JP3354849B2 - クリーンルーム - Google Patents
クリーンルームInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体製造工程等に
おいて無塵環境を得るために使用されるクリーンルーム
に関するものである。
おいて無塵環境を得るために使用されるクリーンルーム
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程においては高い清浄度を
必要とするため、通常クリーンルームが用いられてい
る。図２に示すように、近年の一般的なクリーンルーム
２１は、天井室２２と、処理室２３と、床下室２４の３
層構造とされ、中間層となる処理室２３の天井面に高性
能フィルタ（ＨＥＰＡフィルタやＵＬＰＡフィルタ）２
５を設置し、処理室２４の床面はグレーチング床２６等
の通気構造の床面にて構成し、床下室２４と天井室２２
とをリターン通路２７にて連通するとともにそのリター
ン通路２７に空調機２８を配設し、空調機２８にて温度
及び湿度を調整され、高性能フィルタ２５にて清浄にさ
れた空気を処理室２３の天井から床面に向かって吹き出
してダウンフローを形成するように構成されている。
必要とするため、通常クリーンルームが用いられてい
る。図２に示すように、近年の一般的なクリーンルーム
２１は、天井室２２と、処理室２３と、床下室２４の３
層構造とされ、中間層となる処理室２３の天井面に高性
能フィルタ（ＨＥＰＡフィルタやＵＬＰＡフィルタ）２
５を設置し、処理室２４の床面はグレーチング床２６等
の通気構造の床面にて構成し、床下室２４と天井室２２
とをリターン通路２７にて連通するとともにそのリター
ン通路２７に空調機２８を配設し、空調機２８にて温度
及び湿度を調整され、高性能フィルタ２５にて清浄にさ
れた空気を処理室２３の天井から床面に向かって吹き出
してダウンフローを形成するように構成されている。
【０００３】また、処理室２３に配設された処理装置３
０の真空ポンプ、電源装置、ガスや薬液の供給装置など
の補助機器３１は、処理室２３の側部に設けたリターン
通路２７に配設するようにするとクリーンルーム２１の
設置スペースが大きくなるため、床下室２４に配設され
ている。床下室２４には、補助機器３１の発する熱で加
熱された空気や発生した塵埃を含んだ空気を外部に排気
するための排気ダクト３２が配設されている。又、床下
室２４内に外気を供給する外気導入口３３が設けられる
とともに外気を温度調整する外気空調機３４が配設され
ている。３５は、床下室２４の下層に配設された原動機
室である。
０の真空ポンプ、電源装置、ガスや薬液の供給装置など
の補助機器３１は、処理室２３の側部に設けたリターン
通路２７に配設するようにするとクリーンルーム２１の
設置スペースが大きくなるため、床下室２４に配設され
ている。床下室２４には、補助機器３１の発する熱で加
熱された空気や発生した塵埃を含んだ空気を外部に排気
するための排気ダクト３２が配設されている。又、床下
室２４内に外気を供給する外気導入口３３が設けられる
とともに外気を温度調整する外気空調機３４が配設され
ている。３５は、床下室２４の下層に配設された原動機
室である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の構成では処理室２３を循環する空気の通路である床
下室２４内に真空ポンプなどの発熱源となる補助機器３
１が配設されているので、空調機２８の容量及び消費電
力が大きくなり、また上記補助機器３１からの発生する
熱や塵埃を外部に排出するためにそれらをカバーで覆
い、床下室２４内の温調された清浄な空気の一部をカバ
ー内を通して排気ダクト３２を経て外部に排出するよう
に構成しているので、温調された清浄度の高い空気が外
部に放出されることになり、その分多量の外気を外気導
入空調機３４を通して外気導入口３３から取り入れる必
要があり、外気導入空調機３４の容量及び消費電力が大
きくなり、そのためクリーンルーム２１のランニングコ
スト及び初期設備コストが高くなるという問題があっ
た。
来の構成では処理室２３を循環する空気の通路である床
下室２４内に真空ポンプなどの発熱源となる補助機器３
１が配設されているので、空調機２８の容量及び消費電
力が大きくなり、また上記補助機器３１からの発生する
熱や塵埃を外部に排出するためにそれらをカバーで覆
い、床下室２４内の温調された清浄な空気の一部をカバ
ー内を通して排気ダクト３２を経て外部に排出するよう
に構成しているので、温調された清浄度の高い空気が外
部に放出されることになり、その分多量の外気を外気導
入空調機３４を通して外気導入口３３から取り入れる必
要があり、外気導入空調機３４の容量及び消費電力が大
きくなり、そのためクリーンルーム２１のランニングコ
スト及び初期設備コストが高くなるという問題があっ
た。
【０００５】なお、特開平２−１６１２４０号公報（特
公平７−４５９４５号公報）には、床下室を上下２層に
分割して下層室に補助機器を配設した構成が開示されて
いるが、補助機器によって処理室内のダウンフローに偏
気流が発生するのを防止することを目的とし、上層室と
下層室は多孔板にて分割されているため、下層室を通る
空気も循環し、上記と同様の問題がある。
公平７−４５９４５号公報）には、床下室を上下２層に
分割して下層室に補助機器を配設した構成が開示されて
いるが、補助機器によって処理室内のダウンフローに偏
気流が発生するのを防止することを目的とし、上層室と
下層室は多孔板にて分割されているため、下層室を通る
空気も循環し、上記と同様の問題がある。
【０００６】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、空調
機の消費電力を抑えてランニングコストを低減でき、ま
た空調機の初期投資コストも低減できるクリーンルーム
を提供することを目的としている。
機の消費電力を抑えてランニングコストを低減でき、ま
た空調機の初期投資コストも低減できるクリーンルーム
を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のクリーンルーム
は、循環空気が供給される天井室と、処理装置が配設さ
れるとともに前記天井室から高性能フィルタを通して供
給された前記循環空気が通気構造の床面から排出される
処理室と、前記処理室の床面から排出された前記循環空
気が流入する床下室と、前記床下室から前記天井室に前
記循環空気を循環させるリターン通路と、前記床下室の
下部に前記床下室とは気密分離した状態で、処理装置の
発熱源となる補助機器が配設されるとともに外気が流
入、排出して流通される機器室とを備えたことを特徴と
する。
は、循環空気が供給される天井室と、処理装置が配設さ
れるとともに前記天井室から高性能フィルタを通して供
給された前記循環空気が通気構造の床面から排出される
処理室と、前記処理室の床面から排出された前記循環空
気が流入する床下室と、前記床下室から前記天井室に前
記循環空気を循環させるリターン通路と、前記床下室の
下部に前記床下室とは気密分離した状態で、処理装置の
発熱源となる補助機器が配設されるとともに外気が流
入、排出して流通される機器室とを備えたことを特徴と
する。
【０００８】本発明によれば、天井室と処理室と床下室
を循環する清浄度の高い空気の循環通路内に発熱源とな
る補助機器が配置されていないので、循環通路内に配設
される空調機の消費電力が少なくなり、また発塵源でも
ある補助機器を覆っているカバー内の排出空気として循
環空気の一部を用いることにより温調された清浄度の高
い空気が外部に放出されることもなく、その分空調して
取り入れる外気量が少なくなって消費電力が少なくな
り、空調機の消費電力を抑えてランニングコストを低減
でき、また空調機の容量も小さくできて初期投資コスト
も低減できる。なお、機器室を別に設けてもその内部は
外気を流通するだけでそれに必要な温調は十分に可能で
あり、ランニングコストの増加原因となることはない。
さらに、天井室、処理室、床下室、機器室が上下の階層
別に設置されることによりクリーンルームの省スペース
化を図ることができるとともに、機器室を別に設けなが
ら真空ポンプへの排気ラインを可及的に短くすることが
できる。
を循環する清浄度の高い空気の循環通路内に発熱源とな
る補助機器が配置されていないので、循環通路内に配設
される空調機の消費電力が少なくなり、また発塵源でも
ある補助機器を覆っているカバー内の排出空気として循
環空気の一部を用いることにより温調された清浄度の高
い空気が外部に放出されることもなく、その分空調して
取り入れる外気量が少なくなって消費電力が少なくな
り、空調機の消費電力を抑えてランニングコストを低減
でき、また空調機の容量も小さくできて初期投資コスト
も低減できる。なお、機器室を別に設けてもその内部は
外気を流通するだけでそれに必要な温調は十分に可能で
あり、ランニングコストの増加原因となることはない。
さらに、天井室、処理室、床下室、機器室が上下の階層
別に設置されることによりクリーンルームの省スペース
化を図ることができるとともに、機器室を別に設けなが
ら真空ポンプへの排気ラインを可及的に短くすることが
できる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明のクリーンルームの
一実施形態について、図１を参照して説明する。
一実施形態について、図１を参照して説明する。
【００１０】１はクリーンルームで、天井室２と処理室
３と床下室４と機器室５の上下４層構造に構成されてお
り、床下室４とその下部の機器室５とは気密分離されて
いる。処理室３の天井面３ａにはＨＥＰＡフィルタやＵ
ＬＰＡフィルタなどの高性能フィルタを有するファンフ
ィルタユニット６が設置され、処理室３の床面３ｂは通
気構造とするためグレーチング床７にて構成されてい
る。８は床下室４と天井室２とを連通するリターン通路
で、床下室４の一端のリターン通路８入口部には循環空
気の温度及び湿度を調整する空調機９が配設されてい
る。かくして、空調機９にて温度及び湿度を調整され、
高性能フィルタにて清浄にされた空気が処理室３の天井
面３ａから床面３ｂに向かって吹き出して清浄な空気の
ダウンフローが形成され、この清浄な温調空気が循環使
用されることにより効率的に処理室３内が清浄に保持さ
れる。
３と床下室４と機器室５の上下４層構造に構成されてお
り、床下室４とその下部の機器室５とは気密分離されて
いる。処理室３の天井面３ａにはＨＥＰＡフィルタやＵ
ＬＰＡフィルタなどの高性能フィルタを有するファンフ
ィルタユニット６が設置され、処理室３の床面３ｂは通
気構造とするためグレーチング床７にて構成されてい
る。８は床下室４と天井室２とを連通するリターン通路
で、床下室４の一端のリターン通路８入口部には循環空
気の温度及び湿度を調整する空調機９が配設されてい
る。かくして、空調機９にて温度及び湿度を調整され、
高性能フィルタにて清浄にされた空気が処理室３の天井
面３ａから床面３ｂに向かって吹き出して清浄な空気の
ダウンフローが形成され、この清浄な温調空気が循環使
用されることにより効率的に処理室３内が清浄に保持さ
れる。
【００１１】処理室３にはドライエッチング装置やＣＶ
Ｄ装置などの各種処理装置１０とそれに用いるガス供給
及び無害ガスの排出を行うガスユニット１１が配設され
ている。又、床下室４内に外気を取り入れる外気導入口
１２が設けられるとともに、外気を温度調整する外気空
調機１３が配設されている。
Ｄ装置などの各種処理装置１０とそれに用いるガス供給
及び無害ガスの排出を行うガスユニット１１が配設され
ている。又、床下室４内に外気を取り入れる外気導入口
１２が設けられるとともに、外気を温度調整する外気空
調機１３が配設されている。
【００１２】機器室５には、外部に排気するための排気
ダクト１４、及び処理装置１０の真空排気を行う真空ポ
ンプ１５や、真空排気中の有害ガスを燃焼方式で無害化
する除害機１６などの補助機器が配設されている。ま
た、機器室５にはその壁面に形成された外気入口１７か
ら外気が流入するように構成されている。
ダクト１４、及び処理装置１０の真空排気を行う真空ポ
ンプ１５や、真空排気中の有害ガスを燃焼方式で無害化
する除害機１６などの補助機器が配設されている。ま
た、機器室５にはその壁面に形成された外気入口１７か
ら外気が流入するように構成されている。
【００１３】また、処理装置１０の真空排気管１０ａは
床下室４を貫通して機器室５内の真空ポンプ１５に接続
されており、真空ポンプ１５からその排気管１５ａを介
して除害機１６に供給され、この除害機１６で除害され
てその排気管１６ａを介して排気ダクト１４に排出され
る。ガスユニット１１から排出される無害ガスは同じく
床下室４を貫通する排出管１１ａを通して排気ダクト１
４に排出される。機器室５内に流入した外気は真空ポン
プ１５や除害機１６などの補助機器のカバー内を通って
それらの機器を冷却するとともに発生した塵埃を伴って
排気管１４ａを通り、排気ダクト１４を経て外部に排出
される。
床下室４を貫通して機器室５内の真空ポンプ１５に接続
されており、真空ポンプ１５からその排気管１５ａを介
して除害機１６に供給され、この除害機１６で除害され
てその排気管１６ａを介して排気ダクト１４に排出され
る。ガスユニット１１から排出される無害ガスは同じく
床下室４を貫通する排出管１１ａを通して排気ダクト１
４に排出される。機器室５内に流入した外気は真空ポン
プ１５や除害機１６などの補助機器のカバー内を通って
それらの機器を冷却するとともに発生した塵埃を伴って
排気管１４ａを通り、排気ダクト１４を経て外部に排出
される。
【００１４】なお、原動機室は騒音防止のためにクリー
ンルーム１の建屋外に設けられている。
ンルーム１の建屋外に設けられている。
【００１５】以上の構成によれば、天井室２と処理室３
と床下室４を循環する清浄度の高い空気の循環通路内に
真空ポンプ１５や除害機１６などの発熱源となる補助機
器が配置されていないので、循環通路内に配設されてい
る空調機９の消費電力を１０％以上低減することがで
き、また発熱源及び発塵源である真空ポンプ１５や除害
機１６などを覆っているカバー内の冷却及び塵埃排出用
の空気として機器室５内に流入した外気を用いるので、
上記循環通路内の温調された清浄度の高い空気を用いる
必要がなく、その分循環通路内に空調して取り入れる外
気量が少なくなることによって消費電力を約２５％低減
することができ、またファンフィルタユニット６のメン
テナンス間隔も少なくできる。かくして、空調機９及び
外気空調機１３の消費電力を抑えてランニングコストを
大幅に低減することができ、また空調機９、１３の容量
も小さくできて初期投資コストも低減できる。なお、機
器室５は外気を流通するだけでそれに必要な温調は十分
に可能であり、ランニングコストの増加原因となること
はない。
と床下室４を循環する清浄度の高い空気の循環通路内に
真空ポンプ１５や除害機１６などの発熱源となる補助機
器が配置されていないので、循環通路内に配設されてい
る空調機９の消費電力を１０％以上低減することがで
き、また発熱源及び発塵源である真空ポンプ１５や除害
機１６などを覆っているカバー内の冷却及び塵埃排出用
の空気として機器室５内に流入した外気を用いるので、
上記循環通路内の温調された清浄度の高い空気を用いる
必要がなく、その分循環通路内に空調して取り入れる外
気量が少なくなることによって消費電力を約２５％低減
することができ、またファンフィルタユニット６のメン
テナンス間隔も少なくできる。かくして、空調機９及び
外気空調機１３の消費電力を抑えてランニングコストを
大幅に低減することができ、また空調機９、１３の容量
も小さくできて初期投資コストも低減できる。なお、機
器室５は外気を流通するだけでそれに必要な温調は十分
に可能であり、ランニングコストの増加原因となること
はない。
【００１６】また、床下室４の下部に床下室４と気密分
離した状態で機器室５を配設しているので、天井室２、
処理室３、床下室４、機器室５が上下に階層別設置さ
れ、クリーンルーム１の省スペース化を図ることができ
る。また、機器室５を別に設けながら真空排気管１０ａ
やガスユニット１１の排出管１１ａを可及的に短くする
ことができる。
離した状態で機器室５を配設しているので、天井室２、
処理室３、床下室４、機器室５が上下に階層別設置さ
れ、クリーンルーム１の省スペース化を図ることができ
る。また、機器室５を別に設けながら真空排気管１０ａ
やガスユニット１１の排出管１１ａを可及的に短くする
ことができる。
【００１７】
【発明の効果】本発明のクリーンルームによれば、以上
の説明から明らかなように、天井室と処理室と床下室を
循環する清浄度の高い空気の循環通路内に発熱源となる
補助機器が配置されていないので、循環通路内に配設さ
れる空調機の消費電力が少なくなり、また発塵源でもあ
る補助機器を覆っているカバー内の排出空気として循環
空気の一部を用いることによって温調された清浄度の高
い空気を外部に放出する必要もなく、その分空調して取
り入れる外気量が少なくなって消費電力が少なくなり、
空調機の消費電力を抑えてランニングコストを低減で
き、また空調機の容量も小さくできて初期投資コストも
低減できる。
の説明から明らかなように、天井室と処理室と床下室を
循環する清浄度の高い空気の循環通路内に発熱源となる
補助機器が配置されていないので、循環通路内に配設さ
れる空調機の消費電力が少なくなり、また発塵源でもあ
る補助機器を覆っているカバー内の排出空気として循環
空気の一部を用いることによって温調された清浄度の高
い空気を外部に放出する必要もなく、その分空調して取
り入れる外気量が少なくなって消費電力が少なくなり、
空調機の消費電力を抑えてランニングコストを低減で
き、また空調機の容量も小さくできて初期投資コストも
低減できる。
【００１８】また、天井室、処理室、床下室、機器室の
上下の階層別設置によりクリーンルームの省スペース化
を図ることができるとともに、機器室を別に設けながら
真空ポンプの排気ラインを可及的に短くすることができ
る。
上下の階層別設置によりクリーンルームの省スペース化
を図ることができるとともに、機器室を別に設けながら
真空ポンプの排気ラインを可及的に短くすることができ
る。
【図１】本発明の一実施形態のクリーンルームの構成を
示す縦断面図である。
示す縦断面図である。
【図２】従来例のクリーンルームの構成を示す縦断面図
である。
である。
１ クリーンルーム ２ 天井室 ３ 処理室 ４ 床下室 ５ 機器室 ６ ファンフィルタユニット ７ グレーチング床 ８ リターン通路 ９ 空調機 １０ 処理装置 １５ 真空ポンプ（補助機器） １６ 除害機（補助機器）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤原 一夫 大阪府高槻市幸町１番１号 松下電子工 業株式会社内 (72)発明者 光井 章 大阪府高槻市幸町１番１号 松下電子工 業株式会社内 (72)発明者 上田 誠二 大阪府高槻市幸町１番１号 松下電子工 業株式会社内 (72)発明者 浜 昇 大阪府高槻市幸町１番１号 松下電子工 業株式会社内 (72)発明者 河田 真一 大阪府高槻市幸町１番１号 松下電子工 業株式会社内 (56)参考文献 特開 平２−161240（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−243125（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) F24F 7/04 - 7/06
Claims (1)
- 【請求項１】 循環空気が供給される天井室と、処理装
置が配設されるとともに前記天井室から高性能フィルタ
を通して供給された前記循環空気が通気構造の床面から
排出される処理室と、前記処理室の床面から排出された
前記循環空気が流入する床下室と、前記床下室から前記
天井室に前記循環空気を循環させるリターン通路と、前
記床下室の下部に前記床下室とは気密分離した状態で、
処理装置の発熱源となる補助機器が配設されるとともに
外気が流入、排出して流通される機器室とを備えたこと
を特徴とするクリーンルーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31171297A JP3354849B2 (ja) | 1997-11-13 | 1997-11-13 | クリーンルーム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31171297A JP3354849B2 (ja) | 1997-11-13 | 1997-11-13 | クリーンルーム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11141938A JPH11141938A (ja) | 1999-05-28 |
| JP3354849B2 true JP3354849B2 (ja) | 2002-12-09 |
Family
ID=18020569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31171297A Expired - Fee Related JP3354849B2 (ja) | 1997-11-13 | 1997-11-13 | クリーンルーム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3354849B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4731650B2 (ja) * | 1999-12-21 | 2011-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造機器の換気方法及び換気設備 |
| JP2002048370A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-15 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 引上げ室 |
| JP2008266058A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 引上げ室 |
| JP2017221073A (ja) | 2016-06-10 | 2017-12-14 | Ntn株式会社 | Ｄｃ／ｄｃコンバータ |
-
1997
- 1997-11-13 JP JP31171297A patent/JP3354849B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11141938A (ja) | 1999-05-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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