JP2000015198A - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置

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JP2000015198A
JP2000015198A JP10185226A JP18522698A JP2000015198A JP 2000015198 A JP2000015198 A JP 2000015198A JP 10185226 A JP10185226 A JP 10185226A JP 18522698 A JP18522698 A JP 18522698A JP 2000015198 A JP2000015198 A JP 2000015198A
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JP
Japan
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processing chamber
chamber
cleaning
cleaning processing
pressure
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JP10185226A
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Munehiro Terada
田 宗 広 寺
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Shibaura Mechatronics Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 薬液蒸気の流出防止及び洗浄処理室の清浄度
維持を図ることができる洗浄装置を提供する。 【解決手段】 薬液を用いて被処理物を洗浄するための
洗浄処理室1と、洗浄処理室1を形成する壁面5に形成
され、ロボット搬送室(クリーンゾーン)2に連通する
吸気口17と、吸気口17に取り付けられた吸気窓装置
18と、洗浄処理室1を形成する壁面22に形成された
排気口23と、排気口23に取り付けられたダンパー装
置24と、ダンパー装置24に接続された排気用ダクト
26と、を備える。吸気窓装置18は、洗浄処理室1内
の圧力が低下した場合に、洗浄処理室1の内側に向かっ
て揺動して吸気口17を開放する揺動窓部材21を有す
る。ダンパー装置24は、洗浄処理室1内の圧力が上昇
した場合に洗浄処理室1の外側に向かって開放する羽根
部材25を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄装置に係わ
り、特に、液晶表示基板(LCD基板)や半導体製造用
ウエハ等(以下「被処理物」と言う。)を薬液洗浄する
ための洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】LCD基板の製造工程、或いは半導体の
製造工程の一つに、薬液によって被処理物を洗浄する工
程があり、この洗浄工程においては、被処理物を処理す
るための洗浄処理室を備えた洗浄装置が使用される。
【0003】洗浄処理室の内部には、ファン・フィルタ
ー・ユニット(以下「FFU」と言う。)によって清浄
化された空気(外気)が供給されており、さらに、工場
の排気口を利用して洗浄処理室内が排気されている。
【0004】そして、FFUからの流入空気量と排気口
からの排気量とを調節することによって、洗浄処理室の
内部を、大気圧に限りなく近い圧力であって且つ大気圧
に対して負圧に維持するようにしている。このように洗
浄処理室内を略大気圧に維持することによって、洗浄処
理室の外側に存在するダストを含んだ空気(外気)が洗
浄処理室内に流入することを防止すると共に、洗浄処理
室内の薬液蒸気が外気側に流出することを防止してい
る。
【0005】また、洗浄処理室の内部には被処理物を保
持して回転させる回転保持装置(スピナー装置)が設け
られており、この回転保持装置によって被処理物を回転
させながら被処理物の表面に薬液が供給される。
【0006】このように被処理物を回転させながら薬液
洗浄を行うことによって、被処理物の表面全体を満遍な
く且つ効果的に洗浄することができる。また、洗浄処理
室内で発生した薬液蒸気は工場の排気口を介して排気処
理される。
【0007】また、回転保持装置は100〜3000r
pmで被処理物を回転させるが、このスピナー回転に伴
って洗浄処理室内に外気との差圧(負圧)が生じるた
め、FFUの出力を調節して流入空気量を調節すること
によって洗浄処理室内の圧力を略大気圧に維持するよう
にしている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の洗浄
装置においては、工場の排気口を利用して洗浄処理室内
を排気するようにしているので、工場の排気口からの排
気量が不安定である場合には、洗浄処理室内の圧力と外
気の圧力(大気圧)との間に差圧が発生する。
【0009】このように差圧が発生すると、洗浄処理室
内の薬液蒸気が外気側に流出してしまったり、或いは、
ダストを含んだ外気が洗浄処理室内に流入して清浄度を
悪化させてしまうという問題があった。
【0010】そこで、本発明は、薬液蒸気の流出防止及
び洗浄処理室の清浄度維持を図ることができる洗浄装置
を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明による洗浄装置
は、薬液を用いて被処理物を洗浄するための洗浄処理室
と、前記洗浄処理室を形成する壁面に形成され、クリー
ンゾーンに連通する吸気口と、前記吸気口に取り付けら
れた吸気窓装置と、前記洗浄処理室を形成する壁面に形
成された排気口と、前記排気口に取り付けられたダンパ
ー装置と、前記ダンパー装置に接続された排気用ダクト
と、を備え、前記吸気窓装置は、前記洗浄処理室内の圧
力が低下した場合に、前記洗浄処理室の内側に向かって
揺動して前記吸気口を開放する揺動窓部材を有し、前記
ダンパー装置は、前記洗浄処理室内の圧力が上昇した場
合に前記洗浄処理室の外側に向かって開放する羽根部材
を有する。
【0012】また、好ましくは、前記洗浄処理室に隣接
して設けられ、内部がクリーンゾーンであるロボット搬
送室と、被処理物を前記洗浄処理室内に搬入するために
前記ロボット搬送室の内部に設置された搬送用ロボット
と、をさらに備え、前記吸気口及び前記吸気窓装置は、
前記洗浄処理室と前記ロボット搬送室とを隔離する隔壁
に設けられている。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態による
洗浄装置について図1乃至図3を参照して説明する。
【0014】図1は、本実施形態による洗浄装置の概略
構成を示した透視斜視図である。図1に示したようにこ
の洗浄装置は、被処理物の表面に薬液を供給して洗浄す
るための洗浄処理室1と、この洗浄処理室1に隣接して
設けられたロボット搬送室2と、このロボット搬送室2
に隣接して設けられたロード室3及びアンロード室4と
を備えている。
【0015】洗浄処理室1とロボット搬送室2との間は
隔壁5によって隔離されており、つまり、隔壁5は洗浄
処理室1を形成する壁面の一部を構成している。隔壁5
には、被処理物Sを洗浄処理室1に搬入し又は搬出する
際に開放するシャッター6が設けられている。
【0016】ロボット搬送室2とロード室3及びアンロ
ード室4との間は隔壁7によって隔離されており、この
隔壁7には、被処理物Sを搬出入する際に開放するシャ
ッター8、9が設けられている。
【0017】洗浄処理室1、ロボット搬送室2、ロード
室3、及びアンロード室4には、外気を清浄化して各室
内に供給するためのFFU10、11、12、13がそ
れぞれ設けられている。
【0018】さらに、洗浄処理室1の底部には、工場の
排気口につながる排気配管14が接続されており、この
排気配管14を介して洗浄処理室1内の薬液蒸気が排気
される。そして、FFU10からの流入量と排気配管1
4からの排気量とをバランスさせることによって、洗浄
処理室1の内部を、大気圧に限りなく近い圧力であって
且つ大気圧に対して負圧に維持するようにしている。
【0019】洗浄処理室1の内部には被処理物Sを保持
して回転させるための回転保持装置15が設けられてお
り、この回転保持装置15によって被処理物Sを100
〜3000rpmで回転させることができる。
【0020】回転保持装置15の上方には、被処理物S
の表面に所定の薬液を供給するための洗浄液放出配管1
6が設けられており、この洗浄液放出配管16から高速
回転中の被処理物Sの表面に薬液が供給される。
【0021】また、ロボット搬送室2の内部には、シャ
ッター6、8、9を介して洗浄処理室1とロード室3及
びアンロード室4との間で被処理物Sを移送するための
搬送用ロボット28が設けられており、この搬送用ロボ
ット28は被処理物Sを保持して移送するアーム29を
備えている。
【0022】さらに、本実施形態による洗浄装置におい
ては、洗浄処理室1とロボット搬送室2とを隔離する隔
壁5に吸気口17が形成されており、この吸気口17に
は、洗浄処理室1側から吸気窓装置18が取り付けられ
ている。
【0023】図2(a)及び図2(b)は、それぞれ、
吸気窓装置18の正面図及び側断面図である。図2
(a)、(b)に示したように吸気窓装置18は、隔壁
5の洗浄処理室1側の面に取り付けられたスペーサ部材
19と、このスペーサ部材19に蝶番20を介して揺動
自在に取り付けられた揺動窓部材21と、を備えてい
る。
【0024】揺動窓部材21は、洗浄処理室1内の圧力
が低下してロボット搬送室2よりも低圧になった場合
に、両室間の差圧によって洗浄処理室1の内側に向かっ
て揺動し、吸気口17を開放する。
【0025】また、図1に示したように洗浄処理室1を
形成する壁面22には排気口23が形成されており、こ
の排気口23にはダンパー装置24が取り付けられてい
る。
【0026】図3は、ダンパー装置24の部分を示した
縦断面図であり、図3に示したようにダンパー装置24
は、洗浄処理室1内の圧力が上昇した場合に洗浄処理室
1の外側に向かって開放する羽根部材25を備えてい
る。
【0027】また、ダンパー装置24には排気用ダクト
26が接続されており、この排気用ダクト26は、薬液
蒸気を処理し得るフィルター装置(図示せず)に接続さ
れている。排気用ダクト26にはその排気量を調節する
ための排気量調節穴27が形成されている。この排気量
調節穴27はその開口面積を調節して外気の取り込み量
を調節することができる。
【0028】次に、本実施形態による洗浄装置の作用に
ついて説明する。
【0029】工場の排気口からの排気量が変動して洗浄
処理室1の内部の圧力が低下し、ロボット搬送室2より
も低圧になった場合、両室間の差圧によって揺動窓部材
21が洗浄処理室1の内側に向かって揺動し、吸気口1
7が開放される。
【0030】ここで、揺動窓部材21は、0〜10mm
Aq程度の差圧で開放するように構成することが好まし
い。
【0031】吸気口17が開放されるとロボット搬送室
2内の空気が洗浄処理室1内に流入するが、ロボット搬
送室2内の空気はFFU11によって清浄化された空気
であるので、ロボット搬送室2内はクリーンゾーンであ
り、ロボット搬送室2から流入した空気によって洗浄処
理室1内が汚染されることはなく、洗浄処理室1内の清
浄度を維持することができる。
【0032】ここで、「クリーンゾーン」とは、洗浄処
理室1に要求される清浄度と同等、若しくはそれ以上の
清浄度を保持している空間領域を言い、例えば、パーテ
ィクル粒径0.1μm以上のパーティクル濃度が0ヶ/
cfの清浄度が好ましい。
【0033】また、工場の排気口からの排気量が変動し
て洗浄処理室1の内部の圧力が上昇し、大気圧よりも高
圧になった場合、洗浄処理室1内の圧力と大気圧との差
圧によってダンパー装置24の羽根部材25が洗浄処理
室1の外側に向かって開放する。羽根部材25が開放す
ると洗浄処理室1内の薬液蒸気が排気用ダクト26を介
して排気されるので、薬液蒸気が外気側に漏洩すること
はない。
【0034】ここで、羽根部材25は、0〜10mmA
q程度の差圧で開放するように構成することが好まし
い。
【0035】一方、洗浄処理室1内が大気圧に維持され
ている場合、或いは大気圧よりも負圧の状態にある場合
には、排気量調節穴27から流入した外気が排気用ダク
ト26から排気される。
【0036】以上述べたように本実施形態による洗浄装
置によれば、洗浄処理室1内の圧力が低下した場合には
吸気窓装置18が作動してロボット搬送室2からの清浄
な空気を洗浄処理室1内に導入することができるので、
洗浄処理室1内の清浄度を維持することができる。ま
た、洗浄処理室1内の圧力が上昇した場合には、ダンパ
ー装置24が作動して薬液蒸気を排気用ダクト26に排
気することができるので、薬液蒸気が外気側に漏洩する
ことを防止することができる。
【0037】なお、本実施形態においては洗浄処理室1
とロボット搬送室2との間の隔壁5に吸気窓装置18を
設けるようにしたが、例えば、洗浄処理室1の周囲にロ
ボット搬送室2以外のクリーンゾーンがある場合には、
そのクリーンゾーンと洗浄処理室1との間の壁面に吸気
口17を形成して吸気窓装置18を取り付けることもで
きる。
【0038】
【発明の効果】以上述べたように本発明による洗浄装置
によれば、洗浄処理室内の圧力が低下した場合には吸気
窓装置が作動してクリーンゾーンから清浄な空気を洗浄
処理室内に導入することができるので、洗浄処理室内の
清浄度を維持することができる。また、洗浄処理室内の
圧力が上昇した場合には、ダンパー装置が作動して薬液
蒸気を排気用ダクトに排気することができるので、薬液
蒸気が外気側に漏洩することを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態による洗浄装置の概略構成
を示した透視斜視図。
【図2】本発明の一実施形態による洗浄装置の吸気窓装
置を示した図であり、(a)は吸気窓装置の正面図、
(b)は同側断面図。
【図3】本発明の一実施形態による洗浄装置のダンパー
装置の部分を示した縦断面図。
【符号の説明】
1 洗浄処理室 2 ロボット搬送室 3 ロード室 4 アンロード室 5 隔壁(洗浄処理室を形成する壁面) 10、11、12、13 ファン・フィルター・ユニッ
ト(FFU) 14 排気配管 15 回転保持装置 16 洗浄液放出配管 17 吸気口 18 吸気窓装置 19 スペーサ部材 20 蝶番 21 揺動窓部材 22 洗浄処理室を形成する壁面 23 排気口 24 ダンパー装置 25 羽根部材 26 排気用ダクト 28 搬送用ロボット

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】薬液を用いて被処理物を洗浄するための洗
    浄処理室と、前記洗浄処理室を形成する壁面に形成さ
    れ、クリーンゾーンに連通する吸気口と、前記吸気口に
    取り付けられた吸気窓装置と、前記洗浄処理室を形成す
    る壁面に形成された排気口と、前記排気口に取り付けら
    れたダンパー装置と、前記ダンパー装置に接続された排
    気用ダクトと、を備え、 前記吸気窓装置は、前記洗浄処理室内の圧力が低下した
    場合に、前記洗浄処理室の内側に向かって揺動して前記
    吸気口を開放する揺動窓部材を有し、 前記ダンパー装置は、前記洗浄処理室内の圧力が上昇し
    た場合に前記洗浄処理室の外側に向かって開放する羽根
    部材を有する、ことを特徴とする洗浄装置。
  2. 【請求項2】前記洗浄処理室に隣接して設けられ、内部
    がクリーンゾーンであるロボット搬送室と、被処理物を
    前記洗浄処理室内に搬入するために前記ロボット搬送室
    の内部に設置された搬送用ロボットと、をさらに備え、 前記吸気口及び前記吸気窓装置は、前記洗浄処理室と前
    記ロボット搬送室とを隔離する隔壁に設けられているこ
    とを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。
JP10185226A 1998-06-30 1998-06-30 洗浄装置 Withdrawn JP2000015198A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012146835A (ja) * 2011-01-13 2012-08-02 Sumco Corp 枚葉式ウェーハ洗浄装置
JP2015204322A (ja) * 2014-04-11 2015-11-16 株式会社ディスコ 洗浄装置
CN107080509A (zh) * 2016-02-15 2017-08-22 E.G.O.电气设备制造股份有限公司 清洗工艺和清洗装置
US10170348B2 (en) 2013-12-26 2019-01-01 Konica Minolta, Inc. Production system for printing electronic devices

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JP2015204322A (ja) * 2014-04-11 2015-11-16 株式会社ディスコ 洗浄装置
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Effective date: 20050906