薬
液を入几でいるため、処理槽５，６に入る薬液のゴミ数
は貯液槽４に入れた薬液のゴミの数に大きく影響される
欠点を有している。通常、容器１からポンプ８により貯
液槽４に２５ｍＬ当り数十個〜数万個のゴミを含んだ薬
液を供給することになり、その後の処理槽５，６内の循
環フィルタリング機構３によりゴミの数が低減さ九るに
しても、数十個のゴミを含んだ薬液が処理槽５，６に送
り込まｎ、給液後相当時間、ウェハーをゴミの数の多い
薬液で処理しなけｎばならない欠点を有している。
ィルタリング機構３を通してウニハル処理槽５，６に薬
液を入几でいるため、処理槽５，６に入る薬液のゴミ数
は貯液槽４に入れた薬液のゴミの数に大きく影響される
欠点を有している。通常、容器１からポンプ８により貯
液槽４に２５ｍＬ当り数十個〜数万個のゴミを含んだ薬
液を供給することになり、その後の処理槽５，６内の循
環フィルタリング機構３によりゴミの数が低減さ九るに
しても、数十個のゴミを含んだ薬液が処理槽５，６に送
り込まｎ、給液後相当時間、ウェハーをゴミの数の多い
薬液で処理しなけｎばならない欠点を有している。
又、供給時に入るゴミの数が多ければ、処理槽内での循
環フィルタリングの効果がそれだけ減少させら汎る欠点
を有している。
環フィルタリングの効果がそれだけ減少させら汎る欠点
を有している。
本発明は処理槽内に送り込まれる薬液中に含まれるコ゛
ミ量を低下させる製造装置を提供するものである。
ミ量を低下させる製造装置を提供するものである。
本発明はウェハー処理槽と、その処理槽に薬液を供給す
る薬液貯液槽とを有し、ウェノ・−処理槽及び薬液貯液
槽の各種に薬液を循環させて浄化処理するフィルタリン
グ機構をそれぞれ設置したことを特徴とする半導体集積
回路の製造装置である。
る薬液貯液槽とを有し、ウェノ・−処理槽及び薬液貯液
槽の各種に薬液を循環させて浄化処理するフィルタリン
グ機構をそれぞれ設置したことを特徴とする半導体集積
回路の製造装置である。
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第１図において、４は貯液槽であり、貯液槽４は薬液運
搬容器１からポンプ８にて薬液が供給され、これを貯留
する。ウェノ・−処理槽は内外二重槽からなり、内槽５
の上縁から薬液をオーバフローさせ、その薬液を外槽６
にて受は止めて再びこれを内槽５に循環させる。貯液槽
４内の薬液はボンｆ２によりパイｆ９を通して内槽５内
に供給される。これらの構成は従来と同じである。
搬容器１からポンプ８にて薬液が供給され、これを貯留
する。ウェノ・−処理槽は内外二重槽からなり、内槽５
の上縁から薬液をオーバフローさせ、その薬液を外槽６
にて受は止めて再びこれを内槽５に循環させる。貯液槽
４内の薬液はボンｆ２によりパイｆ９を通して内槽５内
に供給される。これらの構成は従来と同じである。
本発明は外槽６と内槽５との間に電磁弁７を介してポン
プ２及びフィルタリング機構３を設置するとともて、貯
液槽４に設けた循環路にポンプ１０及びフィルタリング
機構１１を設置したものである。
プ２及びフィルタリング機構３を設置するとともて、貯
液槽４に設けた循環路にポンプ１０及びフィルタリング
機構１１を設置したものである。
実施例において、貯液槽４内で薬液を浄化するには、電
磁弁７を閉じた状態でポンプ１０を起動させ、薬液をフ
ィルタリング機構１１に通して槽４内に矢印Ａのように
循環し、浄化する。その後電磁弁７を開き、貯液槽４か
ら処理槽５．６に薬液を矢印Ｂのように供給する。そし
て、処理槽５，６内で薬液を浄化するには、電磁弁７に
より貯液槽４からの薬液の供給を止め、内槽５からオー
バーフローＣした薬液を外槽６で受けてこれをポンプ２
によりフィルタリング機構３に通して浄化し、再び内槽
５に矢印りのように送り込む。
磁弁７を閉じた状態でポンプ１０を起動させ、薬液をフ
ィルタリング機構１１に通して槽４内に矢印Ａのように
循環し、浄化する。その後電磁弁７を開き、貯液槽４か
ら処理槽５．６に薬液を矢印Ｂのように供給する。そし
て、処理槽５，６内で薬液を浄化するには、電磁弁７に
より貯液槽４からの薬液の供給を止め、内槽５からオー
バーフローＣした薬液を外槽６で受けてこれをポンプ２
によりフィルタリング機構３に通して浄化し、再び内槽
５に矢印りのように送り込む。
本発明によ扛ば、薬液を使用する数時間前から貯液槽４
内で薬液を循環してフィルタリング機構１１にてフィル
タリングし、ゴミを大幅に低減させてから処理槽５，６
に供給することが可能となる。
内で薬液を循環してフィルタリング機構１１にてフィル
タリングし、ゴミを大幅に低減させてから処理槽５，６
に供給することが可能となる。
たとえば０５μ以上のゴミが２５ｍＬ当り数十個レベル
まで低減させてから処理槽５，６に供給することも可能
となる。これによシ、処理槽５，６内でのポンプ２及び
フィルタリング機構３による循環フィルタリングの効果
をさらに向上し、ゴミの大幅な低減、しいては半導体素
子歩留の大幅な向上が期待できる。
まで低減させてから処理槽５，６に供給することも可能
となる。これによシ、処理槽５，６内でのポンプ２及び
フィルタリング機構３による循環フィルタリングの効果
をさらに向上し、ゴミの大幅な低減、しいては半導体素
子歩留の大幅な向上が期待できる。
以上説明したように本発明は貯液槽に循環フィルタリン
グ機構を有していることにより、薬液を処理槽に供給す
る前に薬液中のゴミを除去することができ、その結果、
処理槽に薬液を供給した初期の状態が常に清浄な状態で
保持でき、又処理槽内の循環フィルタリング機構も従来
の製造装置に比べて、充分にその能力を発揮することが
できるので、ウェハーに付着するゴミを大幅に低減でき
る効果がある。
グ機構を有していることにより、薬液を処理槽に供給す
る前に薬液中のゴミを除去することができ、その結果、
処理槽に薬液を供給した初期の状態が常に清浄な状態で
保持でき、又処理槽内の循環フィルタリング機構も従来
の製造装置に比べて、充分にその能力を発揮することが
できるので、ウェハーに付着するゴミを大幅に低減でき
る効果がある。
第１図は本発明の半導体集積回路の製造装置を説明する
主要部の構成図、第２図は従来の半導体集積回路の製造
装置を説明する主要部の構成図である。 １・・・薬液運搬容器、２，８．１０・・・ポンプ、３
，１１・・・フィルタリング機構、４・・・貯液槽、５
・・・処理槽の内槽、６・・・処理槽の外槽、７・・・
電磁弁。
主要部の構成図、第２図は従来の半導体集積回路の製造
装置を説明する主要部の構成図である。 １・・・薬液運搬容器、２，８．１０・・・ポンプ、３
，１１・・・フィルタリング機構、４・・・貯液槽、５
・・・処理槽の内槽、６・・・処理槽の外槽、７・・・
電磁弁。
Claims (1)
- （１）ウェハー処理槽と、その処理槽に薬液を供給する
薬液貯液槽とを有し、ウェハー処理槽及び薬液貯液槽の
各槽に、薬液を循環させて浄化処理するフィルタリング
機構をそれぞれ設置したことを特徴とする半導体集積回
路の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28229485A JPS62140423A (ja) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | 半導体集積回路装置の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28229485A JPS62140423A (ja) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | 半導体集積回路装置の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62140423A true JPS62140423A (ja) | 1987-06-24 |
Family
ID=17650551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28229485A Pending JPS62140423A (ja) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | 半導体集積回路装置の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62140423A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0294435A (ja) * | 1988-09-29 | 1990-04-05 | Nec Corp | エッチング装置 |
| WO2003057343A1 (fr) * | 2001-12-28 | 2003-07-17 | Koganei Corporation | Dispositif d'administration de medicament liquide et procede d'administration dudit medicament liquide |
| US7594801B2 (en) | 2001-12-27 | 2009-09-29 | Koganei Corporation | Chemical liquid apparatus and deaerating method |
| JP2014082234A (ja) * | 2012-10-12 | 2014-05-08 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | ディップ式現像装置及び半導体ウェーハの現像方法 |
-
1985
- 1985-12-16 JP JP28229485A patent/JPS62140423A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0294435A (ja) * | 1988-09-29 | 1990-04-05 | Nec Corp | エッチング装置 |
| US7594801B2 (en) | 2001-12-27 | 2009-09-29 | Koganei Corporation | Chemical liquid apparatus and deaerating method |
| WO2003057343A1 (fr) * | 2001-12-28 | 2003-07-17 | Koganei Corporation | Dispositif d'administration de medicament liquide et procede d'administration dudit medicament liquide |
| US7708880B2 (en) | 2001-12-28 | 2010-05-04 | Koganel Corporation | Chemical liquid supply apparatus and a chemical liquid supply method |
| JP2014082234A (ja) * | 2012-10-12 | 2014-05-08 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | ディップ式現像装置及び半導体ウェーハの現像方法 |
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