JPS63182039A

JPS63182039A - ドラフト装置

Info

Publication number: JPS63182039A
Application number: JP1403787A
Authority: JP
Inventors: Noboru Tatefuru; 立古　昇
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1987-01-26
Filing date: 1987-01-26
Publication date: 1988-07-27

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、ドラフト技術、特に、処理室についての排気
と排水とを実施する技術に関し、例えば、半導体装置の
製造工程において、酸化膜形成処理の前洗浄に利用して
有効な技術に関する。

〔従来の技術〕

半導体装置の製造工程において、ウェハに酸化膜を形成
する場合、前処理として、ウェハをエツチング処理液に
浸漬した後、水洗する処理が実施されるが、エツチング
処理液およびその蒸気による環境汚染を防止するため、
この前処理にはドラフト装置が使用されている。

このようなドラフト装置として、エツチング処理液の浴
槽および水洗槽が設備されている処理室と、この処理室
に接続されている排水路および排気路とを備えており、
エツチング処理液を含む沈水を排水路により、エツチン
グ処理液の蒸気を排気路により処理室から所定の場所に
回収するように構成されているものがある。

なお、ウェハのクリーニング技術を述べである例として
は、株式会社工業調査会発行「電子材料１９８１年１１
月号別冊」昭和５６年１１月ｉ。

日発行　Ｐ９５〜Ｐ１０２、がある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

このようなドラフト装置においては、排水路は複数台の
ドラフト装置およびその他の処理装置に連通されている
ため、それらの相互作用により排水路の処理室に開口し
た排水口から汚染の原因となる気体（例えば、エツチン
グ処理液のミスト等）が処理室に少量であるが吹き出し
、特に、排気路の排気力が強い場合に吹出量が増えると
いう問題点があることが、本発明者によって明らかにさ
れた。

本発明の目的は、排水路からの処理室への汚染の原因と
なる気体の吹き出しを抑制することができるドラフト装
置を提供することにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。

〔問題点を解決するための手段〕すなわち、排水路に逆流防止排気路を処理室を迂回させ
て流体的に接続したものがある。

〔作用〕

前記した手段によれば、排水路に逆流防止排気路が接続
されているため、排水路を流れる汚染原因気体は処理室
に吹き出す以前に排気路により強制的に排気されること
になる。したがって、排水路を流れる気体の吹き出しに
よる処理室の汚染は防止される。

〔実施例〕

第１図は本発明の一実施例であるドラフト装置を示す側
面断面図、第２図はその正面断面図である。

本実施例において、このドラフト装置は被処理物として
のウェハに酸化膜形成工程の前処理を実施するように構
成されており、略直方体形状の中空体に形成されている
本体１を備えている０本体１内における作業に適当な高
さ位置には処理室２が大きく形成されている。処理室２
の前面には開口３が処理室２内における作業を行い易く
するために、略間口および高さ一杯に開設されており、
この開口３には前面５ｉ１４が引き違い戸のように建て
込まれている。

処理室２は仕切板５により左右に仕切られており、左側
室の底面上には強酸や弗酸等のようなエツチング処理液
を貯留した処理槽６および純水を貯留したゆすぎ水槽７
が並べられて設置されている。また、右側室の底面上に
は水洗槽８が設置されており、この水洗槽８は３段階に
区画されて給水路９から上段に供給される純水が順次溢
流して行くように構成されている。処理室２の底壁には
第１排水口１１および第２排水口１２が左側室および右
側室にそれぞれ配されて、底面上に溢流したエツチング
処理液および純水を排出し得るように開設されており、
両排水口１１，１２には第１排水管１３および第２排水
管１４がそれぞれ接続されている０両排水管１３．１４
の途中には臭気トラップ１３ａ、１４ａがＳ字形状に屈
曲されて形成されている。第１排水管１３は第１廃液管
１５に、第２排水管１４は第２廃液管１６にそれぞれ接
続されており、第１廃液管１５は特殊液廃棄処理装置（
図示せず）に、第２廃液管１６は一般液廃棄処理装置（
図示せず）にそれぞれ接続されている。また、両廃液管
１５．１６には他の同種ドラフト装置における排水管や
、異種の処理装置における排水管（いずれも図示せず）
が適宜接続されている。前記排水口、排水管、廃液管の
系により処理室２に接続されている排水路ＩＯが実質的
に構成することになる。

処理室２の後側壁には第１排気口２１および第２排気口
２２が一対宛、左側室および右側室にそれぞれ配されて
、処理室２内で発生した気体（蒸気）を効果的に排出し
得るように開設されており、両排気口２１．２２は本体
１の後側壁に外装されている第１排気管２３および第２
排気管２４にそれぞれ連通されている０両排気管２３．
２４は工場の天井等に配管されているダクト２５にそれ
ぞれ接続されており、ダクト２５は送風機等からなる吸
気手段（図示せず）等に接続されている。前記排気口、
排気管およびダクトの系により処理室とに接続されてい
る排気路２０が実質的に構成されている。

前記第１および第２排水管１３．１４には第１および第
２逆流防止排気路３１．３２が臭気トラップ１３ａ、１
４ａよりも上位置にそれぞれ配されて、その内部に連通
ずるように接続されており、両逆法防止排気路３Ｉ、３
２の他端は第１および第２排気管２３．２４にその内部
に連通ずるようにそれぞれ接続されている。

次に作用を説明する。

前処理される被処理物としてのウェハ２６は複数枚が処
理治具２７に収容された状態で、エツチング処理液槽６
に浸漬されてエツチング処理を施こされる。Ｍいて、ウ
ェハ２Ｇはゆすぎ水槽７においてエツチング処理液をゆ
すがれる。エツチング処理液槽６およびゆすぎ水槽７か
ら溢流したエツチング処理液またはそれを含む沈水は排
水口１１から排水管１３を通じて排出される。

その後、ウェハ２６は水洗槽８において段階的に水洗さ
れて洗浄される。水洗槽８から溢流した沈水は排水口１
２から排水管１４を通じて排出される。

この間、処理室２は排気口２１．２２、排気管２３．２
４、ダクト２５を通じて排気されているため、エツチン
グ処理液の蒸気、その他塵埃等の汚染異物は外部に排出
される。

ところで、廃液管にはエツチング処理液等のような処理
液や、各種薬品を含む液体が流通しているため、これら
液体の蒸気や、ミスト等が管内を流通する空気流に乗っ
て、排水管に侵入し処理室に逆流することが考えられる
。特に、処理室は常時排気されているため、その可能性
は高い、蒸気やミスト等が処理室に侵入すると、それら
が異物としてウェハに付着するため、ウェハが汚染され
るもとになる。

しかし、本実施例においては、排水管１３．１４の途中
に逆流防止排気路３１．３２がそれぞれ接続されている
ため、汚染異物が排水管１３．１４から処理室２に逆流
することは防止される。すなわち、汚染異物が排水管１
３．１４に侵入したとしても、汚染異物は排水口ｌ！、
工２から処理室２へ逆流する前に、逆流防止排気路３１
．３２に吸引されるため、処理室２に流れることはない
。

また、本実施例においては、排水管１３．１４の途中に
臭気トラップ１３ａ、１４ａが介設されており、そこに
溜った排液により排水管１３．１４が閉塞されているた
め、廃液管１５．１６から排水管１３．１４に流入した
汚染異物はそれ以上の侵入を阻止されることになる。そ
して、トラップ］、３ａ、１４ａに溜った排液からの蒸
気またはミスト等は排気路３１．３２によって吸引され
るため、処理室２へ侵入することはない。

前記実施例によれば次の効果が得られる。

（１）　　処理室に接続された排水路の途中に逆流防止
・排気路を接続することにより、排水路内の汚染異物を
含む気体を排気することができるため、その汚染異物が
処理室に逆流するのを防止することができる。

（２）　　汚染異物が処理室に侵入するのを防止するこ
とにより、処理室の清浄度を高めることができるため、
処理および処理製品の歩留り、品質および信頼性を高め
ることができる。

（３）排水路に臭気トラップを介設することにより、そ
こに溜った排水によって排水路を閉塞することができる
ため、排水路内における気体の逆流を防止することがで
きる。

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を進展しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。

例えば、逆流防止排気路は排水路の処理室に開口した排
水口近傍に接続するに限らず、他の箇所に接続してもよ
い。

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるウェハの前処理に使
用されるドラフト技術に通用した場合について説明した
が、それに限定されるものではなく、半導体装置の製造
やその他の分野におけるホトリソグラフィー処理、化学
や薬学等の分野において化学物質や薬品の実験等に使用
されるドラフト装置全般に通用することができる。

〔発明の効果〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、次の通りである。

処理室に接続された排水路の途中に逆流防止排気路を接
続することにより、排水路内の汚染異物を含む気体を強
制的に排気することができるため、その汚染異物が処理
室に逆流するのを防止することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例であるドラフト装置を示す側
面断面図、第２図はその正面断面図である。１・・・本体、２・・・処理室、３・・・開口、４・・
・前面扉、５・・・仕切板、６・・・エツチング処理液
槽、７・・・ゆすぎ水槽、８・・・水洗槽、９・・・給
水管、１０・・・排水路、１１．１２・・・排水口、１
３．１４・・・排水管、１３ａ、１４ａ・・・臭気トラ
ップ、１５．１６・・・廃液管、２０・・・排気路、２
１．２２・・・排気口、２３．２４・・・排気管、２５
・・・ダクト、２６・・・ウェハ（被処理物）、２７・
・・処理治具。第　　１　　図２／、２２−橢ｒ気で２ｊ、２４−ｎｊ久嘴２、！；　−７”クト

Claims

【特許請求の範囲】１、被処理物が収容されて所望の処理が実施される処理
室と、処理室に接続されている排水路および排気路とを
備えているドラフト装置であって、前記排水路の途中に
逆流防止排気路が前記処理室を迂回するように接続され
ていることを特徴とするドラフト装置。２、排水路が、逆流防止排気路との連結部よりも下側に
臭気トラップを形成されていることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載のドラフト装置。３、逆流防止排気路の排水路との連結部が、処理室に開
設された排水口の近傍に配されていることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載のドラフト装置。