JPH0766165A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】洗浄室内に供給される空気から金属汚染物質を
除去する。 【構成】洗浄室１１の天井にクリーンユニット１２が吊
り下げられている。このクリーンユニット１２は、ケミ
カルフィルタ２４とＵＬＰＡフィルタ２５が積層されて
いる。ケミカルフィルタ２４では、空気中の金属汚染物
質が除去され、ＵＬＰＡフィルタ２５では０．０５〜
０．１μｍのダストが除去される。この洗浄装置内で例
えばウエハーなどの洗浄を行なえば、粉塵や金属汚染物
質が付着するようなことがないので、これを用いた半導
体の歩留まりが向上するようになる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ウエハーなどを洗浄す
るときに用いられる洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ＭＯＳトランジスタなどの半導
体は結晶内に不純物が混じっていると性能に重大な影響
があるため、クリーンルーム内に更にクリーン度が高い
洗浄装置を設け、その中でウエハーなどの洗浄を行なう
のが普通である。洗浄装置は、略密閉された洗浄室と、
その上部に取り付けられたクリーンユニットで構成さ
れ、クリーンユニットで周囲の空気が清浄化されて洗浄
室内に供給される。洗浄室の中にはウエハーなどを洗浄
するための洗浄液が入っている洗浄槽と、洗浄後のウエ
ハーを乾燥するドライヤなどが設置されている。また、
洗浄室には内部の空気を排気する排気ダクトが取付けら
れている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の洗浄
装置のクリーンユニットは、ＵＬＰＡ（Ultra Low Pene
tration Air）フィルタなどのエアフィルタで空気中の
粉塵を除去するようになっているのが普通である。しか
し、このＵＬＰＡフィルタは物理的なフィルタであるか
ら、空気中の埃などを除去するだけで、例えば燐などの
金属汚染物質を除去することはできない。

【０００４】一方、クリーンルーム内は空気をダウンブ
ローに流しているが、汚染物質が拡散するのを完全に防
止することは困難であり、拡散した汚染物質が洗浄装置
のクリーンユニットに吸引されるのを避けることができ
ない。このクリーンユニットでも上述のように金属汚染
物質の除去ができないので、これが洗浄装置内に入り込
んでウエハーに付着してしまうことがあった。

【０００５】洗浄装置の中で行なわれる洗浄工程の次に
拡散工程やＣＶＤ（Chemical VaperDeposition）工程な
どのようにウエハーに高温が加えられる工程があると、
ウエハーの表面に付着した金属汚染物質が結晶内部に拡
散してしまい、上述のように半導体の特性が劣化するよ
うになる。このように、従来の洗浄装置を使用して洗浄
されたウエハーを用いた場合、半導体の歩留まりが悪く
なるという問題があった。

【０００６】そこで、本発明は上述のような課題を解決
したものであって、空気中の埃などの汚染物質と共に金
属汚染物質も除去することにより、半導体の歩留まりを
向上させることが可能な洗浄装置を提案するものであ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
め、本発明においては、洗浄作業を行なうための略密閉
された空間を形成する洗浄室と、周囲の空気を清浄化し
て洗浄室内に供給するクリーンユニットと、洗浄室内の
空気を外部に排出する排気ダクトとを有する洗浄装置に
おいて、空気中の粉塵を除去するためのエアフィルタ
と、エアフィルタを通過する金属汚染物質を除去するた
めのケミカルフィルタとが、クリーンユニット内に積層
されていることを特徴とするものである。

【０００８】

【作用】図１に示すように、この洗浄装置１において
は、洗浄室１１の天井にクリーンユニット１２が吊り下
げられている。このクリーンユニット１２は、図２に示
すようにケミカルフィルタ２４とＵＬＰＡフィルタ２５
が積層されている。ケミカルフィルタ２４では空気中の
金属汚染物質が除去され、ＵＬＰＡフィルタ２５では
０．０５〜０．１μｍのダストが除去される。この洗浄
装置１内で例えばウエハーなどの洗浄を行なえば、金属
汚染物質が付着するようなことがないので、これを用い
た半導体の歩留まりが向上するようになる。

【０００９】

【実施例】続いて、本発明に係わる洗浄装置の一実施例
について、図面を参照して詳細に説明する。

【００１０】図１は本発明による洗浄装置１の構成を示
す。同図に示すように、この検査装置１は内部でウエハ
ー（図示せず）などの洗浄作業を行なうことが可能な適
宜な広さで略密閉された洗浄室１１を有し、その天井に
複数個のクリーンユニット１２が吸気口２１を室外に出
して取付けられている。

【００１１】洗浄室１１の中には、例えばＭＯＳトラン
ジスタのウエハーなどを洗浄するための洗浄槽１３が複
数個設置され、その中に洗浄液が入っている。洗浄が終
了したウエハーはドライヤ１４で乾燥される。また、洗
浄室１１の側壁には内部の空気を排出するための排気ダ
クト１５が取付けられており、その途中にあるファン３
１によって洗浄室１１内の空気が外部に排出される。こ
れによって、洗浄室１１の吸排気バランスが調整されて
ダウンフローが施されている。更に、洗浄室１１の側壁
には内部を見るために透明ガラス製の窓１６が設けられ
ている。

【００１２】図２はクリーンユニット１２の構成を示
す。このクリーンユニット１２は、洗浄室１１の天井に
吊り下げられている。クリーンユニット１２は、比較的
大きなゴミなどを除去するためのプレフィルタ２２と、
室外の空気を吸引するためのファン２３と、空気中の金
属汚染物質を除去するためのケミカルフィルタ２４と、
粉塵を除去するためのＵＬＰＡフィルタ２５と、ルーバ
２６とを有し、これらが上から順に積層されている。

【００１３】プレフィルタ２２は例えば適宜な隙間を有
する繊維などでできており、ここで空気中に含まれる比
較的大きなゴミなどが除去される。ファン２３は外部の
空気を吸引するもので、回転数を制御することによって
吸引する空気量を調整することができる。

【００１４】ケミカルフィルタ２４は、例えば酸化剤、
物理吸着剤、中和吸着剤、触媒吸着剤などを含む一般的
なフィルタを使用することが可能であるが、ここでは主
として空気中の燐など金属汚染物質を除去することを目
的としており、金属汚染物質を除去することが可能なフ
ィルタであればよい。なお、ケミカルフィルタ２４は、
本例のように金属汚染物質を除去する場合だけでなく、
ＵＬＰＡフィルタ２５で除去できない物質を除去する場
合にも使用され、この場合は除去しようとする物質に応
じたフィルタを選択することが可能である。

【００１５】ＵＬＰＡフィルタ２５は、主として極小さ
な埃を除去するためのもので０．０５〜０．１μｍ程度
の粉塵が除去される。ここを通過した空気は内部を保護
するために設けられた網目状のルーバ２６を経て洗浄室
１１内に放出される。

【００１６】これによって、洗浄室１１内には粉塵及び
燐などの金属汚染物質が除去されて清浄化された空気が
供給される。したがって、洗浄室１１内でウエハーなど
の洗浄を行なっても、従来のように金属汚染物質が付着
するようなことを防止することが可能になる。

【００１７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明は空気中の
粉塵を除去するためのエアフィルタと、エアフィルタを
通過する金属汚染物質を除去するためのケミカルフィル
タとがクリーンユニット内に積層され、このクリーンユ
ニットを通過した空気を洗浄室内に供給するようにした
ものである。

【００１８】したがって、本発明によれば、洗浄室内で
ウエハーなどの洗浄作業を行なっても、粉塵や金属汚染
物質が付着することがないから、これを使用する半導体
の歩留まりが向上するなどの効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わる洗浄装置１の構成図である。

【図２】クリーンユニット１２の構成図である。

【符号の説明】

１ 洗浄装置 １１ 洗浄室 １２ クリーンユニット １３ 洗浄槽 １４ ドライヤ １５ 排気ダクト ２２ プレフィルタ ２４ ケミカルフィルタ ２５ ＵＬＰＡフィルタ ２６ ルーバ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄作業を行なうための略密閉された空
   間を形成する洗浄室と、 周囲の空気を清浄化して上記洗浄室内に供給するクリー
   ンユニットと、 上記洗浄室内の空気を外部に排出する排気ダクトとを有
   する洗浄装置において、 空気中の粉塵を除去するためのエアフィルタと、上記エ
   アフィルタを通過する金属汚染物質を除去するためのケ
   ミカルフィルタとが、上記クリーンユニット内に積層さ
   れていることを特徴とする洗浄装置。