JPH0745581A - 半導体基板薬液処理装置 - Google Patents
半導体基板薬液処理装置Info
- Publication number
- JPH0745581A JPH0745581A JP19150493A JP19150493A JPH0745581A JP H0745581 A JPH0745581 A JP H0745581A JP 19150493 A JP19150493 A JP 19150493A JP 19150493 A JP19150493 A JP 19150493A JP H0745581 A JPH0745581 A JP H0745581A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chemical
- air
- semiconductor substrate
- clean air
- duct
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体基板薬液処理装置における薬液処理部の
清浄度を維持するための供給空気量を削減し、空気供給
用の空調システムの規模を小型化する。 【構成】薬液処理部１へ供給された清浄空気をダクト１
１に設けたファン７により吸い込み口６より吸い込み、
気液分離フィルター９，除塵フィルター１０を通して吹
き出し口８より吹き出す循環機能を備えることにより、
処理槽３より発生する薬液を含んだ蒸気の飛散を防止
し、薬液処理部１の清浄度を維持するための清浄空気量
を削減することができる。
清浄度を維持するための供給空気量を削減し、空気供給
用の空調システムの規模を小型化する。 【構成】薬液処理部１へ供給された清浄空気をダクト１
１に設けたファン７により吸い込み口６より吸い込み、
気液分離フィルター９，除塵フィルター１０を通して吹
き出し口８より吹き出す循環機能を備えることにより、
処理槽３より発生する薬液を含んだ蒸気の飛散を防止
し、薬液処理部１の清浄度を維持するための清浄空気量
を削減することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路製造工程
において、半導体基板のエッチング，洗浄等の薬液処理
を行う半導体基板薬液処理装置に関するものである。
において、半導体基板のエッチング，洗浄等の薬液処理
を行う半導体基板薬液処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の薬液処理装置は、図２の構成図に
示すように、薬液処理部１内の清浄度を維持するため
に、装置上部に取付けたクリーンユニット２により室内
の空気を取り入れて清浄化し薬液処理部１へ送ってい
る。この清浄空気の流れは、処理槽３より発生する薬液
を含んだ蒸気の飛散を防止する役目を果している。そし
て、薬液を含んだ蒸気は処理槽３の上部付近に取り付け
た排気口４を経て薬液を除去するための除害設備５へ排
出される。
示すように、薬液処理部１内の清浄度を維持するため
に、装置上部に取付けたクリーンユニット２により室内
の空気を取り入れて清浄化し薬液処理部１へ送ってい
る。この清浄空気の流れは、処理槽３より発生する薬液
を含んだ蒸気の飛散を防止する役目を果している。そし
て、薬液を含んだ蒸気は処理槽３の上部付近に取り付け
た排気口４を経て薬液を除去するための除害設備５へ排
出される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この従来の薬液処理装
置では、室内より取り込んだ空気を排気口を経由して全
量、除害設備へ送り出していた。又、薬液を含んだ蒸気
の飛散を防止するために大量の空気を必要とした。この
ため、薬液処理装置の排気量が大きくなり、除害設備を
大規模なものにする必要があった。又、室内より大量の
空気が奪われるため、空気供給用の空調システムが大規
模になるという問題点があった。
置では、室内より取り込んだ空気を排気口を経由して全
量、除害設備へ送り出していた。又、薬液を含んだ蒸気
の飛散を防止するために大量の空気を必要とした。この
ため、薬液処理装置の排気量が大きくなり、除害設備を
大規模なものにする必要があった。又、室内より大量の
空気が奪われるため、空気供給用の空調システムが大規
模になるという問題点があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の薬液処理装置
は、処理槽上部の薬液処理部に供給される清浄空気を循
環させるためのダクトを有し、ダクトの一端の吸い込み
口と他端の吹き出し口を薬液処理部に対向配置するとと
もに、ダクト途中に清浄空気を循環させるファンと処理
槽から蒸発する蒸気の気液分離を行うフィルターとを備
えている。
は、処理槽上部の薬液処理部に供給される清浄空気を循
環させるためのダクトを有し、ダクトの一端の吸い込み
口と他端の吹き出し口を薬液処理部に対向配置するとと
もに、ダクト途中に清浄空気を循環させるファンと処理
槽から蒸発する蒸気の気液分離を行うフィルターとを備
えている。
【０００５】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【０００６】図１は本発明の一実施例の構成図である。
【０００７】本実施例は、装置内へ供給された空気をダ
クト１１に設けられたファン７の回転により吸い込み口
６から吸引し、吹き出し口８から吹き出す循環機能を備
えている。この際、ダクト１１の途中に気液分離フィル
ター９を設けて気液分離を行い、液体は排液として除去
し、空気は吹き出し口８へと送り出すようになってい
る。
クト１１に設けられたファン７の回転により吸い込み口
６から吸引し、吹き出し口８から吹き出す循環機能を備
えている。この際、ダクト１１の途中に気液分離フィル
ター９を設けて気液分離を行い、液体は排液として除去
し、空気は吹き出し口８へと送り出すようになってい
る。
【０００８】次にその動作について説明する。クリーン
ユニット２から薬液処理部１へ供給された空気は、ファ
ン７の回転により薬液処理部１の清浄度を維持しながら
吸い込み口６より吸い込まれる。吸い込まれた空気はフ
ァン７により循環され気液分離フィルター９を通ること
により薬液分が分離され、排水される。次いで除塵フィ
ルター１０を通り、清浄空気となり吹き出し口８より吹
き出され、処理槽３上に空気の流れを作り、薬液を含ん
だ蒸気の飛散を防ぐ。余剰空気は従来通り排気口４より
除害設備５へ排出される。
ユニット２から薬液処理部１へ供給された空気は、ファ
ン７の回転により薬液処理部１の清浄度を維持しながら
吸い込み口６より吸い込まれる。吸い込まれた空気はフ
ァン７により循環され気液分離フィルター９を通ること
により薬液分が分離され、排水される。次いで除塵フィ
ルター１０を通り、清浄空気となり吹き出し口８より吹
き出され、処理槽３上に空気の流れを作り、薬液を含ん
だ蒸気の飛散を防ぐ。余剰空気は従来通り排気口４より
除害設備５へ排出される。
【０００９】また、クリーンユニット２から供給される
空気を室内から取らずに別系統とし、室外から直接導入
する事により空気供給用の空調システムを大規模にしな
いで済ますことができる。
空気を室内から取らずに別系統とし、室外から直接導入
する事により空気供給用の空調システムを大規模にしな
いで済ますことができる。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、薬液処理
部へ供給される清浄空気を循環させ再利用するので、供
給する清浄空気量は薬液処理部の清浄度を維持するため
の量のみでよいことになり、装置からの排出量を減らす
ことができる。これにより除害設備、空調システムの規
模を小型化できるという効果を有する。
部へ供給される清浄空気を循環させ再利用するので、供
給する清浄空気量は薬液処理部の清浄度を維持するため
の量のみでよいことになり、装置からの排出量を減らす
ことができる。これにより除害設備、空調システムの規
模を小型化できるという効果を有する。
【図１】本発明の一実施例の構成図である。
【図２】従来の薬液処理装置の構成図である。
１ 薬液処理部 ２ クリーンユニット ３ 処理槽 ４ 排気口 ５ 除害設備 ６ 吸い込み口 ７ ファン ８ 吹き出し口 ９ 気液分離フィルター １０ 除塵フィルター １１ ダクト
Claims (1)
- 【請求項１】 半導体基板を浸漬し薬液処理を行う処理
槽と、この処理槽から蒸発する薬液を含んだ蒸気の飛散
を防止するための清浄空気を前記処理槽上部の薬液処理
部へ供給するクリーンユニットとを備えた半導体基板薬
液処理装置において、前記清浄空気を循環させるダクト
を有し、ダクトの一端の吸い込み口と他端の吹き出し口
を前記薬液処理部に対向配置するとともに、ダクト途中
に前記清浄空気を循環させるファンと前記蒸気の気液分
離を行うフィルターとを備えたことを特徴とする半導体
基板薬液処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19150493A JPH0745581A (ja) | 1993-08-03 | 1993-08-03 | 半導体基板薬液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19150493A JPH0745581A (ja) | 1993-08-03 | 1993-08-03 | 半導体基板薬液処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0745581A true JPH0745581A (ja) | 1995-02-14 |
Family
ID=16275756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19150493A Pending JPH0745581A (ja) | 1993-08-03 | 1993-08-03 | 半導体基板薬液処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0745581A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6368208B1 (en) | 1999-09-24 | 2002-04-09 | Nec Corporation | Cleanroom and cleanroom ventilation method |
| KR100697047B1 (ko) * | 2001-12-04 | 2007-03-20 | 주식회사 케이씨텍 | 웨이퍼 또는 기판 세정시 발생되는 이물질 분리장치 및 방법 |
| CN108112214A (zh) * | 2016-11-24 | 2018-06-01 | 研能科技股份有限公司 | 气冷散热装置 |
| US10438868B2 (en) | 2017-02-20 | 2019-10-08 | Microjet Technology Co., Ltd. | Air-cooling heat dissipation device |
-
1993
- 1993-08-03 JP JP19150493A patent/JPH0745581A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6368208B1 (en) | 1999-09-24 | 2002-04-09 | Nec Corporation | Cleanroom and cleanroom ventilation method |
| KR100697047B1 (ko) * | 2001-12-04 | 2007-03-20 | 주식회사 케이씨텍 | 웨이퍼 또는 기판 세정시 발생되는 이물질 분리장치 및 방법 |
| CN108112214A (zh) * | 2016-11-24 | 2018-06-01 | 研能科技股份有限公司 | 气冷散热装置 |
| US10438868B2 (en) | 2017-02-20 | 2019-10-08 | Microjet Technology Co., Ltd. | Air-cooling heat dissipation device |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19991019 |